JP2014170957A5 - - Google Patents

Claims (15)

1. 基板を保持する基板テーブルと、
   前記基板テーブルを位置決めするポジショナと、
   前記基板のターゲット部分にパターン付放射ビームを投影する投影システムと、
   前記投影システムに対向する前記基板の表面の一部に対向して、前記投影システムの焦点面内に保持される前記基板の表面の前記一部に力を至らせる基板表面アクチュエータと、を備えるリソグラフィ装置。
2. 前記基板テーブルの位置を制御し、前記ポジショナ及び前記基板表面アクチュエータに動作可能に接続されて前記ポジショナ及び前記基板表面アクチュエータを駆動する位置コントローラを備える、請求項１に記載のリソグラフィ装置。
3. 前記基板表面アクチュエータは、前記投影システムの下流側レンズの光軸の方向に沿って見て、前記投影システムの前記下流側レンズを取り囲む前記基板の表面の区域の少なくとも一部に係合する、請求項１に記載のリソグラフィ装置。
4. 前記基板表面アクチュエータは、前記基板の表面の前記一部に係合する流体静力学的ベアリングを備える、請求項１に記載のリソグラフィ装置。
5. 前記基板表面アクチュエータと前記基板の表面の前記一部との間の距離を測定する距離センサを備え、前記距離センサの信号は前記位置コントローラに動作可能に接続される、請求項１に記載のリソグラフィ装置。
6. 前記基板表面アクチュエータは、前記投影システムの下流側レンズと前記基板の照射される部分との間に液体を注入する液体供給システム内に含まれる、請求項１に記載のリソグラフィ装置。
7. 前記基板表面アクチュエータは、前記基板の表面の前記一部に隣接するギャップ内に流体を注入し、前記ギャップから流体を取り除く流体循環デバイスを備える、請求項１に記載のリソグラフィ装置。
8. 前記基板表面アクチュエータは、２以上の別個のアクチュエータによって形成される、請求項１に記載のリソグラフィ装置。
9. 前記リソグラフィ装置のメトロロジフレーム又はベースフレームに前記基板表面アクチュエータを接続するバランスマスを備える、請求項１に記載のリソグラフィ装置。
10. 前記位置コントローラは、コントローラ出力信号を提供するコントローラと、前記コントローラ出力信号を前記ポジショナ及び前記基板表面アクチュエータに分配する分配装置と、を備える、請求項１に記載のリソグラフィ装置。
11. 前記分配装置は、フィルタなどの周波数ドメイン選択装置を備える、請求項１０に記載のリソグラフィ装置。
12. 前記分配装置は、基板テーブル共振モード又は基板テーブルねじりモードの周波数帯域内で、実質的に前記基板表面アクチュエータに前記コントローラ出力信号を選択的に提供する、請求項１０又は１１に記載のリソグラフィ装置。
13. 前記分配装置は、前記基板テーブルと前記ポジショナのショートストロークアクチュエータとの間の弾性の共振の周波数帯域内で、実質的に前記基板表面アクチュエータに前記コントローラ出力信号を選択的に提供する、請求項１０〜１２のいずれか１項に記載のリソグラフィ装置。
14. 前記分配装置は、前記基板テーブルの位置に応じて前記コントローラ出力信号の分配を決定する、請求項１０〜１３のいずれか１項に記載のリソグラフィ装置。
15. 前記２以上の基板表面アクチュエータは、前記投影システムを取り囲む円形区域内に等間隔に配置される、請求項８に記載のリソグラフィ装置。