JP7383732B2 - 放射スポットの中心を決定するための方法、センサ、及びステージ装置 - Google Patents
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Description
[0001] 本出願は、2019年7月8日に出願された欧州特許出願第19185021.3号の優先権を主張する。これは援用により全体が本願に含まれる。
1.放射源と検出器とを備えるセンサによって表面上に照射された放射スポットの中心を決定するための方法であって、
放射源によって、表面上に第1の放出放射ビームを放出して、表面上に放射スポットを生成するステップであって、表面に配置されたターゲットの少なくとも一部が放射スポットによって照射されるステップと、
検出器によって、ターゲットで反射された放射スポットからの放射を少なくとも含む第1の反射放射ビームを受光するステップと、
第1の反射放射ビームに基づいてターゲットの存在を検出するステップと、
第1の反射放射ビームに基づいてターゲットの第1の測定位置を決定するステップと、
ターゲットの第1の測定位置に基づいて、少なくとも第1の方向において表面上に投影された放射スポットの中心を決定するステップと、
を含む、方法。
2.ターゲットが配置されている表面は物体の上面であり、
物体が第1の位置にある間に、ターゲットの第1の測定位置の決定が行われ、
方法は更に、
物体が第1の測定位置にある間に第1の反射放射ビームを受光した後、物体を、第1の位置に対して少なくとも回転させた少なくとも第2の位置に配置するステップと、
放射源によって、表面上に少なくとも第2の放出放射ビームを放出して放射スポットを生成するステップであって、ターゲットの少なくとも一部が放射スポットによって照射されるステップと、
物体が少なくとも第2の位置にある間に、検出器によって、ターゲットで反射された放射スポットからの放射を少なくとも含む少なくとも第2の反射放射ビームを受光するステップと、
少なくとも第2の反射放射ビームに基づいてターゲットの存在を検出するステップと、
少なくとも第2の反射放射ビームに基づいてターゲットの少なくとも第2の測定位置を決定するステップと、を含み、
放射スポットの中心を決定するステップは、ターゲットの第1の測定位置及び少なくとも第2の測定位置の双方に基づいて実行される、条項1に記載の方法。
3.物体は、第1の位置に対して少なくとも第2の位置では、上面にほぼ垂直な軸を中心として回転している、条項2に記載の方法。
4.更に、少なくとも第2の方向において放射スポットの中心が決定される、条項1から3のいずれかに記載の方法。
5.非線形最小二乗フィッティング及び線形回帰のうち少なくとも1つによって放射スポットの中心を決定するステップを更に含む、条項2に記載の方法。
6.少なくとも第2の位置に物体を配置するステップは、アライメントセンサによって取得された測定データを用いて物体を位置合わせすることを含む、条項2から5のいずれかに記載の方法。
7.ターゲットが配置されている表面は、センサの測定が行われる予定である物体を保持するように構成された物体ホルダの表面である、条項1に記載の方法。
8.アライメントセンサによってターゲットの少なくとも第1のアライメント位置を決定するステップを更に含み、放射スポットの中心を決定することは更に第1のアライメント位置に基づいて実行される、条項1から7のうち1つ以上に記載の方法。
9.放射スポットの中心を決定することは更にターゲットの光学的相互作用パラメータに基づく、条項1から8のうち1つ以上に記載の方法。
10.放射源と検出器とを備えるセンサを較正するための方法であって、
条項1から9のうち1つ以上に記載の方法に従って、センサによって表面上に照射された放射スポットの中心を決定することと、
放射スポットの決定された中心に基づいて、
センサが取得した測定又は測定データを調整するように、及び/又は、
センサの測定が行われる予定である物体について、物体の表面のどのエリアを放射スポットで照射するかを調整するように、
処理ユニットを構成することと、
を含む、方法。
11.表面上に第1の放出放射ビームを放出して放射スポットを生成するように構成された放射源であって、表面に配置されたターゲットの少なくとも一部が放射スポットによって照射される、放射源と、
ターゲットで反射された放射スポットからの放射を少なくとも含む第1の反射放射ビームを受光するように構成された検出器と、
第1の反射放射ビームに基づいてターゲットの存在を検出し、
第1の反射放射ビームに基づいてターゲットの第1の測定位置を決定し、
ターゲットの第1の測定位置に基づいて、少なくとも第1の方向において表面上に投影された放射スポットの中心を決定する、
ように構成された処理ユニットと、
を備える、センサ。
12.処理ユニットは、第1の反射放射ビームの特性が閾値を超えたことに基づいてターゲットの存在を検出するように構成されている、条項11に記載のセンサ。
13.条項11又は条項12に記載のセンサと、
センサの測定が行われる予定である物体を保持するように構成された物体ホルダと、
物体ホルダ上に物体を配置するように構成された物体ハンドラと、
物体を物体ホルダ上の第1の位置に配置し、較正物体の上面にターゲットが配置されており、
物体が第1の位置にある間にセンサの検出器が第1の反射放射ビームを受光した後、較正物体を、第1の位置に対して少なくとも回転させた少なくとも第2の位置に配置するように、物体ハンドラを制御する
ように構成された制御ユニットと、を備え、
センサの処理ユニットは更に、
物体が少なくとも第2の位置にあると共に、放射源が表面上に少なくとも第2の放出放射ビームを放出して、ターゲットの少なくとも一部が放射スポットで照射されるように放射スポットを生成した場合、検出器によって受光された、ターゲットで反射された放射スポットからの放射を少なくとも含む少なくとも第2の反射放射ビームに基づいて、ターゲットの少なくとも第2の測定位置を決定し、
ターゲットの第1の測定位置と少なくとも第2の測定位置の双方に基づいて放射スポットの中心を決定する
ように構成されている、ステージ装置。
14.物体ハンドラは、較正物体を、上面にほぼ垂直な軸を中心として第1の位置に対して回転させた第2の位置に配置するよう構成されている、条項13に記載のステージ装置。
15.アライメントセンサを更に備え、
制御ユニットは、アライメントセンサが取得した測定データを用いて物体を少なくとも第2の位置に配置するように物体ハンドラを制御するよう構成されている、条項13又は条項14に記載のステージ装置。
16.条項11又は条項12に記載のセンサと、センサの測定が行われる予定である物体を保持するように構成された物体ホルダと、を備え、
ターゲットが配置されている表面は、物体ホルダの表面である、ステージ装置。
17.ターゲットの第1のアライメント位置を決定するように構成されたアライメントセンサを更に備え、
処理ユニットは更に、第1のアライメント位置に基づいて放射スポットの中心を決定するよう構成されている、条項13から16のうち1つ以上に記載のステージ装置。
18.リソグラフィ装置、メトロロジ装置、粒子ビーム装置、電子ビーム装置、電子ビーム検査装置、整形装置、及び検査装置のうち少なくとも1つである、条項13から17のうち1つ以上に記載のステージ装置を備える装置。
19.パターニングデバイスから基板上にパターンを転写することを含み、
条項13から17のうちいずれかに従ったステージ装置を備えるリソグラフィ装置を用いるステップを含む、デバイス製造方法。
Claims (13)
- 放射源と検出器とを備えるセンサによって表面上に照射された放射スポットの中心を決定するための方法であって、
前記放射源によって、前記表面上に第1の放出放射ビームを放出して、前記表面上に前記放射スポットを生成するステップであって、前記表面に配置されたターゲットの少なくとも一部が前記放射スポットによって照射され、前記ターゲットが配置されている前記表面は物体の上面であるステップと、
前記検出器によって、前記ターゲットで反射された前記放射スポットからの放射を少なくとも含む第1の反射放射ビームを受光するステップと、
前記第1の反射放射ビームに基づいて前記ターゲットの存在を検出するステップと、
前記第1の反射放射ビームに基づいて、前記物体が第1の位置にある間に前記ターゲットの第1の測定位置を決定するステップと、
前記ターゲットの前記第1の測定位置に基づいて、少なくとも第1の方向において前記表面上に投影された前記放射スポットの中心を決定するステップと、
前記物体が前記第1の測定位置にある間に前記第1の反射放射ビームを受光した後、前記物体を、前記第1の位置に対して少なくとも回転させた少なくとも第2の位置に配置するステップと、
前記放射源によって、前記表面上に少なくとも第2の放出放射ビームを放出して前記放射スポットを生成するステップであって、前記ターゲットの少なくとも一部が前記放射スポットによって照射されるステップと、
前記物体が前記少なくとも第2の位置にある間に、前記検出器によって、前記ターゲットで反射された前記放射スポットからの放射を少なくとも含む少なくとも第2の反射放射ビームを受光するステップと、
少なくとも前記第2の反射放射ビームに基づいて前記ターゲットの存在を検出するステップと、
少なくとも前記第2の反射放射ビームに基づいて前記ターゲットの少なくとも第2の測定位置を決定するステップと、を含み、
前記放射スポットの前記中心を決定する前記ステップは、前記ターゲットの前記第1の測定位置及び少なくとも前記第2の測定位置の双方に基づいて実行され、
前記方法は、非線形最小二乗フィッティング及び線形回帰のうち少なくとも1つによって前記放射スポットの中心を決定するステップを更に含む、方法。 - 前記物体は、前記第1の位置に対して少なくとも前記第2の位置では、前記上面にほぼ垂直な軸を中心として回転している、請求項1に記載の方法。
- 更に、少なくとも第2の方向において前記放射スポットの中心が決定される、請求項1又は2に記載の方法。
- 少なくとも前記第2の位置に前記物体を配置する前記ステップは、アライメントセンサによって取得された測定データを用いて前記物体を位置合わせすることを含む、請求項1から3の何れか一項に記載の方法。
- 前記ターゲットが配置されている前記表面は、前記センサの測定が行われる予定である物体を保持するように構成された物体ホルダの表面である、請求項1に記載の方法。
- アライメントセンサによって前記ターゲットの少なくとも第1のアライメント位置を決定するステップを更に含み、
前記放射スポットの前記中心を決定することは更に、前記第1のアライメント位置に基づいて実行される、請求項1から5の何れか一項に記載の方法。 - 前記放射スポットの前記中心を決定することは更に、前記ターゲットの光学的相互作用パラメータに基づく、請求項1から6の何れか一項に記載の方法。
- 放射源と検出器とを備えるセンサを較正するための方法であって、
請求項1から7の何れか一項に記載の方法に従って、前記センサによって表面上に照射された放射スポットの中心を決定することと、
前記放射スポットの前記決定された中心に基づいて、
i.前記センサが取得した測定又は測定データを調整するように、及び/又は、
ii.前記センサの測定が行われる予定である物体について、前記物体の表面のどのエリアを前記放射スポットで照射するかを調整するように、
処理ユニットを構成することと、
を含む、方法。 - 表面上に第1の放出放射ビームを放出して放射スポットを生成するように構成された放射源であって、前記表面に配置されたターゲットの少なくとも一部が前記放射スポットによって照射され、前記ターゲットが配置されている前記表面は物体の上面である、放射源と、
前記ターゲットで反射された前記放射スポットからの放射を少なくとも含む第1の反射放射ビームを受光するように構成された検出器と、
前記第1の反射放射ビームに基づいて前記ターゲットの存在を検出し、
前記第1の反射放射ビームに基づいて、前記物体が第1の位置にある間に前記ターゲットの第1の測定位置を決定し、
前記ターゲットの前記第1の測定位置に基づいて、少なくとも第1の方向において前記表面上に投影された前記放射スポットの中心を決定し、
前記物体が前記第1の測定位置にある間に前記第1の反射放射ビームを受光した後、前記物体を、前記第1の位置に対して少なくとも回転させた少なくとも第2の位置に配置し、
前記放射源によって、前記表面上に少なくとも第2の放出放射ビームを放出して前記放射スポットを生成して前記ターゲットの少なくとも一部を前記放射スポットによって照射し、
前記物体が前記少なくとも第2の位置にある間に、前記検出器によって、前記ターゲットで反射された前記放射スポットからの放射を少なくとも含む少なくとも第2の反射放射ビームを受光し、
少なくとも前記第2の反射放射ビームに基づいて前記ターゲットの存在を検出し、
少なくとも前記第2の反射放射ビームに基づいて前記ターゲットの少なくとも第2の測定位置を決定する、
ように構成された処理ユニットと、を備え、
前記処理ユニットは、前記ターゲットの前記第1の測定位置及び少なくとも前記第2の測定位置の双方に基づいて、前記放射スポットの前記中心を決定し、
前記処理ユニットは更に、非線形最小二乗フィッティング及び線形回帰のうち少なくとも1つによって前記放射スポットの中心を決定する、センサ。 - 前記処理ユニットは、前記第1の反射放射ビームの特性が閾値を超えたことに基づいて前記ターゲットの存在を検出するように構成されている、請求項9に記載のセンサ。
- 請求項9又は10に記載のセンサと、
前記センサの測定が行われる予定である較正物体を保持するように構成された物体ホルダと、
前記物体ホルダ上に前記較正物体を配置するように構成された物体ハンドラと、
i.前記較正物体を前記物体ホルダ上の第1の位置に配置し、前記較正物体の上面に前記ターゲットが配置されており、
ii.前記較正物体が前記第1の位置にある間に前記センサの前記検出器が前記第1の反射放射ビームを受光した後、前記較正物体を、前記第1の位置に対して少なくとも回転させた少なくとも第2の位置に配置するように、前記物体ハンドラを制御する
ように構成された制御ユニットと、を備え、
前記センサの前記処理ユニットは更に、
i.前記較正物体が少なくとも前記第2の位置にあると共に、前記放射源が前記表面上に少なくとも第2の放出放射ビームを放出して、前記ターゲットの少なくとも一部が前記放射スポットで照射されるように前記放射スポットを生成した場合、前記検出器によって受光された、前記ターゲットで反射された前記放射スポットからの放射を少なくとも含む少なくとも第2の反射放射ビームに基づいて、前記ターゲットの少なくとも第2の測定位置を決定し、
ii.前記ターゲットの前記第1の測定位置と少なくとも前記第2の測定位置の双方に基づいて前記放射スポットの前記中心を決定する
ように構成されている、ステージ装置。 - 前記物体ハンドラは、前記較正物体を、前記上面にほぼ垂直な軸を中心として前記第1の位置に対して回転させた前記第2の位置に配置するよう構成されている、請求項11に記載のステージ装置。
- アライメントセンサを更に備え、
前記制御ユニットは、前記アライメントセンサが取得した測定データを用いて前記較正物体を少なくとも前記第2の位置に配置するように前記物体ハンドラを制御するよう構成されている、請求項11又は12に記載のステージ装置。
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