JP2021524605A - マーク検出システムにおける測定ビームの所望の波長帯域幅を決定するための帯域幅計算システムおよび方法 - Google Patents
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Abstract
Description
本出願は、2018年5月24日に出願され、その全体が参照により本書に援用される欧州出願第18173977.2号の優先権を主張する。
本発明は、マーク検出の技術分野に関する。
各放射源は、中心波長を含む波長帯域幅の放射を含む測定ビームをマークに向かって放出するように構成される。複数の放射源の波長帯域幅は、異なる中心波長および/または異なる幅を含む。帯域幅計算システムの処理ユニットは、所望の波長帯域幅に基づいて複数の放射源のうちの1つを選択するようにさらに構成される。放射ユニットの制御ユニットは、選択された放射源を制御して測定ビームを放出するように構成される。そのため、最も適切な放射源を使用することができる。
図1は、本発明によって具体化される、および/または本発明による帯域幅計算システム、マーク検出システムおよび/または位置測定システムを含む、リソグラフィ装置LAを概略的に示す。このリソグラフィ装置LAは、放射ビームB(例えばUV放射、DUV放射またはEUV放射)を調整するよう構成される照明システム(イルミネータとも呼ばれる)ILと、パターニングデバイス(例えばマスク)MAを支持するよう構築され、特定のパラメータにしたがってパターニングデバイスMAを正確に位置決めするよう構成される第1位置決め装置PMに接続されるマスクサポート(例えばマスクテーブル)MTと;基板(例えばレジストコートされたウェハ)Wを保持するよう構築され、特定のパラメータにしたがって基板サポートを正確に位置決めするよう構成される第2位置決め装置PWに接続される基板サポート(例えばウェハテーブル)WTと;パターニングデバイスMAにより放射ビームBに付与されたパターンを基板Wの(例えば一以上のダイを含む)目標部分Cに投影するよう構成される投影システム(例えば屈折型投影レンズシステム)PSと、を含む。
Claims (15)
- マーク検出システムにおける測定ビームの所望の波長帯域幅を決定するための帯域幅計算システムであって、
マーク形状情報に基づいて、前記所望の波長帯域幅を決定するように構成された処理ユニットを備える、帯域幅計算システム。 - 前記マーク形状情報は、マークの深さを表すマーク深さ情報を含む、請求項1に記載の帯域幅計算システム。
- 前記処理ユニットは、
前記マーク深さ情報に基づいて、マーク検出誤差関数の周期および/または分散パラメータを決定し、前記マーク検出誤差関数は前記マークの実際の位置と前記マークの決定された位置との間の差を前記測定ビームの波長の関数として表し、
前記周期および/または前記分散パラメータにそれぞれ基づいて、前記所望の波長帯域幅を決定する、
ように構成される、請求項2に記載の帯域幅計算システム。 - 前記処理ユニットは、前記マーク形状情報に基づいて前記測定ビームの成分を含む反射ビームの反射光信号強度を決定し、前記反射光信号強度に基づいて前記所望の波長帯域幅を決定するように構成される、請求項1から3のいずれかに記載の帯域幅計算システム。
- オブジェクトは基板であり、
前記マーク深さ情報は、前記測定ビームが前記マークの上面から底部反射インタフェースまで移動するように構成されている距離を表す、
請求項2から4のいずれかに記載の帯域幅計算システム。 - 前記距離に、前記測定ビームが前記上面から前記底部反射インタフェースまで移動する材料の屈折率を掛けたものが、1μmより大きい、請求項5に記載の帯域幅計算システム。
- オブジェクト上またはオブジェクト内に存在するマークを検出するためのマーク検出システムであって、
請求項1から6のいずれかに記載の帯域幅計算システムと、
放射源を収容するように構成された放射源ホルダと、前記放射源を制御するように構成された制御ユニットとを含む放射ユニットであって、前記放射源は前記所望の波長帯域幅に基づいて選択された幅を有する波長帯域幅の放射を含む測定ビームを前記マークに向かって放出するように構成されている、放射ユニットと、
検出ユニットであって、
i.前記マークによって反射される前記測定ビームの成分を含む反射ビームを検出するように構成された検出器と、
ii.前記検出器によって検出された前記反射ビームに基づいて前記マークの位置を決定するように構成された処理ユニットと、を備える検出ユニットと、
を備える、マーク検出システム。 - 放射源をさらに備え、
前記測定ビームの波長帯域幅の選択された幅は、10nmから100nmの間、任意選択で15nmから80nmの間、例えば20nmから70nmの間、例えば20nmから40nmの間、または35nmから55nmの間である、
請求項7に記載のマーク検出システム。 - オブジェクト上またはオブジェクト内に存在するマークを検出するためのマーク検出システムであって、
i.放射源ホルダと、
ii.前記放射源ホルダ内に配置された放射源であって、選択された幅の波長帯域幅の放射を含む測定ビームを前記マークに向かって放出するように構成された放射源と、
iii.前記放射源を制御するように構成された制御ユニットと、
を備える放射ユニットと、
i.前記マークによって反射される前記測定ビームの成分を含む反射ビームを検出するように構成された検出器と、
ii.前記検出器によって検出された前記反射ビームに基づいて、前記マークの位置を決定するように構成された処理ユニットと、
を備える検出ユニットと、
を備え、
前記波長帯域幅の選択された幅は、10nmから100nmの間、任意選択で15nmから80nmの間、例えば20nmから70nmの間、例えば20nmから40nmの間、または35nmから55nmの間である、マーク検出システム。 - 前記放射ユニットは、複数の放射源ホルダと、その中に配置されるように構成された複数の放射源とを備え、各放射源は、中心波長を含む波長帯域幅の放射を含む測定ビームを前記マークに向かって放出するように構成され、
前記複数の放射源の波長帯域幅は、異なる中心波長および/または異なる幅を含み、
前記帯域幅計算システムの前記処理ユニットはさらに、前記所望の波長帯域幅に基づいて前記複数の放射源のうちの1つを選択するように構成され、
前記放射ユニットの前記制御ユニットは、選択された放射源を制御して前記測定ビームを放出するように構成される、
請求項9に記載のマーク検出システム。 - 前記検出ユニットの前記処理ユニットは、前記反射ビームと参照ビームとの間の位相差または正と負の次数の反射ビーム間の位相差に基づいて、前記マークの位置を決定するように構成される、請求項9または10に記載のマーク検出システム。
- 少なくとも1つのマークを含む基板上にパターンを投影するように構成された投影システムと、
前記基板を保持するように構成された基板サポートと、
前記基板上の少なくとも1つのマークの位置を決定することによって、前記基板の位置を決定するように構成された、請求項17に記載の位置測定システムと、
を備える、リソグラフィ装置。 - 前記位置測定システムによって決定された基板の位置に基づいて、前記基板サポートの動きを制御するように構成された基板位置決めシステムをさらに備える、請求項18に記載のリソグラフィ装置。
- マーク検出システムにおける測定ビームの所望の波長帯域幅を決定する方法であって、 マーク形状情報に基づいて前記所望の波長帯域幅を決定することを備える、方法。
- マーク深さ情報に基づいてマーク検出誤差関数の周期および/または分散パラメータを決定することであって、前記マーク検出誤差関数は、前記マークの実際の位置と前記マークの決定された位置との間の差を前記測定ビームの波長の関数として表すことと、
前記周期および/または前記分散パラメータにそれぞれ基づいて、前記所望の波長帯域幅を決定することと、
をさらに備える、請求項14に記載の方法。
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