KR20000022789A - 노광장치 - Google Patents

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KR20000022789A
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다끼구치마사오
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오노 시게오
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Abstract

조명광학계의 표면온도가 높아진 경우에도 레티클얼라인먼트검출계의 검출정밀도에 악영향을 미치지 않는 노광장치를 제공한다.
마스크에 조명광을 조사하는 조명광학계를 가지고, 마스크를 통해 조명광으로 기판을 노광하는 장치에 있어서, 조명광학계 중 적어도 일부가 지지되어 배치되는 케이스내에 청정화된 기체를 공급하는 기체공급장치와, 케이스 또는 그 주변의 온도를 조정하는 온도조정장치를 구비하는 구성으로 하였다.

Description

노광장치{AN EXPOSURE APPARATUS}
본 발명은 조명광학계에서 조사되는 조명광으로 마스크를 조명하고, 마스크에 형성된 패턴을 기판에 노광하는 노광장치에 관한 것으로서, 특히 조명광학계의 적어도 일부를 케이스내에 배치할 때 사용하기에 적합한 노광장치에 관한 것이다.
상기와 같은 노광장치로는 예컨대 도 5 에 나타내는 것이 있다.
이 도면에 나타내는 노광장치 (1) 는 챔버 (2) 의 내부에 노광장치본체 (3) 및 온도조정장치 (4) 를 배치하여 이루어지는 것이다. 노광장치본체 (3) 는 조명광학계 (5) 와, 레티클 (마스크) (R) 을 지지하는 레티클스테이지 (6) 와, 투영광학계 (7) 와, 기판 (P) 을 지지하는 기판스테이지 (8) 를 주체로 하여 구성되며, 챔버 (2) 내의 온도조정실 (11) 에 수용되어 있다.
조명광학계 (5) 는 도 6 에 나타내는 바와 같이 광원 (9) 에서 발생되는 광속으로부터 필요한 파장을 선택하고, 또한 균일한 조명분포로 한 노광광에 의해 레티클스테이지 (6) 상에 지지된 레티클 (R) 을 조명하는 것이다.
투영광학계 (7) 는 노광광에 의해 조명된 레티클 (R) 의 패턴 (PA) 의 이미지를 기판스테이지 (8) 상에 지지된 기판 (P) 에 투영하는 것이다.
또한, 조명광학계 (5) 와 레티클스테이지 (6) 사이에는 레티클얼라인먼트검출계 (10) 가 설치되어 있다. 레티클얼라인먼트검출계 (10) 는 기판스테이지 (8) 상에 배치된 기준마크 (FM) 를 투영광학계 (7) 를 통해 검출함과 동시에, 레티클 (R) 상에 형성된 얼라인먼트용 레티클마크 (마크) (RM) 를 검출하는 것이다. 그리고, 이들 검출결과에 의거하여 레티클 (R) 과 기판스테이지 (8) 의 좌표와의 편차를 산출함으로써, 레티클 (R) 과 기판스테이지 (8) 의 위치정렬이 이루어진다.
온도조정장치 (4) 는 리턴덕트 (12) 에서 도입되는 온도조정실 (11) 내의 공기 및 외기도입구 (13) 를 통해 도입된 공기를 소정의 온도로 조정함과 동시에, 온도조정된 공기를 격벽 (14) 의 송출구 (도입구) (15) 로부터 온도조정실 (11) 로 송출하는 것이다. 송출구 (15) 에는 공기중의 진애를 제거하기 위한 필터 (도시하지 않음) 가 설치되어 있다.
그리고, 온도조정실 (11) 은 온도조정장치 (4) 에 의해 온도조정되고, 또한 필터에 의해 진애를 제거한 청정한 공기가 방출됨으로써 일정한 온도, 청정도를 갖는 환경으로 유지된다.
그런데, 최근 조명광학계 (5) 내의 광학소자, 예컨대 유리부품의 표면에 입자가 부착되어 레티클 (R) 의 패턴 (PA) 을 기판 (P) 에 투영할 때의 조도가 급격하게 저하되는 현상이 발생하고 있다. 이 현상은 예컨대 광원 (9) 으로서 ArF 엑시머레이저를 사용한 경우, 발광스펙트럼선이 산소의 흡수스펙트럼영역과 겹쳐서, 산소의 흡수로 인한 광이용효율의 저하나, 온도조정실 (11) 내의 공기중에 함유되는 화학물질이 조명광학계 (5) 내의 광원 (9) 으로부터 발생되는 자외선 (특히 i 선 보다 짧은 파장의 광 등) 에 의해 광화학반응을 일으킴으로써 황산암모늄을 생성하고, 이것이 유리부품에 부착되는 것에 기인하는 것이다.
이 대책으로서 조명광학계 (5) 를 용기내에 수용함과 동시에, 광원 (9) 주변을 제외한 조명광학계 (5) 내를 밀폐도를 높게 한 다음, 그 안을 N2가스 등과 같은 광의 흡수가 적고 광화학반응에 대해 불활성인 기체로 충만시킴으로써 광화학반응을 잘 일으키지 않게 하는 이른바 N2퍼지라는 방식이 채용되고 있다. 그리고, 이 방식을 채용함으로써, 조명광학계 (5) 내의 유리부품에 부착되는 황산암모늄 등의 불순물이 감소하여 불순물을 제거하는 작업간격을 대폭적으로 길게 할 수 있게 되었다.
그러나, 상술한 바와 같은 종래의 노광장치에는 다음과 같은 문제가 존재한다.
조명광학계 (5) 는 광원 (9) 을 포함하는 빛의 통로이기 때문에 상당한 열이 발생한다. 그래서, 종래의 조명광학계 (5) 에서는 조명광학계 (5) 부분 전체로부터의 공기로의 방열이나, 도 6 에 나타내는 바와 같이 흡기구 (16) 로부터 도입된 공기를 열배출덕트 (17) 에서 배출함으로써 조명광학계 (5) 내 전반의 열배출이 이루어져서, 조명광학계 (5) 를 구성하는 광학소자의 표면온도가 지나치게 높아지는 경우는 없었다.
그러나, N2퍼지에 의해 광원 (9) 을 제외한 다른 광학소자를, 밀폐도를 높게 한 상태에서 분리하기 때문에, 밀폐된 부분의 열배출이 저해되어 N2퍼지영역에 열이 체류하여 이 부분의 표면온도가 높아진다.
조명광학계 (5) 의 표면온도가 높아지면 이 조명광학계 (5) 주변의 기온이 상승하고, 열에 의한 공기변동이 발생된다. 이로 인해 조명광학계 (5) 의 바로 가까이에 있는 레티클얼라인먼트검출계 (10) 에서는 이 공기변동으로 인해 상기 기준마크 (FM) 및 레티클마크 (RM) 를 검출할 때의 정밀도가 악화되는 문제가 발생한다.
본 발명은 이상과 같은 점을 고려하여 이루어진 것으로서, 조명광학계의 표면온도가 높아진 경우에도 레티클얼라인먼트검출계의 검출정밀도에 악영향을 미치지 않는 노광장치를 제공하는 것을 목적으로 한다.
도 1 은 본 발명의 제 1 실시형태를 나타내는 도면으로서, 온도조정장치, N2공급장치 및 온도조정장치를 구비한 노광장치의 개략구성도이다.
도 2 는 본 발명의 노광장치를 구성하는 조명광학계가 케이스내에 배치된 개략구성도이다.
도 3 은 본 발명의 제 2 실시형태를 나타내는 도면으로서, 송풍기를 독립적으로 갖는 온도조정장치가 배치된 노광장치의 개략구성도이다.
도 4 는 본 발명의 제 3 실시형태를 나타내는 도면으로서, 온도조정기 및 송풍기를 독립적으로 갖는 온도조정장치가 배치된 노광장치의 개략구성도이다.
도 5 는 종래기술에 의한 공조장치를 구비한 노광장치의 일례를 나타내는 개략구성도이다.
도 6 은 종래기술의 노광장치를 구성하는 조명광학계가 케이스내에 배치된 개략구성도이다.
※ 도면의 주요부분에 대한 부호의 설명
P : 기판 R : 레티클 (마스크)
RM : 레티클마크 (마크) 2 : 챔버
3 : 노광장치본체 7 : 투영광학계
11 : 온도조정실 (소정공간) 15 : 송출구 (도입구)
18 : 노광장치 19 : 공조장치 (온도제어장치)
21 : 케이스 39 : N2공급장치 (기체공급장치)
40 : N2온도조정부 (기체온도조정부)
42,55 : 온도조정기 43,51 : 송풍기
47,49,54 : 온도조정장치 48 : 도입덕트 (제 1 도입로)
49 : 도입덕트 (제 2 도입로)
상기 목적을 달성하기 위하여 본 발명은 다음과 같은 구성을 채용하고 있다.
본 발명의 노광장치는 마스크 (R) 에 조명광을 조사하는 조명광학계 (20) 를 가지고, 마스크 (R) 를 통해 조명광으로 기판 (P) 을 노광하는 장치 (18) 에 있어서, 조명광학계 (20) 의 적어도 일부 (23 내지 28) 가 지지되어 배치되는 케이스 (21) 내에 청정화된 기체를 공급하는 기체공급장치 (38) 와, 케이스 (21) 또는 그 주변의 온도를 조정하는 온도조정장치 (47,49,54) 를 구비한 것을 특징으로 하는 것이다.
따라서, 본 발명의 노광장치에서는 조명광학계 (20) 중에서 광원 (9) 을 제외한 적어도 일부 (23 내지 28) 를 지지하여 배치한 케이스 (21) 내에, 기체공급장치 (39) 가 청정화된 기체, 예컨대 N2등과 같은 광화학반응에 대해 불활성인 기체를 공급할 수 있다. 그리고, 열배출이 저해되어 케이스 (21) 의 표면온도가 높아진 경우에는 온도조정장치 (47,49,54) 가 케이스 (21), 또는 그 주변의 온도를 조정함으로써, 조명광학계 (20) 주변의 기온이 상승하는 것을 방지할 수 있다.
이하, 본 발명의 노광장치의 제 1 실시형태를 도 1 및 도 2 를 참조하여 설명한다. 여기에서는 노광장치를 예컨대 투영형의 노광장치로 하는 경우의 예를 들어 설명한다.
이들 도면에서, 종례예로 나타낸 도 5 및 도 6 과 동일한 구성요소에는 동일한 부호를 붙이고 그 설명을 간략하게 한다.
도 1 은 노광장치 (18) 의 개략구성도이다.
노광장치 (18) 는 챔버 (2) 내부에 노광장치본체 (3), 공조장치 (온도제어장치) (19) 를 배치함과 동시에 스테이지제어계 (36), 얼라인먼트제어계 (37), 주제어계 (39) 를 구비하여 이루어지는 것이다. 노광장치본체 (3) 는 조명광학계 (20) 와, 레티클 (R) 을 지지하는 레티클스테이지 (6) 와, 투영광학계 (7) 와, 기판 (P) 을 지지하는 기판스테이지 (8) 를 주체로 하여 구성되고, 이들은 챔버 (2) 내의 온도조정실 (소정공간) (11) 에 수납되어 있다.
조명광학계 (20) 는 도 2 에 나타내는 바와 같이 광원 (9) 에서 발생되는 조명광에 의해 레티클 (R) 에 형성된 패턴 (PA) 을 조명하는 것으로서, 케이스 (21) 와, 이 케이스 (21) 내에 설치되는 광원 (9), 타원경 (22), 굴곡미러 (23,24), 입력렌즈 (25), 간섭필터 (26), 플라이아이인테그레이터 (27), 릴레이렌즈 (28), 레티클블라인드 (도시하지 않음) 및 케이스 (21) 의 선단에 설치되는 콘덴서렌즈 (29) 로 개략 구성되어 있다.
그리고, 이들 광원 (9), 굴곡미러 (23), 입력렌즈 (25), 간섭필터 (26), 플라이아이인테그레이터 (27), 릴레이렌즈 (28), 레티클블라인드, 굴곡미러 (24) 및 콘덴서렌즈 (29) 는 레티클 (R) 로 조명하기 위한 광로를 따라 차례로 설치되어 있다.
타원경 (22) 은 광원 (9) 이 사출한 광속을 집광하는 것이다. 굴곡미러 (23,24) 는 입사한 광속을 각각 굴절시켜 반사하는 것이다. 입력렌즈 (25) 는 굴곡미러 (23) 에 의해 굴절된 광속을 거의 평행한 광속으로 하는 것이다. 간섭필터 (26) 는 입사된 광속 중에서 노광에 필요한 파장 (g 선이나 i 선) 만을 통과시키는 것이다.
플라이아이인테그레이터 (27) 는 간섭필터 (26) 를 통과한 광속의 조도분포를 균일하게 하는 것이다. 릴레이렌즈 (28) 는 플라이아이인테그레이터 (27) 에 의해 조도분포가 균일하게 된 광속을 거의 평행한 광속으로 하는 것이다. 레티클블라인드는 레티클 (R) 에 대한 조명영역을 설정하는 것이다. 콘덴서렌즈 (29) 는 레티클블라인드에 의해 설정된 조명영역의 이미지를 레티클 (R) 에 결상시키는 것이다.
케이스 (21) 는 커버유리를 포함하는 격벽 (30) 에 의해 광원실 (31) 과 N2퍼지실 (32) 로 분리되어 있다. 커버유리는 합성석영으로 이루어지고, 조명광이 통과하는 영역을 포함하는 크기로 정해져 있다. 광원실 (31) 에는 광원 (9) 및 타원경 (22) 이 수용되어 있다. 또한, 이 광원실 (31) 에는 흡기구 (16) 및 열배출덕트 (17) 가 형성되어 있다. 그리고, 흡기구 (16) 에서 도입한 공기를 열배출덕트 (17) 로 배출시킴으로써, 광원 (9) 이 발한 열을 열배출하는 구성으로 되어 있다.
N2퍼지실 (32) 에는 굴곡미러 (23,24), 입력렌즈 (25), 간섭필터 (26), 플라이아이렌즈 (옵티컬·인테그레이터) (27), 릴레이렌즈 (28), 레티클블라인드가 수용되어 있다. 또한, N2퍼지실 (32) 에는 N2가스 (기체) 를 도입하여 이 N2퍼지실 (32) 내를 N2가스로 충만시키기 위한 N2도입구 (33) 가 형성되어 있다.
이 N2도입구 (33) 에는 N2공급장치 (기체공급장치) (39) 가 접속되어 있다. N2공급장치 (39) 는 N2도입구 (33) 를 통해 N2퍼지실 (32) 내로 필터 등에 의해 청정화된 N2가스를 공급하는 것이다. 또한, 이 N2공급장치 (39) 에는 N2온도조정부 (기체온도조정부) (40) 가 부설되어 있다. N2온도조정부 (40) 는 N2공급장치 (39) 에 의해 N2퍼지실 (32) 내로 공급되는 N2가스의 온도를 조정하는 것이다.
레티클스테이지 (6) 는 올려놓아진 레티클 (R) 을 지지하는 것으로서, X-Y 평면내에서 2 차원적으로 이동할 수 있게 되어 있다. 그리고, 이 레티클스테이지 (6) 에는 스테이지제어계 (36) 가 접속되어 있다.
투영광학계 (7) 는 조명광으로 조명된 레티클 (R) 의 패턴 (PA) 의 이미지를 기판스테이지 (8) 상에 지지된 기판 (R) 에 투영하는 것으로서, 그 경통 (7a) 은 노광장치본체 (3) 내의 제 1 가대 (9) 에 고정되어 있다. 이 제 1 가대 (9) 의 내측에는 플레이트얼라인먼트검출계 (34) 가 부착되어 있다. 플레이트얼라인먼트검출계 (34) 는 기판 (P) 상에 형성된 기판마크 (PM) 및 기판스테이지 (8) 상에 형성된 기준마크 (FM) 를 검출하는 것이다.
기판스테이지 (8) 는 기판 (P) 을 지지한 상태에서, X-Y 평면내에서 2 차원적으로 이동함과 동시에 Z 방향으로도 이동할 수 있게 되어 있다. 그리고, 기판스테이지 (8) 의 X-Y 평면의 좌표는 레이저간섭식 길이측정기 (35) 가 기판스테이지 (8) 상에 설치된 이동경 (8a) 에 레이저발진기 (35a) 로부터 발한 레이저빔을 조사함으로써 계측된다.
또한, 기판스테이지 (8) 에는 스테이지제어계 (36) 가 접속되어 있다. 스테이지제어계 (36) 에는 레이저간섭식 길이측정기 (35) 가 접속되어 있다. 스테이지제어계 (36) 는 레티클스테이지 (6) 를 X-Y 평면내에서 이동시켜 소정위치로 배치함과 동시에 레이저간섭식 길이측정기 (35) 가 계측한 결과에 의거하여 기판스테이지 (8) 를 X-Y 평면내에서 이동시켜 소정위치로 배치하는 것이다. 또한, 스테이지제어계 (36) 는 기판스테이지 (8) 를 Z 방향으로 이동시켜, 레티클 (R) 의 패턴 이미지를 투영광학계 (7) 를 통해 기판 (P) 상에 맞추도록 제어하는 구성으로도 되어 있다.
또한, 기판스테이지 (8) 의 상방, 또한 투영광학계 (7) 의 측방에는 포커스검출계 (AF) 가 배치되어 있다. 포커스검출계 (AF) 는 레티클 (R) 에 형성된 패턴 (PA) 을 기판 (P) 상에 투영하였을 때의 결상상태에 관한 정보를 검출하는 것이다. 그리고, 이 포커스검출계 (AF) 의 검출결과는 주제어계 (38) 에 출력된다.
한편, 레티클스테이지 (6) 상방의 조명광학계 (20) 와의 사이에는 레이클얼라인먼트검출계 (10) 가 설치되어 있다. 레티클얼라인먼트검출계 (10) 는 기판스테이지 (8) 상에 배치된 기준마크 (FM) 를 투영광학계 (7) 를 통해 검출함과 동시에 레티클 (R) 상에 형성된 얼라인먼트용 레티클마크 (RM) 를 검출하는 것이다. 그리고, 레티클얼라인먼트검출계 (10) 및 플레이트얼라인먼트검출계 (34) 에는 얼라인먼트제어계 (37) 가 접속되어 있다.
얼라인먼트제어계 (37) 는 레티클얼라인먼트검출계 (10) 및 플레이트얼라인먼트검출계 (34) 의 검출결과에 의거하여 투영광학계 (7) 와 기판스테이지 (8) 사이의 얼라인먼트를 실시하는 것이다.
주제어계 (38) 는 포커스검출계 (AF) 의 검출결과에 의거하여 스테이지제어계 (36) 및 얼라인먼트제어계 (37) 를 통괄하여 제어하는 것이다.
공조장치 (19) 는 온도조정실 (11) 내의 온도를 제어하는 것으로서, 유통로 (41) 에 배치된 온도조정기 (42) 와 송풍기 (43) 를 주체로 하여 구성되어 있다.
유통로 (41) 는 리턴덕트 (12), 송출덕트 (44) 를 구비하고, 온도제어된 에어 (기체) 가 송출덕트 (44) 에서 격벽 (14) 의 송출구 (15) 를 통해 온도조정실 (11) 내로 유도됨과 동시에, 온도조정실 (11) 내로부터 리턴덕트 (12) 를 거쳐 다시 송출덕트 (44) 로 순환하도록 형성되어 있다. 또한 리턴덕트 (12) 로부터 도입되는 에어는 외기도입구 (13) 로부터 도입되는 에어와 혼합되는 구성으로 되어 있다. 또한, 도시하지 않지만 외기도입구 (13) 의 근방에는 HEPA (High Efficiency Particulate Air) 필터와 케미컬필터가 설치되어 있어, 청정실내로부터 유입하는 에어 (공기) 에서 진애, 유기물, 암모늄이온, 황산이온 등을 제거하고 있다.
온도조정기 (42) 는 리턴덕트 (12) 및 외기도입구 (13) 를 통해 도입된 에어의 온도를 제어하는 것으로서, 히터 (45) 및 쿨러 (46) 를 구비하고 있다. 송풍기 (43) 는 온도조정기 (42) 에 의해 온도제어된 에어에 압력을 가하여 송출덕트 (44) 를 향해 송출하는 것이다.
또한, 공조장치 (19) 에는 온도조정장치 (47) 가 부설되어 있다. 온도조정장치 (47) 는 온도조정된 에어를 송출함으로써 케이스 (21) 주변의 온도를 조정하는 것으로서, 도입덕트 (제 1 도입로) (48), 에어의 온도를 제어하는 온도조정기 및 온도제어된 에어를 송출하는 송풍기를 구비하는 것인데, 본 실시형태에서는 공조장치 (19) 의 온도조정기 (42), 송풍기 (43) 를 겸용하는 구성으로 되어 있다.
도입덕트 (48) 는 일방의 개구단이 송출구 (15) 를 향하도록 격벽 (14) 에 부착되어 있다. 그리고, 도입덕트 (48) 의 타방의 개구단은 케이스 (21) 의 주변, 특히 조명광학계 (20) 와 이것에 인접하는 레티클얼라인먼트검출계 (10) 사이로 에어를 유도하도록 배치되어 있다.
이하, 상기 구성의 노광장치의 작용에 대해 설명한다.
먼저, 챔버 (2) 의 온도조정실 (11) 내에는 공조장치 (19) 의 온도조정기 (42) 에 의해 온도제어된 에어가 송풍기 (43) 에 의해 송출덕트 (44) 에서 송출구 (15) 를 통해 층류상태로 송출된다. 이 때 에어는 필터에 의해 진애, 이온 등이 제거되기 때문에 화학적으로도 청정화된 상태로 온도조정실 (11) 내로 송출된다.
그리고, 공조장치 (19) 는 온도조정실 (11) 내의 에어를 리턴덕트 (12) 로부터 도입함과 동시에, 외기도입구 (13) 로부터 에어를 도입하여 다시 온도조정기 (42) 및 송풍기 (43) 를 통과시킨다. 그럼으로써 온도조정실 (11) 내는 에어가 유통로 (41) 에서 순환하면서 온도제어 및 진애제거를 반복함으로써 일정한 온도, 청정도로 유지된다.
한편, 송출구 (15) 에서 송출된 에어의 일부는 온도조정장치 (47) 의 도입덕트 (48) 에 의해, 조명광학계 (20) 와 레티클얼라인먼트검출계 (10) 사이로 도입되어 케이스 (21) 및 그 주변의 온도를 조정한다.
그리고, 도 2 에 나타내는 바와 같이 케이스 (21) 의 광원실 (31) 에서는 광원 (9) 에서 발생된 열이, 흡기구 (16) 로부터 도입된 에어를 열배출덕트 (17) 로 배출시킴으로써 열배출된다. 또한, N2퍼지실 (32) 에서는 N2공급장치 (39) 에서 공급된 N2가스가 N2온도조정부 (40) 에서 온도조정된 후에 N2도입구 (33) 를 통해 도입되어 충만되어 있다.
그리고, 이어서 주제어계 (38) 가 스테이지제어계 (36) 및 얼라인먼트제어계 (37) 로 지령을 보내서 투영광학계 (7) 와 기판스테이지 (8) 사이의 얼라인먼트를 실시한다.
즉, 얼라인먼트제어계 (37) 의 지령에 의거하여 레티클얼라인먼트검출계 (10) 가 기판스테이지 (8) 상의 기준마크 (FM) 와, 레티클 (R) 상의 레티클마크 (RM) 를 투영광학계 (7) 를 통해 검출한다. 이 때, 스테이지제어계 (36) 는 레이저간섭식 길이측정기 (35) 가 계측한 결과에 의거하여 레티클얼라인먼트검출계 (10) 가 기준마크 (FM) 및 레티클마크 (RM) 를 검출할 수 있는 위치로 기판스테이지 (8) 및 레티클스테이지 (6) 를 X-Y 평면내에서 이동시킨다. 레티클얼라인먼트검출계 (10) 가 기준마크 (FM) 및 레티클마크 (RM) 를 검출하였을 때의 기판스테이지 (8) 의 좌표위치는 레이저간섭식 길이측정기 (35) 가 계측한다.
이어서, 플레이트얼라인먼트검출계 (34) 가 기판스테이지 (8) 상의 기준마크 (FM) 를 검출한다. 이 때의 기판스테이지 (8) 의 좌표위치는 상기와 마찬가지로 레이저간섭식 길이측정기 (35) 가 계측한다. 그리고, 양 계측결과의 좌표의 편차를 산출한 후에 산출결과에 의거하여 레티클스테이지 (6) 를 이동시킴으로써 기판스테이지 (8) 와 투영광학계 (7) 를 통한 레티클 (R) 과의 위치정렬이 이루어진다.
이어서, 노광공정에 있어서, 광원 (9) 에서 사출된 광속은 타원경 (22) 에 의해 집광된 후에 격벽 (커버유리) (30) 을 투과하여 굴곡미러 (23) 에 입사하여 굴절된다 (반사된다). 반사된 광속은 입력렌즈 (25) 에 의해 거의 평행하게 된 후에 간섭필터 (26) 에 입사하여 노광에 필요한 파장만이 통과된다.
간섭필터 (26) 를 통과한 광속은 플라이아이인테그레이터 (27) 에 의해 조도분포가 균일하게 된 후에, 릴레이렌즈 (28) 에 의해 다시 거의 평행해진다. 그리고, 레티클블라인드에 의해 레티클 (R) 에 대한 조명영역이 설정된 광속은 콘덴서렌즈 (29) 를 통과하여 조명광으로서 레티클 (R) 을 조명한다.
조명광으로 조명된 레티클 (R) 의 패턴 (PA) 의 이미지는 기판 (P) 상에 투영되어 노광된다. 그리고, 기판 (P) 상의 패턴 (PA) 의 결상상태는 포커스검출계 (AF) 가 검출하고 있다. 그리고, 결상상태가 소정의 상태가 아닌 경우에는 주제어계 (38) 가 스테이지제어계 (36) 에 지령을 보내서 기판스테이지 (8) 를 Z 방향으로 이동시켜 상기 패턴 (PA) 의 이미지를 기판 (P) 상에 맞춘다.
본 실시형태의 노광장치에서는 공조장치 (19) 에 의해 온도조정실 (11) 내의 온도를 일정하게 유지할 수 있음과 동시에 N2퍼지실 (32) 의 온도가 높아져서 케이스 (21) 의 표면온도가 높아지더라도 온도조정장치 (47) 의 도입덕트 (48) 가 송출구 (15) 로부터 송출되는 에어에 의해 청정화되고, 또한 온도제어된 에어의 일부를 조명광학계 (20) 와 레티클얼라인먼트검출계 (10) 사이로 유도하여 이 사이를 소정온도로 조정, 유지할 수 있다. 따라서, 본 실시형태의 노광장치에서는 조명광학계 (20) 주변에서 온도상승으로 인한 공기변동의 발생을 방지할 수 있으므로, 레티클얼라인먼트검출계 (10) 의 검출정밀도가 악화되는 것을 방지할 수 있다.
또한, 본 실시형태의 노광장치에서는 N2공급장치 (39) 가 공급하는 N2가스를 N2온도조정부가 온도조정하고 있으므로, N2퍼지실 (32) 내의 온도상승을 억제할 수도 있어, 상기 도입덕트 (48) 를 이용한 온도조정을 한층 효과적으로 실시할 수 있다. 또한 본 실시형태의 노광장치에서는 온도조정장치 (47) 가 공조장치 (19) 의 온도조정기 (42) 및 송풍기 (43) 를 겸용하고 있으므로, 별도로 각 기를 장비할 필요가 없어 장치를 소형화할 수 있다.
도 3 은 본 발명의 노광장치의 제 2 실시형태를 나타내는 도면이다.
이 도면에 있어서, 도 1 및 도 2 에 나타내는 제 1 실시형태의 구성요소와 동일한 요소에 대해서는 동일한 부호를 붙이고 그 설명을 생략한다.
제 2 실시형태와 상기 제 1 실시형태가 다른 점은 온도조정장치의 구성이다.
즉, 이 도면에 나타내는 온도조정장치 (49) 는 도입덕트 (제 2 도입로) (50) 와 에어의 온도를 제어하는 온도조정기 (42) 및 온도제어된 에어에 압력을 가하여 송출하는 송풍기 (51) 를 구비하고 있다. 온도조정장치 (49) 는 이 송풍기 (51) 를 독립적으로 가지고 있는데, 온도조정기 (42) 를 공조장치 (19) 와 겸용하는 구성으로 되어 있다.
도입덕트 (50) 는 일방의 개구단이 격벽 (52) 에 부착되어 있고, 타방의 개구단이 케이스 (21) 의 주변, 특히 조명광학계 (20) 와 이것에 인접한 레티클얼라인먼트검출계 (10) 사이로 에어를 유도하도록 배치되어 있다. 격벽 (52) 은 격벽 (14) 과 독립하여 이 격벽 (14) 에 인접배치되어 있다. 격벽 (52) 에는 에어가 송출되는 송출구 (53) 가 형성되어 있다.
송출구 (53) 에는 에어중의 진애를 제거하기 위한 필터나 유기물, 이온 등을 제거하는 필터 (도시하지 않음) 가 설치되어 있다. 그리고, 송풍기 (51) 는 공조장치 (19) 의 송풍기 (43) 가 송출하는 에어의 일부를 분기한 것을 송출구 (53) 를 향해 송출하는 구성으로 되어 있다.
다른 구성은 상기 제 1 실시형태와 동일하다.
본 실시형태의 노광장치는 상기 제 1 실시형태와 동일한 작용, 효과가 얻어지는 것과 더불어 도입덕트 (50) 가 격벽 (14) 의 송출구 (15) 와는 다른 입구인 송출구 (53) 로부터 온도제어된 에어의 일부를 케이스 (21) 의 주변으로 유도하므로, 송출구 (15) 에서 층류상태로 온도조정실 (11) 내로 송출되는 에어의 흐름을 도입덕트 (50) 가 분산시키는 것을 방지할 수 있다. 따라서 에어의 흐름이 분산되었을 때에 도입덕트 (50) 주변의 압력이 저하함으로써 에어중에 포함되는 미소한 진애가, 예컨대 도입덕트 (50) 의 상부에 고이는 것을 방지할 수 있으므로 온도조정실 (11) 내의 청정도를 유지할 수 있다.
또한 본 실시형태의 노광장치에서는 온도조정장치 (49) 가 송풍기 (51) 를 독립적으로 가지고 있으므로, 도입덕트 (50) 를 통해 유도하는 에어의 유량을 독립적으로 조정할 수 있게 된다. 따라서, 케이스 (21) 주변으로 송출하는 에어의 유량을 케이스 (21) 의 표면온도 등, 상황에 따라 용이하게 조정할 수 있게 된다.
도 4 는 본 발명의 노광장치의 제 3 실시형태를 나타내는 도면이다.
이 도면에 있어서, 도 3 에 나타내는 제 2 실시형태의 구성요소와 동일한 요소에 대해서는 동일한 부호를 붙이고 그 설명을 생략한다.
제 3 실시형태와 상기 제 2 실시형태가 다른 점은 온도조정장치의 구성이다.
즉, 이 도면에 나타내는 온도조정장치 (54) 는 도입덕트 (50) 와, 에어의 온도를 제어하는 온도조정기 (55) 와, 온도제어된 에어에 압력을 가하여 송출하는 송풍기 (51) 와, 온도센서 (도시하지 않음) 를 구비하고 있다. 따라서, 본 실시형태의 노광장치에서는 온도조정장치 (54) 와 공조장치 (19) 가 각각 독립적으로 온도조정기 및 송풍기를 병행상태로 갖는 구성으로 되어 있다.
온도조정기 (55) 는 도입한 에어의 온도를 제어하는 것으로서, 히터 (56) 및 쿨러 (57) 를 구비하고 있다. 이 온도조정기 (55) 에 도입되는 에어는 리턴덕트 (12) 및 외기도입구 (13) 를 통해 도입된 에어를 일단 혼합한 후에 공조장치 (19) 용과 온도조정장치 (54) 용으로 분기한 것이다.
도입덕트 (50) 는 일방의 개구단이 격벽 (58) 에 부착되어 있고, 타방의 개구단이 케이스 (21) 의 주변, 특히 조명광학계 (20) 와 이것에 인접하는 레티클얼라인먼트검출계 (10) 사이로 에어를 유도하도록 배치되어 있다. 격벽 (58) 은 격벽 (14) 과 독립하도록 이 격벽 (14) 과 떨어져 배치되어 있다.
또한, 격벽 (58) 에는 에어가 송출되는 송출구 (53) 및 상기 온도센서가 설치되어 있다. 온도센서는 송풍기 (51) 에 의해 송출된 에어의 온도를 검출하는 것이다. 그리고, 이 온도조정장치 (54) 에서는 온도센서의 검출결과에 의거하여 온도조정기 (55), 즉 히터 (56) 및 쿨러 (57) 를 구동하는 구성으로 되어 있다.
본 실시형태의 노광장치에서는 상기 제 2 실시형태와 동일한 작용, 효과가 얻어지는 것과 더불어 온도조정장치 (54) 가 온도조정기 (55) 를 독립적으로 가지고 있으므로, 온도조정실 (11) 내의 온도에 상관없이 케이스 (21) 주변으로 송출하는 에어의 온도를 이 케이스 (21) 의 표면온도 등의 상황에 따라 온도조정실 (11) 내와는 다른 온도로도 용이하게 조정할 수 있다.
또한, 본 실시형태의 노광장치에서는 온도센서가 케이스 (21) 주변으로 송출하는 에어의 온도를 검출하여 이 검출한 온도에 의거하여 온도조정기 (55) 가 에어의 온도를 조정하므로, 에어의 온도를 모니터하면서 미리 설정된 온도로 조정할 수도 있다.
그리고, 상기 실시형태에 있어서, 도입덕트 (48,50) 가 조명광학계 (20) 와 이것에 인접하는 레티클얼라인먼트검출계 (10) 사이로 에어를 유도하는 구성으로 하였으나, 이에 한정되는 것은 아니며, 플레이트얼라인먼트검출계 (34) 의 주변이나 레티클 (R) 상의 레티클마크 (RM) 를 검출하는 다른 광학계의 주변 및 투영광학계 (7) 의 주변으로 온도조정된 에어를 유도하는 구성이나, 도입덕트를 복수 형성하고, 각 도입덕트가 상기 복수의 다른 광학계 주변 및 투영광학계 (7) 의 주변으로 온도조정된 에어를 각각 송출하는 구성으로 해도 된다. 또한, 조명광학계 (20) 와 동일하게 투영광학계 (7) 를 케이스 (21) 로 밀봉하여 N2퍼지해도 된다.
또한, 케이스 (21) 를 덮듯이 유체의 유로를 형성하는, 예컨대 케이스 (21) 를 이중구조로 하여, 그 사이에 유체를 공급하도록 구성하고, 케이스 (21) 를 직접냉각 (온조) 하도록 해도 된다. 이 때, 냉매는 기체여도 좋고 액체여도 좋으며, 액체로는 플로리나이트 (상품명) 등을 사용할 수 있다.
또한, 상기 실시형태에서, 케이스 (21) 주변의 온도를 조정하는 온도조정장치를, 도입덕트에서 온도조정된 에어를 송출하는 구성으로 하였으나, 이에 한정되는 것은 아니며, 예컨대 N2공급장치 (39) 및 N2온도조정부 (40) 에 의해 케이스 (21) 내로 공급되는 N2가스의 온도를 조정함으로써 케이스 (21) 의 표면온도를 조정하는 구성으로 해도 된다. 이 경우, 이 구성은 온도조정실 (11) 내와의 온도차를 크게 할 수 없기 때문에 조정가능한 온도폭을 작게 한정할 필요가 있어 보조적으로 사용하는 것이 바람직하다.
또한 케이스 (21) 내로 공급되는 기체를 N2가스로 하였지만, 예컨대 헬륨 등을 포함하는 광화학반응에 대해 불활성인 가스나, 유기물이나 이온 등이 제거된 화학적으로 청정한 드라이에어 (예컨대 습도가 5 % 정도 이하인 건조공기) 를 사용해도 된다. 또한, 케이스 (21) 내의 압력이 일정하게 되도록 N2공급장치 (40) 에 압력조정기구를 설치해도 된다. 이 압력조정기구를 설치함으로써 케이스 (21) 내의 압력변화에 의한 조명광학계 (20) 의 결상특성의 변화를 방지할 수 있다.
또한, 상기 제 2 실시형태에 있어서, 온도조정장치 (49) 가 온도조정기를 공조장치 (19) 와 겸용하는 구성으로 하였지만, 이에 한정되는 것은 아니며 송풍기를 공조장치 (19) 와 겸용하는 구성으로 해도 된다.
한편, 케이스 (21) 내에 조명광학계 (20) 를 구성하는 광학소자의 일부를 수납하는 구성으로 하였지만, 이에 한정되지 않고 조명광학계 (20) 를 구성하는 모든 광학소자를 케이스 (21) 내에 수납해도 된다. 또한, 이들 조명광학계 (20) 를 구성하는 광학소자의 일부를 챔버 (2) 밖에 배치하는 구성으로 해도 된다. 또한 광원 (9) 을 조명광학계 (20) 에서 분리하여 따로 두어도 된다.
그리고, 기판 (P) 으로는 액정표시소자용 유리기판이나 반도체장치용 반도체 웨이퍼, 박막자기헤드용 세라믹웨이퍼, 혹은 노광장치에서 사용되는 마스크 또는 레티클기판 (합성석영, 실리콘웨이퍼) 등이 적용된다.
노광장치로는 레티클 (R) 과 기판 (P) 을 정지시킨 상태에서 레티클 (R) 의 패턴 (PA) 을 노광하고, 기판 (P) 을 순차적으로 스텝이동시키는 스텝·앤드·리피트 방식의 투영노광장치 (스텝퍼) 에도, 레티클 (R) 과 기판 (P) 을 동기이동하여 레티클 (R) 의 패턴 (PA) 을 노광하는 스텝·앤드·스캔 방식의 주사형노광장치 (스캐닝·스텝퍼) 에도 적용할 수 있다. 주사형노광장치로는 미국 특허 제 5,715,037 호에 개시되어 있는 바와 같이 레티클을 복수의 조명광학계를 사용하여 조명함과 동시에 복수의 투영광학계를 사용하여 레티클의 패턴 이미지를 기판에 투영하는 것이 있다. 이와 같이 복수의 조명계를 사용하는 경우에는 각각의 조명광학계를 케이스 (21) 에 의해 독립적으로 밀봉하여 N2퍼지를 함과 동시에 각각의 케이스 (21) 를 향해 온도조정된 기체를 송풍하면 된다. 그리고, 미국 특허 제 5,715,037 호에 기재된 것은 본 명세서의 기재의 일부로서 포함된다.
또한, 투영광학계 (7) 를 사용하지 않는 미러 프로젝션 방식의 등배노광장치 (얼라이너) 나, 프록시미티 방식 및 컨택트 방식의 노광장치 등에도 적용할 수 있다.
노광장치의 종류로는 반도체 제조용 노광장치, 각형의 유리기판에 액정표시소자패턴을 노광하는 액정용 노광장치나, 박막자기헤드, 촬상소자 (CCD) 혹은 레티클 등을 제조하기 위한 노광장치 등에도 널리 적용할 수 있다.
또한, 조명광학계 (20) 의 광원 (9) 으로서 초고압 수은램프에서 발생되는 휘선 (g 선 (436 ㎚), i 선 (365 ㎚)), KrF 엑시머레이저 (248 ㎚), ArF 엑시머레이저 (193 ㎚), F2레이저 (157 ㎚) 등을 사용할 수 있다. 또한, YAG 레이저나 반도체레이저 등의 고주파 등을 사용해도 된다. 그리고, 광원 (9) 으로서 F2레이저를 사용하는 경우에는 케이스 (21) 에 공급되는 기체는 헬륨이다.
투영광학계 (7) 의 배율은 축소계뿐아니라 등배 및 확대계일수도 있다.
또한, 투영광학계 (7) 로는 엑시머레이저 등의 원자외선을 사용하는 경우에는 초재 (硝材) 로서 석영이나 형석 등의 원자외선을 투과하는 재료를 사용하고, F2레이저를 사용하는 경우에는 반사굴절계 또는 굴절계의 광학계로 한다.
기판스테이지 (8) 나 레티클스테이지 (6) 에 리니어모터를 사용하는 경우에는 에어베어링을 사용한 에어 부상형 및 로렌츠력 또는 리액턴스력을 이용한 자기부상형 중 어느 것을 이용해도 된다.
또한, 각 스테이지 (6,8) 는 가이드를 따라 이동하는 타입일 수도 있고, 가이드를 형성하지 않는 가이드레스타입일 수도 있다.
기판스테이지 (8) 의 이동으로 인해 발생되는 반력은 프레임부재를 사용하여 기계적으로 바닥 (대지) 으로 흡수시켜도 된다.
레티클스테이지 (6) 의 이동으로 인해 발생되는 반력은 프레임부재를 사용하여 기계적으로 바닥 (대지) 으로 흡수시켜도 된다.
복수의 광학소자로 구성되는 조명광학계 (20) 및 투영광학계 (7) 를 각각 노광장치본체 (3) 에 장착하고 그 광학조정을 함과 동시에 다수의 기계부품으로 이루어지는 레티클스테이지 (6) 나 기판스테이지 (8) 를 노광장치본체 (3) 에 부착하여 배선이나 배관을 접속하고, 나아가 종합조정 (전기조정, 동작확인 등) 을 함으로써 본 실시형태의 노광장치를 제조할 수 있다. 그리고, 노광장치의 제조는 온도 및 청정도 등이 관리된 청정실에서 하는 것이 바람직하다.
액정표시소자나 반도체장치 등의 장치는 각 장치의 기능·성능설계를 실시하는 단계, 이 설계단계에 의거한 레티클을 제작하는 단계, 유리기판, 웨이퍼를 제작하는 단계, 상술한 실시형태의 노광장치에 의해 레티클의 패턴을 유리기판, 웨이퍼에 노광하는 단계, 각 장치를 조립하는 단계, 검사단계 등을 거쳐 제조된다.
이상, 설명한 바와 같이 청구항 1 에 관한 노광장치는 기체공급장치가 조명광학계 중 적어도 일부를 배치하는 케이스내에 기체를 공급하고, 온도조정장치가 케이스, 또는 그 주변의 온도를 조정하는 구성으로 되어 있다.
그럼으로써, 이 노광장치에서는 조명광학계가 배치된 케이스, 또는 그 주변의 온도를 조정, 유지할 수 있다. 따라서, 조명광학계의 조도가 저하되는 것을 방지할뿐아니라 조명광학계 주변에서 공기변동의 발생을 방지할 수 있다는 효과가 얻어진다.
청구항 2 에 관한 노광장치는 온도조정장치가 케이스 주변으로 온도제어된 기체를 송출하는 구성으로 되어 있다.
그럼으로써, 이 노광장치에서는 온도제어된 기체를 송출함으로써 조명광학계가 배치된 케이스 또는 그 주변의 온도를 조정, 유지할 수 있다. 따라서, 조명광학계 주변에서 공기변동의 발생을 방지할 수 있다는 효과가 얻어진다.
청구항 3 에 관한 노광장치는 온도조정장치가 조명광학계와 그것에 인접하는 장치 사이로 온도제어된 기체를 송출하는 구성으로 되어 있다.
그럼으로써, 이 노광장치에서는 온도제어된 기체를 송출함으로써 조명광학계와 그것에 인접하는 장치 사이의 온도를 조정, 유지할 수 있고, 조명광학계 주변에서 공기변동의 발생을 방지할 수 있다는 효과가 얻어진다.
청구항 4 항에 관한 노광장치는 마스크 상의 마크를 검출하는 광학계 중 적어도 일부가 조명광학계에 인접하는 구성으로 되어 있다.
그럼으로써, 이 노광장치에서는 마크를 검출하는 광학계의 주변에 공기변동이 발생하는 것을 방지할 수 있으므로, 공기변동에 의해 검출정밀도가 악화되는 것을 방지할 수 있다는 우수한 효과가 얻어진다.
청구항 5 에 관한 노광장치는 기체온도조정부가 케이스에 공급하는 기체의 온도를 조정하는 구성으로 되어 있다.
그럼으로써, 이 노광장치에서는 케이스의 온도를 기체를 통해 조정할 수 있으므로, 온도조정장치에 의한 온도조정을 더욱 효과적으로 실시할 수 있다는 효과가 얻어짐과 동시에 케이스에 공급하는 기체를 이용하여 이 케이스의 표면온도 및 케이스 주변의 온도를 조정함으로써, 공기변동의 발생을 방지할 수도 있다는 효과가 얻어진다.
청구항 6 에 관한 노광장치는 장치본체를 수납하는 챔버와, 챔버내의 소정공간의 온도를 제어하는 온도조정장치를 더 구비하는 구성으로 되어 있다.
그럼으로써, 이 노광장치에서는 챔버내의 소정공간의 온도가 제어되어 있는 상태에서, 더욱 온도조정장치가 케이스, 또는 그 주변의 온도를 조정, 유지하기 때문에 조명광학계 주변에서 공기변동의 발생을 더욱 효율적으로 방지할 수 있다는 효과가 얻어진다.
청구항 7 에 관한 노광장치는 온도조정장치가 온도제어장치에 의해 온도제어된 기체의 일부를 케이스 주변으로 유도하는 제 1 도입로를 갖는 구성으로 되어 있다.
그럼으로써, 이 노광장치에서는 온도조정장치에 온도조정기나 송풍기를 설치할 필요가 없어지므로, 장치의 소형화 및 비용절감을 실현할 수 있다는 효과가 얻어진다.
청구항 8 에 관한 노광장치는 온도조정장치가 온도제어된 기체의 일부를 케이스 주변으로 유도하는 제 2 도입로 가지고, 이 제 2 도입로가 소정공간으로 온도제어된 기체를 유도하는 도입구와는 다른 입구로 되는 구성으로 되어 있다.
그럼으로써, 이 노광장치에서는 도입구에서 층류상태로 소정공간내로 유도되는 기체의 흐름을 제 2 도입로가 분산시키는 것을 방지할 수 있고, 따라서 기체의 흐름이 분산됨으로써 기체중에 포함되는 미소한 진애가 고이는 것을 방지할 수 있고, 소정공간내의 청정도를 유지할 수 있다는 효과가 얻어진다.
청구항 9 에 관한 노광장치는 온도제어장치가 송풍기 및 온도조정기를 가지고, 온도조정장치가 이들 송풍기와 온도조정기 중 적어도 하나를 겸용하는 구성으로 되어 있다.
그럼으로써, 이 노광장치에서는 온도조정장치에 온도조정기나 송풍기 중 적어도 하나를 설치할 필요가 없어지므로, 장치의 소형화 및 비용절감을 실현할 수 있다는 우수한 효과가 얻어진다.
청구항 10 에 관한 노광장치는 송풍기와 온도조정기가 온조제어장치 및 온도조정장치에 각각 독립적으로 설치되는 구성으로 되어 있다.
그럼으로써, 이 노광장치에서는 케이스 주변으로 송출하는 기체의 유량이나 소정공간내와는 다른 온도를 상황에 따라 용이하게 조정할 수 있게 되는 우수한 효과가 얻어진다.
청구항 11 에 관한 노광장치는 조명광을 기판상에 투사하는 투영광학계가 소정공간에 배치되는 구성으로 되어 있다.
그럼으로써, 이 노광장치에서는 투영형 노광장치에 있어서 조명광학계 주변에서 공기변동의 발생을 효율적으로 방지할 수 있다는 효과가 얻어진다.

Claims (11)

  1. 마스크에 조명광을 조사하는 조명광학계를 갖고, 상기 마스크를 통해 상기 조명광으로 기판을 노광하는 장치에 있어서,
    상기 조명광학계 중 적어도 일부가 지지되어 배치되는 케이스내에 청정화된 기체를 공급하는 기체공급장치와,
    상기 케이스 또는 그 주변의 온도를 조정하는 온도조정장치를 구비한 것을 특징으로 하는 노광장치.
  2. 제 1 항에 있어서, 상기 온도조정장치는 상기 케이스 주변으로 온도제어된 기체를 송출하는 것을 특징으로 하는 노광장치.
  3. 제 2 항에 있어서, 상기 온도조정장치는 상기 조명광학계와 그것에 인접하는 장치 사이로 상기 온도제어된 기체를 송출하는 것을 특징으로 하는 노광장치.
  4. 제 3 항에 있어서, 상기 조명광학계에 인접하는 장치는 상기 마스크상의 마크를 검출하는 광학계 중 적어도 일부를 포함하는 것을 특징으로 하는 노광장치.
  5. 제 1 항 내지 제 4 항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 기체공급장치는 상기 케이스에 공급하는 기체의 온도를 조정하는 기체온도조정부를 갖는 것을 특징으로 하는 노광장치.
  6. 제 1 항 내지 제 5 항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 조명광학계 중 적어도 일부를 포함하는 장치본체를 수납하는 챔버와,
    이 챔버내의 소정공간의 온도를 제어하는 온도제어장치를 더 구비하는 것을 특징으로 하는 노광장치.
  7. 제 6 항에 있어서, 상기 온도제어장치는 상기 소정공간내로 온도제어된 기체를 송출하고, 상기 온도조정장치는 상기 온도제어된 기체의 일부를 상기 케이스 주변으로 유도하는 제 1 도입로를 갖는 것을 특징으로 하는 노광장치.
  8. 제 6 항에 있어서, 상기 온도제어장치는 상기 소정공간내로 온도제어된 기체를 송출하고, 상기 온도조정장치는 상기 소정공간으로 상기 온도제어된 기체를 유도하는 도입구와는 다른 입구로부터 상기 온도제어된 기체의 일부를 상기 케이스 주변으로 유도하는 제 2 도입로를 갖는 것을 특징으로 하는 노광장치.
  9. 제 7 항 또는 제 8 항에 있어서, 상기 온도제어장치는 상기 기체를 송출하는 송풍기와, 상기 기체의 온도를 제어하는 온도조정기를 가지고,
    상기 온도조정장치는 상기 송풍기와 상기 온도조정기 중 적어도 하나를 겸용하는 것을 특징으로 하는 노광장치.
  10. 제 8 항에 있어서, 상기 온도제어장치와 상기 온도조정장치는 각각 독립적으로 상기 기체를 송출하는 송풍기와, 상기 기체의 온도를 제어하는 온도조정기를 갖는 것을 특징으로 하는 노광장치.
  11. 제 6 항에 있어서, 상기 조명광을 상기 기판상에 투사하는 투영광학계를 더 구비하고, 상기 소정공간에는 상기 투영광학계가 배치되는 것을 특징으로 하는 노광장치.
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