JPH11211958A - 光学装置、投影露光装置およびデバイス製造方法 - Google Patents
光学装置、投影露光装置およびデバイス製造方法Info
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- JPH11211958A JPH11211958A JP10016865A JP1686598A JPH11211958A JP H11211958 A JPH11211958 A JP H11211958A JP 10016865 A JP10016865 A JP 10016865A JP 1686598 A JP1686598 A JP 1686598A JP H11211958 A JPH11211958 A JP H11211958A
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- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/708—Construction of apparatus, e.g. environment aspects, hygiene aspects or materials
- G03F7/70808—Construction details, e.g. housing, load-lock, seals or windows for passing light in or out of apparatus
- G03F7/70825—Mounting of individual elements, e.g. mounts, holders or supports
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- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B7/00—Mountings, adjusting means, or light-tight connections, for optical elements
- G02B7/02—Mountings, adjusting means, or light-tight connections, for optical elements for lenses
- G02B7/026—Mountings, adjusting means, or light-tight connections, for optical elements for lenses using retaining rings or springs
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- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
- Mounting And Adjusting Of Optical Elements (AREA)
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 レンズやミラー等の光学部材を歪ませること
無く、且つ精確な位置関係で確実に保持することができ
る手法の提供。 【解決手段】 光学部材であるレンズと保持部材である
セルの間に、流体としての性質と個体としての性質を併
せ持った粉体を充填して、これを介してセルに対してレ
ンズを位置決めして支持固定する。
無く、且つ精確な位置関係で確実に保持することができ
る手法の提供。 【解決手段】 光学部材であるレンズと保持部材である
セルの間に、流体としての性質と個体としての性質を併
せ持った粉体を充填して、これを介してセルに対してレ
ンズを位置決めして支持固定する。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は光学部材などの部材
を精密に保持する方法に関し、たとえば半導体露光装置
に用いられる投影レンズの保持に好適なものである。
を精密に保持する方法に関し、たとえば半導体露光装置
に用いられる投影レンズの保持に好適なものである。
【０００２】
【従来の技術】半導体露光装置の投影レンズには高解像
性能が要求されため、レンズ保持にも高い保持精度が必
要である。投影レンズは高解像力を得るために大きな開
口数NA（Numerical Aperture）を持っている。さらに
１回の露光でデバイスの１チップ〜数チップ分のパター
ンを露光転写するために、ある程度大きな画面サイズを
有している。さらに色収差、ディストーション、像面湾
曲、非点収差、コマ収差等の収差を極限まで小さくする
ために２０〜３０枚の単レンズの組み合わせで構成され
ている。
性能が要求されため、レンズ保持にも高い保持精度が必
要である。投影レンズは高解像力を得るために大きな開
口数NA（Numerical Aperture）を持っている。さらに
１回の露光でデバイスの１チップ〜数チップ分のパター
ンを露光転写するために、ある程度大きな画面サイズを
有している。さらに色収差、ディストーション、像面湾
曲、非点収差、コマ収差等の収差を極限まで小さくする
ために２０〜３０枚の単レンズの組み合わせで構成され
ている。
【０００３】コンピューターの発達した現代では、これ
らの各レンズの球面、肉厚および各レンズの間隔を適宜
変更しながら、上記の収差を目標トレランス内に追い込
んで行く光学設計がなされている。また単レンズの球面
加工は旧来通り研磨皿と呼ばれる相手とラッピングする
ことで片面づつ加工され、両面の加工を終えた後に、２
つの球面の中心を結ぶ直線（＝光軸）に対して同芯にな
るように外周部が研削加工される。
らの各レンズの球面、肉厚および各レンズの間隔を適宜
変更しながら、上記の収差を目標トレランス内に追い込
んで行く光学設計がなされている。また単レンズの球面
加工は旧来通り研磨皿と呼ばれる相手とラッピングする
ことで片面づつ加工され、両面の加工を終えた後に、２
つの球面の中心を結ぶ直線（＝光軸）に対して同芯にな
るように外周部が研削加工される。
【０００４】一方、これらの単レンズを保持する鏡筒の
設計とその製造においては、いかに光学設計通りに各単
レンズとその相互位置関係を維持するかに腐心すること
になる。完成されたレンズの性能は、その光学設計上の
残収差と製造誤差でその性能が特定される。
設計とその製造においては、いかに光学設計通りに各単
レンズとその相互位置関係を維持するかに腐心すること
になる。完成されたレンズの性能は、その光学設計上の
残収差と製造誤差でその性能が特定される。
【０００５】図１１に、投影光学系で一般的に採用され
るレンズ保持方法（＝鏡筒構造）を示す。比較的低い精
度の鏡筒では「投げ込み」と呼ばれる方法が採用され
る。投げ込み鏡筒５２の本体は予め図示の様な形状に加
工されて組立に供される。鏡筒５２に単レンズ５１が挿
入された時、単レンズの片側の曲面と接する部分５３を
胴付きと称する。下面が凹面の単レンズ５１に対応した
胴付き部は図示の様に鍵状の円筒形に加工される。単レ
ンズの円筒状の外径部（コパと称する）は上下の球面の
中心を結ぶ線（光軸）を回転中心として加工されるた
め、コパ部が鏡筒の円筒状内径部に嵌合した時、この円
筒部と単レンズの光軸が合致することになる。そして、
単レンズの反対面の凸面を押え環５４により所定のトル
クで締め付けることにより、単レンズ５１は鏡筒５２の
中に６軸方向の自由度を奪われて固定されることにな
る。他の単レンズ５５についても同様に保持されてい
る。光学系がさらに多くの単レンズで構成される場合に
は、別の鏡筒５６を嵌合部とネジ部で結合する。
るレンズ保持方法（＝鏡筒構造）を示す。比較的低い精
度の鏡筒では「投げ込み」と呼ばれる方法が採用され
る。投げ込み鏡筒５２の本体は予め図示の様な形状に加
工されて組立に供される。鏡筒５２に単レンズ５１が挿
入された時、単レンズの片側の曲面と接する部分５３を
胴付きと称する。下面が凹面の単レンズ５１に対応した
胴付き部は図示の様に鍵状の円筒形に加工される。単レ
ンズの円筒状の外径部（コパと称する）は上下の球面の
中心を結ぶ線（光軸）を回転中心として加工されるた
め、コパ部が鏡筒の円筒状内径部に嵌合した時、この円
筒部と単レンズの光軸が合致することになる。そして、
単レンズの反対面の凸面を押え環５４により所定のトル
クで締め付けることにより、単レンズ５１は鏡筒５２の
中に６軸方向の自由度を奪われて固定されることにな
る。他の単レンズ５５についても同様に保持されてい
る。光学系がさらに多くの単レンズで構成される場合に
は、別の鏡筒５６を嵌合部とネジ部で結合する。
【０００６】一方、単レンズを直接鏡筒に投げ込まず、
「セル」と称する金属リングに一旦固定した後に、該セ
ルを基準として鏡筒に挿入するセル方式と呼ばれる手法
も知られる。単レンズとセルは１対１で結合され、その
結合方法は、押え環方式、カシメ方式、接着材による方
法、など実用化されている。
「セル」と称する金属リングに一旦固定した後に、該セ
ルを基準として鏡筒に挿入するセル方式と呼ばれる手法
も知られる。単レンズとセルは１対１で結合され、その
結合方法は、押え環方式、カシメ方式、接着材による方
法、など実用化されている。
【０００７】このセル方式には、１）２つの球面といっ
た分かりにくい座標系を厚さ・外径といった機構上・組
立上で分かりやすい座標に変換することができる、２）
上記の延長で、単レンズとセルを固定した後に単レンズ
基準でセルを加工出来る（これは硝子の加工性の悪さに
対して、金属の加工性の良さを利点として利用したもの
である）、３）外径の異なる単レンズを外径の揃ったセ
ルで保持することにより、同一内径の鏡筒に順次積み上
げることが出来る、４）セル間スペーサの厚さ調整によ
り空気間隔を調整出来る、などの利点を有している。
た分かりにくい座標系を厚さ・外径といった機構上・組
立上で分かりやすい座標に変換することができる、２）
上記の延長で、単レンズとセルを固定した後に単レンズ
基準でセルを加工出来る（これは硝子の加工性の悪さに
対して、金属の加工性の良さを利点として利用したもの
である）、３）外径の異なる単レンズを外径の揃ったセ
ルで保持することにより、同一内径の鏡筒に順次積み上
げることが出来る、４）セル間スペーサの厚さ調整によ
り空気間隔を調整出来る、などの利点を有している。
【０００８】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記投
げ込み鏡筒には以下の様な問題がある。 （１）コパの部分を鏡筒に嵌合させる…と言っても単レ
ンズの円筒部の外径は鏡筒のインロー部の内径よりも若
干小さくしなければスムーズに単レンズを挿入すること
は出来ない。日本工業規格では嵌合直径と嵌合の度合い
に応じた内径、外径の寸法公差を規格化している。例え
ば直径２００mmの嵌合でスムーズに挿入、脱着できるレ
ベルとして内径がノミナル値０〜０.０４６を、外径の
公差として０〜−０.０２９と規定している。この場
合、内径と外形に最悪７５μmのすき間が生じることに
なる。これでは１μm以下の偏芯を要求する超高解像投
影レンズの要求を満たすことは出来ない。 （２）単レンズの片方の球面は鏡筒のコパと呼ばれる円
周状の突起部で支持される。コパはレンズ球面と全周で
接触し、全周で均等支持されることを期待している。単
レンズの球面の精度は露光波長の数分の１乃至数十分の
１の高い精度で研削加工されている。仮に単レンズの面
が完全な球面と仮定したとき、コパが全周で接触するた
めにはコパのエッジは完全な円形を成していなければな
らない。しかし第図の様な形状の金属部品は研削加工は
出来ず、切削加工に頼らざるを得ず、加工精度は１〜
０.１μmが限度である。この様な鏡筒に単レンズを挿入
した時、単レンズとコパは不特定の２〜３点で支持され
ることになり、その結果軸非対象の大きな変形が生ずる
結果になる。
げ込み鏡筒には以下の様な問題がある。 （１）コパの部分を鏡筒に嵌合させる…と言っても単レ
ンズの円筒部の外径は鏡筒のインロー部の内径よりも若
干小さくしなければスムーズに単レンズを挿入すること
は出来ない。日本工業規格では嵌合直径と嵌合の度合い
に応じた内径、外径の寸法公差を規格化している。例え
ば直径２００mmの嵌合でスムーズに挿入、脱着できるレ
ベルとして内径がノミナル値０〜０.０４６を、外径の
公差として０〜−０.０２９と規定している。この場
合、内径と外形に最悪７５μmのすき間が生じることに
なる。これでは１μm以下の偏芯を要求する超高解像投
影レンズの要求を満たすことは出来ない。 （２）単レンズの片方の球面は鏡筒のコパと呼ばれる円
周状の突起部で支持される。コパはレンズ球面と全周で
接触し、全周で均等支持されることを期待している。単
レンズの球面の精度は露光波長の数分の１乃至数十分の
１の高い精度で研削加工されている。仮に単レンズの面
が完全な球面と仮定したとき、コパが全周で接触するた
めにはコパのエッジは完全な円形を成していなければな
らない。しかし第図の様な形状の金属部品は研削加工は
出来ず、切削加工に頼らざるを得ず、加工精度は１〜
０.１μmが限度である。この様な鏡筒に単レンズを挿入
した時、単レンズとコパは不特定の２〜３点で支持され
ることになり、その結果軸非対象の大きな変形が生ずる
結果になる。
【０００９】一方、上記セル鏡筒には以下の様な問題点
がある。すなわち、セル保持方式にしても、前記のコパ
精度による単レンズの変形問題は直接鏡筒へ投げ込む場
合と同様である。さらにセルはその断面形状から判断で
きる通り鏡筒の強度より弱くならざるを得ないため、そ
の支持方法次第ではセル自体が変形する恐れがある。
がある。すなわち、セル保持方式にしても、前記のコパ
精度による単レンズの変形問題は直接鏡筒へ投げ込む場
合と同様である。さらにセルはその断面形状から判断で
きる通り鏡筒の強度より弱くならざるを得ないため、そ
の支持方法次第ではセル自体が変形する恐れがある。
【００１０】図１２に単レンズの支持変形の実測結果を
示す。同図からどの点で単レンズとコパが接触している
か想定することが出来る。この測定値の最大変位量は厄
００ｎｍで設計が指定する許容値を越えている。図１３
はセルを等分の３点で支持したときの変形のシミュレー
ション結果である。この結果、胴付き部までが変形し
て、ここに単レンズを挿入したときやはり３点支持にな
るであろうことは容易に想像される。
示す。同図からどの点で単レンズとコパが接触している
か想定することが出来る。この測定値の最大変位量は厄
００ｎｍで設計が指定する許容値を越えている。図１３
はセルを等分の３点で支持したときの変形のシミュレー
ション結果である。この結果、胴付き部までが変形し
て、ここに単レンズを挿入したときやはり３点支持にな
るであろうことは容易に想像される。
【００１１】本発明は上記従来技術が有する問題点を解
決すべくなされたものであり、２つの部材の位置調整と
結合において、従来の機構（メカ）設計によらない、つ
まりボルト・ナット等による摩擦拘束や包囲拘束とは異
なる新たな手法を採用する。
決すべくなされたものであり、２つの部材の位置調整と
結合において、従来の機構（メカ）設計によらない、つ
まりボルト・ナット等による摩擦拘束や包囲拘束とは異
なる新たな手法を採用する。
【００１２】具体的な本発明の目的は、レンズやミラー
等の光学部材を歪ませること無く、且つ精確な位置関係
で確実に保持することができる光学装置や部材の固定方
法を提供することである。
等の光学部材を歪ませること無く、且つ精確な位置関係
で確実に保持することができる光学装置や部材の固定方
法を提供することである。
【００１３】本発明の更なる目的は、上記光学装置を用
いることで高性能な露光性能を達成した投影露光装置、
さらには優れたデバイスの製造方法を提供することであ
る。
いることで高性能な露光性能を達成した投影露光装置、
さらには優れたデバイスの製造方法を提供することであ
る。
【００１４】
【課題を解決するための手段】上記課題を解決する本発
明の光学装置は、光学部材とこれを保持する保持部材を
有し、該光学部材と該保持部材の間に粉体を充填したこ
とを特徴とするものである。
明の光学装置は、光学部材とこれを保持する保持部材を
有し、該光学部材と該保持部材の間に粉体を充填したこ
とを特徴とするものである。
【００１５】また本発明の投影露光装置は、上記光学装
置をレンズとして有する投影光学系を備えたことを特徴
とするものである。
置をレンズとして有する投影光学系を備えたことを特徴
とするものである。
【００１６】また本発明のデバイス製造方法は、上記投
影露光装置を用意する工程と、該装置を用いて基板に露
光を行なう工程を有することを特徴とするものである。
影露光装置を用意する工程と、該装置を用いて基板に露
光を行なう工程を有することを特徴とするものである。
【００１７】また本発明の物体の固定方法は、第１部材
と第２部材を所定の位置関係で固定する方法であって、
該第１部材と該第２部材の間で拘束したい方向に間隙を
設け、該間隙に粉体を充填することによって両者を固定
することを特徴とするものである。
と第２部材を所定の位置関係で固定する方法であって、
該第１部材と該第２部材の間で拘束したい方向に間隙を
設け、該間隙に粉体を充填することによって両者を固定
することを特徴とするものである。
【００１８】
【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態の説明
にあたって、まず本発明の基本概念について説明する。
にあたって、まず本発明の基本概念について説明する。
【００１９】光学部材たとえば単レンズは、有効光束を
逃げた周辺でしか支持することが出来ない。もし単レン
ズの球面の一部を支持するのであれば、球面部は非常に
高精度に加工されているので円周部を均等圧で支持する
のが望ましい。もし単レンズをセルに対して位置決めし
た後に固定したいのであれば、胴付き部で単レンズの位
置が特定されない方法が望まれる。
逃げた周辺でしか支持することが出来ない。もし単レン
ズの球面の一部を支持するのであれば、球面部は非常に
高精度に加工されているので円周部を均等圧で支持する
のが望ましい。もし単レンズをセルに対して位置決めし
た後に固定したいのであれば、胴付き部で単レンズの位
置が特定されない方法が望まれる。
【００２０】均等圧支持から容易に発想されるのは、流
体（気体もしくは液体）の活用である。流体はその特性
上、ある閉じ込められた空間において、その封入壁に均
等な圧力を与えることが出来る。この実施型として水枕
や空気軸受けを揚げることが出来る。しかし、流体を利
用した場合、振動（加速度）の様な外乱が加わった場合
に、セルに対して単レンズの位置を維持することは困難
である。
体（気体もしくは液体）の活用である。流体はその特性
上、ある閉じ込められた空間において、その封入壁に均
等な圧力を与えることが出来る。この実施型として水枕
や空気軸受けを揚げることが出来る。しかし、流体を利
用した場合、振動（加速度）の様な外乱が加わった場合
に、セルに対して単レンズの位置を維持することは困難
である。
【００２１】そこで発明者は粉状物質である粉体（粒体
とも称する）に着目するに至った。ここでは、粉体を
「１mm以下〜数nm程度の微小な固体の集合体」と定義す
る。粉体は地球上のあらゆる個体において存在し得る形
態であり、その中の何割かの粉体は液体的性質と個体的
性質を併せ持っている。砂糖や塩は容器を傾ければ流れ
出てくる一方で湿度により個体状になることは良く知ら
れた現象である。セメントとか石灰は水との混合により
化学反応を起こして個体に変化する。もし液化と個体化
が可逆性を持った粉体が有れば、調整と固定を繰り返し
利用することが出来る。
とも称する）に着目するに至った。ここでは、粉体を
「１mm以下〜数nm程度の微小な固体の集合体」と定義す
る。粉体は地球上のあらゆる個体において存在し得る形
態であり、その中の何割かの粉体は液体的性質と個体的
性質を併せ持っている。砂糖や塩は容器を傾ければ流れ
出てくる一方で湿度により個体状になることは良く知ら
れた現象である。セメントとか石灰は水との混合により
化学反応を起こして個体に変化する。もし液化と個体化
が可逆性を持った粉体が有れば、調整と固定を繰り返し
利用することが出来る。
【００２２】本発明の基本概念は、第１部材と第２部材
を所定の位置関係で固定する方法であって、該第１部材
と該第２部材の間で拘束したい方向に間隙を設け、該間
隙に粉体を充填することによって両者を固定することを
特徴とするものである。第１部材と第２部材が光学部材
（レンズやミラーなど）とこれを保持する保持部材であ
れば、これらの間に粉体を充填することを特徴とするも
のである。
を所定の位置関係で固定する方法であって、該第１部材
と該第２部材の間で拘束したい方向に間隙を設け、該間
隙に粉体を充填することによって両者を固定することを
特徴とするものである。第１部材と第２部材が光学部材
（レンズやミラーなど）とこれを保持する保持部材であ
れば、これらの間に粉体を充填することを特徴とするも
のである。
【００２３】粉体は流体としての性質と個体としての性
質を併せ持っているため、この性質を利用することで、
先の従来例での図１２や図１３に示したような光学部材
の変形は大幅に改善される。
質を併せ持っているため、この性質を利用することで、
先の従来例での図１２や図１３に示したような光学部材
の変形は大幅に改善される。
【００２４】＜実施例１＞図１は本発明の実施例の１つ
を説明するものであり、たとえば半導体露光装置の投影
光学系レンズを上記セル方式で保持するための、単レン
ズとセルとの位置合わせのための方法を示す。
を説明するものであり、たとえば半導体露光装置の投影
光学系レンズを上記セル方式で保持するための、単レン
ズとセルとの位置合わせのための方法を示す。
【００２５】両凸の単レンズ１をセル２に精確な位置精
度で支持するために、セルを支持する基台１３とレンズ
を支持する支持リング１４を含む調整工具１２により、
レンズ１とセル２の相対位置を６軸（X、Y、Z、ωX、ω
Y、ωZ）の各方向に調整するようになっている。
度で支持するために、セルを支持する基台１３とレンズ
を支持する支持リング１４を含む調整工具１２により、
レンズ１とセル２の相対位置を６軸（X、Y、Z、ωX、ω
Y、ωZ）の各方向に調整するようになっている。
【００２６】図１ではセルを固定してレンズを移動調整
する形を示しており、６軸方向へ駆動する手段と場合に
よりその駆動量を計測する手段を有しているがここでは
省略する。一方、レンズ上部には光学的な偏芯測定手段
１５が配置されており、レンズ１の持つ２つの球面の中
心位置を計測することが出来る。
する形を示しており、６軸方向へ駆動する手段と場合に
よりその駆動量を計測する手段を有しているがここでは
省略する。一方、レンズ上部には光学的な偏芯測定手段
１５が配置されており、レンズ１の持つ２つの球面の中
心位置を計測することが出来る。
【００２７】図２にレンズ１とセル２の結合部の拡大図
を示す。セル２の下部内側に庇（ひさし）３が張り出し
ている。庇３の上側には浅い溝４が円周状に掘られてお
り、ここに粉体５が充填され、粉体によってレンズ１を
支持している。
を示す。セル２の下部内側に庇（ひさし）３が張り出し
ている。庇３の上側には浅い溝４が円周状に掘られてお
り、ここに粉体５が充填され、粉体によってレンズ１を
支持している。
【００２８】レンズ１の下面とセルの庇部３とは直接は
接触せず、微小なすき間であるギャップG１、G２が設定
される。粉体が１個１個の形状が球状でその直径が１０
μmとすると、ギャップG１、G２は共に１０μm以下とな
るように設計される。
接触せず、微小なすき間であるギャップG１、G２が設定
される。粉体が１個１個の形状が球状でその直径が１０
μmとすると、ギャップG１、G２は共に１０μm以下とな
るように設計される。
【００２９】また、粉体５については、１層の粉体、つ
まり１０μmのギャップでレンズを支持する方法も有り
得るが、粉体の個々の粒子の寸法ばらつき誤差や溝部４
の加工精度を考えると、２以上のある程度の数の粒子が
積層された形が、本件の狙いである平均化効果を得るた
めには望ましい。具体的には粉体の材料、剛性等を斟酌
して溝の深さを決定することになる。
まり１０μmのギャップでレンズを支持する方法も有り
得るが、粉体の個々の粒子の寸法ばらつき誤差や溝部４
の加工精度を考えると、２以上のある程度の数の粒子が
積層された形が、本件の狙いである平均化効果を得るた
めには望ましい。具体的には粉体の材料、剛性等を斟酌
して溝の深さを決定することになる。
【００３０】この状態で前記測定器１５と調整工具１２
を使用してレンズとセルの相対的な偏芯調整を行う。以
上の設定が終わったらレンズ１の上面の外周を押え環６
で押え付けて作業が終了する。この構成によれば上記従
来例で説明した「胴付き部の変形」の問題を粉体による
平均化効果で解決している。
を使用してレンズとセルの相対的な偏芯調整を行う。以
上の設定が終わったらレンズ１の上面の外周を押え環６
で押え付けて作業が終了する。この構成によれば上記従
来例で説明した「胴付き部の変形」の問題を粉体による
平均化効果で解決している。
【００３１】＜実施例２＞図２の例では、レンズと押え
環の接触部の局部的な変形の可能性があり、また温度が
変化した場合にレンズとセルの線膨張係数の差により、
レンズに局所的に応力がかかってレンズに歪が生じる可
能性がある。これを解決するのが図３に示したレンズの
固定に接着剤を用いた例である。
環の接触部の局部的な変形の可能性があり、また温度が
変化した場合にレンズとセルの線膨張係数の差により、
レンズに局所的に応力がかかってレンズに歪が生じる可
能性がある。これを解決するのが図３に示したレンズの
固定に接着剤を用いた例である。
【００３２】図３において、接着剤１６はシリコン系な
どの軟らかい材質で、且つ接着剤が硬化する際の収縮が
小さいものを使用し、レンズの外周部全体若しくは等分
された複数個所に配置する。さらに、粉体にはテフロン
系などの滑り易い材質のものを使用することで、温度変
化時のレンズとセルの変形量の差を接着剤１６により吸
収し、より高精度なレンズ保持を可能としている。
どの軟らかい材質で、且つ接着剤が硬化する際の収縮が
小さいものを使用し、レンズの外周部全体若しくは等分
された複数個所に配置する。さらに、粉体にはテフロン
系などの滑り易い材質のものを使用することで、温度変
化時のレンズとセルの変形量の差を接着剤１６により吸
収し、より高精度なレンズ保持を可能としている。
【００３３】＜実施例３＞図４は押え部にも粉体を利用
した別の例を示す。胴付き部は図２と同じである。押え
部のレンズ１側外周の上側は１段削り落としてあり、こ
こに先ず下側シールリング７を落とし込んでから、その
上に所定量の粉体８を充填する。粉体上に上側シールリ
ング９を落とし込みスペーサ１０を介して押え環１１で
固定する。図４においては６軸方向すべてが粉体を介し
て固定され、その平均化効果により局部的な変形を生ず
ること無くレンズを保持することを達成している。ま
た、図３のように接着剤を使用しないため、接着剤の硬
化収縮によりレンズに歪みが生じる可能性も無い。
した別の例を示す。胴付き部は図２と同じである。押え
部のレンズ１側外周の上側は１段削り落としてあり、こ
こに先ず下側シールリング７を落とし込んでから、その
上に所定量の粉体８を充填する。粉体上に上側シールリ
ング９を落とし込みスペーサ１０を介して押え環１１で
固定する。図４においては６軸方向すべてが粉体を介し
て固定され、その平均化効果により局部的な変形を生ず
ること無くレンズを保持することを達成している。ま
た、図３のように接着剤を使用しないため、接着剤の硬
化収縮によりレンズに歪みが生じる可能性も無い。
【００３４】＜実施例４＞次に胴付き部を使わない保持
方法の例を図５に示す。ここではレンズやミラーなど光
学部材を抽象化した円盤２１と、その外周にすき間を持
って係合するリング２２を固定するものとして説明す
る。
方法の例を図５に示す。ここではレンズやミラーなど光
学部材を抽象化した円盤２１と、その外周にすき間を持
って係合するリング２２を固定するものとして説明す
る。
【００３５】円盤２１の外側面とリング２２の内側面の
間には均等なすき間（ギャップG＝２０μm）が形成され
ている。また、外側面と内側面のぞれぞれには輪帯状の
溝２３と溝２４がそれぞれ形成されている。さらに各々
の溝２３、２４には輪帯に渡って均等に等分された複数
個（例えば１２個）の円錐状の窪み２５、２６が形成さ
れている。
間には均等なすき間（ギャップG＝２０μm）が形成され
ている。また、外側面と内側面のぞれぞれには輪帯状の
溝２３と溝２４がそれぞれ形成されている。さらに各々
の溝２３、２４には輪帯に渡って均等に等分された複数
個（例えば１２個）の円錐状の窪み２５、２６が形成さ
れている。
【００３６】ここで注入口２６から、例えば粒径１００
μmの球状の粉体２８を注入してゆく。ギャップＧ（＝
２０μm）と粉体の粒径（＝１００μm）の関係から粉体
がすき間からこぼれ落ちることは無い。一般化すれば、
円板２１外側面とリング２２の内側面の直径差がＤの
時、粉体の粒径をφＤ／２〜φＤの範囲とすれば良い。
μmの球状の粉体２８を注入してゆく。ギャップＧ（＝
２０μm）と粉体の粒径（＝１００μm）の関係から粉体
がすき間からこぼれ落ちることは無い。一般化すれば、
円板２１外側面とリング２２の内側面の直径差がＤの
時、粉体の粒径をφＤ／２〜φＤの範囲とすれば良い。
【００３７】円板２１とリング２２に振動を与えながら
粉体を注入することで、１個１個の粒子が接触しあって
密度が高まり、粉体の個々の粒子は他の粒子あるいは円
盤やリング壁によって移動の自由を失い実質的に固体化
された状態となる。これ以上の粒子が入り込む余地が無
いくらいに突固めた後に、封入口にプラグ２７を押し込
んで固定する。この状態では円盤２１とリング２２はほ
ぼ完全に相互拘束されて、６軸のいかなる方向への自由
度も失った形になっている。
粉体を注入することで、１個１個の粒子が接触しあって
密度が高まり、粉体の個々の粒子は他の粒子あるいは円
盤やリング壁によって移動の自由を失い実質的に固体化
された状態となる。これ以上の粒子が入り込む余地が無
いくらいに突固めた後に、封入口にプラグ２７を押し込
んで固定する。この状態では円盤２１とリング２２はほ
ぼ完全に相互拘束されて、６軸のいかなる方向への自由
度も失った形になっている。
【００３８】また、注入口２６から粉体を注入する代わ
りに、円板２１に対しリング２２を片寄せし、広がった
すき間から粉体を注入することも出来る。粉体を充満し
た後に両者を同芯位置に戻して粉体を固化すれば両者は
相互に拘束される。
りに、円板２１に対しリング２２を片寄せし、広がった
すき間から粉体を注入することも出来る。粉体を充満し
た後に両者を同芯位置に戻して粉体を固化すれば両者は
相互に拘束される。
【００３９】例えば円盤２１の片側の面２９がミラー面
である場合、ミラー面を保持のために覆う必要が無いた
め、本実施例の方法は特に有効である。
である場合、ミラー面を保持のために覆う必要が無いた
め、本実施例の方法は特に有効である。
【００４０】＜実施例５＞上記図５の例と同様の思想で
レンズ３１をセル３２で保持する別の例を図６に示す。
この例では偏芯調整の移動量が大きく、粉体の粒子径よ
りも大きなギャップを要求される場合について述べる。
レンズ３１をセル３２で保持する別の例を図６に示す。
この例では偏芯調整の移動量が大きく、粉体の粒子径よ
りも大きなギャップを要求される場合について述べる。
【００４１】図６において、レンズ３１の外周円筒部の
上側と下側は一段小さな径に削り込んである。レンズ３
１とセル３２の下側のすき間を塞ぐように下側シーリン
グシート３３をレンズの下部の円筒部とセルの段付き部
を覆うように配置する。もしレンズとセルの間のすき間
に空冷の為に空気を流したいという要求があるならば、
このシールを粉体の粒子を通さないくらいのメッシュの
網にするか、通気性のある材料を選択すれば良い。
上側と下側は一段小さな径に削り込んである。レンズ３
１とセル３２の下側のすき間を塞ぐように下側シーリン
グシート３３をレンズの下部の円筒部とセルの段付き部
を覆うように配置する。もしレンズとセルの間のすき間
に空冷の為に空気を流したいという要求があるならば、
このシールを粉体の粒子を通さないくらいのメッシュの
網にするか、通気性のある材料を選択すれば良い。
【００４２】次にレンズ３１の突起部を埋める量の粉体
３４を注入する。その粉体層の上に上側シーリングシー
ト３５を被せ、さらにその上に押えリング３６を被せ
る。この状態でレンズとセルの相対的な位置関係を調整
した上で、押え環３７により粉体３４に圧力を加え、レ
ンズ３１とセル３２を固定して作業は終了する。
３４を注入する。その粉体層の上に上側シーリングシー
ト３５を被せ、さらにその上に押えリング３６を被せ
る。この状態でレンズとセルの相対的な位置関係を調整
した上で、押え環３７により粉体３４に圧力を加え、レ
ンズ３１とセル３２を固定して作業は終了する。
【００４３】ここで、図５あるいは図６の例を半導体露
光装置の投影光学系に採用した際の具体例について述べ
る。投影光学系においては、単レンズだけでなくその支
持部（＝周辺部に）にも露光光がフレアあるいは回折光
として当たる恐れがあるので、粉体は露光光によって化
学反応を起こさない材料が望ましい。望ましくは無機材
料が好適であるが、有機材料にも特定の露光光に反応し
ない材料も有るし、要は投影レンズ固有の選択を心がけ
る必要が有るを言える。投影レンズの露光波長はランプ
によるｇ線、ｈ線、ｉ線等が有るが、最近ではデバイス
の微細化に伴う使用波長の単波長化により、エキシマレ
ーザーが注目されてきた。ＫｒＦエキシマレーザーの２
４８ｎｍの波長、さらにＡｒＦエキシマレーザーの１９
３ｎｍの波長は有機物の分子結合を破壊するエネルギを
有するので特に注意が必要である。
光装置の投影光学系に採用した際の具体例について述べ
る。投影光学系においては、単レンズだけでなくその支
持部（＝周辺部に）にも露光光がフレアあるいは回折光
として当たる恐れがあるので、粉体は露光光によって化
学反応を起こさない材料が望ましい。望ましくは無機材
料が好適であるが、有機材料にも特定の露光光に反応し
ない材料も有るし、要は投影レンズ固有の選択を心がけ
る必要が有るを言える。投影レンズの露光波長はランプ
によるｇ線、ｈ線、ｉ線等が有るが、最近ではデバイス
の微細化に伴う使用波長の単波長化により、エキシマレ
ーザーが注目されてきた。ＫｒＦエキシマレーザーの２
４８ｎｍの波長、さらにＡｒＦエキシマレーザーの１９
３ｎｍの波長は有機物の分子結合を破壊するエネルギを
有するので特に注意が必要である。
【００４４】粉体の材料の１つの候補としてはＳｉＯ2
（石英）の球状の粉体、いわゆるシリコンビーズが好適
である。液晶ディスプレイパネルの液晶封入空間を作る
ためのスペーサとして主に使用されているこのシリコン
ビーズは、真球度や直径の寸法バラツキが小さな値に管
理されていること、球形のために流動性に優れているこ
と、さらにDeep UVのレンズの主材料がｄＳｉＯ2であ
ることなどから、投影光学系の保持に用いる粉体材料と
しては理想的な材料の一つであるといえる。また、調整
・固定後の保持剛性を求めるならばＡｌ2Ｏ3（アルミ
ナ）の棒状結晶などの非球形粉体も好適な材料である。
いずれにせよ複合材料（１つ１つの粒子が２つ以上の材
料を含んでいる）を加えると粉体の材料の選択肢は無数
に存在するので、用途に見合った好適な材料を選択する
ことが出来る。
（石英）の球状の粉体、いわゆるシリコンビーズが好適
である。液晶ディスプレイパネルの液晶封入空間を作る
ためのスペーサとして主に使用されているこのシリコン
ビーズは、真球度や直径の寸法バラツキが小さな値に管
理されていること、球形のために流動性に優れているこ
と、さらにDeep UVのレンズの主材料がｄＳｉＯ2であ
ることなどから、投影光学系の保持に用いる粉体材料と
しては理想的な材料の一つであるといえる。また、調整
・固定後の保持剛性を求めるならばＡｌ2Ｏ3（アルミ
ナ）の棒状結晶などの非球形粉体も好適な材料である。
いずれにせよ複合材料（１つ１つの粒子が２つ以上の材
料を含んでいる）を加えると粉体の材料の選択肢は無数
に存在するので、用途に見合った好適な材料を選択する
ことが出来る。
【００４５】＜実施例６＞以上の例では、粉体を密閉空
間に封じ込め、１個の粒子が他の粒子あるいは部品の壁
に拘束されて身動き出来ない状態を作り出すことによっ
て粒子の集合体である粉体を実質的に固体化する方法を
説明してきた。これに対して本例では別の固体化の方法
を提供する。基本的な保持方法は図５の例と同様の思想
である。
間に封じ込め、１個の粒子が他の粒子あるいは部品の壁
に拘束されて身動き出来ない状態を作り出すことによっ
て粒子の集合体である粉体を実質的に固体化する方法を
説明してきた。これに対して本例では別の固体化の方法
を提供する。基本的な保持方法は図５の例と同様の思想
である。
【００４６】レンズ４１とセル４２はそれぞれ輪帯状の
窪み４３と４４を有しており、これを所定の位置関係に
置いた時に粉体を封入する空間を形成する。レンズとセ
ルによる下側の隙間は粉体の粒子径よりも小さくなる様
に設定されている。上側の間隙はこの事例では粉体の粒
径より大きく設定される。
窪み４３と４４を有しており、これを所定の位置関係に
置いた時に粉体を封入する空間を形成する。レンズとセ
ルによる下側の隙間は粉体の粒子径よりも小さくなる様
に設定されている。上側の間隙はこの事例では粉体の粒
径より大きく設定される。
【００４７】一方、シリコンビーズの粉体は、接着材料
（ラッカー）とラッカーを溶かす溶剤（エタノール）を
加えて懸濁液（スラリー）状にして準備する。このスラ
リーをレンズとセルの上側の間隙から注入する。この時
粉体の粒子は窪み４３、４４により形成される空間の中
にトラップされ、液体の大部分は下側の間隙から流れ去
って行くが、その一部は粉体の粒子やレンズ、セルの側
壁に付着して取り残される。
（ラッカー）とラッカーを溶かす溶剤（エタノール）を
加えて懸濁液（スラリー）状にして準備する。このスラ
リーをレンズとセルの上側の間隙から注入する。この時
粉体の粒子は窪み４３、４４により形成される空間の中
にトラップされ、液体の大部分は下側の間隙から流れ去
って行くが、その一部は粉体の粒子やレンズ、セルの側
壁に付着して取り残される。
【００４８】次に自然乾燥もしくは強制乾燥によりエタ
ノールを蒸発させると、シリコンビーズとわずかなラッ
カーだけが残される。ラッカーは粉体の粒子の表面やレ
ンズとセルの側壁を薄い被膜で覆って粒子の移動の自由
度を奪い、結果として粒子の集合体は固体と化し、レン
ズとセルを固定する。
ノールを蒸発させると、シリコンビーズとわずかなラッ
カーだけが残される。ラッカーは粉体の粒子の表面やレ
ンズとセルの側壁を薄い被膜で覆って粒子の移動の自由
度を奪い、結果として粒子の集合体は固体と化し、レン
ズとセルを固定する。
【００４９】この例において、最終的に固形粉体の中に
空気層を残す（通気性を持たせる）か、空気層を排除し
てラッカーで埋め尽くすかのいずれもあり得るが、どち
らも有効である。後者の場合、単に接着材を充填した場
合と同じに思えるが、接着材の場合は硬化時収縮によっ
てレンズに応力が働いてレンズを変形させるのに対し
て、本例ではレンズに応力が働くことがないので、接着
剤を用いるよりも有利であることは明確である。粉体と
接着材が混在する場合には粉体の粒子が収縮応力を受け
ることになり、レンズへの影響ははるかに小さなものと
なる。
空気層を残す（通気性を持たせる）か、空気層を排除し
てラッカーで埋め尽くすかのいずれもあり得るが、どち
らも有効である。後者の場合、単に接着材を充填した場
合と同じに思えるが、接着材の場合は硬化時収縮によっ
てレンズに応力が働いてレンズを変形させるのに対し
て、本例ではレンズに応力が働くことがないので、接着
剤を用いるよりも有利であることは明確である。粉体と
接着材が混在する場合には粉体の粒子が収縮応力を受け
ることになり、レンズへの影響ははるかに小さなものと
なる。
【００５０】＜実施例７＞上述の光学装置を投影光学系
として用いた走査型の投影露光装置（ステップ・アンド
・スキャン露光装置）の実施例を図８に示す。
として用いた走査型の投影露光装置（ステップ・アンド
・スキャン露光装置）の実施例を図８に示す。
【００５１】レチクルステージ７３を支持するレチクル
ステージベース７１Ａは、露光装置のウエハステージ９
３を支持する台盤９２に立設されたフレーム９４と一体
であり、他方リニアモータベース７１Ｂは台盤９２と別
に床面Ｆに直接固定された支持枠９０に支持される。ま
た、レチクルステージ７３上のレチクルを経てウエハス
テージ９３上の基板であるウエハＷを露光する露光光
は、破線で示すエキシマレーザー光源装置９５から発生
される。
ステージベース７１Ａは、露光装置のウエハステージ９
３を支持する台盤９２に立設されたフレーム９４と一体
であり、他方リニアモータベース７１Ｂは台盤９２と別
に床面Ｆに直接固定された支持枠９０に支持される。ま
た、レチクルステージ７３上のレチクルを経てウエハス
テージ９３上の基板であるウエハＷを露光する露光光
は、破線で示すエキシマレーザー光源装置９５から発生
される。
【００５２】フレーム９４は、レチクルステージベース
７１Ａを支持するとともにレチクルステージ７３とウエ
ハステージ９３の間に投影光学系９６を支持する。該投
影光学系は複数の単レンズを含み、少なくとも１つの単
レンズは上記説明したいずれかの実施例の粉体を用いた
手法によって固定保持されている。
７１Ａを支持するとともにレチクルステージ７３とウエ
ハステージ９３の間に投影光学系９６を支持する。該投
影光学系は複数の単レンズを含み、少なくとも１つの単
レンズは上記説明したいずれかの実施例の粉体を用いた
手法によって固定保持されている。
【００５３】レチクルステージ７３を加速および減速す
るリニアモータの固定子７５はフレーム９４と別体であ
る支持枠９０によって支持されているため、レチクルス
テージ７３のリニアモータの駆動力の反力がウエハステ
ージ９３に伝わってその駆動部の外乱となったり、ある
いは投影光学系９６を振動させるおそれはない。
るリニアモータの固定子７５はフレーム９４と別体であ
る支持枠９０によって支持されているため、レチクルス
テージ７３のリニアモータの駆動力の反力がウエハステ
ージ９３に伝わってその駆動部の外乱となったり、ある
いは投影光学系９６を振動させるおそれはない。
【００５４】ウエハステージ９３は、駆動部によってレ
チクルステージ７３と同期して走査される。レチクルス
テージ７３とウエハステージ９３の走査中、両者の位置
はそれぞれ干渉計９７，９８によって継続的に検出さ
れ、レチクルステージ７３とウエハステージ９３の駆動
部にそれぞれフィードバックされる。これによって両者
の走査開始位置を正確に同期させるとともに、定速走査
領域の走査速度を高精度で制御することができる。
チクルステージ７３と同期して走査される。レチクルス
テージ７３とウエハステージ９３の走査中、両者の位置
はそれぞれ干渉計９７，９８によって継続的に検出さ
れ、レチクルステージ７３とウエハステージ９３の駆動
部にそれぞれフィードバックされる。これによって両者
の走査開始位置を正確に同期させるとともに、定速走査
領域の走査速度を高精度で制御することができる。
【００５５】本実施例の投影露光装置によれば、投影光
学系を構成する単レンズの支持に粉体を用いたため、以
下のような優れた利点を備え、超高性能な露光転写を可
能としている。 ・均等支持することで、レンズに歪みを生じさせない ・振動（加速度）外乱によっても相互位置を維持し得る
高剛性が得られる ・レンズが露光エネルギを吸収して熱膨張しても応力を
吸収し得る、もしくはレンズの熱を伝導あるいは対流に
よりレンズより放出できる ・露光波長（エキシマレーザー波長）により化学反応を
起こさない
学系を構成する単レンズの支持に粉体を用いたため、以
下のような優れた利点を備え、超高性能な露光転写を可
能としている。 ・均等支持することで、レンズに歪みを生じさせない ・振動（加速度）外乱によっても相互位置を維持し得る
高剛性が得られる ・レンズが露光エネルギを吸収して熱膨張しても応力を
吸収し得る、もしくはレンズの熱を伝導あるいは対流に
よりレンズより放出できる ・露光波長（エキシマレーザー波長）により化学反応を
起こさない
【００５６】＜実施例８＞次に上記説明した露光装置を
利用したデバイス製造方法の例を説明する。図９は微小
デバイス（ＩＣやＬＳＩ等の半導体チップ、液晶パネ
ル、ＣＣＤ、薄膜磁気ヘッド、マイクロマシン等）の製
造のフローを示す。ステップ１（回路設計）ではデバイ
スのパターン設計を行なう。ステップ２（マスク製作）
では設計したパターンを形成したマスクを製作する。一
方、ステップ３（ウエハ製造）ではシリコンやガラス等
の材料を用いてウエハを製造する。ステップ４（ウエハ
プロセス）は前工程と呼ばれ、上記用意したマスクとウ
エハを用いて、リソグラフィ技術によってウエハ上に実
際の回路を形成する。次のステップ５（組み立て）は後
工程と呼ばれ、ステップ４によって作製されたウエハを
用いて半導体チップ化する工程であり、アッセンブリ工
程（ダイシング、ボンディング）、パッケージング工程
（チップ封入）等の工程を含む。ステップ６（検査）で
はステップ５で作製された半導体デバイスの動作確認テ
スト、耐久性テスト等の検査を行なう。こうした工程を
経て半導体デバイスが完成し、これが出荷（ステップ
７）される。
利用したデバイス製造方法の例を説明する。図９は微小
デバイス（ＩＣやＬＳＩ等の半導体チップ、液晶パネ
ル、ＣＣＤ、薄膜磁気ヘッド、マイクロマシン等）の製
造のフローを示す。ステップ１（回路設計）ではデバイ
スのパターン設計を行なう。ステップ２（マスク製作）
では設計したパターンを形成したマスクを製作する。一
方、ステップ３（ウエハ製造）ではシリコンやガラス等
の材料を用いてウエハを製造する。ステップ４（ウエハ
プロセス）は前工程と呼ばれ、上記用意したマスクとウ
エハを用いて、リソグラフィ技術によってウエハ上に実
際の回路を形成する。次のステップ５（組み立て）は後
工程と呼ばれ、ステップ４によって作製されたウエハを
用いて半導体チップ化する工程であり、アッセンブリ工
程（ダイシング、ボンディング）、パッケージング工程
（チップ封入）等の工程を含む。ステップ６（検査）で
はステップ５で作製された半導体デバイスの動作確認テ
スト、耐久性テスト等の検査を行なう。こうした工程を
経て半導体デバイスが完成し、これが出荷（ステップ
７）される。
【００５７】図１０は上記ウエハプロセスの詳細なフロ
ーを示す。ステップ１１（酸化）ではウエハの表面を酸
化させる。ステップ１２（ＣＶＤ）ではウエハ表面に絶
縁膜を形成する。ステップ１３（電極形成）ではウエハ
上に電極を蒸着によって形成する。ステップ１４（イオ
ン打込み）ではウエハにイオンを打ち込む。ステップ１
５（レジスト処理）ではウエハにレジストを塗布する。
ステップ１６（露光）では上記説明した露光装置によっ
てマスクの回路パターンをウエハの複数のショット領域
に並べて焼付露光する。ステップ１７（現像）では露光
したウエハを現像する。ステップ１８（エッチング）で
は現像したレジスト像以外の部分を削り取る。ステップ
１９（レジスト剥離）ではエッチングが済んで不要とな
ったレジストを取り除く。これらのステップを繰り返し
行なうことによって、ウエハ上に多重に回路パターンが
形成される。本実施例の生産方法を用いれば、従来は製
造が難しかった高精度デバイスを製造することができ
る。
ーを示す。ステップ１１（酸化）ではウエハの表面を酸
化させる。ステップ１２（ＣＶＤ）ではウエハ表面に絶
縁膜を形成する。ステップ１３（電極形成）ではウエハ
上に電極を蒸着によって形成する。ステップ１４（イオ
ン打込み）ではウエハにイオンを打ち込む。ステップ１
５（レジスト処理）ではウエハにレジストを塗布する。
ステップ１６（露光）では上記説明した露光装置によっ
てマスクの回路パターンをウエハの複数のショット領域
に並べて焼付露光する。ステップ１７（現像）では露光
したウエハを現像する。ステップ１８（エッチング）で
は現像したレジスト像以外の部分を削り取る。ステップ
１９（レジスト剥離）ではエッチングが済んで不要とな
ったレジストを取り除く。これらのステップを繰り返し
行なうことによって、ウエハ上に多重に回路パターンが
形成される。本実施例の生産方法を用いれば、従来は製
造が難しかった高精度デバイスを製造することができ
る。
【００５８】
【発明の効果】以上の本発明によれば、レンズやミラー
等の光学部材を歪ませること無く、且つ精確な位置関係
で確実に保持することができる。さらにこの光学装置を
用いることで高性能な露光性能を達成した投影露光装
置、さらには優れたデバイスの製造方法を提供すること
でできる。
等の光学部材を歪ませること無く、且つ精確な位置関係
で確実に保持することができる。さらにこの光学装置を
用いることで高性能な露光性能を達成した投影露光装
置、さらには優れたデバイスの製造方法を提供すること
でできる。
【図１】本発明実施例による単レンズの調整固定方法
（両凸レンズの胴付き支持）の説明図
（両凸レンズの胴付き支持）の説明図
【図２】図１の部分詳細図
【図３】別の実施例の説明図
【図４】別の実施例の説明図
【図５】別の実施例（ミラー円筒部保持）の説明図
【図６】別の実施例（両凹レンズの円筒部保持）の説明
図
図
【図７】別の実施例の説明図
【図８】走査型の投影露光装置の実施例の説明図
【図９】デバイス製造方法の実施例の構成図
【図１０】図９中のウエハプロセスの詳細なフローを示
す図
す図
【図１１】投げ込みによる従来のレンズ鏡筒の説明図
【図１２】単レンズを支持することによるレンズ表面の
変形実測結果を示す図
変形実測結果を示す図
【図１３】セルを３点で支持した場合の変形シミュレー
ション結果を示す図
ション結果を示す図
１ 単レンズ ２ セル（保持部材） ３ 庇部 ４ 溝部 ５ 粉体 ６ 押え環 １２ 調整工具 １３ 基台 １４ 支持リング １５ 偏心測定手段
Claims (17)
- 【請求項１】 光学部材とこれを保持する保持部材を有
し、該光学部材と該保持部材の間に粉体を充填したこと
を特徴とする光学装置。 - 【請求項２】 前記光学部材はレンズもしくはミラーで
あることを特徴とする請求項１記載の光学装置。 - 【請求項３】 前記光学部材と前記保持部材の間の最大
隙間よりも前記粉体の粒径が大きいことを特徴とする請
求項１記載の相互固定方法。 - 【請求項４】 前記光学部材と前記保持部材の両方には
対向して凹形状の窪みが形成され、該窪みによる空間に
粉体が充填されることを特徴とする請求項１記載の光学
装置。 - 【請求項５】 前記光学部材は円形状を成し、前記保持
部材はリング形状を成していることを特徴とする請求項
１記載の光学装置。 - 【請求項６】 前記粉体はＳｉＯ2、またはＡｌ2Ｏ3材
料の粒子を含むことを特徴とする請求項１記載の光学装
置。 - 【請求項７】 前記粉体はシリコンビーズを含むことを
特徴とする請求項６記載の光学装置。 - 【請求項８】 請求項１乃至７のいずれか記載の光学装
置をレンズとして有する投影光学系を備えたことを特徴
とする投影露光装置。 - 【請求項９】 請求項８記載の投影露光装置を用意する
工程と、該装置を用いて基板に露光を行なう工程を有す
ることを特徴とするデバイス製造方法。 - 【請求項１０】 露光前に前記基板にレジストを塗布す
る工程と、露光後に前記基板を現像する工程とをさらに
有することを特徴とする請求項９記載のデバイス製造方
法。 - 【請求項１１】 第１部材と第２部材を所定の位置関係
で固定する方法であって、該第１部材と該第２部材の間
で拘束したい方向に間隙を設け、該間隙に粉体を充填す
ることによって両者を固定することを特徴とする部材の
固定方法。 - 【請求項１２】 前記第１部材と前記第２部材との相対
位置関係を調整し、その後に前記粉体を充填して両者を
固定することを特徴とする請求項１０記載の部材の固定
方法。 - 【請求項１３】 前記間隙に粉体を充填する際に、前記
第１部材、前記第２部材および前記粉体のうち少なくと
も１つに振動を与えることを特徴とする請求項１１記載
の部材の固定方法。 - 【請求項１４】 前記粉体はＳｉＯ2、またはＡｌ2Ｏ3
材料の粒子を含むことを特徴とする請求項１１記載の光
学装置。 - 【請求項１５】 粉体を蒸発又は揮発性の流体と混合
し、それを流体として前記間隙に充填し、液体を蒸発あ
るいは揮発することにより粉体だけを残すようにしたこ
とを特徴とする請求項１１記載の部材の固定方法。 - 【請求項１６】 粉体を蒸発又は揮発性の流体とにさら
に不揮発性物質を混入し、それを流体として前記間隙に
充填し、液体を蒸発あるいは揮発することにより粉体と
不揮発性物質だけを残すようにしたことを特徴とする請
求項１１記載の固定方法。 - 【請求項１７】 前記不揮発性物質は流体が消失した時
点で固体もしくはゲル体となる物質であり、粉体の個々
の粒子を結合する役目を果たすことを特徴とする請求項
１６記載の固定方法。
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| JP10016865A JPH11211958A (ja) | 1998-01-29 | 1998-01-29 | 光学装置、投影露光装置およびデバイス製造方法 |
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| JP10016865A JPH11211958A (ja) | 1998-01-29 | 1998-01-29 | 光学装置、投影露光装置およびデバイス製造方法 |
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