JPH08306617A - 露光装置 - Google Patents
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- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
Abstract
照明系の振動と熱が装置の他の部分に伝わることを防止
することにより、マスク面上のパターンを液晶表示パネ
ルなどの大型の基板面上に高精度に投影露光することが
できる露光装置を提供する。 【構成】 スリット結像系5、露光光で前記スリット結
像系を介してマスク面上をスリット状に照明する照明系
1、照明系により発生する熱を排気する排気手段13、
前記スリット状に照明された前記マスク面上のパターン
を基板面上に投影する投影光学系7、および前記投影光
学系に対し前記マスクと前記基板を相対移動させる駆動
手段10を備えた露光装置において、前記照明系と前記
スリット結像系をそれらの筐体の間に空間を有するよう
に分離する。
Description
の製造に用いられる露光装置に関し、特に露光装置を構
成するミラー投影光学系に対してマスクと基板とを同時
に移動させながら、マスク面に形成されているパターン
をミラー投影光学系により基板面上に転写し大型の液晶
表示パネルなどを製造する露光装置に関する。
て凸面鏡と凹面鏡を用いたミラー投影光学系が用いられ
ており、これを開示するものとして例えば特開昭58−
108745号公報、特開昭62−18715号公報、
特開昭63−128713号公報等がある。このような
ミラー投影光学系は、最近では液晶表示パネル、特にパ
ソコン向けの大市場が期待されている10インチ前後の
液晶表示パネルを製造するために用いられる露光装置用
として、解像力が良く生産性が高いという利点から多く
用いられている。
は、照明系からの露光光により、スリット結像系を介し
て、マスク面上をスリット状に照明し、スリット状に照
明されたマスク面上のパターンをミラー投影光学系を用
いて基板面上に投影している。そして、マスクと基板と
をミラー投影光学系に対して同時に走行させることによ
り、マスク全面のパターンを基板面に転写するタイプの
一括露光が行われる。図3は、従来のこのようなミラー
投影光学系を用いた一括露光装置の一例を示す。同図に
おいて、1は照明系、2は例えば超高圧水銀ランプより
なる光源、3はY方向に円弧を向けた円弧スリット開口
を有するスリット、4は回路パターンやアライメントマ
ークなどが形成されているマスク、5はスリット結像系
である。スリット3はスリット結像系5の一要素を構成
しており、光源2はスリット結像系5の照明系1におけ
る一要素を構成している。6は基板、7は高い面精度に
研磨された台形ミラーと凹面鏡そして凸面鏡で構成され
ているミラー投影光学系、8はマスク4と基板6を載置
しているキャリッジ。9,9’は静圧ガイド、10はリ
ニアモータであり、これらの要素9,9’,10により
キャリッジ8の駆動手段を構成している。11は基盤、
12,12’は基盤11を支持する防振足である。13
はチャンバであり、チャンバ内は温湿度が正確、かつ一
定に保たれている。14は熱排気ダクトであり、照明系
1からでた熱をチャンバ13外に導き排気している。1
5は位置微調機構であり、ミラー投影光学系7に対する
照明系1の位置を微調し固定している。16は投影光学
系構造体であり、位置微調機構15を介して照明系1
を、そしてミラー投影光学系7をその上に固定し、自身
は基盤11に固定されている。
ラーで反射しながらコンデンサレンズ、フライアイレン
ズを通り、スリット3を矩形状にムラなく照明してい
る。スリット3を照明している光は、スリット3で円弧
スリット状に切り取られ、スリット結像系5内の凹面鏡
で反射結像され、マスク4面上を円弧スリット状に照明
している。円弧スリット状に照明されたマスク4面上の
パターンは、ミラー投影光学系7により基板6面上に等
倍結像している。そして、駆動手段によりキャリッジ6
をY方向に移動させて、円弧スリット状に照明されたマ
スク4面上のパターンを順次基板6面上に投影露光して
いる。
示す従来の露光装置では、照明系1は、その内部に光源
2として水銀ランプを持っているため、その水銀ランプ
が大きな熱源になっている。熱排気ダクト14の先に
は、チャンバ13内にシロッコファンがあり、照明系1
内部の熱を強制排気しているが、この排気空気の流れが
照明系1を振動させている。しかも、ミラー投影光学系
を用いた露光装置では、ミラー投影光学系7に対するス
リット3の位置が正確に合っていないと解像力が劣化す
るため、照明系1は位置微調機構15でその位置を調整
したあと投影光学系構造体16で基盤11に固定されて
いる。したがって、照明系1の振動が投影光学系構造体
16を介して装置の他の部分に伝わり、露光精度劣化の
要因の一つになっている。
いるとはいうものの、装置の他の部分と比較すると温度
がかなり高くなっている。この熱が投影光学系構造体1
6を介して装置の他の部分に伝わり、露光精度劣化の要
因の一つになっている。
ラー投影光学系を用いた露光装置において照明系の振動
と熱が装置の他の部分に伝わることを防止することによ
り、マスク面上のパターンを液晶表示パネルなどの大型
の基板面上に高精度に投影露光することができる露光装
置を提供することにある。
め本発明は、スリット結像系、露光光でスリット結像系
を介してマスク面上をスリット状に照明する照明系、照
明系により発生する熱を排気する排気手段、スリット状
に照明されたマスク面上のパターンを基板面上に投影す
る投影光学系、および投影光学系に対しマスクと基板を
相対移動させる駆動手段を備えた露光装置において、照
明系とスリット結像系をそれらの筐体の間に空間を有す
るように分離したことを特徴としている。
る構造体とは別の構造体で保持されていることを特徴と
している。
されていることを特徴としている。
それらの筐体間の空間を介して分離しているため、照明
系の振動と熱がその空間で遮断され装置の他の部分に伝
わるのが防止される。したがって、液晶表示パネルなど
の大型の基板面上にマスク面上のパターンが高精度に投
影露光される。
る。図1は本発明の一実施例に係る露光装置の概略図で
ある。この装置は、図3の従来の装置を元にしたもので
あり、図1において、図3に対応する部分には同一符号
を付してその詳細説明を省略する。
り、その上に照明系1を固定し、自身は床に固定されて
いる。照明系1とスリット結像系5とはスリット3の手
前で分離され、スリット結像系5は、位置微調機構15
を介して投影光学系構造体16に固定されている。
ミラーで反射しながらコンデンサレンズ、フライアイレ
ンズを通り、スリット3を矩形状にムラなく照明してい
る。スリット3を照明している光はスリット3で円弧ス
リット状に切り取られ、スリット結像系内の凹面鏡で反
射結像され、マスク4面上を円弧スリット状に照明して
いる。円弧スリット状に照明されたマスク4面上のパタ
ーンは、ミラー投影光学系7により基板6面上に等倍結
像している。そして、駆動手段によりキャリッジ6をY
方向に移動させることにより、円弧スリット状に照明さ
れたマスク4面上のパターンが順次基板6面上に投影露
光される。
いた露光装置ではミラー投影光学系7に対するスリット
3の位置が、正確に合っていないと解像力が劣化する
が、スリット3より手前の部分の照明系1の位置は正確
に合わせる必要はないことに着目し、ここでは照明系1
とスリット結像系5を分離している。そして、照明系1
は照明系構造体17により、スリット結像系5は投影光
学系構造体16により、それぞれ別々に保持している。
水銀ランプを持っているため、内部の熱を強制排気して
おり、その排気空気の流れが照明系1を振動させてい
る。しかし、照明系1は照明系構造体17に固定されて
いるので、振動は床に伝わる。また、装置の他の部分は
防振足12により床から振動が伝わることを防止してい
るので、照明系1の振動が装置の他の部分に伝わること
はない。同様に、照明系1は装置の他の部分と比較する
と温度がかなり高くなっているが、その熱が照明系構造
体17を介して装置の他の部分に伝わることはない。し
かも、スリット結像系5内のスリット3はミラー投影光
学系7に対して正確に位置を合わせることができるの
で、解像力が劣化することもない。
置の概略図である。図2において、照明系1とスリット
結像系5はスリット3の手前で分離し、照明系1はチャ
ンバ13に固定されており、スリット結像系5は、位置
微調機構15を介して投影光学系構造体16に固定され
ている。本実施例によれば、照明系1を保持するための
構造体を新たに設けることなく、照明系1の振動と熱が
装置の他の部分に伝わることを防止できる。
系をそれらの筐体間に空間を有するように分離したた
め、照明系の振動と熱が装置の他の部分に伝わることを
防止することができ、これにより、液晶表示パネルなど
の大型の基板面上にマスク面上のパターンを高精度に投
影露光することができる。
ある。
である。
5:スリット結像系、6:基板、7:ミラー投影光学
系、8:キャリッジ、9:静圧ガイド、10:リニアモ
ータ、11:基盤、12:防振足、13:チャンバ、1
4:熱排気ダクト、15:位置微調機構、16:投影光
学系構造体、17:照明系構造体。
Claims (3)
- 【請求項1】 スリット結像系、露光光で前記スリット
結像系を介してマスク面上をスリット状に照明する照明
系、前記照明系により発生する熱を排気する排気手段、
前記スリット状に照明された前記マスク面上のパターン
を基板面上に投影する投影光学系、および前記投影光学
系に対し前記マスクと前記基板を相対移動させる駆動手
段を備えた露光装置において、 前記照明系と前記スリット結像系をそれらの筐体の間に
空間を有するように分離したことを特徴とする露光装
置。 - 【請求項2】 前記照明系は、前記投影光学系を保持し
ている構造体とは別の構造体で保持されていることを特
徴とする請求項1記載の露光装置。 - 【請求項3】 前記照明系は、装置のチャンバに保持さ
れていることを特徴とする請求項1または2記載の露光
装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP12745795A JP3187281B2 (ja) | 1995-04-28 | 1995-04-28 | 露光装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP12745795A JP3187281B2 (ja) | 1995-04-28 | 1995-04-28 | 露光装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH08306617A true JPH08306617A (ja) | 1996-11-22 |
JP3187281B2 JP3187281B2 (ja) | 2001-07-11 |
Family
ID=14960407
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP12745795A Expired - Fee Related JP3187281B2 (ja) | 1995-04-28 | 1995-04-28 | 露光装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP3187281B2 (ja) |
Cited By (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO1999025011A1 (fr) * | 1997-11-12 | 1999-05-20 | Nikon Corporation | Appareil d'exposition par projection |
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US6977716B2 (en) | 2002-05-29 | 2005-12-20 | Asml Holding N.V. | Catadioptric lithography system and method with reticle stage orthogonal to wafer stage |
CN100401193C (zh) * | 2002-07-11 | 2008-07-09 | Asml荷兰有限公司 | 光刻装置及制造集成电路的方法 |
KR101399303B1 (ko) * | 2008-12-05 | 2014-05-26 | 엘지디스플레이 주식회사 | 평판표시장치용 노광장비 |
JP2015095503A (ja) * | 2013-11-11 | 2015-05-18 | キヤノン株式会社 | 露光装置、およびデバイスの製造方法 |
-
1995
- 1995-04-28 JP JP12745795A patent/JP3187281B2/ja not_active Expired - Fee Related
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US7158213B2 (en) | 2001-02-28 | 2007-01-02 | Asml Holding N.V. | Lithographic tool with dual isolation system and method for configuring the same |
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