JP2003224058A

JP2003224058A - 露光装置及び露光方法

Info

Publication number: JP2003224058A
Application number: JP2002021700A
Authority: JP
Inventors: Toshio Fukazawa; 俊夫深沢
Original assignee: NSK Ltd
Current assignee: NSK Ltd
Priority date: 2002-01-30
Filing date: 2002-01-30
Publication date: 2003-08-08

Abstract

(57)【要約】【課題】本発明は、被露光基板に露光を行う際、被露
光基板又はフォトマスクの伸縮に起因する露光のずれの
発生を防止してマスクパターンの露光を高精度に行うこ
とができ、その結果、生産性を向上できる露光装置及び
露光方法を提供する。【解決手段】露光装置１は、被感光剤が塗布された基
板２と、所定のマスクパターンが形成されたフォトマス
ク５と、これらを駆動・制御する制御装置１４と、凸レ
ンズ８と、光学素子であるインテグレータ１０と、露光
倍率調整装置１３とを備え、基板２とフォトマスク５と
の間の微少間隔Ｐ及び基板２の伸縮量に基づいて、露光
光を所望の照射角に傾斜させるべくインテグレータ１０
の移動距離Ｓを算出し、算出された移動距離Ｓだけイン
テグレータ１０を光軸方向に移動する。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、露光装置及び露光
方法に関し、特に、フォトマスクに形成されたマスクパ
ターンを被露光基板に高精度に投影して露光する露光装
置及び露光方法に関する。

【０００２】

【従来の技術】従来、ＩＣ等の製造に用いられる露光装
置では、被感光剤が塗布された被露光基板（ワーク）に
マスクパターンが形成されたフォトマスクを介して光を
照射して露光することにより、被露光基板上にマスクパ
ターンを転写する方法が採られている。露光には、被露
光基板とフォトマスクとを密着させた状態で平行光を照
射する密着露光方式と、被露光基板とフォトマスクとの
間にわずかな間隔を設けた状態で平行光を照射するプロ
キシミティ露光方式とがある。特に、プロキシミティ露
光方式は、密着露光方式に比べてフォトマスクと被露光
基板とが接触しないためにフォトマスクが汚れにくく長
寿命であるという利点がある。

【０００３】図１１は、プロキシミティ露光方式による
従来の露光装置の概略構成を示す図である。

【０００４】図１１において、露光装置５１は、被感光
剤が塗布された被露光基板（以下「基板」という。）５
２と、ローディングされた基板５２を真空吸着して固定
する基台５３と、基台５３をＸＹ方向及びθ（回転）方
向に駆動するＸＹθ駆動部５４と、所定のマスクパター
ンが形成され、基板５２との間に所定の間隔を介して配
置されたフォトマスク５５と、フォトマスク５５を保持
枠に真空吸着して固定し、Ｚ方向に駆動するＺ駆動部５
６と、基板５２に形成されたワークアライメントマーク
６６とフォトマスク５５に形成されたフォトマスクアラ
イメントマーク６７との相対的な位置を観測するための
アライメント用カメラ５７と、光源装置６５とを備え
る。

【０００５】光源装置６５は、基板５２に対して均等に
露光するための凸レンズ５８と、光源である水銀灯５９
と、入射光をできるだけ均一な光にして射出する周知の
インテグレータ６０と、露光を調整するシャッタ６１
と、水銀灯５９から射出された光をインテグレータ６０
に集光する反射鏡６２とで構成される。

【０００６】水銀灯５９から放出された光は、直接に及
び反射鏡６２を介して間接にインテグレータ６０に照射
され、シャッタ６１が開くとインテグレータ６０から凸
レンズ５８に照射される。インテグレータ６１は、凸レ
ンズ５８の焦点位置に配置されているので、凸レンズ５
８に照射された光は屈折して略平行な平行光となり、フ
ォトマスク５５を介して基板５２を露光する。

【０００７】露光装置５１では、ワークアライメントマ
ーク６６及びマスクアライメントマーク６７をアライメ
ント用カメラ５７で観測し、基台５３をＸＹθ方向に駆
動して基板５２とフォトマスク５５とのマスクパターン
を重ね合せる。このとき、前工程で所定のパターンが形
成された基板５２に対して、さらに別のパターン（フォ
トマスク５５のマスクパターン）を形成する場合、既に
形成されたマスクパターンとこれから形成するパターン
との位置関係にずれが生じないように露光する必要があ
る。

【０００８】特開２０００−２５０２３２号公報では、
原版フィルムと基板とを高精度に位置決めするために、
ＣＣＤカメラの撮像エリアに原版フィルムのマーク及び
基板のマークが入るように位置調整することが提案され
ている。また、特開２０００−２５０２２７号公報で
は、マスクとプリント配線基板とに設けられた位置合わ
せマークを一致させる制御装置が提案されている。

【０００９】

【発明が解決しようとしている課題】しかしながら、上
記従来の露光装置には、基板が大型になると処理液や熱
等により伸縮しやすく、伸縮に伴って既に形成されてい
るマスクパターンも伸縮するため、この伸縮を無視して
固定寸法のフォトマスクにより新たなマスクパターンを
基板に重ねて露光（重ね露光）してしまうと、作成すべ
きマスクパターンとずれが生じてしまうという問題があ
る。この問題に対して、上記従来の露光装置には解決手
段が開示されていない。

【００１０】また、特開２０００−２５０２３２号公報
における露光装置では、基板及びマスクの伸縮が補正で
きず、特開２０００−２５０２２７号公報を含む他の従
来の方法では、露光回数が増加するので生産性が悪く、
１回の露光面内の伸縮を補正することができない。

【００１１】本発明は、上記問題に鑑みてなされてもの
であり、被露光基板に露光を行う際、被露光基板又はフ
ォトマスクの伸縮に起因する露光のずれの発生を防止し
てマスクパターンの露光を高精度に行うことができ、そ
の結果、生産性を向上できる露光装置及び露光方法を提
供することを目的とする。

【００１２】

【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に、請求項１記載の露光装置は、被感光材が塗布された
被露光基板と、所定のマスクパターンが形成されたマス
クと、前記マスクパターンを前記被露光基板に投影して
露光する光源装置とを備える露光装置において、前記被
露光基板と前記マスクとを所定の間隔を介して対向して
位置決めする位置決め手段と、前記被露光基板に投影す
る前記マスクパターンの露光倍率を調整する露光倍率調
整手段と、前記所定の間隔並びに前記被露光基板及び前
記マスクの少なくとも一方の伸縮量に基づいて前記露光
倍率を制御する制御手段とを備えることを特徴とする。

【００１３】請求項２記載の露光装置は、請求項１記載
の露光装置において、前記制御手段は、前記伸縮量を検
出する伸縮量検出手段を備えることを特徴とする。

【００１４】請求項３記載の露光装置は、請求項２記載
の露光装置において、前記伸縮量検出手段は、前記被露
光基板に形成された少なくとも２つの第１のマーク、及
び前記第１のマークに対応して前記マスクに形成された
少なくとも２つの第２のマークを検出し、前記各マーク
の位置情報を取得するマーク検出手段を備え、前記制御
手段は、前記取得された位置情報に基づいて前記伸縮量
を算出することを特徴とする。

【００１５】請求項４記載の露光装置は、請求項２又は
３記載の露光装置において、前記伸縮量検出手段は、前
記露光中において前記伸縮量を逐次検出し、前記制御手
段は、前記逐次検出された伸縮量に基づいて前記露光倍
率を制御することを特徴とする。

【００１６】請求項５記載の露光装置は、請求項１乃至
４のいずれか１項に記載の露光装置において、前記光源
装置は、光源と、前記光源の光から光束を生成する露光
光束生成手段と、前記生成された光束から前記マスクに
照射する露光光を略平行に調整する光束調整手段とを備
え、前記制御手段は、前記露光倍率調整手段により前記
マスクに照射する前記露光光の照射角を変更して前記露
光倍率を制御することを特徴とする。

【００１７】請求項６記載の露光装置は、請求項５記載
の露光装置において、前記露光倍率調整手段は、前記光
束調整手段に対する前記露光光束生成手段の位置を移動
して前記照射角を変更することを特徴とする。

【００１８】請求項７記載の露光装置は、請求項５記載
の露光装置において、前記露光倍率調整手段は、焦点距
離が互いに異なる複数のレンズを備え、前記複数のレン
ズを切り替えて前記照射角を変更することを特徴とす
る。

【００１９】請求項８記載の露光装置は、請求項５記載
の露光装置において、前記露光倍率調整手段は、レンズ
と、該レンズを光軸方向に移動する移動手段とを備え、
前記光束調整手段に対する前記レンズの位置を移動して
前記照射角を変更することを特徴とする。

【００２０】請求項９記載の露光装置は、請求項５乃至
８のいずれか１項に記載の露光装置において、前記制御
手段は、前記被露光基板及び前記マスクの少なくとも一
方の伸縮量に基づいて前記露光倍率に対応する前記照射
角を演算し、前記露光倍率調整手段は、前記露光光束生
成手段により射出され、前記光束調整手段の有効範囲に
入射する光束の仰角を前記制御手段により演算された前
記照射角に対応するように調整することを特徴とする。

【００２１】請求項１０記載の露光装置は、請求項５乃
至９のいずれか１項に記載の露光装置において、前記光
源装置は、前記露光光束生成手段により射出された光束
のすべてが前記光束調整手段の有効範囲に入射するよう
に前記光束の仰角を補正する光束補正手段を備えること
を特徴とする。

【００２２】上記目的を達成するために、請求項１１記
載の露光方法は、被感光材が塗布された被露光基板と所
定のマスクパターンが形成されたマスクとを対向して配
置し、前記マスクパターンを前記被露光基板に投影して
露光する露光方法において、前記被露光基板と前記マス
クとを所定の間隔を介して対向して位置決めする位置決
め工程と、前記被露光基板に投影する前記マスクパター
ンの露光倍率を調整する露光倍率調整工程と、前記所定
の間隔並びに前記被露光基板及び前記マスクの少なくと
も一方の伸縮量に基づいて前記露光倍率を制御する制御
工程とを備えることを特徴とする。

【００２３】請求項１２記載の露光方法は、請求項１１
記載の露光方法において、前記制御工程は、前記伸縮量
を検出する伸縮量検出工程を備えることを特徴とする。

【００２４】請求項１３記載の露光方法は、請求項１２
記載の露光方法において、前記伸縮量検出工程は、前記
被露光基板に形成された少なくとも２つの第１のマー
ク、及び前記第１のマークに対応して前記マスクに形成
された少なくとも２つの第２のマークを検出し、前記各
マークの位置情報を取得するマーク検出工程を備え、前
記制御工程は、前記取得された位置情報に基づいて前記
伸縮量を算出することを特徴とする。

【００２５】請求項１４記載の露光方法は、請求項１２
又は１３記載の露光方法において、前記伸縮量検出工程
は、前記露光中において前記伸縮量を逐次検出し、前記
制御工程は、前記逐次検出された伸縮量に基づいて前記
露光倍率を制御することを特徴とする。

【００２６】請求項１５記載の露光方法は、請求項１１
乃至１４のいずれか１項に記載の露光方法において、前
記光源装置は、光源と、前記光源の光から光束を生成す
る露光光束生成手段と、前記生成された光束から前記マ
スクに照射する露光光を略平行に調整する光束調整手段
とを備え、前記制御工程は、前記露光倍率調整工程にて
前記マスクに照射する前記露光光の照射角を変更して前
記露光倍率を制御することを特徴とする。

【００２７】請求項１６記載の露光方法は、請求項１５
記載の露光方法において、前記露光倍率調整工程は、前
記光束調整手段に対する前記露光光束生成手段の位置を
移動して前記照射角を変更することを特徴とする。

【００２８】請求項１７記載の露光方法は、請求項１５
記載の露光方法において、前記露光倍率調整工程は、焦
点距離が互いに異なる複数のレンズを備え、前記複数の
レンズを切り替えて前記照射角を変更することを特徴と
する。

【００２９】請求項１８記載の露光方法は、請求項１５
記載の露光方法において、前記露光倍率調整工程は、レ
ンズを光軸方向に移動する移動手段により前記光束調整
手段に対する前記レンズの位置を移動して前記照射角を
変更することを特徴とする。

【００３０】請求項１９記載の露光方法は、請求項１５
乃至１８のいずれか１項に記載の露光方法において、前
記制御工程は、前記被露光基板及び前記マスクの少なく
とも一方の伸縮量に基づいて前記露光倍率に対応する前
記照射角を演算し、前記露光倍率調整手段は、前記露光
光束生成手段により射出され、前記光束調整手段の有効
範囲に入射する光束の仰角を前記制御工程にて演算され
た前記照射角に対応するように調整することを特徴とす
る。

【００３１】請求項２０記載の露光方法は、請求項１５
乃至１９のいずれか１項に記載の露光方法において、前
記光源装置は、前記露光光束生成手段により射出された
光束のすべてが前記光束調整手段の有効範囲に入射する
ように前記光束の仰角を補正する光束補正手段を備える
ことを特徴とする。

【００３２】

【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態を図面
を参照して説明する。

【００３３】（第１の実施の形態）図１は、本発明の第
１の実施の形態に係る露光装置の全体構成を示す概略図
である。

【００３４】図１において、露光装置１は、プロキシミ
ティ方式の露光装置であり、被感光剤が塗布された被露
光基板（以下「基板」という。）２と、基板２を固定す
る基台３と、基台３を駆動するＸＹθ駆動部４と、所定
のマスクパターンが形成されたフォトマスク５と、フォ
トマスク５を駆動するＺ駆動部６，６と、ＣＣＤカメラ
等から成るアライメント用カメラ７，７と、ＸＹθ駆動
部４、Ｚ駆動部６、アライメント用カメラ７，７等に接
続され、これらを駆動・制御する制御装置１４と、光源
装置１５とを備える。

【００３５】基台３は、露光装置１にローディングされ
た基板２を真空吸着して固定するものである。ＸＹθ駆
動部４及びＺ駆動部６は、基板２とフォトマスク５とを
所定の間隔、即ち微少間隔Ｐを介して対向して位置決め
するものである。この微少間隔Ｐとは、例えば、数μｍ
〜数１０μｍである。

【００３６】ＸＹθ駆動部４は、基台３の水平方向、即
ちＸ方向及びＹ方向に駆動すると共に、その中心点を軸
として回転方向（θ方向）に駆動する。Ｚ駆動部６は、
フォトマスク５を保持枠に真空吸着して固定すると共
に、基板２とフォトマスク５との間の微少間隔Ｐを不図
示のセンサ等により測定し、当該間隔Ｐを一定に保つよ
うにＺ方向（鉛直方向）に駆動する。

【００３７】フォトマスク５の周縁部近傍の上方には、
２つのアライメント用カメラ７，７が配置されている。
アライメント用カメラ７，７は、基板２に形成された２
つのワークアライメントマーク１６，１６と、それぞれ
のワークアライメントマーク１６，１６に対応してフォ
トマスク５に形成された２つのマスクアライメントマー
ク１７，１７とを観測するものである。アライメントカ
メラ７，７で得られる画像データは、電気信号として制
御装置１４へ送られる。これにより、基板２とフォトマ
スク５との相対的な位置（位置情報）を検出することが
できる。

【００３８】前工程で所定のパターンが形成された基板
２に対して別のパターン（フォトマスク５のマスクパタ
ーン）を形成する場合、既に形成されたパターンとこれ
から形成するマスクパターンとの位置のずれを防止する
ことができる。また、基板２が伸縮した場合、その伸縮
量を正確に測定できるだけでなく、フォトマスク５が露
光時に受けた熱等による伸縮をも正確に測定することが
できる。

【００３９】光源装置１５は、基板２に対して均等に露
光するための凸レンズ８（光束調整手段）と、光源であ
る水銀灯９と、入射光をできるだけ均一な光にして射出
する光学素子であるインテグレータ１０（露光光束生成
手段）と、露光を調整するシャッタ１１と、水銀灯９か
ら射出された光をインテグレータ１０に集光する反射鏡
１２と、露光倍率調整装置１３とで構成される。水銀灯
９、シャッタ１１、露光倍率調整装置１３は制御装置１
４に接続され、駆動・制御される。露光倍率調整装置１
３は、インテグレータ１０を保持し、該インテグレータ
１０と凸レンズ８との間隔を調整するものである。

【００４０】露光装置１において、水銀灯９から放出さ
れた光は、直接に及び反射鏡１２を介して間接にインテ
グレータ１０に照射され、シャッタ１１が開くとインテ
グレータ１０から凸レンズ８に照射される。露光倍率調
整部１３は、インテグレータ１０から射出して凸レンズ
８の有効範囲に入射する光束の仰角を制御装置１４で演
算された照射条件に対応するように調整する。インテグ
レータ１０は、凸レンズ８の焦点位置に配置されている
場合、凸レンズ８に入射した光は屈折して略平行な平行
光として射出され、フォトマスク５を介してマスクパタ
ーンを基板２に投影して露光する。

【００４１】図２は、図１における基板２とフォトマス
ク５との位置合わせ方法を説明する図であり、（ａ）は
アライメント用カメラ７から見た位置合わせ前の状態の
一例を示し、（ｂ）はアライメント用カメラ７から見た
図３（ａ）の位置合わせ後の状態を示し、（ｃ）は
（ｂ）を側面から見た状態を示す。

【００４２】図２（ａ）において、１８，１８はアライ
メント用カメラ７の各カメラ視野であり、１６ａはワー
クアライメントマーク１６，１６間の中点であり、１７
ａはマスクアライメントマーク１７，１７間の中点であ
る。

【００４３】基板２とフォトマスク５との正確な位置合
わせを行う場合、図２（ａ）に示す状態から、それぞれ
のアライメントマーク同士を結ぶ線が互いに重なり、且
つ各線の中点同士が重なるように基板２の位置をＸＹθ
駆動部４を駆動することにより調整する（アライメント
調整）。これは、アライメントカメラ７，７から得られ
た画像データに基づき制御装置１４にて制御装置１４に
内蔵された演算装置により移動すべきＸ、Ｙ、θの値を
算出し、その結果をＸＹθ駆動部４に出力することによ
り行われる。このとき、中心位置、即ち中点１６ａ，１
７ａは、露光光の光軸上にくるようにする。

【００４４】図２（ｂ）において、中点同士が重なるよ
うに基板２の位置を調整した際、基板２又はフォトマス
ク５が伸縮しているときは、アライメントマーク１６，
１７間にΔ分のずれが発生する。即ち、本来、Δ＝０に
なるように設計されているがワークアライメントマーク
１６，１６間又はマスクアライメントマーク１７，１７
間の伸縮によりΔ≠０となる。Δの値は、制御装置１４
内の演算装置により求められ、制御装置１４内の不図示
のメモリに記憶される。

【００４５】従って、基板２又はフォトマスク５が伸縮
している場合、フォトマスク５に形成されたマスクパタ
ーンを正確に基板２に露光するには、マスクパターンを
前記アライメントマーク１６，１７間のずれ量、即ち前
記伸縮量Δに基づいて定まる所定量分だけ補正してマス
クパターンを変倍する必要がある。

【００４６】図３は、図１の露光装置１における露光倍
率調整方法の原理を示す図である。

【００４７】図３において、５ａはフォトマスク５に形
成されたマスクパターンの一部で光軸からある量だけ離
れた位置でのパターンであり、２０はインテグレータ１
０が凸レンズ８の焦点位置にある場合に凸レンズ８から
フォトマスク５に直角に照射された平行光であり、２１
は露光倍率調整装置１３によりインテグレータ１０が凸
レンズ８の焦点位置から離れた位置に移動した状態での
照射光であり、フォトマスク５に対して傾斜（デクリネ
ーション）させた傾斜光である。

【００４８】マスクパターン５ａは、凸レンズ８からの
光が平行光２０としてフォトマスク５に直角に照射され
た場合、等倍の大きさで基板２上に露光される。一方、
凸レンズ８からの光がフォトマスク５に傾斜光２１とし
て所定の照射角で照射された場合は、直角に照射された
ときの位置から水平方向にずれて所定の倍率で基板２上
に露光される。

【００４９】露光装置１では、露光倍率調整装置１３に
より凸レンズ８に対するインテグレータ１０の位置を光
軸方向に移動し、凸レンズ８の焦点位置からインテグレ
ータ１０をずらす。これにより、フォトマスク５に照射
する露光光の照射角を変更して露光倍率を調整する。例
えば、基板２がワークアライメントマーク１６の位置に
おいて図２で示した伸縮量Δ分だけ伸縮している場合、
露光倍率調整装置１３によりインテグレータ１０の位置
を移動し、Δの値に基づいて定まる所定量分だけずらす
べく照射角を傾斜させることにより、伸縮した状態の基
板２にずれのないマスクパターン５ａの露光を行うこと
が可能となる。

【００５０】具体的に例を示す。パターンの最外縁位置
を上述した「光軸からある量離れた位置」として説明す
る。例えば、パターンの最外縁位置がアライメントマー
ク１６，１７の位置とあまり離れていない場合であれ
ば、この位置でもΔ分だけ伸縮していると考えてよいの
で、この位置において、図３のΔ’がΔに一致するよう
な傾斜光となるようにすればよい。または、アライメン
トマーク１６，１７からの距離が無視できない場合は、
例えば、基板（又はマスク）の伸縮が一様と仮定し、伸
縮量が光軸からの距離に比例するとしてΔの値からこの
位置における伸縮量を算出し、その値が図３のΔ’とな
るような傾斜光となるようにすればよい。さらに、正確
さが要求される場合は、予め伸縮の仕方を調べておき、
算出された伸縮量に補正を加えるようにしてもよい。

【００５１】図４は、図１の露光装置１における露光倍
率調整方法の算出処理を説明する図である。

【００５２】図４において、点ａは、インテグレータ１
０、凸レンズ８、フォトマスク５、及び基板２の中心を
通る垂直軸（光軸）２５と凸レンズ８の中心を通る水平
軸２６との交点であり、点ｂは凸レンズ８内の水平軸２
６上の任意の点（例えば、パターンの最外縁位置）であ
る。点ｂへ向けて入射した光が凸レンズ８により屈折
し、フォトマスク５を透過して平行光２０として基板２
上に到達した位置を点ｅとし、そのときのインテグレー
タ１０の出口の位置を点ｃとする。ａｂｃが成す角度は
βとする。

【００５３】基板２の伸縮により露光すべき位置が点ｅ
から点ｆに移動している場合は、露光光を傾斜させるた
めに点ｅから点ｆまでの距離Ｔが、上記のようにΔの値
に基づき必要に応じて演算装置が併用され、予め求めら
れている。例として、Ｔ＝５μｍとする。次に、基板２
とフォトマスク５との微少間隔Ｐは、Ｚ軸駆動部６によ
って設定された値が用いられている。例として、Ｐ＝１
００μｍとする。Ｔ及びＰに基づいて露光倍率調整装置
１３によるインテグレータ１０の移動位置、即ち点ｄの
位置を制御装置１４にて算出する。ここで、ａｂ間の距
離をＱ＝２５０ｍｍ、ａｃ間の距離をＲ＝１０００ｍ
ｍ、ｃｄ間の距離をＳとし、ｃｂｄが成す角度をαとす
ると、三角関数の定理により点ｃから点ｄまでの移動距
離Ｓが求められる。

【００５４】ｔａｎ（α＋β）＝（Ｒ＋Ｓ）／Ｑｔａｎα＝Ｔ／Ｐ＝５μｍ／１００μｍ、ｔａｎβ＝Ｒ／Ｑ＝１０００ｍｍ／２５０ｍｍであることから、ｔａｎ（α＋β）＝（１０００ｍｍ＋Ｓ）／２５０ｍｍ＝（ｔａｎα＋ｔａｎβ）／（１−ｔａｎα・ｔａｎβ） ∴Ｓ＝２６５ｍｍなお、図４の点ｈの位置をパターンの
最外縁位置とすると、点ｄからきた光は点ｈより内側を
通り点ｇに達し、点ｆに達する光はｂｇより外側のｈｆ
の経路を通ることになり、厳密にはｂｇとｈｆとは平行
ではない。しかし、ｅｇの距離はＱに比べ十分に小さ
く、ｂｇとｈｆは平行とみなして問題ない。従って、上
記においてｔａｎα＝Ｔ／Ｐと近似している。

【００５５】従って、基板２が伸縮している場合、露光
光の照射角を所望のデクリネーション角に傾斜させるた
めに制御装置１４により微少間隔Ｐ及び基板２の伸縮量
Ｔに基づいてインテグレータ１０の移動距離Ｓを算出
し、露光倍率調整装置１３によりインテグレータ１０を
移動距離Ｓだけ光軸方向に移動する。これにより、露光
光を所望の照射角に傾斜させることができ、伸縮した状
態の基板２にずれのないマスクパターン５ａの露光を行
うことができる。

【００５６】上記第１の実施の形態によれば、基板２と
フォトマスク５との間の微少間隔Ｐ及び基板２の伸縮量
に基づいて露光光を所望の照射角に傾斜させるべくイン
テグレータ１０の移動距離Ｓを算出し、算出された移動
距離Ｓだけインテグレータ１０を光軸方向に移動するの
で、露光の照射角を調節することができ、重ね露光を行
う場合でも、基板２又はフォトマスク５の伸縮に起因す
る露光のずれの発生を防止し、マスクパターンの露光を
高精度に行うことができる。

【００５７】（第２の実施の形態）図５は、本発明の第
２の実施の形態に係る露光装置における光源装置の概略
図である。以下、上記第１の実施の形態における図と対
応する要素には同じ符号を付してそれらの説明は省略す
る。

【００５８】光源装置１５は、凸レンズ８と、水銀灯９
と、インテグレータ１０と、シャッタ１１と、反射鏡１
２と、焦点距離が互いに異なる複数の凸レンズ３１ａ，
３１ｂ，３１ｃ及び凸レンズ３１ａ，３１ｂ，３１ｃを
保持するレンズ板３１を備える露光倍率調整装置３０と
で構成される。制御装置１４は、水銀灯９、シャッタ１
１、露光倍率調整装置３０に接続され、これらを駆動・
制御する。露光倍率調整装置３０は、レンズ板３１がイ
ンテグレータ１０と凸レンズ８との間に配置され、制御
装置１４からの制御信号に応じて駆動装置（不図示）を
駆動してレンズ板３１を水平方向に移動して凸レンズ３
１ａ〜３１ｃを切り替える。

【００５９】基板２が伸縮した場合、露光光の照射角を
所望のデクリネーション角に傾斜させるために制御装置
１４により微少間隔Ｐ及び基板２の伸縮量Ｔに基づいて
焦点距離を算出し、露光倍率調整装置３０により焦点距
離が互いに異なる凸レンズ３１ａ〜３１ｃを選択・切り
替える。これにより、露光光を所望の照射角に傾斜させ
ることができ、伸縮した状態の基板２にずれのないマス
クパターン５ａの露光を行うことができる。

【００６０】上記第２の実施の形態によれば、インテグ
レータ１０と凸レンズ８との間に焦点距離が互いに異な
る複数の凸レンズ３１ａ〜３１ｃを備える露光倍率調整
装置３０を配置し、基板２とフォトマスク５との間の微
少間隔Ｐ及び基板２の伸縮量に基づいて、露光光を所望
の照射角に最も近い傾斜角に傾斜させるべくレンズ３１
ａ〜３１ｃを選択・切り替えるので、重ね露光を行う場
合でも、基板２又はフォトマスク５の伸縮に起因する露
光のずれの発生を容易に抑制し、マスクパターンの露光
を高精度に行うことができる。

【００６１】露光倍率調整装置３０が有するレンズ３１
ａ〜３１ｃは、基板２の伸縮量に細かく対応すべく図に
示す数に限らず多数あってもよく、図に示すような形状
に限らず、他の形状、例えば、円形、多角形等であって
もよい。また、レンズ３１ａ〜３１ｃの選択・切り替え
は、不図示の制御部により決定されるが、オペレータに
より決定するようにしてもよい。

【００６２】さらに、本第２の実施の形態は、上記第１
の実施の形態と組み合わせることにより、より確実にず
れの発生を防止することができると共に、レンズの切り
換えとの併用によりインテグレータ１０の移動距離Ｓの
短縮を図ることができ、装置全体の小型化を図ることが
できる。

【００６３】（第３の実施の形態）図６は、本発明の第
３の実施の形態に係る露光装置における光源装置の概略
図である。以下、上記第１の実施の形態における図と対
応する要素には同じ符号を付してそれらの説明は省略す
る。

【００６４】光源装置１５は、凸レンズ８と、水銀灯９
と、インテグレータ１０と、シャッタ１１と、反射鏡１
２と、凸レンズ３６ａを保持するレンズ板３６及びレン
ズ板３６を光軸方向に駆動する駆動装置３７を備える露
光倍率調整装置３５とで構成される。制御装置１４は、
水銀灯９、シャッタ１１、露光倍率調整装置３５に接続
され、これらを駆動・制御する。露光倍率調整装置３５
は、インテグレータ１０と凸レンズ８との間に配置さ
れ、制御装置１４からの制御信号に応じてレンズ板３６
を光軸方向に駆動する。

【００６５】基板２が伸縮した場合、露光光の照射角を
所望のデクリネーション角に傾斜させるために制御装置
１４により微少間隔Ｐ及び基板の伸縮量Ｔに基づいて焦
点距離を算出し、露光倍率調整装置３５により凸レンズ
３６ａの位置を光軸方向に移動する。これにより、露光
光を所望の照射角に傾斜させることができ、伸縮した状
態の基板２にずれのないマスクパターン５ａの露光を行
うことができる。

【００６６】上記第３の実施の形態によれば、インテグ
レータ１０と凸レンズ８との間に凸レンズ３６ａを保持
するレンズ板３６及びレンズ板３６を光軸方向に駆動す
る駆動装置３７を備える露光倍率調整装置３５を配置
し、基板２とフォトマスク５との間の微少間隔Ｐ及び基
板２の伸縮量に基づいて、露光光を所望の傾斜角に傾斜
させるべく凸レンズ３６ａの位置を光軸方向に調整する
ので、重ね露光を行う場合でも、基板２又はフォトマス
ク５の伸縮に起因する露光のずれの発生を防止し、マス
クパターンの露光を高精度に行うことができる。

【００６７】上記第３の実施の形態における図６の露光
倍率調整装置３５を上記第１の実施の形態又は上記第２
の実施の形態の構成に追加して用いてもよい。

【００６８】（第４の実施の形態）図７は、本発明の第
４の実施の形態に係る露光装置における光源装置の概略
図である。以下、上記第１の実施の形態における図と対
応する要素には同じ符号を付してそれらの説明は省略す
る。

【００６９】光源装置１５は、凸レンズ８と、水銀灯９
（不図示）と、インテグレータ１０と、シャッタ１１
（不図示）と、反射鏡１２（不図示）と、インテグレー
タ１０を保持し、該インテグレータ１０と凸レンズ８と
の間隔を調整する露光倍率調整装置１３と、光量補正用
凸レンズ４１ａを保持するレンズ板４１及びレンズ板４
１を光軸方向に駆動する駆動装置４２を備える変倍装置
４０とで構成される。制御装置１４は、水銀灯９、シャ
ッタ１１、露光倍率調整装置１３、及び変倍装置４０に
接続され、これらを駆動・制御する。変倍装置４０は、
インテグレータ１０と凸レンズ８との間に配置され、制
御装置１４からの制御信号に応じてインテグレータ１０
からの光量補正用凸レンズ４１ａの位置を調整する。

【００７０】図８は、インテグレータ１０と凸レンズ８
との距離を変更させた場合の露光量の変化を説明する図
であり、（ａ）はインテグレータ１０が凸レンズ８の焦
点に位置する場合を示し、（ｂ）はインテグレータ１０
が凸レンズ８の焦点よりも凸レンズ８に近い状態に位置
する場合を示し、（ｃ）はインテグレータ１０が凸レン
ズ８の焦点よりも凸レンズ８から遠い状態に位置する場
合を示す。

【００７１】図８（ａ）では、ｂｃａが成す角度をγと
すると点ｂに入射した光は、凸レンズ８により屈折して
フォトマスク５に平行光として照射される。一方、図８
（ｂ）に示すように、インテグレータ１０の位置を光軸
方向に下方に移動してインテグレータ１０と凸レンズ８
との間隔を狭めると、点ｂ、即ち露光面の周辺部の露光
量が低下して基板２全体に一様な露光ができなくなる場
合がある。また、図８（ｃ）に示すように、インテグレ
ータ１０の位置を光軸方向に上方に移動してインテグレ
ータ１０と凸レンズ８の間隔を離すと基板２面での露光
量が低下して露光時間の増加を招く場合がある。

【００７２】そこで、変倍装置４０により光量補正用凸
レンズ４１ａをインテグレータ１０の移動に対応して光
軸方向に移動して光量の補正を行うことにより、基板２
又はフォトマスク５の伸縮による影響を除去すると共
に、光源装置１５により生成される露光光を無駄なく活
用することができる。

【００７３】上記第４の実施の形態によれば、インテグ
レータ１０と凸レンズ８との間に光量補正用凸レンズ４
１ａを保持するレンズ板４１及びレンズ板４１を光軸方
向に駆動する駆動装置４２を備える変倍装置４０を配置
し、基板２とフォトマスク５との間の微少間隔Ｐ及び基
板２の伸縮量に基づいて、露光光を所望の照射角に傾斜
させるべく光軸方向に移動したインテグレータ１０の露
光量を補正するので、基板２又はフォトマスク５の伸縮
による影響を除去すると共に、光源装置１５により生成
される露光光を無駄なく活用することができる。

【００７４】上記第４の実施の形態では、光量補正用と
しての変倍装置４０のみを用いているが、上記第２の実
施の形態における図５の露光倍率調整装置３０を追加し
て用いてもよい。

【００７５】また、上記第４の実施の形態は、上記第２
の実施の形態の図５における露光倍率調整装置３０又は
上記第３の実施の形態の図６における露光倍率調整装置
３５と、光量補正用としての変倍装置４０とを組み合わ
せても同様な効果が得られる。

【００７６】（第５の実施の形態）図９は、本発明の第
５の実施の形態に係る露光装置の概略構成を示す図であ
る。以下、上記第１の実施の形態における図と対応する
要素には同じ符号を付してそれらの説明は省略する。

【００７７】図９において、露光装置４５は、基板２
と、基台３と、ＸＹθ駆動部４と、フォトマスク５と、
Ｚ駆動部６，６と、アライメント用カメラ７，７と、Ｘ
Ｙθ駆動部４、Ｚ駆動部６、アライメント用カメラ７，
７等に接続され、これらを駆動・制御する制御装置１４
と、光源装置４８、凹面鏡４９とを備える。

【００７８】光源装置４８は、水銀灯９と、インテグレ
ータ１０と、光路反転用の平面鏡４６と、インテグレー
タ１０の位置を光軸方向に駆動する露光倍率調整装置４
７とで構成される。水銀灯９、露光倍率調整装置４７は
制御装置１４に接続され、駆動・制御される。露光倍率
調整装置４７は、光源装置４８を移動させることによっ
てインテグレータ１０と凹面鏡４９との間隔を調整する
ものである。

【００７９】露光装置４５において、水銀灯９から射出
された光は、直接的及び反射鏡１２を介して間接的に平
面鏡４６に照射され、平面鏡４６により反射され光がイ
ンテグレータ１０を介して凹面鏡４９に到達する。凹面
鏡４９で反射された光は略平行な平行光となりフォトマ
スク５を介して基板２を露光する。

【００８０】基板２が伸縮している場合、露光光の照射
角を所望のデクリネーション角に傾斜させるために制御
装置１４により微少間隔Ｐ及び基板２の伸縮量Ｔに基づ
いて焦点距離を算出し、露光倍率調整装置４７により光
源装置４８を光軸方向に移動する。これにより、露光光
を所望の照射角に傾斜させることができ、伸縮した状態
の基板２にずれのないマスクパターン５ａの露光を行う
ことができる。

【００８１】上記第５の実施の形態によれば、基板２と
フォトマスク５との間の微少間隔Ｐ及び基板２の伸縮量
に基づいて、露光光を所望の照射角に傾斜させるべく光
源装置４６の移動距離を算出し、算出された移動距離だ
け光源装置４６を光軸方向に移動するので、露光の照射
角を調節することができ、重ね露光を行う場合でも、基
板２又はフォトマスク５の伸縮に起因する露光のずれの
発生を防止し、マスクパターンの露光を高精度に行うこ
とができる。

【００８２】なお、上記第２乃至第４の実施の実施の形
態についても、凸レンズ８に代えて凹面鏡４９を用いて
構成することができる。

【００８３】（第６の実施の形態）本第６の実施の形態
は、その構成が上記第１の実施の形態における図１の露
光装置１と同様であり、それらの説明は省略する。

【００８４】図１０は、本発明の第６の実施の形態に係
る露光装置におけるアライメント動作処理を示すフロー
チャートである。

【００８５】図１０において、まず、フォトマスク５及
び基板２の各アライメントマークをアライメント用カメ
ラ７で観測する（ステップＳ１）。次に、フォトマスク
５及び基板２の各アライメントマーク間の誤差をＸＹ成
分と伸縮成分とに分けて計算し（ステップＳ２）、ＸＹ
成分誤差をＸＹθ駆動部４により補正し、伸縮成分誤差
を変倍装置４０により補正する（ステップＳ３）。

【００８６】次に、ＸＹ成分誤差及び伸縮成分誤差の両
誤差が設定値以内か否かを判別し（ステップＳ４）、両
誤差が設定値以内でないときは（ステップＳ４でＮ
Ｏ）、ステップＳ１へ戻る一方、両誤差が設定値以内で
あるときは（ステップＳ４でＹＥＳ）、シャッタ１１を
開いて露光を開始する（ステップＳ５）。露光量は、不
図示のセンサ等により監視されており、当該センサが露
光を終了したときに制御装置１４に信号を出力する。

【００８７】つづいて、設定露光量に達したか否かを判
別し（ステップＳ６）、設定露光量に達したときは（ス
テップＳ６でＹＥＳ）、シャッタ１１を閉じて露光を終
了する一方、設定露光量に達していないときは（ステッ
プＳ６でＮＯ）、フォトマスク５及び基板２の各アライ
メントマークをアライメント用カメラで観測する（ステ
ップＳ７）。

【００８８】次に、フォトマスク５と基板２との各アラ
イメントマーク間の誤差をＸＹ成分と伸縮成分とに分け
て計算し（ステップＳ８）、ＸＹθ駆動部４によるＸＹ
成分誤差、又は変倍装置４０による伸縮成分誤差の少な
くとも一方を補正し（ステップＳ９）、ステップＳ６へ
戻って処理を繰り返す。なお、露光中の補正は一定時間
の間隔で行う。また、誤差の設定値は、露光精度を考慮
して任意に設定できるものとする。

【００８９】本処理により露光処理中の基板２やフォト
マスク５の熱膨張による重ね合せ誤差にも対応できるの
で、より高精度に露光を行うことが可能となる。また、
フォトマスク５を高価な低熱膨張材にする必要がないの
で、低コストで露光を行うことができる。

【００９０】上記第６の実施の形態によれば、露光中に
基板２の伸縮を測定し、基板２が伸縮した場合、露光光
の照射角を所望のデクリネーション角に傾斜させるため
に制御装置１４により微少間隔Ｐ及び基板２の伸縮量Ｔ
に基づいてインテグレータ１０の移動距離Ｓを算出し、
露光倍率調整装置１３によりインテグレータ１０を移動
距離Ｓだけ光軸方向に移動するので、露光中における熱
によるフォトマスク５や基板２の熱膨張による重ね合せ
誤差にも対応でき、マスクパターンの露光をより高精度
に行うことができる。また、フォトマスク５を高価な低
熱膨張材にする必要がなくなる。

【００９１】上記第６の実施の形態では、露光装置の構
成として上記第１の実施の形態のものを使用した場合を
示したが、上記第２乃至第５の実施の形態の各露光装置
又はこれらを組み合わせたものについても上記第６の実
施の形態のアライメント動作処理を用いることができ
る。

【００９２】上記第１〜第５の実施の形態では、基板２
の伸縮量Ｔは伸縮前後に測定したワークアライメントマ
ーク１７，１７間の距離の比較を行うことにより求めて
もよく、また、伸縮前後における基板２のエッジの位置
をセンサ等により検知して測定してもよい。また、予め
実施される処理工程毎の基板２の伸縮量の変化を調べて
おき、実施された処理に基づいて伸縮量Ｔを求めるよう
にしてもよい。

【００９３】また、インテグレータ１０の移動距離は、
制御装置１４における演算処理により算出されるが、オ
ペレータが手動で算出するようにしてもよい。

【００９４】また、ワークアライメントマーク１６，１
６及びマスクアライメントマーク１７，１７の数や形状
は図示のものに限定されないのは云うまでもない。ま
た、ワークアライメントマーク１６とマスクアライメン
トマーク１７は異なる形状や色彩で構成されていてもよ
い。

【００９５】

【発明の効果】以上詳細に説明したように、請求項１記
載の装置及び請求項１１記載の方法によれば、被露光基
板とマスクとを所定の間隔を介して対向するように配置
し、所定の間隔と被露光基板及びマスクの少なくとも一
方の伸縮量に基づいて露光倍率を制御するので、被露光
基板に露光を行う際、被露光基板又はフォトマスクの伸
縮に起因する露光のずれの発生を防止し、マスクパター
ンの露光を高精度に行うことができる。

【００９６】請求項３記載の装置及び請求項１３記載の
方法によれば、被露光基板に形成された少なくとも２つ
の第１のマーク、及び第１のマークに対応してマスクに
形成された少なくとも２つの第２のマークを検出し、各
マークの位置情報を取得し、取得された位置情報に基づ
いて伸縮量を算出するので、被露光基板及びフォトマス
クの少なくとも一方の伸縮量を正確に測定することがで
きる。

【００９７】請求項４記載の装置及び請求項１４記載の
方法によれば、露光中において伸縮量を逐次検出し、逐
次検出された伸縮量に基づいて露光倍率を制御するの
で、被露光基板或いは、それに加え、フォトマスクが熱
等により伸縮しても伸縮量を正確に測定してマスクパタ
ーンの露光を高精度に行うことができる。

【００９８】請求項５記載の装置及び請求項１５記載の
方法によれば、マスクに照射する露光光の照射角を変更
して露光倍率を制御するので、露光倍率を容易に制御す
ることができる。

【００９９】請求項９記載の装置及び請求項１９記載の
方法によれば、被露光基板及びマスクの少なくとも一方
の伸縮量に基づいて露光倍率に対応する照射角を演算
し、露光光束生成手段により射出され、光束調整手段の
有効範囲に入射する光束の仰角を演算された照射角に対
応するように調整するので、マスクパターンの露光を高
精度に行うことができる。

【０１００】請求項１０記載の装置及び請求項２０記載
の方法によれば、光源装置は、射出された光束のすべて
が光束調整手段の有効範囲に入射するように光束の仰角
を補正するので、光源装置により生成される露光光を無
駄なく活用することができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の第１の実施の形態に係る露光装置の全
体構成を示す概略図である。

【図２】図１における基板２とフォトマスク５との位置
合わせ方法を説明する図であり、（ａ）はアライメント
用カメラ７から見た位置合わせ前の状態を示し、（ｂ）
はアライメント用カメラ７から見た位置合わせ後の状態
を示し、（ｃ）は（ｂ）を側面から見た状態を示す。

【図３】図１の露光装置１における露光倍率調整方法の
原理を示す図である。

【図４】図１の露光装置１における露光倍率調整方法の
算出処理を説明する図である。

【図５】本発明の第２の実施の形態に係る露光装置にお
ける光源装置の概略図である。

【図６】本発明の第３の実施の形態に係る露光装置にお
ける光源装置の概略図である。

【図７】本発明の第４の実施の形態に係る露光装置にお
ける光源装置の概略図である。

【図８】インテグレータ１０と凸レンズ８との距離を変
更させた場合の露光量の変化を説明する図であり、
（ａ）はインテグレータ１０が凸レンズ８の焦点に位置
する場合を示し、（ｂ）はインテグレータ１０が凸レン
ズ８の焦点よりも凸レンズ８に近い状態に位置する場合
を示し、（ｃ）はインテグレータ１０が凸レンズ８の焦
点よりも凸レンズ８から遠い状態に位置する場合を示
す。

【図９】本発明の第５の実施の形態に係る露光装置の概
略構成を示す図である。

【図１０】本発明の第６の実施の形態に係る露光装置に
おけるアライメント動作処理を示すフローチャートであ
る。

【図１１】プロキシミティ露光方式による従来の露光装
置の概略構成を示す図である。

【符号の説明】

１露光装置２基板３基台４ＸＹθ駆動部５フォトマスク６Ｚ駆動部７アライメント用カメラ８凸レンズ９水銀灯１０インテグレータ１１シャッタ１３，３０，３５露光倍率調整装置１４制御装置１５，４８光源装置１６ワークアライメントマーク１７フォトアライメントマーク４０変倍装置

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】被感光材が塗布された被露光基板と、所
定のマスクパターンが形成されたマスクと、前記マスク
パターンを前記被露光基板に投影して露光する光源装置
とを備える露光装置において、前記被露光基板と前記マスクとを所定の間隔を介して対
向して位置決めする位置決め手段と、前記被露光基板に投影する前記マスクパターンの露光倍
率を調整する露光倍率調整手段と、前記所定の間隔並びに前記被露光基板及び前記マスクの
少なくとも一方の伸縮量に基づいて前記露光倍率を制御
する制御手段とを備えることを特徴とする露光装置。
【請求項２】前記制御手段は、前記伸縮量を検出する
伸縮量検出手段を備えることを特徴とする請求項１記載
の露光装置。
【請求項３】前記伸縮量検出手段は、前記被露光基板
に形成された少なくとも２つの第１のマーク、及び前記
第１のマークに対応して前記マスクに形成された少なく
とも２つの第２のマークを検出し、前記各マークの位置
情報を取得するマーク検出手段を備え、前記制御手段
は、前記取得された位置情報に基づいて前記伸縮量を算
出することを特徴とする請求項２記載の露光装置。
【請求項４】前記伸縮量検出手段は、前記露光中にお
いて前記伸縮量を逐次検出し、前記制御手段は、前記逐
次検出された伸縮量に基づいて前記露光倍率を制御する
ことを特徴とする請求項２又は３記載の露光装置。
【請求項５】前記光源装置は、光源と、前記光源の光
から光束を生成する露光光束生成手段と、前記生成され
た光束から前記マスクに照射する露光光を略平行に調整
する光束調整手段とを備え、前記制御手段は、前記露光
倍率調整手段により前記マスクに照射する前記露光光の
照射角を変更して前記露光倍率を制御することを特徴と
する請求項１乃至４のいずれか１項に記載の露光装置。
【請求項６】前記露光倍率調整手段は、前記光束調整
手段に対する前記露光光束生成手段の位置を移動して前
記照射角を変更することを特徴とする請求項５記載の露
光装置。
【請求項７】前記露光倍率調整手段は、焦点距離が互
いに異なる複数のレンズを備え、前記複数のレンズを切
り替えて前記照射角を変更することを特徴とする請求項
５記載の露光装置。
【請求項８】前記露光倍率調整手段は、レンズと、該
レンズを光軸方向に移動する移動手段とを備え、前記光
束調整手段に対する前記レンズの位置を移動して前記照
射角を変更することを特徴とする請求項５記載の露光装
置。
【請求項９】前記制御手段は、前記被露光基板及び前
記マスクの少なくとも一方の伸縮量に基づいて前記露光
倍率に対応する前記照射角を演算し、前記露光倍率調整
手段は、前記露光光束生成手段により射出され、前記光
束調整手段の有効範囲に入射する光束の仰角を前記制御
手段により演算された前記照射角に対応するように調整
することを特徴とする請求項５乃至８のいずれか１項に
記載の露光装置。
【請求項１０】前記光源装置は、前記露光光束生成手
段により射出された光束のすべてが前記光束調整手段の
有効範囲に入射するように前記光束の仰角を補正する光
束補正手段を備えることを特徴とする請求項５乃至９の
いずれか１項に記載の露光装置。
【請求項１１】被感光材が塗布された被露光基板と所
定のマスクパターンが形成されたマスクとを対向して配
置し、前記マスクパターンを前記被露光基板に投影して
露光する露光方法において、前記被露光基板と前記マス
クとを所定の間隔を介して対向して位置決めする位置決
め工程と、前記被露光基板に投影する前記マスクパター
ンの露光倍率を調整する露光倍率調整工程と、前記所定
の間隔並びに前記被露光基板及び前記マスクの少なくと
も一方の伸縮量に基づいて前記露光倍率を制御する制御
工程とを備えることを特徴とする露光方法。
【請求項１２】前記制御工程は、前記伸縮量を検出す
る伸縮量検出工程を備えることを特徴とする請求項１１
記載の露光方法。
【請求項１３】前記伸縮量検出工程は、前記被露光基
板に形成された少なくとも２つの第１のマーク、及び前
記第１のマークに対応して前記マスクに形成された少な
くとも２つの第２のマークを検出し、前記各マークの位
置情報を取得するマーク検出工程を備え、前記制御工程
は、前記取得された位置情報に基づいて前記伸縮量を算
出することを特徴とする請求項１２記載の露光方法。
【請求項１４】前記伸縮量検出工程は、前記露光中に
おいて前記伸縮量を逐次検出し、前記制御工程は、前記
逐次検出された伸縮量に基づいて前記露光倍率を制御す
ることを特徴とする請求項１２又は１３記載の露光方
法。
【請求項１５】前記光源装置は、光源と、前記光源の
光から光束を生成する露光光束生成手段と、前記生成さ
れた光束から前記マスクに照射する露光光を略平行に調
整する光束調整手段とを備え、前記制御工程は、前記露
光倍率調整工程にて前記マスクに照射する前記露光光の
照射角を変更して前記露光倍率を制御することを特徴と
する請求項１１乃至１４のいずれか１項に記載の露光方
法。
【請求項１６】前記露光倍率調整工程は、前記光束調
整手段に対する前記露光光束生成手段の位置を移動して
前記照射角を変更することを特徴とする請求項１５記載
の露光方法。
【請求項１７】前記露光倍率調整工程は、焦点距離が
互いに異なる複数のレンズを備え、前記複数のレンズを
切り替えて前記照射角を変更することを特徴とする請求
項１５記載の露光方法。
【請求項１８】前記露光倍率調整工程は、レンズを光
軸方向に移動する移動手段により前記光束調整手段に対
する前記レンズの位置を移動して前記照射角を変更する
ことを特徴とする請求項１５記載の露光方法。
【請求項１９】前記制御工程は、前記被露光基板及び
前記マスクの少なくとも一方の伸縮量に基づいて前記露
光倍率に対応する前記照射角を演算し、前記露光倍率調
整手段は、前記露光光束生成手段により射出され、前記
光束調整手段の有効範囲に入射する光束の仰角を前記制
御工程にて演算された前記照射角に対応するように調整
することを特徴とする請求項１５乃至１８のいずれか１
項に記載の露光方法。
【請求項２０】前記光源装置は、前記露光光束生成手
段により射出された光束のすべてが前記光束調整手段の
有効範囲に入射するように前記光束の仰角を補正する光
束補正手段を備えることを特徴とする請求項１５乃至１
９のいずれか１項に記載の露光方法。