KR100637885B1 - 리소그래피 장치 및 디바이스 제조방법 - Google Patents
리소그래피 장치 및 디바이스 제조방법Info
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Abstract
Description
Claims (13)
- 리소그래피 장치에 있어서,방사선 빔을 공급하는 조명시스템;상기 빔을 복수의 서브-빔들로 나누는 굴절격자;상기 빔을 패터닝하기 위하여, 상기 복수의 방사선 서브-빔들이 개별적으로 제어가능한 요소들의 어레이내의 연관된 상기 개별적으로 제어가능한 요소들상으로 지향되도록 구성되는 상기 개별적으로 제어가능한 요소들의 어레이; 및상기 패터닝된 빔을 기판의 타겟부상으로 투영하는 투영시스템을 포함하는 것을 특징으로 하는 리소그래피 장치.
- 제1항에 있어서,상기 굴절격자는 세장형 렌즈들의 제1 및 제2어레이를 포함하고,상기 빔은 상기 세장형 렌즈들의 제1 및 제2어레이를 연속적으로 통과하고;상기 렌즈 각각은 그것의 세장형 축선에 수직한 일정 단면을 가지고;상기 세장형 렌즈들의 제1어레이의 렌즈들은 그들의 세장형 축선들이 상호 평행하도록 배치되고;상기 세장형 렌즈들의 제2어레이의 렌즈들은 그들의 세장형 축선들이 상기 세장형 렌즈들의 제1어레이의 렌즈들에 수직하도록 배치되는 것을 특징으로 하는 리소그래피 장치.
- 제2항에 있어서,상기 세장형 렌즈들 중 1이상의 상기 단면은 실질적으로 적어도 일부가 원형으로 된 부분을 포함하는 것을 특징으로 하는 리소그래피 장치.
- 제2항에 있어서,상기 세장형 렌즈들의 제1 및 제2어레이들 중 1이상에서의 상기 세장형 렌즈들의 단면은 실질적으로 동일한 것을 특징으로 하는 리소그래피 장치.
- 제2항에 있어서,상기 방사선의 서브-빔들의 세기 분포는:세장형 렌즈들의 제1 또는 제2어레이 중 1이상에서의 상기 렌즈들의 형상;상기 세장형 렌즈들의 제1 또는 제2어레이의 1이상의 폭;상기 세장형 렌즈들의 제1 및 제2어레이 중 1이상에서의 상기 세장형 렌즈들간의 간격;상기 세장형 렌즈들의 제1 및 제2어레이 중 1이상을 가로질러 변화하는 상기 렌즈들의 단면;상기 회절격자상에 입사되는 방사선 빔의 방사선 세기 프로파일; 및상기 회절격자와 상기 개별적으로 제어가능한 요소들의 어레이 사이에 배치되는 1이상의 감쇠기들 중 1이상에 의해 제공되는 것을 특징으로 하는 리소그래피 장치.
- 제1항에 있어서,각각의 서브-빔은 상기 1이상의 개별적으로 제어가능한 요소들상에 포커싱되는 것을 특징으로 하는 리소그래피 장치.
- 제1항에 있어서,단일 렌즈들 또는 렌즈들의 그룹은, 상기 개별적으로 제어가능한 요소들의 어레이상에 상기 서브-빔들 모두를 포커싱하는데 사용되는 것을 특징으로 하는 리소그래피 장치.
- 제7항에 있어서,상기 개별적으로 제어가능한 요소들의 어레이로부터의 방사선을 상기 기판상의 복수의 스폿들상으로 포커싱하는 포커싱 요소들의 어레이를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 리소그래피 장치.
- 제8항에 있어서,상기 단일 렌즈들 또는 렌즈들의 그룹은 상기 개별적으로 제어가능한 요소들의 어레이로부터의 방사선을 상기 포커싱 요소들의 어레이상으로 더욱 지향시키는 것을 특징으로 하는 리소그래피 장치.
- 제1항에 있어서,상기 조명시스템은 적어도 추가 방사선 빔을 제공하고,상기 빔 및 상기 적어도 추가 방사선 빔은 상기 굴절격자상으로 지향되고 각각 서브-빔들로 나누어지는 것을 특징으로 하는 리소그래피 장치.
- 제10항에 있어서,각각의 빔으로부터 유도된 상기 서브-빔들 중 1이상이 일치하도록 상기 빔 및 상기 적어도 추가 방사선 빔은 서로에 대해 여하한의 각도로 상기 굴절격자상으로 지향되는 것을 특징으로 하는 리소그래피 장치.
- 제11항에 있어서,조명시스템에 의해 제공되는 상기 빔 및 상기 적어도 추가 방사선 빔은 서로 평행하고 렌즈들 또는 렌즈들의 그룹에 의해 상대적인 각도로 상기 굴절격자상으로 지향되는 것을 특징으로 하는 리소그래피 장치.
- 디바이스 제조방법에 있어서,굴절격자를 사용하여 방사선 빔을 복수의 서브-빔으로 나누는 단계;개별적으로 제어가능한 요소들의 어레이에서 연관된 개별적으로 제어가능한 요소들상으로 상기 복수의 방사선 서브-빔을 지향시키는 단계;상기 개별적으로 제어가능한 요소들의 어레이를 사용하여 상기 복수의 서브-빔들 각각을 패터닝하는 단계; 및상기 패터닝된 빔을 상기 기판의 타겟부상으로 투영하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 디바이스 제조방법.
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