JP3187281B2 - 露光装置 - Google Patents
露光装置Info
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- illumination system
- optical system
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- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/70691—Handling of masks or workpieces
- G03F7/70791—Large workpieces, e.g. glass substrates for flat panel displays or solar panels
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- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
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- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/708—Construction of apparatus, e.g. environment aspects, hygiene aspects or materials
- G03F7/70808—Construction details, e.g. housing, load-lock, seals or windows for passing light in or out of apparatus
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- G03F7/70858—Environment aspects, e.g. pressure of beam-path gas, temperature
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- Atmospheric Sciences (AREA)
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- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は半導体その他の回路基板
の製造に用いられる露光装置に関し、特に露光装置を構
成するミラー投影光学系に対してマスクと基板とを同時
に移動させながら、マスク面に形成されているパターン
をミラー投影光学系により基板面上に転写し大型の液晶
表示パネルなどを製造する露光装置に関する。
の製造に用いられる露光装置に関し、特に露光装置を構
成するミラー投影光学系に対してマスクと基板とを同時
に移動させながら、マスク面に形成されているパターン
をミラー投影光学系により基板面上に転写し大型の液晶
表示パネルなどを製造する露光装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】従来より半導体製造用の露光装置用とし
て凸面鏡と凹面鏡を用いたミラー投影光学系が用いられ
ており、これを開示するものとして例えば特開昭５８−
１０８７４５号公報、特開昭６２−１８７１５号公報、
特開昭６３−１２８７１３号公報等がある。このような
ミラー投影光学系は、最近では液晶表示パネル、特にパ
ソコン向けの大市場が期待されている１０インチ前後の
液晶表示パネルを製造するために用いられる露光装置用
として、解像力が良く生産性が高いという利点から多く
用いられている。
て凸面鏡と凹面鏡を用いたミラー投影光学系が用いられ
ており、これを開示するものとして例えば特開昭５８−
１０８７４５号公報、特開昭６２−１８７１５号公報、
特開昭６３−１２８７１３号公報等がある。このような
ミラー投影光学系は、最近では液晶表示パネル、特にパ
ソコン向けの大市場が期待されている１０インチ前後の
液晶表示パネルを製造するために用いられる露光装置用
として、解像力が良く生産性が高いという利点から多く
用いられている。
【０００３】このミラー投影光学系を用いた露光装置で
は、照明系からの露光光により、スリット結像系を介し
て、マスク面上をスリット状に照明し、スリット状に照
明されたマスク面上のパターンをミラー投影光学系を用
いて基板面上に投影している。そして、マスクと基板と
をミラー投影光学系に対して同時に走行させることによ
り、マスク全面のパターンを基板面に転写するタイプの
一括露光が行われる。図３は、従来のこのようなミラー
投影光学系を用いた一括露光装置の一例を示す。同図に
おいて、１は照明系、２は例えば超高圧水銀ランプより
なる光源、３はＹ方向に円弧を向けた円弧スリット開口
を有するスリット、４は回路パターンやアライメントマ
ークなどが形成されているマスク、５はスリット結像系
である。スリット３はスリット結像系５の一要素を構成
しており、光源２はスリット結像系５の照明系１におけ
る一要素を構成している。６は基板、７は高い面精度に
研磨された台形ミラーと凹面鏡そして凸面鏡で構成され
ているミラー投影光学系、８はマスク４と基板６を載置
しているキャリッジである。９，９’は静圧ガイド、１
０はリニアモータであり、これらの要素９，９’，１０
によりキャリッジ８の駆動手段を構成している。１１は
基盤、１２，１２’は基盤１１を支持する防振足であ
る。１３はチャンバであり、チャンバ内は温湿度が正
確、かつ一定に保たれている。１４は熱排気ダクトであ
り、照明系１からでた熱をチャンバ１３外に導き排気し
ている。１５は位置微調機構であり、ミラー投影光学系
７に対する照明系１の位置を微調し固定している。１６
は投影光学系構造体であり、位置微調機構１５を介して
照明系１を、そしてミラー投影光学系７をその上に固定
し、自身は基盤１１に固定されている。
は、照明系からの露光光により、スリット結像系を介し
て、マスク面上をスリット状に照明し、スリット状に照
明されたマスク面上のパターンをミラー投影光学系を用
いて基板面上に投影している。そして、マスクと基板と
をミラー投影光学系に対して同時に走行させることによ
り、マスク全面のパターンを基板面に転写するタイプの
一括露光が行われる。図３は、従来のこのようなミラー
投影光学系を用いた一括露光装置の一例を示す。同図に
おいて、１は照明系、２は例えば超高圧水銀ランプより
なる光源、３はＹ方向に円弧を向けた円弧スリット開口
を有するスリット、４は回路パターンやアライメントマ
ークなどが形成されているマスク、５はスリット結像系
である。スリット３はスリット結像系５の一要素を構成
しており、光源２はスリット結像系５の照明系１におけ
る一要素を構成している。６は基板、７は高い面精度に
研磨された台形ミラーと凹面鏡そして凸面鏡で構成され
ているミラー投影光学系、８はマスク４と基板６を載置
しているキャリッジである。９，９’は静圧ガイド、１
０はリニアモータであり、これらの要素９，９’，１０
によりキャリッジ８の駆動手段を構成している。１１は
基盤、１２，１２’は基盤１１を支持する防振足であ
る。１３はチャンバであり、チャンバ内は温湿度が正
確、かつ一定に保たれている。１４は熱排気ダクトであ
り、照明系１からでた熱をチャンバ１３外に導き排気し
ている。１５は位置微調機構であり、ミラー投影光学系
７に対する照明系１の位置を微調し固定している。１６
は投影光学系構造体であり、位置微調機構１５を介して
照明系１を、そしてミラー投影光学系７をその上に固定
し、自身は基盤１１に固定されている。
【０００４】光源２から放射された光は、光路折曲げミ
ラーで反射しながらコンデンサレンズ、フライアイレン
ズを通り、スリット３を矩形状にムラなく照明してい
る。スリット３を照明している光は、スリット３で円弧
スリット状に切り取られ、スリット結像系５内の凹面鏡
で反射結像され、マスク４面上を円弧スリット状に照明
している。円弧スリット状に照明されたマスク４面上の
パターンは、ミラー投影光学系７により基板６面上に等
倍結像している。そして、駆動手段によりキャリッジ８
をＹ方向に移動させて、円弧スリット状に照明されたマ
スク４面上のパターンを順次基板６面上に投影露光して
いる。
ラーで反射しながらコンデンサレンズ、フライアイレン
ズを通り、スリット３を矩形状にムラなく照明してい
る。スリット３を照明している光は、スリット３で円弧
スリット状に切り取られ、スリット結像系５内の凹面鏡
で反射結像され、マスク４面上を円弧スリット状に照明
している。円弧スリット状に照明されたマスク４面上の
パターンは、ミラー投影光学系７により基板６面上に等
倍結像している。そして、駆動手段によりキャリッジ８
をＹ方向に移動させて、円弧スリット状に照明されたマ
スク４面上のパターンを順次基板６面上に投影露光して
いる。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、図３に
示す従来の露光装置では、照明系１は、その内部に光源
２として水銀ランプを持っているため、その水銀ランプ
が大きな熱源になっている。熱排気ダクト１４の先に
は、チャンバ１３内にシロッコファンがあり、照明系１
内部の熱を強制排気しているが、この排気空気の流れが
照明系１を振動させている。しかも、ミラー投影光学系
を用いた露光装置では、ミラー投影光学系７に対するス
リット３の位置が正確に合っていないと解像力が劣化す
るため、照明系１は位置微調機構１５でその位置を調整
したあと投影光学系構造体１６で基盤１１に固定されて
いる。したがって、照明系１の振動が投影光学系構造体
１６を介して装置の他の部分に伝わり、露光精度劣化の
要因の一つになっている。
示す従来の露光装置では、照明系１は、その内部に光源
２として水銀ランプを持っているため、その水銀ランプ
が大きな熱源になっている。熱排気ダクト１４の先に
は、チャンバ１３内にシロッコファンがあり、照明系１
内部の熱を強制排気しているが、この排気空気の流れが
照明系１を振動させている。しかも、ミラー投影光学系
を用いた露光装置では、ミラー投影光学系７に対するス
リット３の位置が正確に合っていないと解像力が劣化す
るため、照明系１は位置微調機構１５でその位置を調整
したあと投影光学系構造体１６で基盤１１に固定されて
いる。したがって、照明系１の振動が投影光学系構造体
１６を介して装置の他の部分に伝わり、露光精度劣化の
要因の一つになっている。
【０００６】また、照明系１内部の熱を、強制排気して
いるとはいうものの、装置の他の部分と比較すると温度
がかなり高くなっている。この熱が投影光学系構造体１
６を介して装置の他の部分に伝わり、露光精度劣化の要
因の一つになっている。
いるとはいうものの、装置の他の部分と比較すると温度
がかなり高くなっている。この熱が投影光学系構造体１
６を介して装置の他の部分に伝わり、露光精度劣化の要
因の一つになっている。
【０００７】本発明の目的は、上記の問題点に鑑み、ミ
ラー投影光学系を用いた露光装置において照明系の振動
と熱が装置の他の部分に伝わることを防止することによ
り、マスク面上のパターンを液晶表示パネルなどの大型
の基板面上に高精度に投影露光することができる露光装
置を提供することにある。
ラー投影光学系を用いた露光装置において照明系の振動
と熱が装置の他の部分に伝わることを防止することによ
り、マスク面上のパターンを液晶表示パネルなどの大型
の基板面上に高精度に投影露光することができる露光装
置を提供することにある。
【０００８】
【課題を解決するための手段】上記の目的を達成するた
め本発明は、スリットを有するスリット結像系、露光光
で前記スリット結像系を介してマスク面上をスリット状
に照明する照明系、前記照明系により発生する熱を排気
する排気手段、前記スリット状に照明された前記マスク
面上のパターンを基板面上に投影する投影光学系、およ
び前記投影光学系に対し前記マスクと前記基板を相対移
動させる駆動手段を備えた露光装置において、前記照明
系と前記スリット結像系とをそれらの筐体の間に空間を
有するように前記スリットの手前で分離したことを特徴
としている。
め本発明は、スリットを有するスリット結像系、露光光
で前記スリット結像系を介してマスク面上をスリット状
に照明する照明系、前記照明系により発生する熱を排気
する排気手段、前記スリット状に照明された前記マスク
面上のパターンを基板面上に投影する投影光学系、およ
び前記投影光学系に対し前記マスクと前記基板を相対移
動させる駆動手段を備えた露光装置において、前記照明
系と前記スリット結像系とをそれらの筐体の間に空間を
有するように前記スリットの手前で分離したことを特徴
としている。
【０００９】また、照明系は、投影光学系を保持してい
る構造体とは別の構造体で保持されていることを特徴と
している。
る構造体とは別の構造体で保持されていることを特徴と
している。
【００１０】さらに、照明系は、装置のチャンバに保持
されていることを特徴としている。
されていることを特徴としている。
【００１１】
【作用】本発明によれば、照明系とスリット結像系とが
それらの筐体間の空間を介して分離しているため、照明
系の振動と熱がその空間で遮断され装置の他の部分に伝
わるのが防止される。したがって、液晶表示パネルなど
の大型の基板面上にマスク面上のパターンが高精度に投
影露光される。
それらの筐体間の空間を介して分離しているため、照明
系の振動と熱がその空間で遮断され装置の他の部分に伝
わるのが防止される。したがって、液晶表示パネルなど
の大型の基板面上にマスク面上のパターンが高精度に投
影露光される。
【００１２】
【実施例】以下、図面を用いて本発明の実施例を説明す
る。図１は本発明の一実施例に係る露光装置の概略図で
ある。この装置は、図３の従来の装置を元にしたもので
あり、図１において、図３に対応する部分には同一符号
を付してその詳細説明を省略する。
る。図１は本発明の一実施例に係る露光装置の概略図で
ある。この装置は、図３の従来の装置を元にしたもので
あり、図１において、図３に対応する部分には同一符号
を付してその詳細説明を省略する。
【００１３】図１において、１７は照明系構造体であ
り、その上に照明系１を固定し、自身は床に固定されて
いる。照明系１とスリット結像系５とはスリット３の手
前で分離され、スリット結像系５は、位置微調機構１５
を介して投影光学系構造体１６に固定されている。
り、その上に照明系１を固定し、自身は床に固定されて
いる。照明系１とスリット結像系５とはスリット３の手
前で分離され、スリット結像系５は、位置微調機構１５
を介して投影光学系構造体１６に固定されている。
【００１４】光源２から放射された光は、光路折り曲げ
ミラーで反射しながらコンデンサレンズ、フライアイレ
ンズを通り、スリット３を矩形状にムラなく照明してい
る。スリット３を照明している光はスリット３で円弧ス
リット状に切り取られ、スリット結像系内の凹面鏡で反
射結像され、マスク４面上を円弧スリット状に照明して
いる。円弧スリット状に照明されたマスク４面上のパタ
ーンは、ミラー投影光学系７により基板６面上に等倍結
像している。そして、駆動手段によりキャリッジ８をＹ
方向に移動させることにより、円弧スリット状に照明さ
れたマスク４面上のパターンが順次基板６面上に投影露
光される。
ミラーで反射しながらコンデンサレンズ、フライアイレ
ンズを通り、スリット３を矩形状にムラなく照明してい
る。スリット３を照明している光はスリット３で円弧ス
リット状に切り取られ、スリット結像系内の凹面鏡で反
射結像され、マスク４面上を円弧スリット状に照明して
いる。円弧スリット状に照明されたマスク４面上のパタ
ーンは、ミラー投影光学系７により基板６面上に等倍結
像している。そして、駆動手段によりキャリッジ８をＹ
方向に移動させることにより、円弧スリット状に照明さ
れたマスク４面上のパターンが順次基板６面上に投影露
光される。
【００１５】本実施例のような、ミラー投影光学系を用
いた露光装置ではミラー投影光学系７に対するスリット
３の位置が、正確に合っていないと解像力が劣化する
が、スリット３より手前の部分の照明系１の位置は正確
に合わせる必要はないことに着目し、ここでは照明系１
とスリット結像系５を分離している。そして、照明系１
は照明系構造体１７により、スリット結像系５は投影光
学系構造体１６により、それぞれ別々に保持している。
いた露光装置ではミラー投影光学系７に対するスリット
３の位置が、正確に合っていないと解像力が劣化する
が、スリット３より手前の部分の照明系１の位置は正確
に合わせる必要はないことに着目し、ここでは照明系１
とスリット結像系５を分離している。そして、照明系１
は照明系構造体１７により、スリット結像系５は投影光
学系構造体１６により、それぞれ別々に保持している。
【００１６】従来例と同様に、照明系１は、その内部に
水銀ランプを持っているため、内部の熱を強制排気して
おり、その排気空気の流れが照明系１を振動させてい
る。しかし、照明系１は照明系構造体１７に固定されて
いるので、振動は床に伝わる。また、装置の他の部分は
防振足１２により床から振動が伝わることを防止してい
るので、照明系１の振動が装置の他の部分に伝わること
はない。同様に、照明系１は装置の他の部分と比較する
と温度がかなり高くなっているが、その熱が照明系構造
体１７を介して装置の他の部分に伝わることはない。し
かも、スリット結像系５内のスリット３はミラー投影光
学系７に対して正確に位置を合わせることができるの
で、解像力が劣化することもない。
水銀ランプを持っているため、内部の熱を強制排気して
おり、その排気空気の流れが照明系１を振動させてい
る。しかし、照明系１は照明系構造体１７に固定されて
いるので、振動は床に伝わる。また、装置の他の部分は
防振足１２により床から振動が伝わることを防止してい
るので、照明系１の振動が装置の他の部分に伝わること
はない。同様に、照明系１は装置の他の部分と比較する
と温度がかなり高くなっているが、その熱が照明系構造
体１７を介して装置の他の部分に伝わることはない。し
かも、スリット結像系５内のスリット３はミラー投影光
学系７に対して正確に位置を合わせることができるの
で、解像力が劣化することもない。
【００１７】図２は、本発明の他の実施例に係る露光装
置の概略図である。図２において、照明系１とスリット
結像系５はスリット３の手前で分離し、照明系１はチャ
ンバ１３に固定されており、スリット結像系５は、位置
微調機構１５を介して投影光学系構造体１６に固定され
ている。本実施例によれば、照明系１を保持するための
構造体を新たに設けることなく、照明系１の振動と熱が
装置の他の部分に伝わることを防止できる。
置の概略図である。図２において、照明系１とスリット
結像系５はスリット３の手前で分離し、照明系１はチャ
ンバ１３に固定されており、スリット結像系５は、位置
微調機構１５を介して投影光学系構造体１６に固定され
ている。本実施例によれば、照明系１を保持するための
構造体を新たに設けることなく、照明系１の振動と熱が
装置の他の部分に伝わることを防止できる。
【００１８】
【発明の効果】本発明によれば、照明系とスリット結像
系をそれらの筐体間に空間を有するように分離したた
め、照明系の振動と熱が装置の他の部分に伝わることを
防止することができ、これにより、液晶表示パネルなど
の大型の基板面上にマスク面上のパターンを高精度に投
影露光することができる。
系をそれらの筐体間に空間を有するように分離したた
め、照明系の振動と熱が装置の他の部分に伝わることを
防止することができ、これにより、液晶表示パネルなど
の大型の基板面上にマスク面上のパターンを高精度に投
影露光することができる。
【図１】 本発明の一実施例に係る露光装置の概略図で
ある。
ある。
【図２】 本発明の他の実施例に係る露光装置の概略図
である。
である。
【図３】 従来例に係る露光装置の概略図である。
１：照明系、２：光源、３：スリット、４：マスク、
５：スリット結像系、６：基板、７：ミラー投影光学
系、８：キャリッジ、９：静圧ガイド、１０：リニアモ
ータ、１１：基盤、１２：防振足、１３：チャンバ、１
４：熱排気ダクト、１５：位置微調機構、１６：投影光
学系構造体、１７：照明系構造体。
５：スリット結像系、６：基板、７：ミラー投影光学
系、８：キャリッジ、９：静圧ガイド、１０：リニアモ
ータ、１１：基盤、１２：防振足、１３：チャンバ、１
４：熱排気ダクト、１５：位置微調機構、１６：投影光
学系構造体、１７：照明系構造体。
フロントページの続き (56)参考文献 特開 昭62−18715（ＪＰ，Ａ) 特開 昭63−260021（ＪＰ，Ａ) 特開 平１−122119（ＪＰ，Ａ) 特開 平１−301126（ＪＰ，Ａ) 特開 平１−165116（ＪＰ，Ａ) 特開 昭64−37837（ＪＰ，Ａ) 特開 平１−196823（ＪＰ，Ａ) 特開 昭63−121833（ＪＰ，Ａ) 特開 平５−66357（ＪＰ，Ａ) 特開 平６−53113（ＪＰ，Ａ) 特開 平５−335198（ＪＰ，Ａ) (58)調査した分野(Int.Cl.7，ＤＢ名) H01L 21/027 G03F 7/20 G03F 9/00
Claims (3)
- 【請求項１】 スリットを有するスリット結像系、露光
光で前記スリット結像系を介してマスク面上をスリット
状に照明する照明系、前記照明系により発生する熱を排
気する排気手段、前記スリット状に照明された前記マス
ク面上のパターンを基板面上に投影する投影光学系、お
よび前記投影光学系に対し前記マスクと前記基板を相対
移動させる駆動手段を備えた露光装置において、 前記照明系と前記スリット結像系とをそれらの筐体の間
に空間を有するように前記スリットの手前で分離したこ
とを特徴とする露光装置。 - 【請求項２】 前記照明系は、前記投影光学系を保持し
ている構造体とは別の構造体で保持されていることを特
徴とする請求項１記載の露光装置。 - 【請求項３】 前記照明系は、装置のチャンバに保持さ
れていることを特徴とする請求項１または２記載の露光
装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP12745795A JP3187281B2 (ja) | 1995-04-28 | 1995-04-28 | 露光装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP12745795A JP3187281B2 (ja) | 1995-04-28 | 1995-04-28 | 露光装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH08306617A JPH08306617A (ja) | 1996-11-22 |
| JP3187281B2 true JP3187281B2 (ja) | 2001-07-11 |
Family
ID=14960407
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP12745795A Expired - Fee Related JP3187281B2 (ja) | 1995-04-28 | 1995-04-28 | 露光装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3187281B2 (ja) |
Families Citing this family (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR20010030903A (ko) | 1997-11-12 | 2001-04-16 | 오노 시게오 | 투영노광장치 |
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