JP2006098649A - 露光装置および露光方法 - Google Patents

Abstract

【課題】 被露光基板に露光を行う際、アライメントにおけるズレの発生を防止してマスクパターンの露光を高精度に行うことができる露光装置を提供すること。
【解決手段】 露光装置１０は、感光材が塗布された被露光基板１１と、所定のマスクパターンが形成されたマスク１２と、マスクパターンを被露光基板１１に投影して露光するための照射光を生成する光源装置１３と、被露光基板１１とマスク１２とを所定の間隔をもって対向するように位置決めする位置決め手段１４と、被露光基板１１に投影するマスクパターンの露光倍率を変更する露光倍率調整手段１５と、被露光基板１１およびマスク１２の少なくとも一つの水平方向の伸縮量に基づいて露光倍率を制御する制御手段１６と、露光倍率調整手段１５により露光倍率を調整された光源装置１３の照射光を用いて前記伸縮量を検出する伸縮量検出手段１７と、を備えている。
【選択図】 図１

Description

本発明は、露光装置および露光方法に関する。

従来、ＩＣ等の製造に用いられる露光装置では、感光剤が塗布された被露光基板（ワーク）にマスクパターンが形成されたフォトマスクを介して光を照射して露光することにより、被露光基板上にマスクパターンを転写する方法が採られている。露光には、被露光基板とフォトマスクとを密着させた状態で平行光を照射する密着露光方式と、被露光基板とフォトマスクとの間にわずかな間隔を設けた状態で平行光を照射するプロキシミティ露光方式とがある。特に、プロキシミティ露光方式は、密着露光方式に比べてフォトマスクと被露光基板とが接触しないためにフォトマスクが汚れにくく長寿命であるという利点がある。

図３は、従来の露光装置の概略図である。露光装置７０は、プロキシミティ露光方式の露光装置であり、感光剤が塗布された被露光基板（以下「基板」という。）７１と、ローディングされた基板７１を真空吸着して固定する基台７２と、基台７２をＸＹ方向およびθ（回転）方向に駆動するＸＹθ駆動部７３と、所定のマスクパターンが形成され、基板７１との間に所定の間隔をもって配置されたマスク７４と、マスク７４を保持枠に真空吸着して固定し、Ｚ方向に駆動するＺ駆動部７５と、基板７１に形成されたワークアライメントマーク７６とマスク７４に形成されたマスクアライメントマーク７７との相対的な位置を観測するためのアライメント用カメラ７８と、光源装置７９とを備える。

光源装置７９は、基板７１に対して均等に露光するための凸レンズ８０と、光源である水銀灯８１と、入射光をできるだけ均一な光にして射出する周知のインテグレータ８２と、露光を調整するシャッタ８３と、水銀灯８１から射出された光をインテグレータ８２に集光する反射鏡８４とで構成される。

水銀灯８１から放出された光は、直接に、および反射鏡８４を介して間接にインテグレータ８２に照射され、シャッタ８３が開くとインテグレータ８２から凸レンズ８０に照射される。インテグレータ８２は、凸レンズ８０の焦点位置に配置されているので、凸レンズ８０に照射された光は屈折して略平行な平行光となり、マスク７４を介して基板７１を露光する。

また、露光装置７０では、ワークアライメントマーク７６およびマスクアライメントマーク７７をアライメント用カメラ７８で観測し、基台７２をＸＹθ方向に駆動して基板７１とマスク７４とのマスクパターンを重ね合せる。このとき、前工程で所定のパターンが形成された基板７１に対して、さらに別のパターン（マスク７４のマスクパターン）を形成する場合、既に形成されたマスクパターンとこれから形成するパターンとの位置関係にズレが生じないように露光する必要がある。

そこで、原版フィルム（マスク）と基板とを高精度に位置決めするために、ＣＣＤカメラ（アライメント用カメラ）の撮像エリアに原版フィルムのマークおよび基板のマークが入るように位置調整することが提案されている（例えば、特許文献１参照）。また、マスクとプリント配線基板とに設けられた位置合わせマークを一致させる制御装置が提案されている（例えば、特許文献２参照）。

特開２０００−２５０２３２号公報（第４頁、第５図） 特開２０００−２５０２２７号公報（第３頁、第１図）

しかし、上記特許文献１および特許文献２に開示された露光装置では、基板が大型になると処理液や熱等により伸縮しやすく、伸縮に伴って、既に形成されているマスクパターンも伸縮するため、この伸縮を無視して固定寸法のマスクにより新たなマスクパターンを基板に重ねて露光（重ね露光）してしまうと、作成すべきマスクパターンとの間にズレが生じてしまうという問題点がある。

本発明は、前述した問題点に鑑みてなされたものであり、その目的は、被露光基板に露光を行う際に、被露光基板またはマスクの伸縮に起因する露光のズレの発生を防止してマスクパターンの露光を高精度に行うことができる露光装置および露光方法を提供することにある。

前述した目的を達成するために、本発明に係る露光装置は、下記の（１）〜（３）を特徴としている。

（１）感光材が塗布された被露光基板と、
所定のマスクパターンが形成されたマスクと、
前記マスクパターンを前記被露光基板に投影して露光するための照射光を生成する光源装置と、
前記被露光基板に投影する前記マスクのパターンの露光倍率を調整する露光倍率調整手段と、
前記被露光基板および前記マスクの少なくとも一つの伸縮量に基づいて前記露光倍率調整手段を制御する制御手段と、
前記露光倍率調整手段により露光倍率を調整された前記照射光を用いて前記伸縮量を検出する伸縮量検出手段と、を備えていること。

（２）上記（１）を特徴とする露光装置において、前記光源装置が、前記被露光基板の前記感光剤を感光させる露光波長を含む第１照射光と、前記感光剤の感光を防止する非露光波長よりなる第２照射光とを選択的に生成し、
前記伸縮量検出手段が、前記第２照射光を用いて前記伸縮量を検出すること。

（３）上記（２）を特徴とする露光装置において、前記光源装置が、光源の光に含まれる前記非露光波長を抽出するフィルタと、該フィルタを光路上に挿脱自在に移動する移動手段とを有すること。

また、前述した目的を達成するために、本発明に係る露光方法は、下記の（４）〜（６）を特徴としている。

（４）感光材が塗布された被露光基板と所定のマスクパターンが形成されたマスクとを所定の間隔をもって対向するように位置決めし、
光源装置から射出された照射光により前記マスクパターンを前記被露光基板に投影して露光する露光方法において、
前記被露光基板および前記マスクの少なくとも一方の伸縮量に対応して露光倍率を制御する際に、露光倍率を調整された前記照射光を用いて前記伸縮量を検出すること。

（５）上記（４）を特徴とする露光方法において、前記光源装置が、前記被露光基板の前記感光剤を感光させる露光波長を含む第１照射光と、前記感光剤の感光を防止する非露光波長よりなる第２照射光とを選択的に生成し、
前記伸縮量検出手段が、前記第２照射光を用いて前記伸縮量を検出すること。

（６）上記（５）を特徴とする露光方法において、前記光源装置が、光源の光に含まれる前記露光波長を遮断するフィルタを光路上に挿脱することにより前記第１照射光と前記第２照射光とを選択的に生成すること。

本発明に係る露光装置および露光方法によれば、伸縮量検出手段が、露光倍率調整手段により露光倍率を調整された光源装置の照射光を用いて伸縮量を検出するので、露光用の光源と伸縮量検出用の光源とを同一にすることができると共に、露光倍率の調整に誤差が生じることを防止することができ、被露光基板へのマスクパターンの露光を高精度に行うことができる。

光源装置が、露光波長を含む第１照射光と非露光波長よりなる第２照射光とを選択的に生成し、第２照射光を用いて伸縮量を検出するようにしたので、露光倍率を調整する際に被露光基板に塗布された感光剤を感光させることがなく、被露光基板の無用な消費を防止することができる。

露光波長を遮断するフィルタを光源装置の光路上に挿脱することにより第１照射光と第２照射光とを選択的に生成するようにしたので、容易に且つ確実に第１照射光と第２照射光とを切り替えることができる。

以下、本発明に係る好適な実施形態を図面に基づいて詳細に説明する。図１は本発明に係る露光装置の第１実施形態の全体の構成を示す概略図、そして図２は本発明に係る露光装置の第２実施形態の全体の構成を示す概略図である。

図１に示すように、本発明の第１実施形態である露光装置１０は、プロキシミティ方式の露光装置であり、感光材が塗布された被露光基板（以下、基板という。）１１と、所定のマスクパターンが形成されたマスク１２と、マスクパターンを基板１１に投影して露光するための照射光を生成する光源装置１３と、基板１１とマスク１２とを所定の間隔をもって対向するように位置決めする位置決め手段１４と、基板１１に投影するマスクパターンの露光倍率を変更する露光倍率調整手段１５と、基板１１およびマスク１２の少なくとも一つの水平方向の伸縮量に基づいて露光倍率を制御する制御手段１６と、露光倍率調整手段１５により露光倍率を調整された光源装置１３の照射光を用いて前記伸縮量を検出する伸縮量検出手段１７と、を備えている。

光源装置１３は、光源である水銀灯１８と、水銀灯１８から射出された光をインテグレータ１９に集光する反射鏡２２と、水銀灯１８および反射鏡２２からの入射光を均一な光にして射出する光学素子のインテグレータ１９と、インテグレータ１９により生成された光束を光軸に略平行に調整する光学素子の固定凸レンズ２０と、露光および非露光を切り替えるシャッタ２１と、水銀灯１８から射出された光に含まれる露光波長を遮断するが、後述のアライメント用カメラ２９，２９によるアライメント検出が可能な波長成分を透過するフィルタ３３と、フィルタ３３を光路に挿脱自在に移動する不図示の移動手段と、を有している。

露光倍率調整手段１５は、駆動部２５と、ボールねじ２４と、インテグレータ１９を保持する保持部材２３と、を有している。ボールねじ２４は、その長手方向が光軸と平行になるように駆動部２５に連結されている。インテグレータ１９を保持する保持部材２３はボールねじ２４の長手方向（即ち、光軸方向）に移動可能にボールねじ２４に支持されている。駆動部２５がボールねじ２４を正回転または逆回転させることにより、インテグレータ１９は保持部材２３と共に光軸方向に移動される。

位置決め手段１４は、基台２６と、ＸＹθ駆動部２７と、Ｚ駆動部２８とを有している。基台２６は、露光装置１０にローディングされる基板１１を真空吸着して固定する。ＸＹθ駆動部２７は、制御手段１６の入力信号に応じて、基台２６を水平方向、即ちＸ方向およびＹ方向に、また中心点においてＺ軸回りの回転方向（θ方向）に移動または回転させる。Ｚ駆動部２８は、マスク１２を保持枠に真空吸着して固定するとともに、基板１１とマスク１２との間の微少間隔Ｌ１を不図示のセンサ等により測定し、微少間隔Ｌ１を一定に保つように、マスク１２をＺ方向（鉛直方向）に移動させる。また微小間隔Ｌ１は電気信号に変換されて制御手段１６に出力される。

基板１１の露光範囲内の周縁部には、一対のワークアライメントマーク３１、３１が形成されており、マスク１２の露光範囲内の周縁部には、ワークアライメントマーク３１，３１にそれぞれ対応する一対のマスクアライメントマーク３２，３２が形成されている。

マスクアライメントマーク３２、３２の鉛直上方には、伸縮量検出手段１７を構成するハーフミラー３０、３０が、その反射面をそれぞれ下方に且つ外方に向けるように傾斜して設けられており、さらにハーフミラー３０、３０と共に伸縮量検出手段１７を構成するアライメント用カメラ２９、２９がハーフミラー３０、３０の反射面にそれぞれ対向して設けられている。

アライメント用カメラ２９は基板１１に形成されたワークアライメントマーク３１と、マスク１２に形成されたマスクアライメントマーク３２とを撮影する。アライメント用カメラ２９，２９で得られる画像データは電気信号として制御手段１６に出力される。アライメント用カメラ２９，２９は、前工程で所定のパターンが形成された基板１１に対して別のパターン（マスク１２のマスクパターン）を形成する場合に、既に形成されたパターンとこれから形成するマスクパターンとの位置のズレを防止するために用いられる。また、基板１１またはマスク１２が露光時に受けた熱等により伸縮した場合に、基板１１とマスク１２との相対的な伸縮量を正確に測定するためにも用いられる。

制御手段１６は、周知のＣＰＵ（即ち、Ｃｅｎｔｒａｌ Ｐｒｏｃｅｓｓｉｎｇ Ｕｎｉｔ）、ＲＯＭ（即ち、Ｒｅａｄ Ｏｎｌｙ Ｍｅｍｏｒｙ）、等（いずれも不図示）から構成されており、アライメント用カメラ２９，２９の画像データからワークアライメントマーク３１、３１とマスクアライメントマーク３２、３２との相対的な位置情報を検出し、該位置情報から基板１１またはマスク１２の相対的な伸縮量を検出し、該伸縮量から必要とされる露光倍率を計算し、該露光倍率を達成する照射光の照射角（即ち、固定凸レンズ２０からマスク１２に照射される有効な照射光が光軸となす最大角度であるデクリネーション角）を算出する。そして、算出された照射角からインテグレータ１９の位置を計算し、露光倍率調整手段１５の駆動部２５を駆動して、インテグレータ１９を所定の位置に移動させる。

次に、露光装置１０の動作について説明する。

マスク１２が、その中心位置を照射光の光軸上に配置するように、Ｚ駆動部２８、２８の保持枠に固定される。

基台２６に固定された基板１１とＺ駆動部２８、２８の保持枠に固定されたマスク１２との正確な位置合わせを行うに際して、ワークアライメントマーク３１、３１を結ぶ線とマスクアライメントマーク３２，３２を結ぶ線とが互いに重なり、且つ両線の中点同士が重なるように制御手段１６がＸＹθ駆動部２７を駆動して基板１１の位置を調整する（以下、アライメント調整という。）。

アライメント調整時、光源装置１３のフィルタ３３は光路内に挿入され、且つシャッタ２１は開かれており、非露光波長よりなる第２照射光が光軸に平行（即ち、マスク１２に垂直）にマスク１２に照射されている。光源装置１３より射出されハーフミラー３０を透過した第２照射光は、マスクアライメントマーク３２およびワークアライメントマーク３１において反射され、各反射光はハーフミラー３０の反射面により光路を反転させられ、アライメント用カメラ２９に入射する。

アライメント用カメラ２９，２９から得られた画像データに基づき、制御手段１６により移動すべきＸ、Ｙ、θの値が算出され、算出結果に応じてＸＹθ駆動部２７が駆動される。これにより、基板１１およびマスク１２の各中心位置は光軸上に一直線に整列する。 また、基板１１とマスク１２との間には所定の微小間隔Ｌ１が保たれている。

基板１１またはマスク１２が伸縮している場合、アライメント調整した後に、ワークアライメントマーク３１とマスクアライメントマーク３２との間にズレ量Δが発生する。即ち、基板１１とマスク１２とは本来Δ＝０になるように設計されているが、ワークアライメントマーク３１，３１間またはマスクアライメントマーク３２，３２間の伸縮によりΔ≠０となる。Δの値はアライメント用カメラ２９、２９から得られた画像データから制御手段１６により求められ、制御手段１６内の不図示のメモリに記憶される。

基板１１またはマスク１２が伸縮している場合、マスク１２に形成されたマスクパターンを正確に基板１１に露光するためには、ワークアライメントマーク３１とマスクアライメントマーク３２との間のズレ量Δと、微小間隔Ｌ１とに基づいてマスクパターンの露光倍率を調整する必要がある。そこで、露光倍率調整手段１５により、固定凸レンズ２０に対する（詳細には、固定凸レンズ２０の焦点位置に対する）インテグレータ１９の位置を光軸方向に移動し、インテグレータ１９により生成された光束の固定凸レンズ２０への入射角を変更することにより、固定凸レンズ２０からマスク１２に照射される照射光の照射角を変更して露光倍率を調整する。

制御手段１６のメモリに記憶されたズレ量Δと微小間隔Ｌ１とから、必要とされる照射角が制御手段１６により算出される。算出された照射角に基づき、制御手段１６が露光倍率調整手段１５の駆動部２５に駆動電流を出力し、駆動部２５がボールねじ２４を正回転または逆回転させて保持部材２３と共にインテグレータ１９を光軸方向に移動させ、インテグレータ１９が所定の位置に配置される。これにより所望の照射角、即ち露光倍率が設定される。

照射角が適切に設定された場合、マスクアライメントマーク３２を通過する光線上にワークアライメントマーク３１とマスクアライメントマーク３２とが一直線に整列し、アライメント用カメラ２９によりワークアライメントマーク３１とマスクアライメントマーク３２とが一致した画像データが得られる。

この状態で、光源装置１３のフィルタ３３を光路より脱出させると、露光波長を含む第１照射光が適切に設定された照射角をもってマスク１２に照射され、マスク１２のマスクパターンが、適切な露光倍率において正確に基板１１に露光される。

上述した露光装置１０によれば、伸縮量検出手段１７が、露光倍率調整手段１５により照射角を変更して露光倍率を調整された光源装置１３の照射光を用いて基板１１およびマスク１２の相対的な伸縮量を検出する（即ち、ワークアライメントマーク３１、３１とマスクアライメントマーク３２、３２との相対的な位置を検出する）ので、露光に用いる光源とアライメント調整に用いる光源とを同一にすることができると共に、実際の露光と等しい条件下で露光倍率を調整することができるので、アライメント調整における誤差の発生を防止してマスクパターンの露光を高精度に行うことができる。また、露光波長を遮断するフィルタを光源装置の光路上に挿脱することにより、光源装置が露光波長を含む第１照射光と、非露光波長よりなる第２照射光とを選択的に生成し、且つ第２照射光を用いて伸縮量を検出するので、アライメントおよび露光倍率を調整する際に基板１１に塗布された感光剤を感光させることがなく、基板１１の無用な消費を防止することができる。

次に、図２を参照して、本発明に係る露光装置の第２実施形態を説明する。尚、第２実施形態において、上述の第１実施形態である露光装置１０と同様の部材等については、図中に同一符号を付することにより、説明を省略する。

図３に示すように、本発明の第２実施形態である露光装置４０は、基板１１と、マスク１２と、光源装置４１と、位置決め手段１４と、倍率調整手段４５と、伸縮量検出手段１７と、を備えている。

光源装置４１は、水銀灯１８と、水銀灯１８から射出された光を集光する反射鏡２２と、反射鏡２２で反射された光を反転させてインテグレータ１９に集光する光路反転用の平面鏡４４と、インテグレータ１９と、インテグレータ１９により生成された光束を反転させてマスク１２に略垂直に照射する凹面鏡４２と、露光および非露光を切り替えるシャッタ２１と、水銀灯１８から射出された光に含まれる露光波長を遮断するフィルタ３３と、フィルタ３３を光路に挿脱自在に移動する不図示の移動手段と、から構成されている。そして、インテグレータ１９と凹面鏡４２との間には露光倍率調整手段４５が配置されている。

露光倍率調整手段４５は、可動凸レンズ４６と、可動凸レンズ４６をインテグレータ１９と光軸を一致させて保持する保持部材２３と、可動凸レンズ４６を保持部材２３と共に光軸方向に移動自在に支持するボールねじ２４と、ボールねじ２４を正回転または逆回転させて保持部材２３および可動凸レンズ４６を光軸方向に移動させる駆動部２５と、から構成されており、制御手段１６から入力される電流によって凹面鏡４２に対する可動凸レンズ４６の位置を調整して照射角を変更する。

次に、露光装置４０の動作について説明する。

アライメント調整時、光源装置４１のフィルタ３３は光路内に挿入され、且つシャッタ２１は開かれており、非露光波長よりなる第２照射光が光軸に平行に、即ちマスク１２に垂直にマスク１２に照射されている。光源装置４１より射出されハーフミラー３０を透過した第２照射光は、マスクアライメントマーク３２およびワークアライメントマーク３１において反射され、各反射光はハーフミラー３０の反射面により光路を反転させられ、アライメント用カメラ２９に入射する。

アライメント用カメラ２９，２９から得られた画像データに基づき、制御手段１６により移動すべきＸ、Ｙ、θの値が算出され、算出結果に応じてＸＹθ駆動部２７が駆動される。これにより、基板１１およびマスク１２の各中心位置は光軸上に一直線に整列する。 また、基板１１とマスク１２との間には所定の微小間隔Ｌ１が保たれている。

基板１１またはマスク１２が伸縮している場合、アライメント調整した後に、ワークアライメントマーク３１とマスクアライメントマーク３２との間にズレ量Δが発生する。即ち、基板１１とマスク１２とは本来Δ＝０になるように設計されているが、ワークアライメントマーク３１，３１間またはマスクアライメントマーク３２，３２間の伸縮によりΔ≠０となる。Δの値はアライメント用カメラ２９、２９から得られた画像データから制御手段１６により求められ、制御手段１６内の不図示のメモリに記憶される。

基板１１またはマスク１２が伸縮している場合、マスク１２に形成されたマスクパターンを正確に基板１１に露光するためには、ワークアライメントマーク３１とマスクアライメントマーク３２との間のズレ量Δと、微小間隔Ｌ１と、に基づいてマスクパターンの露光倍率を調整する必要がある。そこで、露光倍率調整手段４５により、凹面鏡４２に対する（または、インテグレータ１９に対する）可動凸レンズ４６の位置を光軸方向に移動し、インテグレータ１９により生成された光束の凹面鏡４２への入射角を変更することにより、凹面鏡４２からマスク１２に照射される照射光の照射角を変更して露光倍率を調整する。

制御手段１６のメモリに記憶されたズレ量Δと微小間隔Ｌ１とから、必要とされる照射角が制御手段１６により算出される。算出された照射角に基づき、制御手段１６が露光倍率調整手段４５の駆動部２５に駆動電流を出力し、駆動部２５がボールねじ２４を正回転または逆回転させて保持部材２３と共に可動凸レンズ４６を光軸方向に移動させ、可動凸レンズ４６が所定の位置に配置される。これにより所望の露光倍率が設定される。

照射角が適切に設定された場合、マスクアライメントマーク３２を通過する光線上にワークアライメントマーク３１とマスクアライメントマーク３２とが一直線に整列し、アライメント用カメラ２９によりワークアライメントマーク３１とマスクアライメントマーク３２とが一致した画像データが得られる。

この状態で、光源装置４１のフィルタ３３を光路より脱出させると、露光波長を含む第１照射光が適切に設定された照射角をもってマスク１２に照射され、マスク１２のマスクパターンが、適切な露光倍率において正確に基板１１に露光される。

上述した露光装置４０によれば、伸縮量検出手段１７が、露光倍率調整手段４５により照射角を変更して露光倍率を調整された光源装置１３の照射光を用いて基板１１およびマスク１２の相対的な伸縮量を検出する（即ち、ワークアライメントマーク３１、３１とマスクアライメントマーク３２、３２との相対的な位置を検出する）ので、露光に用いる光源とアライメント調整に用いる光源とを同一にすることができると共に、実際の露光と等しい条件下で露光倍率を調整することができるので、アライメント調整における誤差の発生を防止して、マスクパターンの露光を高精度に行うことができる。また、露光波長を遮断するフィルタを光源装置の光路上に挿脱することにより、光源装置が露光波長を含む第１照射光と、非露光波長よりなる第２照射光とを選択的に生成し、且つ第２照射光を用いて伸縮量を検出するので、露光倍率を調整する際に基板１１に塗布された感光剤を感光させることがなく、基板１１の無用な消費を防止することができる。

尚、本発明の露光装置は、前述した各実施形態に限定されるものでなく、適宜な変形，改良等が可能である。

例えば、インテグレータ１９および可動凸レンズ４６の移動は、制御手段１６により自動的に制御されるが、アライメント用カメラ２９、２９で撮影された画像を見ながらオペレータが手動で移動するようにしても良い。

また、インテグレータ１９および可動凸レンズ４６を駆動させる手段としては、図示した保持部材２３とボールねじ２４と駆動部２５との組み合わせに代えて、空気や液体等の流体を用いた駆動装置や、歯車とリンクとの組み合わせ機構を適用することができる。

さらに、光源の光に含まれる露光波長を遮断するフィルタ３３を個別の部材として設けたが、シャッタ２１をフィルタ３３と同一の波長選択性を有する材料より構成してもよい。これにより、シャッタ２１の開閉動作により第１照射光と第２照射光との切り替え及び露光と非露光の切り替えを同時に行うことができる。

本発明に係る露光装置の第１実施形態の全体の構成を示す概略図である。 本発明に係る露光装置の第２実施形態の全体の構成を示す概略図である。 従来の露光装置の全体の構成を示す概略図である。

符号の説明

１０，４０ 露光装置
１１ 基板（被露光基板）
１２ マスク
１３，４１ 光源装置
１４ 位置決め手段
１５，４５ 露光倍率調整手段
１６ 制御手段
１７ 伸縮量検出手段
１８ 水銀灯（光源）
１９ インテグレータ
２０ 固定凸レンズ
２１ シャッタ
３３ フィルタ
３１ ワークアライメントマーク
３２ マスクアライメントマーク
４２ 凹面鏡

Claims (6)

1. 感光材が塗布された被露光基板と、
   所定のマスクパターンが形成されたマスクと、
   前記マスクパターンを前記被露光基板に投影して露光するための照射光を生成する光源装置と、
   前記被露光基板に投影する前記マスクのパターンの露光倍率を調整する露光倍率調整手段と、
   前記被露光基板および前記マスクの少なくとも一つの伸縮量に基づいて前記露光倍率調整手段を制御する制御手段と、
   前記露光倍率調整手段により露光倍率を調整された前記照射光を用いて前記伸縮量を検出する伸縮量検出手段と、
   を備えていることを特徴とする露光装置。
2. 前記光源装置が、前記被露光基板の前記感光剤を感光させる露光波長を含む第１照射光と、前記感光剤の感光を防止する非露光波長よりなる第２照射光とを選択的に生成し、
   前記伸縮量検出手段が、前記第２照射光を用いて前記伸縮量を検出することを特徴とする請求項１に記載の露光装置。
3. 前記光源装置が、光源の光に含まれる前記露光波長を遮断するフィルタと、該フィルタを光路上に挿脱自在に移動する移動手段とを有することを特徴とする請求項２に記載の露光装置。
4. 感光材が塗布された被露光基板と所定のマスクパターンが形成されたマスクとを所定の間隔をもって対向するように位置決めし、
   光源装置から射出された照射光により前記マスクパターンを前記被露光基板に投影して露光する露光方法において、
   前記被露光基板および前記マスクの少なくとも一方の伸縮量に対応して露光倍率を制御する際に、露光倍率を調整された前記照射光を用いて前記伸縮量を検出することを特徴とする露光方法。
5. 前記光源装置が、前記被露光基板の前記感光剤を感光させる露光波長を含む第１照射光と、前記感光剤の感光を防止する非露光波長よりなる第２照射光とを選択的に生成し、
   前記伸縮量検出手段が、前記第２照射光を用いて前記伸縮量を検出することを特徴とする請求項４に記載の露光方法。
6. 前記光源装置が、光源の光に含まれる前記露光波長を遮断するフィルタを光路上に挿脱することにより前記第１照射光と前記第２照射光とを選択的に生成することを特徴とする請求項５に記載の露光装置。

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