JP4860674B2 - リソグラフィ装置、個別制御可能要素アレイ及びデバイス製造方法 - Google Patents
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Description
プログラマブル・ミラー・アレイ。これは、粘弾性制御層及び反射表面を有する行列アドレス指定可能な表面を含むことができる。かかる装置の背後にある基本原理は、(例えば)反射表面のアドレス指定された区域が、入射光を回折光として反射するが、アドレス指定されない区域は入射光を非回折光として反射することである。適切な空間フィルタを使用して、反射されたビームから前記非回折光をフィルタで除去し、その回折光だけを残して基板に到達するようにすることができる。このようにして、ビームは、行列アドレス指定可能な表面のアドレス指定パターンに従ってパターン形成されたものになる。代わりに、フィルタでは、その回折光をフィルタ除去し、その非回折光を残して基板に到達するようにすることもできることが理解されよう。また回折光学MEMSデバイスのアレイを対応するようにして使用することもできる。各回折光学MEMSデバイスは、互いに相対的に変形して入射光を回折光として反射する格子を形成することができる複数の反射型リボンから構成されている。プログラマブル・ミラー・アレイのさらなる代替実施例は、小さなミラーの行列配列を使用しており、適切な局在化された電界を印加し、又は圧電作動手段を使用することによって1つの軸線の周りにこの各ミラーを個々に傾けることができる。この場合にも、これらのミラーは、アドレス指定されたミラーがアドレス指定されていないミラーとは異なる方向へ入射放射線ビームを反射するように行列アドレス指定することが可能であり、このようにして、反射光は、行列アドレス指定可能なミラーのアドレス指定パターンに従ってパターン形成される。このために必要な行列アドレス指定は、適切な電子手段を使用して実施することができる。以上で説明した両状況では、個別制御可能要素アレイが、1つ又は複数のプログラマブル・ミラー・アレイを含むことが可能である。ここに言及したようなミラー・アレイに関するより多くの情報については、例えば、参照により本明細書中に援用されている米国特許第5,296,891号及び米国特許第5,523,193号、並びにPCT特許出願WO98/38597号及びWO98/33096号から収集することができる。
プログラマブルLCDアレイ。かかる構造の一実施例は、参照により本明細書中に援用されている米国特許第5,229,872号中に提供されている。
放射線の投影ビームを条件付ける照明システムと、
その断面においてパターンを前記投影ビームに付与するように働く個別制御可能要素アレイと、
基板を支持する基板テーブルと、
前記基板の標的部分上に前記パターン形成されたビームを投影する投影システムと
を備え、
前記各個別制御可能要素が3層の誘電体層のスタックを備え、前記3層のうちの少なくとも中間の1層が固体電子光学材料から形成され、それによって、制御信号の付与時、前記要素が第1の状態と第2の状態との間を選択的に変更され、前記第1の状態では、前記3層の誘電体層のうちの中間の1層と他の2層の間における1つの偏光状態についての屈折率の違いがより大きく、前記第2の状態では、前記1つの偏光状態についての前記屈折率の違いがより小さく、前記電子光学材料層の少なくとも1つの隣接層との境界においてそれぞれ透過され反射される放射線の比率が前記2つの状態で異なる、リソグラフィ装置が提供される。
その断面においてパターンを放射線ビームに付与するように構成された個別制御可能要素アレイにおいて、個別制御可能要素の各々が3層の誘電体層のスタックを備え、前記3層のうちの少なくとも中間の1層が固体電子光学材料から形成され、それによって、制御信号の付与時、前記要素が第1の状態と第2の状態との間を選択的に変更され、前記第1の状態では、前記3層の誘電体層のうちの中間の1層と他の2層の間における1つの偏光状態についての屈折率の違いがより大きく、前記第2の状態では、前記1つの偏光状態についての前記屈折率の違いがより小さく、前記電子光学材料層の少なくとも1つの隣接層との境界においてそれぞれ透過され反射される放射線の比率が前記2つの状態で異なる、個別制御可能要素アレイが提供される。
基板を提供する工程と、
照明システムを使用して放射線の投影ビームを条件付ける工程と、
その断面においてパターンを前記投影ビームに付与する個別制御可能要素アレイを使用する工程と、
この基板の標的部分上にパターン形成された放射線ビームを投影する工程と
を含み、
前記個別制御可能要素の各々が3層の誘電体層のスタックを備え、前記3層のうちの少なくとも中間の1層が固体電子光学材料から形成され、それによって、制御信号の付与時、前記要素が第1の状態と第2の状態との間を選択的に変更され、前記第1の状態では、前記3層の誘電体層のうちの中間の1層と他の2層の間における1つの偏光状態についての屈折率の違いがより大きく、前記第2の状態では、前記1つの偏光状態についての前記屈折率の違いがより小さく、前記電子光学材料層の少なくとも1つの隣接層との境界においてそれぞれ透過され反射される放射線の比率が前記2つの状態で異なる、デバイス製造方法が提供される。
−放射線(例えば、UV放射線)の投影ビームPBを提供するための照明システム(照明装置)ILと、
−この投影ビームに対してパターンを適用するための、一般的にその位置がアイテムPLに対して固定されることになるが、代わりにアイテムPLに対して正確に位置決めする位置決め手段に接続することができる個別制御可能要素アレイPPM(例えば、プログラマブル・ミラー・アレイ)と、
−アイテムPLに対して基板を正確に位置決めする位置決め手段PWに接続され、基板(例えば、レジスト・コートされたウェハ)Wを支持するための基板テーブル(例えば、ウェハ・テーブル)WTと、
−基板Wの(例えば、1つ又は複数のダイを含む)標的部分C上に個別制御可能要素アレイPPMによって投影ビームPBに付与されるパターンを投影するための投影システム(「レンズ」)PLであって、この投影システムが基板上にこの個別制御可能要素アレイを投影することができ、或いは、この投影システムが、この個別制御可能要素アレイの要素がシャッタとしての役割を果たす対象の2次線源を投影することができ、この投影システムが、例えば2次線源を形成しその基板上にマイクロスポットを投影するために(MLAとして知られている)マイクロ・レンズ・アレイやフレネル・レンズ・アレイなどの集束要素アレイを備えることもできる投影システムPLとを備える。
1.ステップ・モード:個別制御可能要素アレイは、この投影ビームに対して全体パターンを付与し、この全体パターンは、一括して(すなわち、1度の静的露光により)標的部分Cに投影される。次いでこの基板テーブルWTがX方向及び/又はY方向にシフトされ、その結果、異なる標的部分Cを露光することができる。ステップ・モードにおいては、露光フィールドの最大サイズにより、1度の静的露光において投影される標的部分Cのサイズが制限される。
Claims (10)
- 放射線の投影ビームを条件付ける照明システムと、
その断面においてパターンを前記投影ビームに付与するように働く個別制御可能要素アレイと、
基板を支持する基板テーブルと、
前記基板の標的部分上に前記パターン形成されたビームを投影する投影システムと
を備え、
前記各個別制御可能要素が3層の誘電体層のスタックを備え、前記3層のうちの少なくとも中間の1層が固体電子光学材料から形成された第1の電子光学材料層とされ、それによって、制御信号の付与時、前記要素が第1の状態と第2の状態との間を選択的に変更され、前記第1の状態では、前記3層の誘電体層のうちの中間の1層と他の2層の間における1つの偏光状態についての屈折率の違いがより大きく、前記第2の状態では、前記1つの偏光状態についての前記屈折率の違いがより小さく、前記第1の電子光学材料層の少なくとも1つの隣接層との境界においてそれぞれ透過され反射される放射線の比率が前記2つの状態で異なり、
前記スタックが、複数の追加の誘電体材料層を含み、前記追加層のうちの少なくとも1層が電子光学材料から形成された第2の電子光学材料層とされ、それによって、前記第2の電子光学材料層に制御信号を付与することによって、1つの偏光状態についての前記追加層のうちの少なくとも1層の屈折率が変更されえ、
前記第1および第2の電子光学材料層が、これらの層の異常軸が相互にほぼ垂直となるように配置されている、リソグラフィ装置。 - 前記スタックの交互の層が固定屈折率を有する材料から形成され、その残りが電子光学材料から形成され、それによって、前記層にそれぞれの制御信号を付与することにより、所与の各偏光状態についての各電子光学材料層の前記屈折率が変更されうる、請求項1に記載のリソグラフィ装置。
- 前記スタック内の各電子光学材料層に独立して制御可能な制御電圧を印加するように構成されている電極をさらに備えている、請求項1に記載のリソグラフィ装置。
- 前記スタック内の2層以上の電子光学材料層に共通の制御電圧を印加するように構成されている電極をさらに備えている、請求項1に記載のリソグラフィ装置。
- 各要素が、第1の方向に面偏光された放射線の伝播と、前記第1の方向にほぼ直交する第2の方向に面偏光された放射線の伝播とを独立して制御するように構成されている、請求項1に記載のリソグラフィ装置。
- 前記照明システムが、2次線源プレーンを有し、前記2次線源プレーン内で4つのポールを有する投影ビームを生成するようになっている、請求項5に記載のリソグラフィ装置。
- 前記4つのポールが対になって配置され、第1のポール対の中心を結合する直線が第2のポール対の中心を結合する直線に直交しており、前記直線が、実質上前記照明システムの光学軸において交差している、請求項6に記載のリソグラフィ装置。
- 前記第1のポール対の前記放射線が前記第1の方向に面偏光され、前記第2のポール対の前記放射線が前記第2の方向に面偏光されている、請求項7に記載のリソグラフィ装置。
- その断面においてパターンを放射線ビームに付与するように構成された個別制御可能要素アレイにおいて、個別制御可能要素の各々が3層の誘電体層のスタックを備え、前記3層のうちの少なくとも中間の1層が固体電子光学材料から形成された第1の電子光学材料層とされ、それによって、制御信号の付与時、前記要素が第1の状態と第2の状態との間を選択的に変更され、前記第1の状態では、前記3層の誘電体層のうちの中間の1層と他の2層の間における1つの偏光状態についての屈折率の違いがより大きく、前記第2の状態では、前記1つの偏光状態についての前記屈折率の違いがより小さく、前記第1の電子光学材料層の少なくとも1つの隣接層との境界においてそれぞれ透過され反射される放射線の比率が前記2つの状態で異なり、
前記スタックが、複数の追加の誘電体材料層を含み、前記追加層のうちの少なくとも1層が電子光学材料から形成された第2の電子光学材料層とされ、それによって、前記第2の電子光学材料層に制御信号を付与することによって、1つの偏光状態についての前記追加層のうちの少なくとも1層の屈折率が変更されえ、
前記第1および第2の電子光学材料層が、これらの層の異常軸が相互にほぼ垂直となるように配置されている、個別制御可能要素アレイ。 - 基板を提供する工程と、
照明システムを使用して放射線の投影ビームを条件付ける工程と、
その断面においてパターンを前記投影ビームに付与する個別制御可能要素アレイを使用する工程と、
この基板の標的部分上にパターン形成された放射線ビームを投影する工程と
を含み、
前記個別制御可能要素の各々が3層の誘電体層のスタックを備え、前記3層のうちの少なくとも中間の1層が固体電子光学材料から形成された第1の電子光学材料層とされ、それによって、制御信号の付与時、前記要素が第1の状態と第2の状態との間を選択的に変更され、前記第1の状態では、前記3層の誘電体層のうちの中間の1層と他の2層の間における1つの偏光状態についての屈折率の違いがより大きく、前記第2の状態では、前記1つの偏光状態についての前記屈折率の違いがより小さく、前記第1の電子光学材料層の少なくとも1つの隣接層との境界においてそれぞれ透過され反射される放射線の比率が前記2つの状態で異なり、
前記スタックが、複数の追加の誘電体材料層を含み、前記追加層のうちの少なくとも1層が電子光学材料から形成された第2の電子光学材料層とされ、それによって、前記第2の電子光学材料層に制御信号を付与することによって、1つの偏光状態についての前記追加層のうちの少なくとも1層の屈折率が変更されえ、
前記第1および第2の電子光学材料層が、これらの層の異常軸が相互にほぼ垂直となるように配置されている、デバイス製造方法。
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