JP5209579B2 - リソグラフィ装置、パターン形成アレイ、及びデバイス製造方法 - Google Patents
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Description
本明細書で用いられる用語「コントラスト機器」「パターン形成装置」「パターン形成アレイ」或いは「個別制御可能な要素のアレイ」は、基板の標的部分にパターンを生成するような放射ビームの断面を調節するのに使用されてよいいかなる機器も指すものと広く解釈されるべきである。放射ビームに付与されるパターンは、例えば、パターンが位相シフト・フィーチャ又はいわゆるアシスト・フィーチャを含む場合、基板の標的部分内の所望のパターンに正確に一致しないことがあることに留意されたい。同様に、場合により、基板上に生成されるパターンが、どの時点においても個別制御可能な要素のアレイ上に形成されるパターンに一致しないことがある。これは、個別制御可能な要素のアレイ及び/又は基板の相対的位置上のパターンが変化する際に、所与の期間又は所与の数の露光を通して、基板の各部分上に形成されるパターンが積み上げられる構成の場合である。一般に、基板の標的部分上に生成されるパターンは、集積回路などの標的部分内に作製されるデバイス中の特定の機能層に一致することになる。用語「光弁」「空間光変調器(SLM)」も、やはり、このような文脈において使用される。
これは粘弾性の(例えば、弾性特性と同時に粘性を有する)制御層及び反射面を有するアドレス可能なマトリクス面を含むことができる。このような装置の背後の基本原理は、例えば、反射面のアドレス指定された領域が回折光として入射光を反射するのに対し、アドレス指定されない領域は非回折光として入射光を反射するというものである。適切な空間フィルタを用いることにより、非回折光は、反射ビームから遮られ、回折光だけを残して基板に到達する。このようにして、ビームがアドレス指定可能なマトリクス面のアドレス・パターンによってパターン形成される。
本発明の様々な実施例が上述されたが、例としてのみ提示されたものであり、限定ではないと理解されたい。本発明の趣旨と範囲を逸脱せずに形状及び細部にわたる様々な変更例がなされてよいことが当業者には明らかであろう。したがって、本発明の範囲はいかなる前述の例示的実施例によっても限定されず、添付の特許請求の範囲及びその等価物によってのみ限定されるべきである。
Claims (20)
- 放射ビームを調節する照明システムと、
前記放射ビームを調節する個別制御可能な要素と、個別制御可能な要素のカッピングを補償するための電極と、を含むパターン形成アレイと、
基板の標的部分の上に前記調節されたビームを投影する投影システムとを備え、
前記電極は、前記個別制御可能な要素を引き寄せるために使用されるリソグラフィ装置。 - 前記個別制御可能な要素のそれぞれの直線的位置と傾斜を同時に調整する調整機器をさらに備え、
前記個別制御可能な要素がそれぞれ、その面内に位置するヒンジ・ラインを含み、前記ヒンジ・ラインは前記個別制御可能な要素を2つの部分に分割し、
前記パターン形成アレイがさらに2つの電極を含み、各電極は少なくとも3つの値の範囲にわたって前記個別制御可能な要素の前記傾斜を調整するように配置され、且つ各電極は前記個別制御可能な要素の異なる部分の向かい側に配置されている、請求項1に記載のリソグラフィ装置。 - 前記個別制御可能な要素の前記直線的位置が、前記個別制御可能な要素のアレイが置かれる面に垂直な方向に調整可能である、請求項2に記載のリソグラフィ装置。
- 前記調整機器が、少なくとも前記放射ビームの波長λの直線的位置調整範囲を有する、請求項2に記載のリソグラフィ装置。
- 前記調整機器が、少なくとも3λ/2Lラジアンの角度の傾斜調整範囲を有し、ここでLは前記個別制御可能な要素の長さであり、λは前記放射ビームの波長である、請求項2に記載のリソグラフィ装置。
- 前記調整機器が、同時に、前記放射ビームの波長λの範囲に直線的に直線的位置をも調整し、且つλ/Lラジアンの角度範囲にわたって前記傾斜を調整する、請求項2に記載のリソグラフィ装置。
- 単一の制御信号が前記調整機器を制御し、それによって前記個別制御可能な要素のそれぞれによって生成された強度の範囲が最大化される、請求項2に記載のリソグラフィ装置。
- 前記2つの電極の両方が、前記個別制御可能な要素の同じ面の向かい側に位置する、請求項2に記載のリソグラフィ装置。
- 前記2つの電極を用いて前記個別制御可能な要素の前記直線的位置を変えることによって前記個別制御可能な要素のそれぞれの非平面の程度を補償するために前記調整機器に対して加えられる補償値を記憶するメモリをさらに含む、請求項2に記載のリソグラフィ装置。
- 少なくとも1つの個別制御可能な要素がその平面内にヒンジ・ラインを含み、前記個別制御可能な要素の一部分は前記ヒンジ・ラインに沿って取り除かれている、請求項1に記載のリソグラフィ装置。
- 前記個別制御可能な要素が、その平面内にヒンジを含み、
前記電極は、前記ヒンジの位置を制御する、請求項1に記載のリソグラフィ装置。 - 2つの電極をさらに含み、前記電極の1つが、少なくとも3つの値の範囲にわたる前記個別制御可能な要素の傾斜を調整するために配置され、各電極は前記個別制御可能な要素の異なる部分の向かい側に配置されている、請求項1に記載のリソグラフィ装置。
- 放射ビームを調整する個別制御可能な要素と、
前記個別制御可能な要素を引き寄せることにより、個別制御可能な要素のカッピングを補償する電極と、を含む、パターン形成アレイ。 - 前記個別制御可能な要素がそれぞれその面内にヒンジ・ラインを含み、前記ヒンジ・ラインは前記個別制御可能な要素を2つの部分に分割し、
前記パターン形成アレイは、さらに2つの電極を含み、前記2つの電極のそれぞれは少なくとも3つの値の範囲にわたる前記個別制御可能な要素の傾斜を調整し、前記個別制御可能な要素の異なる部分の向かい側に配置されている、請求項13に記載のパターン形成アレイ。 - 少なくとも1つの前記個別制御可能な要素がその面内にヒンジ・ラインを含み、前記個別制御可能な要素の一部分は前記ヒンジ・ラインに沿って取り除かれている、請求項13に記載のパターン形成アレイ。
- 個別制御可能な要素のアレイを用いて放射ビームを調整することと、
基板の上に前記調整された放射ビームを投影することと、
前記個別制御可能な要素を電極に引き寄せることにより、前記個別制御可能な要素のカッピングを補償することと、を含む、デバイス製造方法。 - 前記個別制御可能な要素のそれぞれの位置と傾斜を2つの電極を用いて調整することをさらに含み、前記2つの電極のそれぞれはある値の範囲にわたって動かされる、請求項16に記載の方法。
- 放射ビームを調節する照明システムと、
前記放射ビームを調節する個別制御可能な要素と、個別制御可能な要素の直線的位置及び/または傾斜を調整するための電極と、を含むパターン形成アレイと、
前記個別制御可能な要素を制御するための制御装置と、
基板の標的部分の上に前記調節されたビームを投影する投影システムとを備え、
前記制御装置は、前記電極を用いて前記個別制御可能な要素の直線的位置及び/または傾斜を変えることによって前記個別制御可能な要素の非平面の程度を補償するための補償値を記憶するメモリを備える、リソグラフィ装置。 - 放射ビームを調整する個別制御可能な要素と、
前記個別制御可能な要素の直線的位置及び/または傾斜を調整するための電極と、を含み、
前記個別制御可能な要素の直線的位置及び/または傾斜を変えることによって前記個別制御可能な要素の非平面の程度を補償するための補償値が前記電極に適用される、パターン形成アレイ。 - 個別制御可能な要素のアレイを用いて放射ビームを調整することと、
基板の上に前記調整された放射ビームを投影することと、
前記個別制御可能な要素の直線的位置及び/または傾斜を調整するための電極を用いて前記個別制御可能な要素の直線的位置及び/または傾斜を変えることによって前記個別制御可能な要素の非平面の程度を補償するための補償値を適用することと、を含む、デバイス製造方法。
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