JP7145620B2 - 投影露光装置 - Google Patents

Description

本発明は、ステップアンドリピートによってウエハにパターンを露光する投影露光装置に関するものである。

投影露光装置は、半導体デバイスや液晶表示装置などの製造工程に含まれるリソグラフィー工程において、原版としてのレチクルのパターンを、投影光学系を介して感光性の基板（表面にレジスト層が形成されたウエハ）に転写する装置である。ウエハを移動させて順次パターンを露光するステップアンドリピート方式では、ウエハのステップ移動と露光とが交互に繰り返される。露光位置がウエハエッジ（周辺部）にきた際に、エッジ端から所定の範囲を露光しない機能が存在する。このようなウエハ周辺非露光機能は、ＷＥＭ（ウエハエッジマスキング）と称する。

ＷＥＭは、例えば、ネガ型フォトレジストの場合は、周辺部を露光しないことによって、現像時にウエハエッジの余分なフォトレジストが除去される。あるいは、ポジ型フォトレジストの場合は、別途周辺露光装置を用いてウエハエッジを露光する際の、ウエハエッジの露光ムラ（投影露光装置と周辺露光装置とによる部分的な二重露光）を防ぐためにＷＥＭが使用される。

ＷＥＭの技術としては、ウエハ上に遮光板を設ける機構と、レチクル共役位置に遮光板を設ける機構とが知られている。例えば特許文献１には、ワークチャック上にリング状遮光板を搬入・搬出する機構が記載されている。また、特許文献２には、ウエハの上方に遮光帯を設けることが記載されている。遮光帯が複数の曲率を有し、遮光帯を回転及び移動させることが特許文献２に記載されている。さらに、特許文献３には、レチクル共役位置に遮光板を設ける機構が記載されている。

ウエハ上で遮光するＷＥＭは、構造が比較的簡単であり、複雑な制御を必要としない。その反面、ウエハ上に設けられ、遮光体を動かすための可動部からのパーティクルによるウエハの汚染、あるいは遮光部とウエハの接触等によるウエハ損傷に対して、部品選定、メンテナンス等に関して注意が必要であった。また、ウエハに離間して遮光板を設けるので、その分、遮光境界にボケが発生する問題があった。

レチクル共役位置で遮光するＷＥＭは、リレーレンズ等の光学要素が増えることによって、光量が低下し、また、遮光板の移動機構や制御が複雑であるという問題があった。その反面、ウエハの汚染やダメージの心配がなく、遮光境界のボケも少ない利点がある。これらの二つの方式の特徴を考慮すると、高精度な露光を要求される投影露光装置になるほど、レチクル共役位置でのＷＥＭを採用するメリットが大きい。

特表２００５－５０５１４７号公報 特開２００５－０４５１６０号公報 特開２０１１－２３３７８１号公報

１回の露光範囲（露光エリア）を大型化するために、照明光学系に照明光均一化手段として例えばロッドレンズを用い、照度分布の改善を図ることが考えられる。照明光学系にロッドレンズとリレー光学系を設けると、光量の低下が問題となる。この問題を解決するために、リレー光学系を設けずにレチクル共役面でのＷＥＭを実現するため、ロッドレンズ出口面の直近にＷＥＭ機構を設けることが考えられる。

光学設計上は、遮光板とロッドレンズ出口は、どちらもレチクル共役位置に設置するのが理想である。しかしながら、可動部の干渉を避けるために、両者の間にギャップを設ける必要があり、このギャップは、狭い方が望ましい。ギャップを広げた場合には、以下のようなデメリットが生じる。

ロッドレンズ出口がレチクル共役位置から遠ざかるほど、レチクルを照射する光の照度分布が悪くなる。
遮光板がレチクル共役位置から遠ざかるほど、遮光板の投影像のエッジ部にボケが生じ、現像した時にボケの部分でフォトレジスト断面が斜めの形状となる。

一方、ロッドレンズ出口面に遮光板が接触して傷を付けると、その傷がそのままウエハに投影されてしまうので、ギャップを狭くするためには高い剛性、確実な動作や、容易なメンテナンス性が必要となる。さらに、ロッドレンズ出口面とその次のレンズ（クリティカル照明レンズ群）との間のスペースが狭く、このスペースにＷＥＭ機構を設けることが必要とされる。特許文献２には、遮光帯を回転及び移動させる機構についての開示がなく、狭いスペースに遮光帯を設けることについての考慮が何ら払われていない。

したがって、本発明の目的は、照明光均一化手段の出口に近接して配置可能な省スペースな構成の可変遮光手段を有する投影露光装置を提供することにある。

本発明は、光源の出射光を照明光均一化手段に入射し、照明光均一化手段の出射光がレチクルを照明する照明光学系と、
レチクルの像をウエハに投影する投影光学系と、
照明光均一化手段の光束が通過する開口を有し、照明光均一化手段の出口面の近傍において照明光均一化手段の光軸を中心として回転し、光軸と垂直の取り付け面を有する回転体と、
中心部に照明光均一化手段が配置され、回転体を回転させる回転駆動部と、
ウエハの外周から所定の幅だけ内側の境界線に重なる円弧状のエッジを有し、境界線より外側の領域に対して光が入射しないように光を遮る遮光板と、
取り付け面に対して取り付けられ、遮光板のエッジを光軸に接近又は離間させる直動機構と、
取り付け面の光軸を挟んで遮光板と対向する位置に設けられ、遮光板の位置を検出する位置検出センサとを備え、
位置検出センサの出力を使用して遮光板の位置を制御するようにした投影露光装置である。

少なくとも一つの実施形態によれば、所望の非露光領域を形成する可変遮光手段を省スペースな構成とすることができる。したがって、照明光均一化手段の出口部に可変遮光手段を設けることができ、光量の低下を防止することができる。なお、ここに記載された効果は必ずしも限定されるものではなく、本発明中に記載されたいずれかの効果又はそれらと異質な効果であっても良い。

図１は、本発明の一実施形態に係る露光装置の構成を示す図である。 図２は、一実施の形態における遮光板の正面図、平面図及び側面図である。 図３は、一実施の形態における遮光機構の断面図である。 図４は、一実施の形態における遮光板移動機構を示す図である。 図５は、露光動作の説明に使用するウエハの平面図である。 図６は、遮光板の他の例の正面図である。 図７Ａ及び図７Ｂは、本発明の一実施の形態の処理の流れを示すフローチャートである。 図７Ａ及び図７Ｂは、本発明の一実施の形態の処理の流れを示すフローチャートである。 図８は、遮光板移動機構の他の構成例を示す図である。 図９は、遮光板移動機構のさらに他の構成例を示す図である。

以下、本発明の実施形態等について図面を参照しながら説明する。なお、説明は以下の順序で行う。
＜１．一実施の形態＞
＜２．変形例＞
以下に説明する実施の形態等は本発明の好適な具体例であり、本発明の内容がこれらの実施形態等に限定されるものではない。

＜１．一実施の形態＞
「装置構成」
図１は本発明の投影露光装置の一実施の形態の概略構成図である。投影露光装置は、光源１と、光源１の出射光を均一な照度の照明光とする照明光学系４を有する。照明光学系４からの照明光がパターンの原版であるレチクル（フォトマスク）８に照射される。レチクル８の像が投影光学系１２によってウエハ１３に投影される。

ウエハ１３は、露光ステージ（ワークチャック）１４上に載置されている。露光ステージ１４は、ステージ移動機構１５によって移動される。ステージ移動機構１５及び光学系（光源１、照明光学系４、投影光学系１２）が架台１６によって支持される。なお、図１において、各要素は主要な光軸に沿った断面図で表示されており、その際のハッチングは省略されている。

光源１は、ｇ、ｈ、ｉ線を含むブロードバンドな光を放射するＵＶランプである。また、集光ミラーとして楕円ミラー２が設けられている。光源１の光をミラー３によって反射して照明光学系４のロッドレンズ５の入口に向けて集光する。ロッドレンズ５は、ロッドレンズ支持部６によって支持されている。光源１として水銀ランプ、レーザなどを使用してもよい。

照明光学系４は、ロッドレンズ５と、クリティカル照明レンズ群７を備える。ロッドレンズ５は、多角形の断面を有する透明体であり、内面反射によって照明光均一化手段として機能する。照明光均一化手段としては、ロッドレンズに限らず、内面反射鏡（複数の鏡を内向きに貼り合せたような多角形の筒）を使用してもよい。

クリティカル照明レンズ群７は、ロッドレンズ５の出口面の像を所定の倍率（例えば２倍）で拡大してレチクル８に照射する。なお、図ではクリティカル照明レンズ群７を四角形で省略しているが、複数のレンズ（例えば１０枚のレンズ）で構成されている。また、照明光学系４は、後述する遮光機構（ＷＥＭ機構）１１を備えている。

レチクル８は、例えば石英ガラス製のもので、転写されるべき所定のパターン（例えば回路パターン）が描画された透過型のフォトマスクである。レチクル８は、レチクルステージ９によって支持されている。また、アライメントカメラ１０が設けられ、アライメントカメラ１０によってレチクル８に設けられたアライメントマークを撮像可能となっている。

投影光学系１２は、例えばダイソン光学系であり、入口及び出口の平面ミラーと、レンズ群と、折り返しの凹面ミラーとを備えている。一実施の形態では、投影光学系１２の倍率は等倍である。図１ではレンズ群を省略して１つのレンズのみを示しているが、実際は複数のレンズから構成されている。なお、一実施の形態においては、ダイソン光学系を例にとっているが、投影光学系１２の種類や構成、倍率等は問わない。

ウエハ１３は、例えば単結晶シリコンの表面上にフォトレジスト（感光剤）が塗布されたシリコンウエハである。単結晶シリコン製のもの以外にも、ガラス、サファイヤ、又は化合物からなる場合もある。ウエハ１３の形状は円形で、直径は例えば３００ｍｍである。

パターン露光領域のみならず、ウエハ１３の周辺部の少なくとも一部にもフォトレジストが塗布されている。フォトレジストは、紫外線を用いてパターンを形成する感光材料である。フォトレジストとしては、ポジ型、ネガ型のいずれであってもよい。ウエハ１３の周辺部には所定の非露光領域が設定されている。例えばウエハ１３のエッジ全周にわたって幅５ｍｍが非露光領域とされる。ウエハ１３の周辺に、ウエハの角度アライメントのためのノッチやオリフラを設けてもよい。

露光ステージ１４がウエハ１３を吸着保持する。不図示のロボットハンドを用いて、ウエハ１３がプリアライナー（不図示）から搬送され、基板搬送位置に待機する露光ステージ１４上に載置される。図１において、基板搬送位置を２点鎖線で示す。また、同じく基板搬送位置にて露光ステージ１４上からウエハ１３が搬出され、ウエハカセット（不図示）へ搬送される。なお、露光ステージ１４に、ロボットハンドとウエハの受け渡しを行うためのリフトピン等を設けても良い。

露光ステージ１４がステージ移動機構１５によって、Ｘ，Ｙ，θ方向に移動される。ウエハ１３の表面（二次元平面）をＸ方向及びＹ方向で規定し、回転方向をθで規定する。ステージ移動機構１５は、ステップ露光のための移動と、ウエハアライメントの微小な移動とを行なう。また、ウエハ１３の焦点合わせのため、Ｚ方向の移動及び露光ステージの傾き調整を行う機構を備える。また、ステージ移動機構１５は、ウエハ搬送位置と、アライメント位置（不図示）、露光位置の各ポジション間の移動を行う。

投影露光装置は、露光ステージ１４と光学系を設置するための架台１６を備える。アライメントカメラ１０が架台１６に取り付けられている。投影露光装置は、ウエハカセット、ウエハ搬送ロボット、プリアライナー等を備えているが（いずれも不図示）、これらは架台１６に設置されてもよく、あるいは架台１６とは別に設置してもよい。また、投影露光装置は、装置全体を覆う空調チャンバーを有しても良い。

「遮光板」
一実施の形態では、照明光学系４のウエハ１３の共役面に遮光板１７が設置されている。また、遮光板１７はロッドレンズ５の出口部に位置する。具体的には、遮光板１７に近接した位置にロッドレンズ５の出口面が位置するようになされる。このように、ロッドレンズ５の出口面から僅かに離間した位置までをロッドレンズ５の出口部と称する。離間距離は、例えば遮光板１７に対して３ｍｍの間隔でロッドレンズ５の出口面が位置する。なお、３ｍｍ以外の間隔でもよいが、なるべく狭い間隔が望ましい。また、ロッドレンズ５の出口面を共役面と一致させてもよい。図２はウエハ１３の周辺非露光領域に沿って光を遮光するための遮光板１７の一例の正面図、平面図及び側面図を示し、図３は、遮光機構１１を拡大して示し、図４は、出射面から見た遮光機構１１を示す。

遮光板１７は、レチクル８と同様の材質例えば石英ガラスの板に対して黒色の遮光剤を被着させたものである。遮光板１７は、内周側に円弧状切欠きＲ０を有し、外周側に半径が異なる（すなわち、曲率が異なる）４個の円弧状のエッジＲ１，Ｒ２，Ｒ３及びＲ４を有する形状である。また、取付穴１８ａ，１８ｂ及び１８ｃが形成され、取付穴１８ａ，１８ｂ及び１８ｃによって図４に示すように、リング状ホルダ１９が取り付けられる。リング状ホルダ１９は、例えば金属からなり、遮光板１７が補強されている。

さらに、遮光板１７の円弧状のエッジ部分は、照明光学系のＮＡ（開口率）に応じたテーパ形状の断面を有する。テーパ形状は、非露光領域以外では出射光の光量の減少を防止するためである。なお、実施例での遮光板の円弧状のエッジは４つあるが、これに限定する必要は無い。例えば２つの円弧状エッジを持つ遮光板としても良い。異なる曲率のエッジを遮光板１７が有するので、異なる半径のウエハ１３の非露光領域に対応することができ、遮光板１７をウエハ１３の非露光領域の半径に応じて交換する必要がない利点がある。

「遮光板移動機構」
遮光板１７は、遮光板移動機構によってその位置が変位される。遮光板移動機構は、直動機構２３と第１θ軸機構と第２θ軸機構とを備えている。そして、遮光板１７及び遮光板移動機構によって可変遮光手段が構成されている。図４に示すように、遮光板１７の内側の円弧状切欠きＲ０又はリング状ホルダ１９の内側の円弧が円弧切替モータ２０の回転軸に取り付けられている。円弧切替モータ２０がベースプレート２１に対して固定されている。ベースプレート２１が着脱用ネジ２２ａ及び２２ｂによって直動機構２３に対して装着される。すなわち、遮光板１７及び円弧切替モータ２０が予め取り付けられているベースプレート２１が直動機構２３に対して着脱自在とされている。したがって、円弧切替モータ２０及びベースプレート２１と一体に遮光板１７が交換される。なお、円弧切替モータ２０によって遮光板１７を回転させるための機構を第２θ軸機構と称する。

直動機構２３は、ボールネジ等の単軸アクチュエータであり、遮光板１７及び円弧切替モータ２０を直線的に変位させる機構である。直動機構２３によって、照明光学系４の光軸に対して遮光板１７のエッジを接近又は離間される。直動機構２３は、非露光領域の幅に対応して遮光板１７のエッジの位置を設定するものである。

第１θ軸機構は、照明光学系の光軸を中心にして遮光板１７を回転させる回転機構である。図３に示すように、中空モータ２４が設けられ、中空モータ２４によって中空シャフト２５が回転される。中空モータ２４は、スリップリング等の回転ケーブル部２６を備えている。

中空シャフト２５内にロッドレンズ５を有するロッドレンズ支持部６が設置される。例えば中空シャフト２５の中心とロッドレンズ５の光軸が一致するようになされる。ロッドレンズ支持部６は、ロッドレンズ５の入口側が筐体に固定され、出口側は中空シャフト２５内に設けられたベアリング２７によって支持される。但し、ベアリング２７によってロッドレンズ５の出口側を支持せずに、入口側のみでロッドレンズ５及びロッドレンズ支持部６を支持する片持ち構成であってもよい。

ロッドレンズ支持部６は、ロッドレンズ支持部６に設けた導路（不図示）に冷媒を流すことでロッドレンズ５を冷却するロッドレンズ冷却機構を備える。また、ロッドレンズ支持部６に設けた別の導路（不図示）を通じて気体を遮光板１７に噴射することで遮光板１７を冷却する遮光板冷却機構を備えている。

中空シャフト２５のロッドレンズ５の出口側に回転ステージ２８が取り付けられている。回転ステージ２８は、円板状でその中心位置に中空シャフト２５の先端が固着される。回転ステージ２８には、取付部を介して直動機構２３が取り付けられている。例えば回転ステージ２８の径方向と直動機構２３の直線運動の方向が一致するようにされている。上述したように、直動機構２３に対しては、遮光板１７及び円弧切替モータ２０を有する第２θ軸機構が取り付けられている。したがって、中空シャフト２５が中空モータ２４によって回転されると、回転ステージ２８、直動機構２３及び第２θ軸機構が一体に回転する。

さらに、遮光板移動機構には、光軸を挟んで遮光板１７と対向する位置に、遮光板１７の位置検出センサ２９が設けられている。位置検出センサ２９は、遮光板１７と一緒に回転するように、回転ステージ２８に取り付けられており、常に遮光板１７と対向する位置を保持し、遮光板１７が目標位置に対して正しい位置にあるか（例えば遮光板１７の突出量が設定値通りであるか）は、都度、位置検出センサ２９によって確認されている。位置検出センサ２９としては、レーザを用いた位置計測センサや、カメラを用いた画像認識センサ等が用いられる。

位置検出センサ２９の検出出力が制御部（不図示）に対して供給される。制御部が直動機構２３の駆動モータなどを制御して遮光板１７が目標位置に対して正しい位置となるようにされる。この制御によって非露光領域ＭＡの境界と遮光板１７のエッジの位置が一致される。さらに、制御部によって、投影露光装置の各構成要素の動作及び調整などを制御し得る。制御部は、例えばコンピュータなどで構成され、各構成要素に伝送路を介して接続され、プログラムなどにしたがって各構成要素の制御を実行し得る。また、制御部に対して遮光板１７の目標位置と関連するパラメータ（曲率、遮光幅、ウエハサイズ、露光範囲のサイズ等）は、予め制御部に対して設定され、また、レシピによって、制御データが露光範囲の位置に関連づけて管理されている。

「遮光動作」
図５はウエハ１３に対するステップアンドリピート露光動作を示す図である。図５の例では、４１回の露光を行う。１回の露光範囲（以下ショットと適宜称する）を矩形で示しており、十字はショットの中心（光軸の位置）を示している。１回のショットの矩形は、基本的にはレチクル８によって定められる。ショットを規定するためのブラインド等を設置してもよい。

ウエハ１３の外周から内側の境界までの所定の幅の非露光領域ＭＡが設定される。遮光板１７によって非露光領域ＭＡに対して光が入射しないようになされる。非露光領域ＭＡが含まれる周辺のショットにおいて遮光がなされる。ショットが非露光領域ＭＡにかからない位置の露光動作の際には、遮光板１７がロッドレンズ５から退避する位置に後退している。

図５においては、ウエハ１３の左上の部分の例に関して、遮光板１７による遮光領域をＳＡで表し、非露光領域ＭＡがかかるショットをＥＡ１及びＥＡ２で表している。露光エリアが非露光領域ＭＡに掛かるショット（ＥＡ１、ＥＡ２）においては、遮光板１７が非露光領域ＭＡを遮光する分だけロッドレンズ５の光軸に向かって接近し、照明光の一部を遮光する。また、ショットＥＡ１、ＥＡ２における非露光領域ＭＡの角度に応じて、第１θ軸機構（中空モータ２４、回転ステージ２８を有する）が回転する。すなわち、遮光板１７のエッジが非露光領域ＭＡを規定する内側の境界の円弧と一致するようになされる。その結果、遮光領域ＳＡが露光領域（ＥＡ１、ＥＡ２）と非露光領域ＭＡに応じて位置決めされる。

ウエハ１３の非露光領域ＭＡの幅を変更する場合、又は非露光領域ＭＡの幅を変えずにウエハ１３を異なる半径のものに交換する場合には、遮光領域ＳＡの曲率を変更する必要が生じる。これらの場合は、円弧切替モータ２０を有する第２θ軸機構（円弧切替モータ２０を有する）によって遮光板１７を回転させ、遮光板１７の円弧状エッジを切り替えることで、対応することが可能である。遮光板１７が複数の曲率のエッジを有することによって、遮光板１７を交換しないで、非露光領域を規定する境界の曲率を変更することができる。

「遮光板の形状の他の例」
図６に示すように、二つの曲率Ｒ５及びＲ６のエッジを有し、内側に円弧状切欠きＲ０を有する遮光板１７'を使用してもよい。すなわち、遮光板は、２以上の異なる曲率のエッジを持つことが必要である。

「投影露光装置の動作」
図７Ａ及び図７Ｂのフローチャートを参照して、制御部の制御によってなされる投影露光装置の動作について説明する。図７Ａ及び図７Ｂは、図面の作図スペースの制約上、一連の処理の流れを二つの図面に分割して示すものである。また、図７Ａ及び図７Ｂに向かって左側に示す処理の流れは、露光ステージ１４及びウエハ搬送装置の動作を示しており、右側に示す処理の流れは、遮光機構の動作を示す。さらに、図７Ａ及び図７Ｂにおいては、作図スペースの制約上、各構成要素に関する参照符号を省略している。

ステップＳ０：処理が開始される。
ステップＳ１：露光ステージ１４をウエハ搬送位置に移動する。
ステップＳ２：搬送アームが所定方向からウエハ１３を露光ステージ１４まで搬送する。
ステップＳ３：露光ステージ１４がウエハ１３を吸着する。
ステップＳ４：露光ステージ１４をアライメント位置に移動する。
ステップＳ５：アライメントカメラ１０がウエハ１３のアライメントマークを検出し、ウエハ１３の位置を検出する。
ステップＳ６：露光ステージ１４を最初の露光位置に移動する。

露光ステージ１４及びウエハ搬送装置によるステップＳ１～Ｓ６の処理と並行して遮光機構がステップＳ１０１及びＳ１０２の処理を行う。
ステップＳ１０１：第１θ軸機構と直動機構２３が遮光板１７を原点に移動させる。
ステップＳ１０２：第１θ軸機構と直動機構がショット開始位置まで遮光板１７を移動させる。

露光ステージ１４及びウエハ搬送装置により、次の判定がなされる。
ステップＳ７：ウエハ１３のショット中心に対して遮光板１７がレシピ通りの位置に止まっているかどうかの判定がなされる。
ステップＳ８：ステップＳ７の判定結果が肯定の場合、露光シャッタを動作させ、露光がなされる。
ステップＳ１０３：ステップＳ７の判定結果が否定の場合、遮光板１７の位置調整を行い、ステップＳ７の判定が再度なされる。ステップＳ７の判定結果に応じてステップＳ８又はＳ１０３がなされる。

続いて図７Ｂに示す処理がなされる。
ステップＳ９：露光ステージ１４が次のショットエリアに移動する。
ステップＳ１０４：ステップＳ９の処理と並行して第１θ軸機構と直動機構２３が次ショットの遮光位置まで遮光板１７を移動する。

露光ステージ１４及びウエハ搬送装置により、次の判定がなされる。
ステップＳ１０：ウエハ１３のショット中心に対して遮光板１７がレシピ通りの位置に止まっているかどうかの判定がなされる。
ステップＳ１１：ステップＳ１０の判定結果が肯定の場合、露光シャッタを動作させ，露光がなされる。
ステップＳ１０５：ステップＳ１０の判定結果が否定の場合、遮光板１７の位置調整を行い、ステップＳ１０の判定が再度なされる。ステップＳ１０の判定結果に応じてステップＳ１１又はＳ１０５がなされる。
ステップＳ１２：以下、繰り返してステップＳ９，Ｓ１０，Ｓ１１，Ｓ１０５の処理がなされる。

ステップＳ１３：最後のショットを露光する。
ステップＳ１４：露光ステージ１４をウエハ１３搬送位置に移動する。
ステップＳ１５：露光ステージ１４のウエハ１３吸着を解除する。
ステップＳ１６：搬送アームで露光ステージ１４からウエハ１３を搬送する。

露光ステージ１４及びウエハ搬送装置によるステップＳ１３～Ｓ１６の処理と並行して遮光機構がステップＳ１０６の処理を行う。
ステップＳ１０６：遮光板１７を原点位置に移動させる。
ステップＳ１７：処理が終了する。

「直動機構の他の例」
図８に示すように、直動機構の軸（変位方向）を光軸と垂直に交わらないように、直動機構を斜めに配置してもよい。上述した直動機構を示す図４と同様の参照符号を付して示す。このような配置によって遮光板移動機構の高さを低くすることができる。

「直動機構のさらに他の例」
図９に示すように、アーム３０の一端側に遮光板１７、リング状ホルダ１９及び円弧切替モータ２０を取り付け、アーム３０の他端側を直動機構３１に取り付ける。アーム３０の延長方向と直動機構３１の軸方向（変位方向）が直交するようになされる。かかる構成によって直動機構及び第２θ軸機構の形状を小型化することができる。

＜２．変形例＞
以上、本技術の一実施の形態について具体的に説明したが、本発明は、上述の一実施の形態に限定されるものではなく、本発明の技術的思想に基づく各種の変形が可能である。また、上述の実施形態において挙げた構成、方法、工程、形状、材料及び数値などはあくまでも例に過ぎず、必要に応じてこれと異なる構成、方法、工程、形状、材料及び数値などを用いてもよい。

以上、本発明によれば、所望の非露光領域を形成する可変遮光手段を省スペースな構成とすることができる。したがって、照明光均一化手段の出口部に可変遮光手段を設けることができ、光量の低下を防止することができる。

また本発明によれば、エッジの切替部を含むユニット単位で遮光板の交換を可能とすることによって、交換作業が容易となり、ロッドレンズ等の光学素子を傷つけることを防止でき、取り付け精度を高くすることができる。

１・・・光源、４・・・照明光学系、５・・・ロッドレンズ、
６・・・ロッドレンズ支持部、８・・・レチクル、１０・・・アライメントカメラ、
１１・・・遮光機構、１２・・・投影光学系、１３・・・ウエハ、
１４・・・露光ステージ、１５・・・ステージ移動機構、１７・・・遮光板、
１９・・・リング状ホルダ、２０・・・円弧切替モータ、２３・・・直動機構、
２４・・・中空モータ、２５・・・中空シャフト、２８・・・回転ステージ

Claims (4)

1. 光源の出射光を照明光均一化手段に入射し、前記照明光均一化手段の出射光がレチクルを照明する照明光学系と、
   前記レチクルの像をウエハに投影する投影光学系と、
   前記照明光均一化手段の光束が通過する開口を有し、前記照明光均一化手段の出口面の近傍において前記照明光均一化手段の光軸を中心として回転し、前記光軸と垂直の取り付け面を有する回転体と、
   中心部に前記照明光均一化手段が配置され、前記回転体を回転させる回転駆動部と、
   前記ウエハの外周から所定の幅だけ内側の境界線に重なる円弧状のエッジを有し、前記境界線より外側の領域に対して光が入射しないように光を遮る遮光板と、
   前記取り付け面に対して取り付けられ、前記遮光板のエッジを前記光軸に接近又は離間させる直動機構と、
   前記取り付け面の前記光軸を挟んで前記遮光板と対向する位置に設けられ、前記遮光板の位置を検出する位置検出センサとを備え、
   前記位置検出センサの出力を使用して前記遮光板の位置を制御するようにした投影露光装置。
2. 前記レチクルと共役位置又は該共役位置の近傍に前記出口面及び前記遮光板が配置されるようにした請求項１に記載の投影露光装置。
3. 前記照明光均一化手段がロッドレンズによって構成され、
   前記ロッドレンズの長手方向が前記回転駆動部の中心部を貫通し、
   前記回転体が前記回転駆動部によって前記ロッドレンズを通る光軸を中心として回転する請求項１又は２に記載の投影露光装置。
4. 前記遮光板は、異なる曲率を有する複数の遮光部を有し、
   前記直動機構に対して設けられた回動部によって前記遮光板を回転可能に取り付けるようにした請求項１に記載の投影露光装置。

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