JP6063133B2 - エキシマレーザおよびレーザ装置 - Google Patents

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Description

本開示は、エキシマレーザおよびレーザ装置に関する。
半導体集積回路の微細化、高集積化につれて、半導体露光装置（以下、「露光装置」という）においては解像力の向上が要請されている。このため露光用光源から放出される光の短波長化が進められている。露光用光源には、従来の水銀ランプに代わってガスレーザ装置が用いられている。現在、露光用のガスレーザ装置としては、波長２４８nmの紫外線を放出するＫｒＦエキシマレーザ装置ならびに、波長１９３nmの紫外線を放出するＡｒＦエキシマレーザ装置が用いられている。
次世代の露光技術としては、露光装置側の露光用レンズとウエハ間を液体で満たして、屈折率を変えることによって、露光用光源の見かけの波長を短波長化する液浸露光が研究されている。ＡｒＦエキシマレーザ装置を露光用光源として液侵露光が行われた場合は、ウエハには水中における波長１３４nmの紫外光が照射される。この技術をＡｒＦ液浸露光（又はＡｒＦ液浸リソグラフィー）という。
ＫｒＦ、ＡｒＦエキシマレーザ装置の自然発振幅は約３５０〜４００pmと広いため、これらの投影レンズが使用されると色収差が発生して解像力が低下する。そこで色収差が無視できる程度となるまでガスレーザ装置から放出されるレーザビームのスペクトル線幅（スペクトル幅）を狭帯域化する必要がある。このためガスレーザ装置のレーザ共振器内には狭帯域化素子（エタロンやグレーティング等）を有する狭帯域化モジュール（Ｌｉｎｅ Ｎａｒｒｏｗ Ｍｏｄｕｌｅ：ＬＮＭ）が設けられ、スペクトル幅の狭帯域化が実現されている。このようにスペクトル幅が狭帯域化されるレーザ装置を狭帯域化レーザ装置という。
米国特許７０８８７５８号明細書 米国特許７１５４９２８号明細書
概要
本開示の一態様によるエキシマレーザは、架台と、前記架台が設置された底板と、レーザガスを含むチャンバ内で放電励起によりレーザ光を発振出力するように構成されたエキシマレーザと、前記架台に搭載され、前記出力されるレーザ光の光路に設置された光学素子と、一方側で前記架台に接続され、他方側で前記底板に接続され、前記一方側と前記他方側との間に折曲部分を有する排熱機構と、前記底板上に載置される第１部と、該第１部より上に位置し、前記架台が載置される第２部と、該第２部を前記第１部に対して支持する支持部と、該支持部を軸として、又は該支持部を用いて規定される線を軸として、前記第１部に対する前記第２部の傾きを調節可能に構成された第１調節部と、を有する前記姿勢調節機構と、を含み、前記折曲部分の延在方向と、前記軸の延在方向とが、実質的に平行であってもよい。
本開示のいくつかの実施形態を、単なる例として、添付の図面を参照して以下に説明する。
図１は、本開示の一実施の形態にかかるマスタオシレータシステムの構成を概略的に示す側視図である。 図２は、図１に示されるマスタオシレータシステムの構成を概略的に示す上視図である。 図３は、一実施の形態の第１例による排熱機構の構成例を概略的に示す。 図４は、一実施の形態の第２例による排熱機構の構成例を概略的に示す。 図５は、一実施の形態の第３例による排熱機構の構成例を概略的に示す。 図６は、一実施の形態の第１例による姿勢調節機構の構成を概略的に示す側視図である。 図７は、図６に示される姿勢調節機構の上視図である。 図８は、一実施の形態の第２例による姿勢調節機構の構成を概略的に示す側視図である。 図９は、図８に示される姿勢調節機構の上視図である。 図１０は、一実施の形態の具体例にかかるプリズムユニットの構成を概略的に示す。 図１１は、図１０に示されるプリズムユニットの断面構造を概略的に示す。 図１２は、一実施の形態の変形例によるグレーティングユニットの構成を概略的に示す。 図１３は、図１２に示されるグレーティングユニットの断面構造を概略的に示す。 図１４は、一実施の形態の他の変形例によるミラーユニットの構成を概略的に示す。 図１５は、図１４に示されるミラーユニットの断面構造を概略的に示す。 図１６は、一実施の形態によるマスタオシレータシステムを備えたレーザ装置の構成例を概略的に示す。 図１７は、一実施の形態によるファブリペロ共振器を備えたパワーオシレータを用いた増幅装置の概略構成を模式的に示す。 図１８は、一実施の形態によるリング共振器を備えたパワーオシレータを用いた増幅装置の概略構成を模式的に示す側視図である。 図１９は、図１８に示される増幅装置の上視図である。
実施の形態
以下、本開示の実施形態について、図面を参照しながら詳しく説明する。以下に説明される実施形態は、本開示の一例を示すものであって、本開示の内容を限定するものではない。また、各実施形態で説明される構成及び動作の全てが本開示の構成及び動作として必須であるとは限らない。なお、同一の構成要素には同一の参照符号を付して、重複する説明を省略する。なお、以下の説明では、下記目次の流れに沿って説明する。
目次
１．概要
２．用語の説明
３．狭帯域化レーザ装置（マスタオシレータシステム）
３．１ 構成
３．１．１ 排熱機構
３．１．１．１ 第１例
３．１．１．２ 第２例
３．１．１．３ 第３例
３．１．２ 姿勢調節機構
３．１．２．１ 第１例
３．１．２．２ 第２例
３．１．３ 具体例
３．２ 作用
３．３ 変形例
３．３．１ グレーティングユニット
３．３．２ ミラーユニット
４．露光装置用のスペクトル線幅可変レーザ装置
４．１ 構成
４．２ 動作
５．その他
５．１ 増幅装置
５．１．１ ファブリペロ共振器を含む実施形態
５．１．２ リング共振器を含む実施形態
１．概要
以下で例示する実施の形態は、マスタオシレータの光共振器内に配置された光学要素の姿勢を制御し得る。これにより、安定したレーザ発振を実現し得る。
２．用語の説明
つぎに、本開示において使用される用語を、以下のように定義する。
レーザ光の光路において、レーザ光の生成源側を「上流」とし、レーザ光の到達目標側を「下流」とする。
また、「光軸」とは、レーザ光の進行方向に沿ってレーザ光のビーム断面の略中心を通る軸であってもよい。
「ビーム拡大」とは、ビーム断面が徐々に広がることをいう。
「縮小ビーム」とは、進行に合わせてレーザ断面が徐々に縮小するレーザ光であってよい。「拡大ビーム」とは、進行に合わせレーザ断面が徐々に拡大するレーザ光であってよい。
「所定繰返し周波数」とは、略所定の繰返し周波数であればよく、必ずしも一定の繰返し周波数でなくてもよい。
エキシマレーザガスとは、励起された際にエキシマレーザの媒質となる混合ガスで、例えばＫｒガス、Ａｒガスのいずれか一方、及びＦ２ガス、Ｎｅガスを含み、更に必要に応じてＸｅガスを含んでいてもよい。
「プリズム」とは、三角柱またはそれに類似した形状を有し、レーザ光を含む光を透過し得るものをいう。プリズムの底面および上面は、三角形またはそれに類似した形状であるとする。プリズムの底面および上面に対して略９０°に交わる３つの面を側面という。直角プリズムの場合、これらの側面のうち他の２面と９０°に交わらない面を斜面という。なお、プリズムの頂辺を削るなどして形状を変形したものについても、本説明におけるプリズムに含まれ得る。
本開示では、レーザ光の進行方向がＺ方向と定義される。また、このＺ方向と垂直な一方向がＸ方向と定義され、Ｘ方向およびＺ方向と垂直な方向がＹ方向と定義される。レーザ光の進行方向がＺ方向であるが、説明において、Ｘ方向とＹ方向は言及するレーザ光の位置によって変化する場合がある。例えば、レーザ光の進行方向（Ｚ方向）がＸ−Ｚ平面内で変化した場合、進行方向変化後のＸ方向は進行方向の変化に応じて向きを変えるが、Ｙ方向は変化しない。一方、レーザ光の進行方向（Ｚ方向）がＹ−Ｚ平面内で変化した場合、進行方向変化後のＹ方向は進行方向の変化に応じて向きを変えるが、Ｘ方向は変化しない。なお、理解のために各図では、図示されている光学素子のうち、最上流に位置する光学素子に入射するレーザ光と、最下流に位置する光学素子から出射するレーザ光とのそれぞれに対して、座標系が適宜図示される。また、その他の光学素子に対して入射するレーザ光の座標系は、必要に応じて適宜図示される。
３．狭帯域化レーザ装置（マスタオシレータシステム）
まず、本開示の一実施の形態にかかる狭帯域化レーザ装置（以下、マスタオシレータシステムという）の概要について、以下に図面を参照して詳細に説明する。
３．１ 構成
図１は、マスタオシレータシステム１０の構成を概略的に示す側視図である。図２は、マスタオシレータシステム１０の構成を概略的に示す上視図である。
図１および図２に示されるように、マスタオシレータシステム１０は、出力結合ミラー１１と、増幅部２０と、狭帯域化モジュール３０とを含んでもよい。
狭帯域化モジュール３０は、グレーティング３１を含んでもよい。このグレーティング３１と出力結合ミラー１１とは、光共振器を形成してもよい。グレーティング３１は、光共振器内を往復するレーザ光Ｌ１の波長を限定する波長選択部としても機能してよい。増幅部２０は、光共振器内を往復するレーザ光Ｌ１を増幅してもよい。
増幅部２０は、レーザチャンバ２３と、ウィンドウ２１および２４と、一対の放電電極２３１および２３２とを備えてもよい。ウィンドウ２１および２４は、それぞれレーザチャンバ２３に設けられたウィンドウホルダ２２および２５に保持されていてもよい。その際、ウィンドウ２１および２４は、レーザ光Ｌ１の光路に対して微小に傾いていてもよい。その傾斜角度は例えばブリュースタ角度であってもよい。レーザチャンバ２３の内部は、レーザ媒質としてのエキシマレーザガスで満たされていてもよい。放電電極２３１および２３２には、コントローラ１０からの制御の下、不図示の電源から励起電力が供給されてもよい。
また、マスタオシレータシステム１０は、光共振器内を往復するレーザ光Ｌ１の波面を調節する波面調節部（不図示）をさらに備えてもよい。この波面調節部は、たとえば出力結合ミラー１１とレーザチャンバ２３との間の光路上や、レーザチャンバ２３と狭帯域化モジュール３０との間の光路上に配置されてもよい。この波面調節部は、たとえば曲面が互いに向かい合うように配置された凹面シリンドリカルレンズおよび凸面シリンドリカルレンズを用いて構成されてもよい。凸面シリンドリカルレンズおよび凹面シリンドリカルレンズのうち少なくとも一方は、光共振器中のレーザ光Ｌ１の光路に沿って移動可能であるとよい。この構成によれば、凸面シリンドリカルレンズと凹面シリンドリカルレンズとの間の距離が変化することで、レーザ光Ｌ１の波面が制御され得る。
狭帯域化モジュール３０に含まれる１つ以上のプリズム３２〜３４は、グレーティング３１と出力結合ミラー１１とが構成する光共振器内に存在するレーザ光Ｌ１の波長を調節する波長調節部として機能してもよい。その場合、たとえばグレーティング３１の直前に配置されたプリズム３２が回転可能な回転テーブル４２２上に固定されてもよい。プリズム３２の回転面は、たとえばレーザ光Ｌ１のプリズム３２に対する入射面と平行な面であってもよい。この構成によれば、回転テーブル４２２の回転量と回転方向とを調節することで、プリズム３２を介してグレーティング３１へ入射するレーザ光Ｌ１の入射角度が調節され得る。その結果、光共振器内に存在するレーザ光Ｌ１の波長が調節され得る。
また、狭帯域化モジュール３０は、グレーティング３１へ入射するレーザ光Ｌ１のビーム断面の大きさを調節可能であってもよい。その場合、狭帯域化モジュール３０は、１つ以上のプリズム３２〜３４のうち少なくとも１つを、レーザ光Ｌ１の光路およびダイバージェンスを変更せずに他の倍率のプリズムに組み換える機構（図示せず）を備えてもよい。そのような構成によれば、グレーティング３１へ入射するレーザ光Ｌ１のビーム断面の大きさが変更され得る。その結果、光共振器内に存在するレーザ光Ｌ１の波長スペクトル幅が大きく変更され得る。
また、グレーティング３１、プリズム３２、３３および３４のうち少なくとも１つは、レーザ光Ｌ１の進行方向（光路または光軸であってよい）に対する傾き（以下、姿勢ともいう）を調節可能な姿勢調節機構６０上に載置されてもよい。ここでは、プリズム３３が姿勢調節機構６０上に載置された場合を例示する。また、姿勢調節機構６０は、Ｘ軸に平行な方向を回転中心としてプリズム３３を回転させることができてもよい。この構成によれば、光共振器内を往復するレーザ光Ｌ１の進行方向が±Ｙ方向に調節され得る。姿勢調節機構６０の具体的構成については、後述において触れられる。
狭帯域化モジュール３０内のグレーティング３１、プリズム３２、３３および３４は、たとえば架台４１、４２１、４３および４４上にそれぞれ固定されてもよい。たとえばプリズム３２を回転可能とする場合は、プリズム３２が架台４２１とともに回転テーブル４２２上に載置されてもよい。また、プリズム３３を姿勢制御可能とする場合は、プリズム３３が架台４３とともに姿勢調節機構６０上に載置されてもよい。
グレーティング３１の架台４１、プリズム３２の架台４２１を担架する回転テーブル４２２、プリズム３３の架台４３を担架する姿勢調節機構６０、およびプリズム３４の架台４４は、それぞれ底板４０の所定の位置において底板４０に固定されてもよい。この際、たとえば姿勢調節機構６０上に載置された架台４３は、排熱機構５０を介して底板４０と接続されてもよい。これにより、架台４３上のプリズム３３の熱が、架台４３および排熱機構５０を介して効率的に排出され得る。ただし、これは、プリズム３３からの姿勢調節機構６０を介する底板４０への排熱を排除するものではない。また、他の架台４１、４２１および４４についても、不図示の排熱機構５０と同様の排熱機構を介して底板４０と接続されてもよい。排熱機構５０の具体的構成については、後述する。
３．１．１ 排熱機構
ここで、排熱機構５０について、いくつか例を挙げて説明する。
３．１．１．１ 第１例
図３は、第１例による排熱機構５０の構成例を概略的に示す。図３に示されるように、排熱機構５０は、排熱版５１と、ボルト５２および５３とを含んでもよい。排熱版５１は、第１部分（取付部）５１ａと、第２部分（伝熱部）５１ｂと、第３部分（取付部）５１ｃとを含んでもよい。第１部分５１ａは、第２部分５１ｂの一方の端に位置してもよい。第３部分５１ｃは、第２部分の他方の端に位置してもよい。この排熱板５１は、１つの板部材が第１部分５１ａから第３部分５１ｃを含むように加工されたものであってもよい。
第１部分５１ａは、１つ以上のボルト５２を用いて架台４３に取り付けられてもよい。そこで、第１部分５１ａには、ボルト５２を嵌挿するための１つ以上の穴５２ａが設けられているとよい。一方、架台４３には、ボルト５２のネジ部分を嵌め込むための１つ以上のネジ穴４３ａが設けられているとよい。
同様に、第３部分５１ｃは、１つ以上のボルト５３を用いて底板４０に取り付けられてもよい。そこで、第３部分５１ｃには、ボルト５３を嵌挿するための１つ以上の穴５３ａが設けられているとよい。一方、底板４０には、ボルト５３のネジ部分を嵌め込むための１つ以上のネジ穴４０ａが設けられているとよい。
排熱板５１における少なくとも第２部分５１ｂは、少なくとも特定方向の外部応力に対して比較的容易に変形可能であるとよい。これは、第２部分５１ｂの形状に起因する特性であっても、第２部分５１ｂの材料に起因する特性であってもよい。特定方向とは、少なくとも姿勢調節機構６０による架台４３およびプリズム３３の姿勢制御方向であってよい。特定方向の意味は以下に説明する他の図の例においても同様であってもよい。その際、より好ましくは、第２部分５１ｂは、姿勢調節機構６０による架台４３およびプリズム３３の姿勢変位を実質的に妨げない程度の柔軟性を有しているとよい。
排熱板５１の形状にて十分な柔軟性を実現する場合、第２部分５１ｂは、たとえば図３に示されるように、板状の部材がジグザグに折り曲がった形状を有してもよい。折曲箇所は１つに限られず、複数であってもよい。その際、各折曲箇所は、直角に折り曲げられていてもよし、鈍角または鋭角に折り曲げられていてもよい。
また、排熱板５１の材料には、鉄（Ｆｅ）、銅（Ｃｕ）、アルミニウム（Ａｌ）などの金属が用いられてもよい。ただし、これに限定されず、熱伝導率が比較的高い材料が用いられるとよい。その際、より好ましくは、排熱版５１の材料には、たとえば加工後の排熱板５１の形状において十分な柔軟性が得られる材料が用いられるとよい。また、排熱板５１には、架台４３に用いた材料よりも高い熱伝導率を有する材料が用いられてもよい。さらには、排熱板５１の表面は、腐食等による劣化を低減するために、メッキ加工されてもよい。メッキ材料には、ニッケル（Ｎｉ）などが用いられてもよい。
また、排熱版５１の少なくとも第２部分５１ｂは、一枚の板部材に限らず、複数枚の板部材が重ねられた構成を備えてもよい。その場合、排熱効果を上げつつ、少なくとも特定方向の柔軟性を向上することができる場合がある。
３．１．１．２ 第２例
図４は、第２例による排熱機構１５０の構成例を概略的に示す。図４に示されるように、排熱機構１５０の第２部分１５１ｂにおける各折曲部分は、丸みを帯びたカーブであってもよい。この形状によっても、第１例による排熱機構５０と同様に、少なくとも特定方向の外部応力に対して比較的容易に変形し、かつ、架台４３の熱を効率的に底板４０へ排熱し得る第２部分１５１ｂを実現できる。なお、他の構成および材料等は、図３を用いて例示された排熱機構５０と同様であってよいため、ここでは詳細な説明を省略する。
３．１．１．３ 第３例
また、排熱機構５０に用いられる部材は、板部材に限られない。たとえば銅線やカーボン繊維などを織り込んで製造された網線などが用いられてもよい。図５は、第３例による銅網線が用いられた排熱機構２５０の構成例を概略的に示す。
図５に示されるように、排熱機構２５０は、排熱部２５１と、ボルト５２および５３とを含んでもよい。排熱部２５１は、第１部材２５１ａと、第２部材２５１ｂと、第３部材２５１ｃとを含んでもよい。
第２部材２５１ｂは、たとえば銅線やカーボン繊維などを織り込んで製造された網線であってもよい。このような網線を第２部材２５１ｂに用いることで、少なくとも特定方向の柔軟性を第２部材２５１ｂの構造によって確保することができる。
第２部材２５１ｂの材料には、鉄（Ｆｅ）、銅（Ｃｕ）、アルミニウム（Ａｌ）などの金属製のワイヤや、カーボン繊維などが用いられてもよい。ただし、これに限定されず、熱伝導率が比較的高い材料で形成されたワイヤが用いられるとよい。その際、より好ましくは、第２部材２５１ｂの材料には、たとえば織り込み後の網線形状において十分な柔軟性が得られる材料が用いられるとよい。また、第２部分２５１ｂには、架台４３に用いた材料よりも高い熱伝導率を有する材料が用いられてもよい。さらには、第２部材２５１ｂに用いられる網線の表面は、腐食等による劣化を低減するために、メッキ加工されてもよい。メッキ材料には、ニッケル（Ｎｉ）などが用いられてもよい。
第１部材２５１ａおよび第３部材２５１ｃは、図３に示された排熱板５１における第１部分５１ａおよび第３部分５１ｃとそれぞれ同様であってよい。第１部材２５１ａと第２部材２５１ｂ、および、第３部材２５１ｃと第２部材２５１ｂとは、それぞれはんだなどの熱伝導率の大きい材料を用いて伝導率を大きく下げることなく接続されるとよい。ただし、これに限定されず、第１部材２５１ａから第３部材２５１ｃまでが一体の網線を用いて構成されてもよい。その場合、ボルト５２または５３が嵌挿される穴５２ａおよび５３ａは、ハトメ鋲などで補強されてもよい。
以上のような構成によっても、第１例による排熱機構５０と同様に、少なくとも特定方向の外部応力に対して比較的容易に変形し、かつ、架台４３の熱を効率的に底板４０へ排熱し得る排熱機構２５０が実現できる。なお、他の構成および材料等は、図３を用いて例示された排熱機構５０と同様であってよいため、ここでは詳細な説明を省略する。
３．１．２ 姿勢調節機構
つづいて、姿勢調節機構６０について、いくつか例を挙げて説明する。
３．１．２．１ 第１例
図６および図７は、第１例による姿勢調節機構６０の構成を概略的に示す。図６は、姿勢調節機構６０の側視図である。図７は、姿勢調節機構６０の上視図である。
図６および図７に示されるように、姿勢調節機構６０は、姿勢調節板と、２種類の調節ネジ（調節部）６４および６５とを含んでもよい。姿勢調節板は、下部平板部６１と、上部平板部６２と、番部（支持部）６３とを含んでもよい。この姿勢調節板は、たとえば１つの平板を加工して製造されたものであってもよい。
下部平板部６１は、たとえば底板４０の所定の位置に固定されてもよい。上部平板部６２は、下部平板部６１よりも上に配置され、下部平板部６１に対して略平行な状態を保ちつつ、下部平板部６１と所定距離離間していてもよい。この所定距離は、下部平板部６１に対して閉じる方向に上部平板部６２の傾きを調節する際の長さ以上であればよい。上部平板部６２の上面は、架台４３が固定される搭載面であってもよい。番部６３は、下部平板部６１と上部平板部６２とを開閉させるための変形部として機能してもよい。この番部６３は、この部分の剛性を下げるために、下部平板部６１および上部平板部６２よりも薄肉化されていてもよい。
調節ネジ６５は、下部平板部６１に対して上部平板部６２を開く方向の応力を調節するための部材であってもよい。調節ネジ６５は、たとえば上部平板部６２に設けられたネジ穴に、これの搭載面側から下部平板部６１へ向けて嵌挿されてもよい。調節ネジ６５の先端は、下部平板部６１に当接してもよい。その際、調節ネジ６５の先端は、拡径していてもよい。
一方、調節ネジ６４は、下部平板部６１に対して上部平板部６２を閉じる方向の応力を調節するための部材であってもよい。調節ネジ６４は、たとえば上部平板部６２に設けられた穴を架台４３の搭載面側から貫通し、下部平板部６１に設けられたネジ穴に螺合してもよい。調節ネジ６４の先端部のネジ山が下部平板部６１のネジ穴に螺合した状態では、調節ネジ６４の頭部分が上部平板部６２の搭載面に接触するとよい。ただし、上部平板部６２と調節ネジ６４との間にワッシャなどが挟まれてもよい。
以上の構成によれば、２つの調節ネジ６４および６５のそれぞれのネジ穴へのねじ込み量を調節することで、上部平板部６２がたとえば番部６３を実質的に軸として下部平板部６１に対して開閉され得る。その結果、上部平板部６２上の架台４３に搭載されたプリズム３３のレーザ光Ｌ１の光路に対する姿勢を調節することが可能となる。
また、排熱機構５０は、排熱板５１の主平面が番部６３の延在方向（上部平板部６２の回転軸）と実質的に平行となるように架台４３および底板４０に取り付けられるとよい。主平面とは図３等において排熱機構５０穴の５２ａ等があけられている面である。以下の図においても同様である。その際、排熱板５１の折曲部分の延在方向が番部６３の延在方向（上部平板部６２の回転軸）と実質的に平行となるとよい。この構成によれば、上部平板部６２の開閉に応じて排熱板５１、１５１または排熱部２５１が容易に変形し得る。その結果、プリズム３３の姿勢制御を妨げる抵抗力を低減することが可能となる。これは、他の排熱機構（たとえば排熱機構１５０または２５０）を用いた場合でも同様であってよい。
３．１．２．２ 第２例
図８および図９は、第２例による姿勢調節機構１６０の構成を概略的に示す。図８は、姿勢調節機構１６０の側視図である。図９は、姿勢調節機構１６０の上視図である。
図８および図９に示されるように、姿勢調節機構１６０は、下部平板１６１と、上部平板１６２と、軸部材（支持部）１６３と、バネ１６５と、調節ネジ６４とを含んでもよい。調節ネジ６４は、上述の姿勢調節機構６０における調節ネジ６４と同様であってよい。
下部平板１６１および上部平板１６２は、それぞれ姿勢調節機構６０における下部平板部６１および上部平板部６２に相当するものであってよい。したがって、上部平板１６２は、下部平板１６１よりも上に配置され、下部平板１６１に対して略平行な状態を保ちつつ、下部平板１６１と所定距離離間していてよい。
軸部材１６３は、姿勢調節機構６０における番部６３を代用するものであってよい。この軸部材１６３は、たとえば円筒状の棒部材であってもよい。その場合、下部平板１６１と上部平板１６２とには、それぞれ軸部材１６３を受けるための溝が設けられているとよい。
バネ１６５は、姿勢調節機構６０における調節ネジ６５を代用するものであってよい。したがって、バネ１６５は、下部平板１６１に対して上部平板１６２を開く方向に応力を与えるように圧縮されて下部平板１６１と上部平板１６２とに取り付けられた部材であってもよい。
以上の構成によれば、調節ネジ６４のネジ穴へのねじ込み量を調節することで、下部平板１６１に対する上部平板１６２の傾きを調節することが可能である。その結果、レーザ光Ｌ１の光路に対するプリズム３３の姿勢を調節することが可能となる。なお、他の構成は、上述の姿勢調節機構６０と同様であってよいため、ここでは詳細な説明を省略する。
また、排熱機構５０は、排熱板５１の主平面が軸部材１６３の延在方向（上部平板１６２の回転軸）と実質的に平行となるように架台４３および底板４０に取り付けられるとよい。その際、排熱板５１の折曲部分の延在方向が軸部材１６３の延在方向（上部平板１６２の回転軸）と実質的に平行となるとよい。この構成によれば、上部平板１６２の開閉に応じて排熱板５１が容易に変形し得る。その結果、プリズム３３の姿勢制御を妨げる抵抗力を低減することが可能となる。これは、他の排熱機構（たとえば排熱機構１５０または２５０）を用いた場合でも同様であってよい。
３．１．３ 具体例
つぎに、上述した姿勢調節機構および排熱機構を含むプリズムユニットの具体的な例を、図面を用いて詳細に説明する。図１０は、本具体例にかかるプリズムユニット１００の構成を概略的に示す。図１１は、図１０に示されるプリズムユニット１００の断面構造を概略的に示す。
図１０および図１１に示されるように、プリズムユニット１００は、姿勢調節機構６０Ａと、架台４３と、ホルダ４５と、プリズム３３とを含んでもよい。
姿勢調節機構６０Ａは、底板４０上の所定の位置に固定されていてもよい。この姿勢調節機構６０Ａは、下部平板部６１ａ、上部平板部６２ａおよび番部６３を含む姿勢調節板と、調節ネジ６４Ａと、バネ１６５とを含んでもよい。下部平板部６１ａ、上部平板部６２ａおよび番部６３は、上述した下部平板部６１、上部平板部６２および番部６３と同様であってよい。ただし、下部平板部６１ａは、調節ネジ６４Ａが嵌挿されない程度に短尺化されていてもよい。調節ネジ６４Ａは、下部平板部６１に対して上部平板部６２ａを閉じる方向の応力を調節するための部材であってもよい。調節ネジ６４Ａは、底板４０に設けられた貫通穴を底板４０の下面側から嵌挿し、その先端部６４ａが上部平板部６２ａに設けられたネジ穴６２ｂに螺合していてもよい。また、調節ネジ６４Ａのつまみ６４ｂは、底板４０の下面側に突出していてもよい。バネ１６５は、下部平板部６１ａに対して上部平板部６２ａを開く方向に応力を与えるように圧縮されて下部平板６１ａと上部平板６２ａとに取り付けられた部材であってもよい。
架台４３は、たとえば姿勢調節機構６０Ａの上部平板部６２ａ上に、ボルト４３１等を用いて固定されてもよい。架台４３には、プリズム３３を保持するためのホルダ４５が設けられてもよい。ホルダ４５は、下部保定部４５１と、上部保定部４５２と、側部保定部４５３と、支柱４５４と、天板４５５と、付勢ピン４５６とを含んでもよい。
ホルダ４５のうち下部保定部４５１は、架台４３と一体の部材であってもよいし、別体の部材であってもよい。別体の部材である場合、下部保定部４５１は、不図示のボルト等を用いて架台４３に固定されてもよいし、架台４３に溶着されてもよい。
下部保定部４５１は、プリズム３３を下方から担持してもよい。これに対し、上部保定部４５２は、プリズム３３を上方から押さえ付けてもよい。この構成により、プリズム３３が上下方向から支持され得る。なお、下部保定部４５１には、複数の支柱４５４の底部が固定されてもよい。支柱４５４の上部には、天板４５５が固定されてもよい。天板４５５には、上部保定部４５２から突出する付勢ピン４５６が嵌挿される貫通孔が設けられていてもよい。付勢ピン４５６は、上部保定部４５２を下部保定部４５１へ向けて付勢するためのバネなどの部材を含んでもよい。
側部保定部４５３は、プリズム３３を側方から押さえ付けてもよい。側部保定部４５３によって押さえ付けられた側と反対側の少なくとも二箇所には、下部保定部４５１の一部が突出していてもよい。この突起と側部保定部４５３とがプリズム３３を挟み込むことで、プリズム３３が側方から支持され得る。
排熱機構５０の排熱板５１は、架台４３の側面と底板４０の側面とにそれぞれボルト５２および５３を用いて固定されてもよい。これにより、プリズム３３の熱が、ホルダ４５、架台４３および排熱機構５０を介して底板４０へ排熱され得る。
３．２ 作用
以上のように、排熱対象のプリズム３３を担持する架台４３と底板４０とを排熱機構５０を用いて熱的に接続することで、プリズム３３の熱を効率的に底板４０へ逃がすことができる。それにより、プリズム３３の光学特性を安定化させることが可能となる。その結果、マスタオシレータシステム１０から出力されるレーザ光Ｌ１を安定させることが可能となる。
３．３ 変形例
また、排熱機構５０を設ける対象の光学ユニットは、プリズムを搭載するユニットに限られない。たとえば狭帯域化レーザ装置（マスタオシレータシステム１０）内の光学素子では、グレーティング３１や出力結合ミラー１１などに排熱機構５０が設けられてもよい。また、これらの機構には、姿勢調節機構６０も同様に設けられてもよい。
３．３．１ グレーティングユニット
図１２および図１３には、グレーティング３１を搭載するグレーティングユニット２００に排熱機構５０および姿勢調節機構１６０Ａを設けた場合が例示されている。図１２は、本変形例によるグレーティングユニット２００の構成を概略的に示す側視図である。図１３は、図１２に示されるグレーティングユニット２００から天板４６２と、バネ４６３とを除いた構造を概略的に示す上視図である。
図１２および図１３に示されるように、グレーティングユニット２００は、姿勢調節機構１６０Ａと、架台４１と、ホルダ４６と、グレーティング３１と、排熱機構５０とを含んでもよい。
姿勢調節機構１６０Ａは、姿勢調節機構１６０と同様の構成において、姿勢調節機構６０Ａと同様に、調節ネジ６４の代わりに調節ネジ６４Ａが用いられてもよい。その他の構成は、上述した姿勢調節機構１６０、６０または６０Ａと同様であってよいため、ここでは詳細な説明を省略する。
架台４１上には、ホルダ４６を用いてグレーティング３１が固定されてもよい。ホルダ４６は、立板４６１と、天板４６２と、バネ４６３とを含んでもよい。立板４６１は、架台４１から実質的に垂直に延在してもよい。この立板４６１には、グレーティング３１の背面が当接されてもよい。天板４６２は、立板４６１の上部に設けられてもよい。天板４６２とグレーティング３１との間には、１つ以上のバネ４６３が設けられてもよい。バネ４６３は、グレーティング３１を架台４１へ押し付けることで、これを固定する役割を果たしてもよい。このような構成を有するホルダ４６は、架台４１と一体の部材であってもよいし、別体の部材であってもよい。別体の部材である場合、ホルダ４６は、不図示のボルト等を用いて架台４１に固定されてもよいし、架台４１に溶着されてもよい。
排熱機構５０の排熱板５１は、架台４１と底板４０とにそれぞれボルト５２および５３を用いて固定されてもよい。これにより、グレーティング３１の熱が、架台４１および排熱機構５０を介して底板４０へ排熱され得る。
３．３．２ ミラーユニット
つぎに、狭帯域化レーザ装置（マスタオシレータシステム１０）外部の高反射ミラー３０１を搭載するミラーユニット３００に排熱機構５０Ａおよび５０Ｂと姿勢調節機構２６０とが設けられた場合を例示する。高反射ミラー３０１は様々な箇所に設置され得る。ここでは設置箇所を特定せずに一般的な説明を行う。図１４は、本変形例によるミラーユニット３００の構成を概略的に示す断面図である。図１５は、図１４に示されるミラーユニット３００の断面構造を概略的に示す上視図である。
図１４および図１５に示されるように、ミラーユニット３００は、姿勢調節機構２６０と、２つの排熱機構５０Ａおよび５０Ｂと、ミラーホルダ３１０と、高反射ミラー３０１とを含んでもよい。各排熱機構５０Ａおよび５０Ｂは、上述した排熱機構５０、１５０および２５０のいずれかと同様であってもよい。また、ミラーホルダ３１０は、姿勢調節機構２６０上に直接搭載されているが、これに限らず、姿勢調節機構２６０上に設置された架台上に搭載されてもよい。また、高反射ミラー３０１は、ミラーホルダ３１０に設けられた溝に嵌め込まれてもよい。ミラーホルダ３１０には、高反射ミラー３０１が外れるのを防止するためのストッパとして、板状の付勢バネ３１２と、その付勢バネ３１２をミラーホルダ３１０に固定するための止めネジ３１１とが設けられてもよい。付勢バネ３１２は、一方の端が高反射ミラー３０１の反射面側に当接し、他方の端がミラーホルダの一部に接触していてもよい。止めネジ３１１は、このミラーホルダ３１０と付勢バネ３１２との接触箇所を固定してもよい。また、このようなストッパは、ミラーホルダ３１０における少なくとも２箇所以上に設けられるとよい。
姿勢調節機構２６０は、たとえば３点支持構造を備えた姿勢調節機構であってもよい。具体例としては、姿勢調節機構２６０は、下部平板２６１と、上部平板２６２と、ボール（支持部）２６３と、複数のバネ１６５と、２つの調節ネジ２６５Ａおよび２６５Ｂとを含んでもよい。複数のバネ１６５は、それぞれ上述したバネ１６５と同様であってよい。
下部平板２６１および上部平板２６２は、たとえば底板３４０の設置面と平行となる面が略正方形の板形状を有していてもよい。上部平板２６２は、下部平板２６１よりも上に配置され、下部平板２６１に対して略平行な状態を保ちつつ、下部平板２６１と所定距離離間していてよい。その他の構成および材料等は、上述した上部平板１６１および上部平板１６２と同様であってよい。
ボール２６３は、下部平板２６１に対して上部平板２６２を支持する３点のうちの１つであってもよい。このボール２６３は、たとえば球状の部材であってもよい。その場合、下部平板２６１と上部平板２６２とには、それぞれボール２６３を受けるための球の一部状の溝が設けられているとよい。
調節ネジ２６５Ａおよび２６５Ｂは、下部平板２６１に対して上部平板２６２を支持する３点のうちの他の２つであってもよい。各調節ネジ２６５Ａおよび２６５Ｂは、たとえば底板３４０に設けられた穴をこれの下面側から貫通し、下部平板２６１に設けられたネジ穴に螺合しつつ、上部平板２６２側に突出していてもよい。各調節ネジ２６５Ａおよび２６５Ｂの下部平板２６１から突出した先端には、上部平板２６２が当接してもよい。その際、各調節ネジ２６５Ａおよび２６５Ｂの先端は、それぞれ拡径していてもよい。これらボール２６３と２つの調節ネジ２６５Ａおよび２６５Ｂとにより、上部平板２６２が下側から３点で支持されてもよい。
上部平板２６２の重心を通り且つ底板３４０の搭載面と垂直な如何なる面で切断した場合でも、２つの調節ネジ２６５Ａおよび２６５Ｂとボール２６３との全てが当該面で仕切られる空間の一方の側に含まれることの無いように配置されるとよい。たとえば、ボール２６３が下部平板２６１の４つのコーナのうち１つのコーナ付近に配置された場合、２つの調節ネジ２６５Ａおよび２６５Ｂは、ボール２６３が配されたコーナを挟む２つの辺それぞれの他方の端付近にそれぞれ配されてもよい。また、各ボール２６３と調節ネジ２６５Ａおよび２６５Ｂの近辺には、それぞれバネ１６５が設けられてもよい。
以上の構成によれば、一方の調節ネジ２６５Ａの下部平板部２６１のネジ穴へのねじ込み量を調節することで、ボール２６３による支持点と他方の調節ネジ２６５Ｂによる支持点とを結ぶ線（図面中、略Ｙ軸）を実質的に軸として、上部平板２６２が下部平板２６１に対して開閉され得る。同様に、他方の調節ネジ２６５Ｂの下部平板部２６１のネジ穴へのねじ込み量を調節することで、ボール２６３による支持点と一方の調節ネジ２６５Ａによる支持点とを結ぶ線（図面中、略Ｘ軸）を実質的に軸として、上部平板２６２が下部平板２６１に対して開閉され得る。その結果、上部平板２６２上のミラーホルダ３１０に保持された高反射ミラー３０１のレーザ光Ｌ１の光路に対する姿勢が２軸方向で調節され得る。
また、排熱機構５０Ａは、ミラーホルダ３１０の側面のうち、ボール２６３が近傍に配されたコーナおよび他方の調節ネジ２６５Ｂが近傍に配されたコーナと交わる側面に設けられるとよい。その際、排熱機構５０Ａは、排熱板５１の主平面がボール２６３による支持点と他方の調節ネジ２６５Ｂによる支持点とを結ぶ線と実質的に平行となるようにホルダ３１０および底板３４０に取り付けられるとよい。また、排熱板５１の折曲部分の延在方向がボール２６３による支持点と他方の調節ネジ２６５Ｂによる支持点とを結ぶ線の延在方向と実質的に平行となるとよい。
同様に、排熱機構５０Ｂは、ミラーホルダ３１０の側面のうち、ボール２６３が近傍に配されたコーナおよび一方の調節ネジ２６５Ａが近傍に配されたコーナと交わる側面に設けられるとよい。その際、排熱機構５０Ｂは、排熱板５１の主平面がボール２６３による支持点と一方の調節ネジ２６５Ａによる支持点とを結ぶ線と実質的に平行となるようにホルダ３１０および底板３４０に取り付けられるとよい。また、排熱板５１の折曲部分の延在方向がボール２６３による支持点と一方の調節ネジ２６５Ａによる支持点とを結ぶ線の延在方向と実質的に平行となるとよい。
このような構成によれば、上部平板２６２の開閉に応じて各排熱機構５０Ａおよび５０Ｂの排熱板５１が容易に変形し得る。その結果、高反射ミラー３０１の姿勢制御を妨げる抵抗力を低減することが可能となる。これは、他の排熱機構（たとえば排熱機構１５０または２５０）を用いた場合でも同様であってよい。なお、排熱機構５０Ａおよび５０Ｂは、それぞれボール２６３が配されたコーナに近い位置に設けられるとよい。その場合、上部平板２６２の開閉の際に生じる変形量がそれぞれ小さいため、高反射ミラー３０１の姿勢制御を妨げる抵抗力をより低減することが可能となる。
４．露光装置用のスペクトル線幅可変レーザ装置
つぎに、上述した狭帯域化レーザ装置（マスタオシレータシステム１０）を備えたレーザ装置について、図面を参照して詳細に説明する。
４．１ 構成
図１６は、上述の実施の形態によるマスタオシレータシステム１０を備えたレーザ装置１０００の構成例を概略的に示す。レーザ装置１０００は、半導体露光用レーザであってもよい。レーザ装置１０００は、発振段（マスタオシレータ）と増幅段（増幅装置）とを備えた２ステージレーザ装置であってもよい。
図１６に示されるように、レーザ装置１０００は、マスタオシレータシステム１０と、増幅装置７０とを備えてもよい。レーザ装置１０００は、高反射ミラー３０１および３０２などの光学系をさらに備えてもよい。
マスタオシレータシステム１０から出力されるレーザ光Ｌ１は、パルス光であってもよい。高反射ミラー３０１および３０２などの光学系は、マスタオシレータシステム１０と増幅装置７０との間の光路上に配置されてもよい。高反射ミラー３０１および３０２は、それぞれ図１４および図１５を用いて説明したミラーユニット３００の形態で、レーザ装置１０００へ組み込まれてもよい。図１４および図１５では高反射ミラー３０１のみであったが、それを高反射ミラー３０２としてもよい。
増幅装置７０は、高反射ミラー３０１および３０２等から構成される光学系を介して入射したレーザ光Ｌ１を増幅してもよい。増幅装置７０は、エキシマレーザガスなどをゲイン媒質として内部に含んでもよい。増幅装置７０は、不図示のコントローラからの制御の下で動作してもよい。
４．２ 動作
つづいて、図１６に示されるレーザ装置１０００の概略動作を、以下に説明する。レーザ装置１０００のコントローラは、露光装置側のコントローラなどの外部装置から、露光用のレーザ光Ｌ１の出力を要求する露光命令を受信してもよい。コントローラは、露光命令を受信すると、マスタオシレータシステム１０をレーザ発振させてもよい。これにより、マスタオシレータシステム１０からレーザ光Ｌ１が出力されてもよい。
また、コントローラは、マスタオシレータシステム１０から出力されたレーザ光Ｌ１が増幅装置７０内に存在するタイミングに合わせて、増幅装置７０へ励起電力を与えてもよい。これにより、増幅装置７０から、増幅されたレーザ光Ｌ２が出力されてもよい。このレーザ光Ｌ２は、不図示の光学系を介して、露光装置へ導かれてもよい。
５．その他
５．１ 増幅装置
ここで、図１６に示される増幅装置７０について、図面を用いて詳細に説明する。増幅装置７０は、パワーオシレータやパワー増幅器や再生増幅器など、種々の増幅装置であってよい。また、増幅装置７０は、１つの増幅装置であってもよいし、複数の増幅装置を含んでいてもよい。
５．１．１ ファブリペロ共振器を含む実施形態
まず、ファブリペロ共振器を備えたパワーオシレータを増幅装置７０として用いた場合を例に挙げる。図１７は、ファブリペロ共振器を備えたパワーオシレータを用いた増幅装置７０Ａの概略構成を模式的に示す。図１７に示されるように、増幅装置７０Ａは、チャンバ７３を備えてもよい。増幅装置７０Ａは、レーザ光の一部を反射し、一部を透過するリアミラー７１と、レーザ光の一部を反射し、一部を透過する出力結合ミラー７８とを備えてもよい。リアミラー７１と出力結合ミラー７８とは、光共振器を形成してもよい。ここで、リアミラー７１の反射率は出力結合ミラー７８の反射率よりも高いことが好ましい。出力結合ミラー７８は、増幅後のレーザ光Ｌ１の出力端であってもよい。
増幅装置７０Ａは、レーザ光Ｌ１のビームプロファイルを調整するスリット７２をさらに備えてもよい。チャンバ７３には、ウィンドウ７４および７７が設けられてもよい。ウィンドウ７４および７７は、チャンバ７３の機密性を保持しつつ、レーザ光Ｌ１を透過させてもよい。このチャンバ７３内には、エキシマレーザガスなどのゲイン媒質が封入されていてもよい。ゲイン媒体は、例えばＫｒガス、Ａｒガスのいずれか一方、及びＦ２ガス、Ｎｅガスを含み、更に必要に応じてＸｅガスを含んでいてもよい。さらに、チャンバ７３内には、一対の放電電極７５および７６が設けられてもよい。放電電極７５および７６は、レーザ光Ｌ１が通過する領域（増幅領域）を挟むように配置されていてもよい。放電電極７５および７６間には、不図示の電源からパルス状の高電圧が印加されてもよい。高電圧は、レーザ光Ｌ１が増幅領域を通過するタイミングに合わせて、放電電極７５および７６間に印加されてもよい。放電電極７５および７６間に高電圧が印加されると、放電電極７５および７６間に、活性化されたゲイン媒質を含む増幅領域が形成され得る。レーザ光Ｌ１は、この増幅領域を通過する際に増幅され得る。
５．１．２ リング共振器を含む実施形態
つぎに、リング共振器を備えたパワーオシレータを増幅装置７０として用いた場合を例に挙げる。図１８および図１９は、リング共振器を備えたパワーオシレータを用いた増幅装置９０の概略構成を模式的に示す。図１８は増幅装置９０の側視図を、図１９は増幅装置９０の上視図を示す。
図１８および図１９に示されるように、増幅装置９０は、高反射ミラー９１ａ、９１ｂ、９７ａおよび９７ｂと、部分透過ミラーである出力カプラ９１と、チャンバ９２とを備えてもよい。高反射ミラー９１ａ、９１ｂ、９７ａおよび９７ｂと出力カプラ９１とは、チャンバ９２内の増幅領域をレーザ光Ｌ１が複数回通過するマルチパスを形成してもよい。高反射ミラー９７ａおよび９７ｂの代わりに折り返し反射用のプリズムを用いてもよい。出力カプラ９１は、部分反射ミラーであってもよい。チャンバ９２は、高反射ミラー９１ａ、９１ｂ、９７ａおよび９７ｂと出力カプラ９１とが形成する光路上に配置されてもよい。なお、増幅装置９０は、内部を進行するレーザ光Ｌ１のビームプロファイルを調整する不図示のスリットをさらに備えていてもよい。チャンバ９２内には、増幅領域を満たすようにエキシマレーザガスなどのゲイン媒質が封入されていてもよい。ゲイン媒体は、例えばＫｒガス、Ａｒガスのいずれか一方、及びＦ２ガス、Ｎｅガスを含み、更に必要に応じてＸｅガスを含んでいてもよい。
上記の構成において、例えばマスタオシレータシステム１０から出力されたレーザ光Ｌ１は、高反射ミラー４１および高反射ミラー４３を介して増幅装置９０に入射してもよい。入射したレーザ光Ｌ１は、まず、高反射ミラー９１ａおよび９１ｂで反射された後、ウィンドウ９３を介してチャンバ９２内に入射してもよい。チャンバ９２内に入射したレーザ光Ｌ１は、電圧が印加された２つの放電電極９４および９５間の増幅領域を通過する際に増幅されてもよい。増幅後のレーザ光Ｌ１は、ウィンドウ９６を介してチャンバ９２から出射してもよい。出射したレーザ光Ｌ１は、高反射ミラー９７ａおよび９７ｂで反射されることで、ウィンドウ９６を介して再びチャンバ９２内に入射してもよい。その後、レーザ光Ｌ１は、チャンバ９２内の増幅領域を通過する際に再び増幅されてもよい。増幅後のレーザ光Ｌ１は、ウィンドウ９３を介してチャンバ９２から出射してもよい。
このようにチャンバ９２内の増幅領域を２回通過したレーザ光Ｌ１は、その後、その一部が出力カプラ９１を介して出力されてもよい。また、出力カプラ９１で反射された残りのレーザ光は、再度、高反射ミラー９１ｂ、９７ａおよび９７ｂと出力カプラ９１とが形成する光路を進行して増幅されてもよい。
上記の説明は、制限ではなく単なる例示を意図したものである。従って、添付の特許請求の範囲を逸脱することなく本開示の実施形態に変更を加えることができることは、当業者には明らかであろう。
本明細書及び添付の特許請求の範囲全体で使用される用語は、「限定的でない」用語と解釈されるべきである。例えば、「含む」又は「含まれる」という用語は、「含まれるものとして記載されたものに限定されない」と解釈されるべきである。「有する」という用語は、「有するものとして記載されたものに限定されない」と解釈されるべきである。また、本明細書、及び添付の特許請求の範囲に記載される不定冠詞「１つの」は、「少なくとも１つ」又は「１又はそれ以上」を意味すると解釈されるべきである。
１０００ レーザ装置
１０ マスタオシレータシステム
１００ プリズムユニット
２００ グレーティングユニット
３００ ミラーユニット
１１ 出力結合ミラー
２０ 増幅部
２１、２４ ウィンドウ
２２、２５ ウィンドウホルダ
２３ レーザチャンバ
２３１ アノード
２３２ カソード
３０ 狭帯域化モジュール
３１ グレーティング
３２〜３４ プリズム
４０、３４０ 底板
４０ａ、４３ａ ネジ穴
４１、４３、４４、４２１ 架台
４２２ 回転テーブル
４３１ ボルト
４５、４６ ホルダ
４５１ 下部保定部
４５２ 上部保定部
４５３ 側部保定部
４５４ 支柱
４５５、４６２ 天板
４５６ 付勢ピン
４６１ 立板
４６３ バネ
５０、５０Ａ、５０Ｂ、１５０、２５０ 排熱機構
５１、１５１ 排熱板
５１ａ 第１部分
５１ｂ、１５１ｂ 第２部分
５１ｃ 第３部分
２５１ 排熱部
２５１ａ 第１部材
２５１ｂ 第２部材
２５１ｃ 第３部材
５２、５３ ボルト
５２ａ、５３ａ 穴
６０、６０Ａ、１６０、１６０Ａ、２６０ 姿勢調節機構
６１、６１ａ 下部平板部
６２、６２ａ 上部平板部
６２ｂ ネジ穴
６３ 番部
６４、６４Ａ、６５、２６５Ａ、２６５Ｂ 調節ネジ
６４ａ 先端部
６４ｂ つまみ
７０ 増幅装置
１６１、２６１ 下部平板
１６２、２６２ 上部平板
１６３ 軸部材
１６５ バネ
２６３ ボール
３０１、３０２ 高反射ミラー
３１０ ミラーホルダ
３１１ 止めネジ
３１２ 付勢バネ

Claims (12)

  1. 底板と、
    レーザガスを含むチャンバ内で放電励起によりレーザ光を発振出力するように構成されたエキシマレーザと、
    前記底板上に載置される第１部と、該第１部より上に位置する第２部と、該第２部を前記第１部に対して支持する支持部と、該支持部を軸として、又は該支持部を用いて規定される線を軸として、前記第１部に対する前記第２部の傾きを調節可能に構成された第１調節部と、を有する姿勢調節機構と、
    前記姿勢調節機構の前記第２部に載置されることにより前記姿勢調節機構を介して前記底板に設置された架台であって、前記第２部と別体の前記架台と、
    前記架台に搭載され、前記出力されるレーザ光の光路に設置された光学素子と、
    一方側で前記架台に接続され、他方側で前記底板に接続され、前記一方側と前記他方側との間に折曲部分を有する排熱機構と、
    を含み、
    前記折曲部分の延在方向と、前記軸の延在方向とが、実質的に平行である、エキシマレーザ。
  2. 前記排熱機構は、前記折曲部分を有する伝熱部と、該伝熱部の前記一方側で前記架台へ取り付けられる第１の取付部と、前記伝熱部の前記他方側で前記底板へ取り付けられる第２の取付部とを含む、
    請求項１記載のエキシマレーザ。
  3. 前記伝熱部は、前記第１および第２の取付部間の変位に対して変形可能である、請求項２記載のエキシマレーザ。
  4. 前記伝熱部は、網線を含む、請求項２記載のエキシマレーザ。
  5. 前記伝熱部の熱伝導率は、前記架台の熱伝導率より高い、請求項２記載のエキシマレーザ。
  6. 前記支持部は、前記第２部および前記第１部における互いに対向する２つの面に沿って延在するように配置された円筒部材であり、
    前記第１部には、前記円筒部材の下部を受ける第１溝が設けられ、
    前記第２部には、前記円筒部材の上部を受ける第２溝が設けられている、請求項１記載のエキシマレーザ。
  7. 前記姿勢調節機構は、第２調節部をさらに含み、
    前記第１調節部は、前記支持部と前記第２調節部とを用いて規定される線を軸として、前記第１部に対する前記第２部の傾きを調節可能に構成され、
    前記第２調節部は、前記支持部と前記第１調節部とを用いて規定される線を軸として、前記第１部に対する前記第２部の傾きを調節可能に構成された、
    請求項１記載のエキシマレーザ。
  8. 前記支持部は、球状部材であり、
    前記第１部には、前記球状部材の下部を受ける第１溝が設けられ、
    前記第２部には、前記球状部材の上部を受ける第２溝が設けられている、請求項７記載のエキシマレーザ。
  9. 前記光学素子は、プリズム、グレーティングおよびミラーのうち少なくとも１つを含む、請求項１記載のエキシマレーザ。
  10. 前記光学素子として、光共振器の一方の共振器ミラーとして機能するグレーティングを含む、請求項１記載のエキシマレーザ。
  11. 請求項１記載のエキシマレーザと、
    前記エキシマレーザから出力されたレーザ光を増幅する増幅装置と、
    を備えるレーザ装置。
  12. 前記排熱機構は、前記架台と前記底板とにそれぞれボルトで接続された、請求項１記載のエキシマレーザ。
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