JP2005294837A - リソグラフィー装置及びデバイス製造方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】基板をパターン形成するために使用されるリソグラフィー装置において、放射の投影ビームを供給するための照明系と、投影ビームの断面にパターンを与えるための個別制御可能要素のアレイと、露光動作時に基板を支持するための基板テーブルとを具備し、投影系が、パターン形成されたビームを基板の標的部分の上に投影する。制御システムが、前記個別制御可能要素のそれぞれを望ましい状態に設定するための制御信号を送出する。補正装置が、少なくとも1つの他の個別制御可能要素に印加すべき制御信号に基づいて、第1の個別制御可能要素に印加された制御信号を調整する。これは、個別制御可能要素間のクロストークから生じる描画の品質低下を抑制するために実施可能である。
【選択図】図4
Description
本明細書で使用する「個別制御可能要素のアレイ」という用語は、望ましいパターンが基板の標的部分の中に作成され得るように、入射する放射ビームにパターン形成された断面を与えるために使用可能な任意の装置を指すものと広く解釈されるべきである。この関連では、「ライトバルブ」及び「空間光変調器」(SLM)という用語も使用可能である。このようなパターン形成装置の実施例を以下に論ずる。
図1は、本発明の一実施例によるリソグラフィー投影装置100を模式的に示す。装置100は、少なくとも1つの放射系102(例えば、EX、IL(例えば、AM、IN、CO等)等)、個別制御可能要素のアレイPPM104、物体テーブルWT106(例えば、基板テーブル)、及び投影系(「レンズ」)PL108を具備する。
図2は、本発明の一実施例による単一の個別制御可能要素を示す模式的な断面図である。この個別制御可能要素は、ヒンジ3回りに回動自在のミラー1を備える。この図には、ヒンジ3と、ミラー1を支持するアレイ基板6との間の機械的連結が示されていない。ミラー1の駆動は、ヒンジ3の中心を通って本図の中へと延びるヒンジ3の軸線回りの回転を誘発させることによって実現される。この駆動は、アレイ基板6に装着された制御信号受信ユニット2で受信された制御信号に応答してアクチュエータ4a及び4bの一方又は両方によって誘発可能である。アクチュエータ4a及び4bは、ミラー1に対して斥力又は引力(例えば、静電性、磁性、電磁性等)を印加することが可能であり、これらの力はアクチュエータにヒンジ3の軸線回りのトルクを印加させる。アクチュエータ4a及び4bによって印加されたトルクは、ミラー1が、アレイ基板6に対して実質的に平行に配向される中立状態に戻ろうとする復元力に対抗して作用する。本明細書を読めば当業者には明らかとなるように、ミラー1は、一般にアクチュエータ4a及び4bによって印加される力の大きさの違いによって、中立配向とは異なる角度に対応する複数の様々な状態に駆動され得る。
図5は、本発明の一実施例による個別制御可能要素の配置の上面図を示す。本実施例では、個別制御可能要素は5×5格子であり得る。それぞれの要素28は、回動角がアクチュエータ26によって制御されるように、個別にヒンジ24回りに回動自在のミラーから成る。ヒンジ24の回動軸は、ミラー8、10、及び12の辺に対して対角線状に配向されている。ミラー8、10、及び12に対するヒンジ24の回動軸の配向はいずれも、ミラーの辺に対して平行であることが含まれる(例えば、ミラーのこのような辺回りに又は中心線回りにヒンジ留めされる)ことを理解されたい。隣接する個別制御可能要素に対するアクチュエータ26の影響のためにクロストークが発生する場合(アクチュエータ26aとミラー28a、28b、及び28cとの間など)、第1の近似では、考慮すべき最も重要な個別制御可能要素は最隣接要素だけである。
補正を実施するために、通常は、補正装置16が個別制御可能要素アレイの個別制御可能要素間におけるクロストークの作用様態を事前に予測できることが必要である。これを実現できる1つの方法は、較正測定を実行することによるものである。例えば、名目上平坦な個別制御可能要素のアレイから始めて、既知の制御信号によって第1の個別制御可能要素を既知の状態まで駆動することができる。次いで、このような駆動が周囲の個別制御可能要素に対して引き起こす乱れを記録する。この実験は、第1の個別制御可能要素の幾つかの異なる駆動状態に関して反復可能である。このようにして、それぞれの個別制御可能要素が周囲の要素に影響を及ぼす態様に関するヒストグラム又は同様のものを作成することができる。個別制御可能要素アレイに印加すべき制御信号を調整するとき、補正は、個別制御可能要素アレイに印加すべく意図した制御信号に対して、たたみこみ型動作を適用することができる。印加すべき制御信号は、制御信号値のマトリックスから成り得る。単一の制御信号値が、個別制御可能要素アレイの個別制御可能要素に対応する各アドレスに割当て可能である。このような特定のアドレスに位置する個別制御可能要素がその隣接要素に対して及ぼす、上述の較正測定によって求めた効果を補正するために、補正装置は、それぞれの個別制御可能要素のアドレスにおいて補正関数を適用する役割を果たし得る。
図8は、本発明の一実施例による配置を示す。図8の実施例は、図4に示したものと同様である。図8の実施例では、制御信号は、それが制御システム816から伝送された後で補正される。本実施例によれば、制御システム816は、あたかも個別制御可能要素808、810、及び812がクロストークの影響を受けていないかのように動作するように設計かつ配置可能である。これは、補正部材840を補正装置の一部として設けることによって実現される。個別制御可能要素アレイのそれぞれの個別制御可能要素808、810、及び812は、それに関連する1つの補正部材840を有する。それぞれの補正部材840は、それが制御システム816から受け取る制御信号に対して補正を実施するように設計されている。それぞれの個別制御可能要素808、810、及び/又は812に対して実施すべき補正の大きさ及び方向は、周囲の個別制御可能要素808、810、及び812のそれぞれの駆動状態に依存する。それぞれの補正部材840は、それ自体の駆動状態に関する情報を個別制御可能要素の選択された集団に伝送するように配置可能である。
典型的な一実施例では、必要な強度(必要な露光量のパターンを基板Wの上に作成するための)が、個別制御可能要素アレイのそれぞれの要素ごとに及びこのアレイを照明するレーザのそれぞれのパルスごとに計算される。これらの必要な強度のそれぞれを反射率設定点に変換し、かつアレイの物理的特性に基づいて当該要素に関する対応する駆動電圧(例えば、ミラー設定点電圧)に変換するためのハードウェアを設けることができる。このような駆動電圧のストリームは、個別制御可能要素のアレイに対する制御信号であると説明可能である。
以上に本発明の様々な実施例を説明したが、それらは例示としてのみ提示されており、限定するものではないことを理解されたい。本発明の趣旨及び範囲から逸脱することなく、それらの形態及び細部に様々な変更がなされ得ることが当業者には明らかであろう。したがって、本発明の間口及び範囲は、上述の典型的な実施例のいずれによっても限定されるものではなく、添付の特許請求の範囲及びそれらの均等物のみによって画定されるべきものである。
Claims (14)
- 放射の投影ビームを供給する照明系と、
前記投影ビームにパターンを与える個別制御可能要素のアレイと、
露光動作時に基板を支持する基板テーブルと、
前記パターン形成されたビームを前記基板の標的部分の上に投影する投影系と、
前記個別制御可能要素のそれぞれを所与の状態に設定するための制御信号を送出する制御システムと、
少なくとも1つの他の個別制御可能要素に印加された前記制御信号に基づいて、前記個別制御可能要素アレイ中の第1の個別制御可能要素に印加された前記制御信号を調整する補正装置と
を備えるリソグラフィー装置。 - 前記補正装置は、前記第1の個別制御可能要素の最隣接要素である個別制御可能要素の集団に印加された前記制御信号に基づいて、前記第1の個別制御可能要素に印加された前記制御信号を調整する、請求項1に記載のリソグラフィー装置。
- 前記補正装置は、前記第1の個別制御可能要素の次に最も隣接する要素である個別制御可能要素の集団に印加された前記制御信号に基づいて、前記第1の個別制御可能要素に印加された前記制御信号を調整する、請求項1に記載のリソグラフィー装置。
- 前記補正装置は、前記第1の個別制御可能要素に機械的に連結された個別制御可能要素の集団に印加された前記制御信号に基づいて、前記第1の個別制御可能要素に印加された前記制御信号を調整するように配置されている、請求項1に記載のリソグラフィー装置。
- 前記補正装置が、少なくとも1つの他の個別制御可能要素に印加された信号によって引き起こされた前記第1の制御可能要素に対する予測効果を表す補正データを格納するメモリ・モジュールを備えている、請求項1に記載のリソグラフィー装置。
- 前記補正装置は、少なくとも1つの他の個別制御可能要素に印加された前記制御信号と、前記メモリ・モジュールによって提供された前記補正データとに基づいて一定量だけ調整される前記第1の個別制御可能要素に送出される制御信号を供給するための前記制御システムに結合されている、請求項5に記載のリソグラフィー装置。
- 前記補正データは、次のような力、すなわち、静電力、静磁気力、及び機械力の1つ又は複数の力を考慮している、請求項5に記載のリソグラフィー装置。
- 前記補正データに対する少なくとも1つの寄与が、少なくとも1つの他の個別制御可能要素に印加された制御信号によって引き起こされた前記第1の個別制御可能要素に対する効果の測定から入手されている、請求項5に記載のリソグラフィー装置。
- 前記補正データに対する少なくとも1つの寄与が、少なくとも1つの他の個別制御可能要素に印加された制御信号によって引き起こされた前記第1の個別制御可能要素に対する予測効果の計算から入手され、前記計算は前記個別制御可能要素のアレイの幾何学的配置に基づいている、請求項5に記載のリソグラフィー装置。
- 前記補正装置が、前記第1の個別制御可能要素に関連付けられた補正部材を備え、前記補正部材は、前記制御システムから前記制御信号を受け取り、少なくとも1つの他の個別制御可能要素に印加すべき前記制御信号の所定の関数として、前記受け取った信号の水準を調整し、及び前記調整した制御信号を前記第1の個別制御可能要素に伝送するように配置されている、請求項1に記載のリソグラフィー装置。
- 前記補正装置は前記個別制御可能要素アレイの支持基板の上に位置している、請求項1に記載のリソグラフィー装置。
- リソグラフィー装置中の個別制御可能要素のアレイに対する較正方法であって、既知の制御信号が第1の個別制御可能要素に印加され、かつ少なくとも1つの他の個別制御可能要素の得られる乱れが記録される較正方法。
- 前記較正方法は、異なる大きさの既知の制御信号に対して反復して適用される、請求項12に記載の較正方法。
- 投影ビームの断面にパターンを与えるために個別制御可能要素のアレイを使用する工程と、
前記放射のパターンが形成されたビームを基板の標的部分の上に投影する工程と、
複数の前記個別制御可能要素のそれぞれに制御信号を供給し、前記複数の個別制御可能要素のそれぞれを所与の状態に設定する工程と、
少なくとも1つの他の個別制御可能要素に印加すべき前記制御信号に基づいて、前記複数の個別制御可能要素の第1の1つの要素に印加された前記制御信号を調整する工程と
を含む製造方法。
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