JP2013069986A5

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Publication number: JP2013069986A5
Application number: JP2011209100A
Authority: JP
Filing date: 2011-09-26
Publication date: 2014-11-13
Anticipated expiration: 2031-09-26

Description

続いて、図１０のフローチャート１００３にて、遮光板１９を直線駆動する直線駆動部９５の駆動原点を調整する。この調整により直線駆動部９５の駆動軸方向とレチクル２のＸ軸方向の位置が合う。回転駆動部９６を固定して、遮光板１９の第１円弧とレチクル２上の目盛４０が交差する位置に直線駆動部９５により遮光板１９を駆動する。この状態で基板９に露光する。ウエハを搬出し、現像後、第１円弧と目盛４０の交点の値を読み、指定の値になるように直線駆動部９５の駆動原点にオフセットを持たせるとよい。以上の調整により、レチクル２と遮光板１９の第１円弧の位置合わせは完了である。なお、遮光板１９の第２円弧についても同様の調整を行えばよい。

実施例２では、遮光板１９は図９（ａ）をもとに説明したが、図９（ｂ）、図９（ｃ）、図９（ｄ）、図９（ｅ）、図９（ｆ）の形状であっても同様に調整可能であることは明らかである。図９（ｆ）の遮光板１９の場合は、遮光部７３ａあるいは７３ｂの直線の縁を使って実回転角度を算出すればよい。この場合レチクル上に目盛４０とは別に遮光部７３ａあるいは７３ｂの直線の縁と交差する目盛をさらに構成する必要がある。また、図４で示した遮光板１９の直線の縁１９１ｂがウエハ上の円弧の縁と共に投影可能であれば、同じく実回転角度の算出に使用することができる。また、実施例２では、調整に必要な最小限のショット数で説明をしたが、実際には目盛の読み取り誤差による算出精度への影響を低減させるため複数のショットの平均を用いてよく、ショット数を限定しない。また、実施例２では、レチクル２上の２つ目盛の座標と円弧の半径から円の中心座標を算出したが、レチクル上にさらに少なくとも１つの目盛を用意して３つの目盛の座標から円の中心を算出してもよい。また同じく目盛の読み取り誤差による算出精度への影響を低減させるため、複数の目盛の中から３つの目盛を選んだそれぞれの組み合わせから求めた円の中心座標の平均を用いてもよい。

［実施例３］
実施例２では、図１２のフローチャート１００１の調整は基板９上に露光したショットから得られる情報をもとに行ったが、基板ステージ６上の光検出センサ５０を使用して調整することもできる。光検出部である光検出センサ５０は照射系から照射される光を受光して、ウエハ面上の露光光量を検出できるセンサである。光検出センサ５０により遮光板１９の縁をステージ座標基準で検出することができる。より具体的には、ステージを駆動しながら照度がゼロになる座標を検出すればよい。照度がゼロになる２つの座標と円弧の半径から同じく円の中心座標を求めることができる。同様に図９（ａ）を例にすれば、開口部のスリットの直線部の傾きも求めることができる。遮光板１９が図９（ｃ）の形状の場合は、照度検出センサを使用して、開口部６３ａ、６３ｂの重心位置をそれぞれ検出すればよい。開口部に直線部がなくとも２点の重心位置を結ぶ直線傾きを使うことで前述の角度補正が可能であることが容易に理解できよう。上記の光検出センサ５０上への投光処理、ステージの駆動、遮光板の駆動といった一連の処理は制御部２１により行われる。光検出センサ５０の検出結果は制御部２１内の検出演算部で処理され、回転中心のずれ量はデータベースへ登録される。以降遮光板を駆動する駆動部はデータベースに登録された回転中心のずれ量をもとに制御部２１により補正駆動される。なお、照度検出センサを使用した場合はレチクルと駆動部の回転中心の関係を直接的に合わせているわけではないことに注意する必要がある。この場合は基板ステージ６上のウエハと照度検出センサの位置関係が分かっている必要があり、間接的にレチクル中心と駆動部の回転中心を合わせていることになる。また、図１０のフローチャート１００２、１００３の調整も同様に光検出センサ５０を使用して調整可能であることは理解できるであろう。

Claims

原版を光源からの光で照明する照明光学系と、前記原版に形成されたパターンの像を外縁に円弧状部分を含む基板に投影する投影光学系を有する光学系を備える露光装置であって、
前記光学系の前記投影光学系の物体面と共役な面或いはそれらの面の近傍に配置され、前記パターンの像が前記基板に投影される領域の外縁の少なくとも一部を円弧状に規定するための円弧状部分を有する遮光板と、
前記光学系の光路に沿った回転軸まわりに前記遮光板を回転駆動する回転駆動部と、
前記回転軸と交わる方向に前記遮光板をシフト駆動するシフト駆動部と、
前記回転駆動部により前記遮光板を回転駆動させ、前記光学系により前記パターンの像を前記基板に投影する際の基準となる基準軸と前記回転軸との相対位置に関する情報を取得する取得部と、
前記取得部により取得した前記相対位置に関する情報に基づいて、前記遮光板が所定の位置になるように前記回転駆動部と前記シフト駆動部を制御する制御部を有することを特徴とする露光装置。
前記遮光板の前記円弧状部分の曲率半径は、前記基板の外縁の前記円弧状部分の曲率半径よりも小さいことを特徴とする請求項１に記載の露光装置。
前記相対位置に関する情報は、前記基準軸に対する前記回転軸の位置ずれの方向と位置ずれの量を表す情報であることを特徴とする請求項１または２に記載の露光装置。
前記基準軸と前記回転軸の相対位置に関する情報は、前記制御部により前記回転駆動部を制御して、前記遮光板を回転駆動し、前記遮光板をそれぞれ異なる２つの回転駆動した位置に配置した状態で前記光源からの光を用いることで取得することを特徴とする請求項１乃至３のいずれか一項に記載の露光装置。
前記基板を保持して移動する基板ステージ６を有し、前記基板ステージ６には光検出部が設けられており、
前記取得部は、前記遮光板をそれぞれ異なる２つの回転駆動した位置に配置した状態で前記光源からの光を前記光検出部により受光することで得た情報に基づいて前記前記相対位置に関する情報を取得することを特徴とする請求項１乃至４のいずれか一項に記載の露光装置。
前記領域を規定する前記遮光板とは異なる遮光部材を有し、
前記遮光板は、中心部に開口部を有し、前記開口部の対向する位置に前記円弧状部分が形成された枠体であり、
前記基板の中心付近に対して前記パターンの像を投影する場合には、前記パターンの像の前記基板上に投影される領域に到達する前記光源からの光は前記枠体の前記開口部を通過しており、前記領域を前記遮光部材で規定していることを特徴とする請求項１乃至５のいずれか一項に記載の露光装置。
前記シフト駆動部は、前記遮光板を前記光学系の光軸に垂直な方向にシフト駆動させることを特徴とする請求項１乃至６のいずれか一項に記載の露光装置。
請求項１乃至７のうちいずれか１項に記載の露光装置を用いて基板を露光するステップと、
露光された前記基板を現像するステップと、
を有することを特徴とするデバイスの製造方法。