JP7051193B2 - レベルセンサ及びリソグラフィ装置 - Google Patents
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Description
[0001] 本願は2018年4月11日に提出された欧州出願第18166754.4号の優先権を主張するものであり、同出願は参照によりその全体が本明細書に組み込まれる。
放射ビームを基板の表面に誘導するように配置された投影ユニットと、
検出ユニットであって、
基板の表面で反射された放射ビームを受光するように配置された検出格子と、
1つ以上の検出器と、
放射ビームを検出格子から1つ以上の検出器に誘導するための1つ以上の光学素子と、
を備える検出ユニットと、
1つ以上の検出器によって受光された放射ビームに基づいて基板の表面の位置を判定するための処理ユニットと、
を備えており、検出格子及び1つ以上の光学素子は単一集積光学素子に集積される。
放射ビームの断面にパターンを付与してパターン形成された放射ビームを形成することのできるパターニングデバイスを支持するように構築されたパターニングデバイスサポートと、
基板を保持するように構築された基板サポートと、
パターン形成された放射ビームを基板のターゲット部分に投影するように構成された投影システムと、
を備えるリソグラフィ装置が提供され、リソグラフィ装置は、基板サポートに支持された基板の表面の位置を測定するためのレベルセンサを備え、レベルセンサは、
放射ビームを基板の表面に誘導するように配置された投影ユニットと、
検出ユニットであって、
基板の表面で反射された放射ビームを受光するように配置された検出格子と、
1つ以上の検出器と、
放射ビームを検出格子から1つ以上の検出器に誘導するための1つ以上の光学素子と、を備える検出ユニットと、
1つ以上の検出器によって受光された放射ビームに基づいて基板の表面の位置を判定するための処理ユニットと、
を備えており、検出格子及び1つ以上の光学素子は単一集積光学素子に集積される。
Claims (14)
- 基板の表面の位置を測定するためのレベルセンサであって、
放射ビームを前記基板の前記表面に誘導するように配置された投影ユニットと、
検出ユニットであって、
前記基板の前記表面で反射された前記放射ビームを受光するように配置された検出格子と、
1つ以上の検出器と、
前記放射ビームを前記検出格子から前記1つ以上の検出器に誘導するための1つ以上の光学素子と、を備える検出ユニットと、
前記1つ以上の検出器によって受光された前記放射ビームに基づいて前記基板の前記表面の前記位置を判定するための処理ユニットと、
を備えており、
前記検出格子及び前記1つ以上の光学素子は単一集積光学素子に集積され、
前記単一集積光学素子は透明材料のブロックを備えており、前記検出格子は、前記透明材料のブロックの上に配置され及び/又は前記透明材料のブロックの表面上もしくは表面内に形成される、
レベルセンサ。 - 前記単一集積光学素子は、モノリシック素子であるか、又はモノリシック素子として作用する、請求項1のレベルセンサ。
- 前記1つ以上の検出器は前記単一集積光学素子に集積される、請求項1又は2のいずれかのレベルセンサ。
- 前記1つ以上の検出器は前記透明材料のブロックの上に配置される、請求項1から3のいずれかのレベルセンサ。
- 前記透明材料のブロックは、前記ビーム又はその一部を前記1つ以上の検出器に反射するように構成された少なくとも1つの反射面を備えている、請求項1から4のいずれかのレベルセンサ。
- 前記少なくとも1つの反射面は、前記ビーム又はその一部を前記1つ以上の検出器に合焦させるように構成された湾曲形状を有している、請求項5のレベルセンサ。
- 前記検出格子は前記放射ビームを第1のビーム部分と第2のビーム部分とに分割するように構成されており、前記1つ以上の検出器は前記第1のビーム部分及び前記第2のビーム部分を受光するように構成されている、請求項1から6のいずれかのレベルセンサ。
- 前記1つ以上の光学素子は、前記第1のビーム部分を前記1つ以上の検出器に合焦させるように構成された第1のレンズと、前記第2のビーム部分を前記1つ以上の検出器に合焦させるように構成された第2のレンズとを備えており、前記第1のレンズ及び前記第2のレンズは前記単一集積光学素子に集積される、請求項7のレベルセンサ。
- 前記投影ユニットは複数の放射ビームのアレイを前記基板の前記表面に誘導するように構成されており、前記検出格子は前記基板の前記表面で反射された前記複数の放射ビームを受光するように構成されている、請求項1から8のいずれかのレベルセンサ。
- 前記1つ以上の光学素子は、各放射ビームの各第1のビーム部分について前記1つ以上の検出器に前記第1のビーム部分をそれぞれ合焦させるように構成された1つ以上の第1のレンズと、各放射ビームの各第2のビーム部分について前記1つ以上の検出器に前記第2のビーム部分をそれぞれ合焦させるように構成された1つ以上の第2のレンズとを備える、請求項7及び9のレベルセンサ。
- 前記1つ以上の光学素子は、前記複数の放射ビームの全ての第1のビーム部分について前記1つ以上の検出器に前記第1のビーム部分を合焦させるように構成された第1のレンズと、前記複数の放射ビームの全ての第2のビーム部分について前記1つ以上の検出器に前記第2のビーム部分を合焦させるように構成された第2のレンズとを備える、請求項7及び9のレベルセンサ。
- 前記放射ビームを前記検出格子から前記検出器に誘導するための前記1つ以上の光学素子は、前記複数の放射ビームの各々について少なくとも1つのレンズを備える、請求項7のレベルセンサ。
- 前記検出ユニットは、光路中の前記基板の前記表面上での反射の後、且つ前記放射ビームが前記検出格子によって受光される前に、前記放射ビームをコリメートするように構成されたコリメータレンズ要素を備える、請求項1から12のいずれかのレベルセンサ。
- 基板サポートに支持された基板の表面の位置を測定するように構成された請求項1から13のいずれかのレベルセンサを備える装置。
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