JP2016006511A5 - - Google Patents
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Description
本発明の第1の態様によれば、互いに直交する第1及び第2軸を含む所定の二次元平面に沿って配置された平板状の物体を移動させる物体移動装置であって、前記物体の端部を保持し、前記二次元平面に沿って移動可能な移動体と、前記移動体を少なくとも前記二次元平面内の一軸方向に駆動する駆動装置と、前記移動体が前記駆動装置により駆動される際に、前記物体の下面に支持面を対向させて前記物体を下方から非接触支持する非接触支持装置と、複数の格子領域が設けられる格子部材と、前記格子部材に対して計測ビームを照射するヘッドとの一方が前記移動体に設けられ、前記計測ビームの前記格子領域への照射により前記移動体の位置に関する情報を取得する取得部と、を備える物体移動装置が、提供される。
本発明の第5の態様によれば、エネルギビームを用いて物体を露光することにより所定のパターンを前記物体上に形成する露光装置であって、互いに直交する第1及び第2軸を含む所定の二次元平面に沿って配置された平板状の物体の端部を保持し、前記二次元平面に沿って移動可能な移動体と、前記移動体を少なくとも前記二次元平面内の一軸方向に駆動する駆動装置と、前記移動体が前記駆動装置により駆動される際に、前記物体を下方から非接触支持する非接触支持装置と、複数の格子領域が設けられる格子部材と、前記格子部材に対して計測ビームを照射するヘッドとの一方が前記移動体に設けられ、前記計測ビームの前記格子領域への照射により前記移動体の位置に関する情報を取得する取得部と、を備える第2の露光装置が、提供される。
本発明の第6の態様によれば、エネルギビームを用いて物体を露光することにより所定のパターンを前記物体上に形成する露光装置であって、水平面に平行な所定の二次元平面内の一部の領域に、前記パターンを介した前記エネルギビームを照射する光学系と、前記二次元平面に沿って配置された平板状の物体を、前記二次元平面内の前記一部の領域を含む所定の領域内で少なくとも一軸方向に駆動する駆動装置と、前記物体が前記駆動装置により駆動される際に、前記物体の前記エネルギビームが照射される一部の領域を含む部分を、前記物体の下方から非接触状態で保持し、前記部分の前記二次元平面に交差する方向の位置を調整する定点ステージと、複数の格子領域が設けられる格子部材と、前記格子部材に対して計測ビームを照射するヘッドとの一方が前記移動体に設けられ、前記計測ビームの前記格子領域への照射により前記移動体の位置に関する情報を取得する取得部と、を備える第3の露光装置が、提供される。
本発明の第8の態様によれば、エネルギビームを用いて物体を露光することにより所定のパターンを前記物体上に形成する露光方法であって、前記パターンを介した前記エネルギビームが光学系により照射される一部の領域を含む水平面に平行な所定の二次元平面内の所定の領域内で、移動体により保持され前記二次元平面に沿って配置された平板状の物体を、少なくとも一軸方向に駆動することと、前記物体が駆動される際に、前記物体の前記エネルギビームが照射される一部の領域を含む部分を、前記物体の下方から非接触状態で保持し、前記部分の前記二次元平面に交差する方向の位置を調整することと、複数の格子領域が設けられる格子部材と、前記格子部材に対して計測ビームを照射するヘッドとの一方が前記移動体に設けられ、前記計測ビームの前記格子領域への照射により前記移動体の位置に関する情報を取得することと、を含む露光方法が、提供される。
Claims (52)
- 互いに直交する第1及び第2軸を含む所定の二次元平面に沿って配置された平板状の物体を移動させる物体移動装置であって、
前記物体の端部を保持し、前記二次元平面に沿って移動可能な移動体と、
前記移動体を少なくとも前記二次元平面内の一軸方向に駆動する駆動装置と、
前記移動体が前記駆動装置により駆動される際に、前記物体の下面に支持面を対向させて前記物体を下方から非接触支持する非接触支持装置と、
複数の格子領域が設けられる格子部材と、前記格子部材に対して計測ビームを照射するヘッドとの一方が前記移動体に設けられ、前記計測ビームの前記格子領域への照射により前記移動体の位置に関する情報を取得する取得部と、を備える物体移動装置。 - 前記ヘッドは、前記移動体に設けられた格子部材に対向する位置に設けらえる請求項1に記載の物体移動装置。
- 非接触支持装置は、前記端部が保持された前記物体の下面から第1距離離れて配置される第1支持面と、前記端部が保持された前記物体の前記下面から第2距離離れて配置される第2支持面とを備える請求項1又は2に記載の物体移動装置。
- 前記第2距離は前記第1距離よりも小さい請求項3に記載の物体移動装置。
- 前記移動体は、前記物体の端部に沿って延設された枠状の部材から成る本体部を有する請求項1〜4のいずれか一項に記載の物体移動装置。
- 前記移動体は、前記物体の外周縁部の少なくとも一部を下方から吸着保持する保持部材を有し、
前記保持部材は、前記本体部に対して前記物体を保持した状態で前記二次元平面に直交する方向に変位可能である請求項5に記載の物体移動装置。 - 前記保持部材は、前記物体の下面よりも下方に張り出して設けられ、その張り出し量は、前記非接触支持装置の前記支持面と前記物体の下面との距離よりも小さい請求項6に記載の物体移動装置。
- 前記本体部は、前記物体に対する前記二次元平面に平行な方向への相対移動により、該物体の通過を許容する開口部を有する請求項5〜7のいずれか一項に記載の物体移動装置。
- 前記移動体は、前記本体部の内壁面のうちの互いに対向する一対の対向面の一方側から、他方側に向けて前記物体を押圧することにより、該物体を前記本体部に保持させる押圧装置を有する請求項5に記載の物体移動装置。
- 前記駆動装置は、前記第1軸に平行に延設された第1ガイド部材と、前記第1ガイド部材上を前記第1軸に平行な方向に移動する第1移動部材と、前記第2軸に平行に延設され、前記第1移動部材に接続された第2ガイド部材と、前記移動体を保持し、前記第2ガイド部材上を前記第2軸に平行な方向に移動する第2移動部材と、を含み、
前記第1ガイド部材及び前記第1移動部材は、前記所定の二次元平面よりも下方に配置される請求項1〜9のいずれか一項に記載の物体移動装置。 - 前記第1ガイド部材は、前記第2軸に平行な方向に所定間隔で複数設けられ、
前記第1移動部材は、前記複数の第1ガイド部材に対応して複数設けられ、
前記第2ガイド部材は、前記複数の第1移動部材間に架設される請求項10に記載の物体移動装置。 - 前記第2ガイド部材は、前記非接触支持装置の前記支持面よりも上方に配置され、その下面が前記非接触支持装置により非接触状態で支持される請求項10又は11に記載の物体移動装置。
- 前記第2移動部材は、前記第2ガイド部材に非接触支持される請求項10〜12のいずれか一項に記載の物体移動装置。
- 前記第2移動部材は、前記第2軸に平行な方向に所定間隔で複数設けられ、
前記移動体は、前記複数の第2移動部材により複数部位が保持される請求項10〜13のいずれか一項に記載の物体移動装置。 - 前記移動体は、前記第2移動部材に非接触保持される請求項10〜14のいずれか一項に記載の物体移動装置。
- 前記駆動装置は、前記移動体を前記第2移動部材に対して前記二次元平面に平行な方向に微少駆動する微少駆動装置を備える請求項15に記載の物体移動装置。
- 前記第1移動部材は、前記二次元平面内の一軸方向に関して、前記移動体の一側及び他側それぞれに設けられ、
前記第2ガイド部材及び前記第2移動部材は、それぞれ前記一側及び前記他側の第1移動部材に対応して設けられ、
前記移動体は、前記一軸方向の一側と他側とが前記一側及び前記他側の第2移動部材それぞれに保持される請求項10〜16のいずれか一項に記載の物体移動装置。 - 前記移動体は、前記第2移動部材に対し、該移動体と該第2移動部材との前記二次元平面に平行な方向への相対移動を制限しつつ、前記二次元平面に平行な軸線回りの回転を許容するヒンジ装置を介して接続される請求項10〜12のいずれか一項に記載の物体移動装置。
- 前記非接触支持装置は、前記支持面から前記物体に対して気体を噴出して前記物体を非接触支持する請求項1〜18のいずれか一項に記載の物体移動装置。
- 前記非接触支持装置の前記支持面は、前記駆動装置により駆動される際の前記物体の移動範囲をカバーする請求項1〜19のいずれか一項に記載の物体移動装置。
- 前記非接触支持装置は、前記支持面の少なくとも一部が前記二次元平面に交差する方向に移動可能に設けられ、該支持面の少なくとも一部の前記二次元平面に交差する方向への移動により、前記物体を前記移動体から分離させて前記二次元平面に交差する方向に移動させる請求項1〜20のいずれか一項に記載の物体移動装置。
- 前記二次元平面内の位置が固定で、前記物体の面積よりも狭い保持面を有し、前記二次元平面に沿って移動する前記物体のうち、前記保持面に対向する部分を前記物体の下方から非接触状態で保持して該部分の前記二次元平面に交差する方向の位置を調整する調整装置をさらに備える請求項1〜21のいずれか一項に記載の物体移動装置。
- 前記調整装置は、前記保持面から前記物体に対して気体を噴出するとともに、前記保持面と前記物体との間の気体を吸引して前記物体を非接触保持する請求項22に記載の物体移動装置。
- 前記調整装置は、前記物体と前記保持面との距離が一定となるように、前記物体と前記保持面との間の気体の気圧及び流量の少なくとも一方を可変させる請求項23に記載の物体移動装置。
- 前記調整装置は、前記保持面を有する部材を前記二次元平面に交差する方向に駆動するアクチュエータを有する請求項22〜24のいずれか一項に記載の物体移動装置。
- 前記アクチュエータは、前記保持面を有する部材に設けられた可動子と、前記保持面を有する部材の位置情報を計測する計測部材とは振動的に分離された部材に設けられた固定子と、を含む請求項25に記載の物体移動装置。
- 前記調整装置は、前記物体の重量をキャンセルする重量キャンセル装置を有する請求項22〜26のいずれか一項に記載の物体移動装置。
- 前記保持面を有する部材は、前記駆動装置と振動的に分離されている請求項22〜27のいずれか一項に記載の物体移動装置。
- 前記調整装置の前記保持面と前記物体との間の距離は、前記非接触支持装置の前記支持面と前記物体との間の距離よりも短い請求項22〜28のいずれか一項に記載の物体移動装置。
- 請求項22〜29のいずれか一項に記載の物体移動装置と、
前記物体に関して所定の処理を行うために、該物体のうち、前記調整装置に保持される部分に、前記調整装置とは反対の側から所定の動作を実行する実行装置と、を備える物体処理装置。 - 前記実行装置は、前記物体を検査するために該物体表面を撮像する撮像装置を含む請求項30に記載の物体処理装置。
- 前記物体は、ディスプレイ装置の表示パネルに用いられる基板である請求項30又は31に記載の物体処理装置。
- 前記実行装置は、エネルギビームを用いて前記物体を露光することにより所定のパターンを該物体上に形成するパターン形成装置である請求項30に記載の物体処理装置。
- 請求項33に記載の物体処理装置を用いて前記物体を露光することと、
前記露光された物体を現像することと、を含むデバイス製造方法。 - 請求項1〜21のいずれか一項に記載の物体移動装置と、
エネルギビームを用いて前記物体を露光することにより所定のパターンを該物体上に形成するパターン形成装置と、を備える露光装置。 - 前記物体は、ディスプレイ装置の表示パネルに用いられる基板である請求項35に記載の露光装置。
- 請求項1〜21のいずれか一項に記載の物体移動装置と、
前記物体を検査するために該物体表面を撮像する撮像部と:を有する物体検査装置。 - 前記物体は、ディスプレイ装置の表示パネルに用いられる基板である請求項37に記載の物体検査装置。
- エネルギビームを用いて物体を露光することにより所定のパターンを前記物体上に形成する露光装置であって、
互いに直交する第1及び第2軸を含む所定の二次元平面に沿って配置された平板状の物体の端部を保持し、前記二次元平面に沿って移動可能な移動体と、
前記移動体を少なくとも前記二次元平面内の一軸方向に駆動する駆動装置と、
前記移動体が前記駆動装置により駆動される際に、前記物体を下方から非接触支持する非接触支持装置と、
複数の格子領域が設けられる格子部材と、前記格子部材に対して計測ビームを照射するヘッドとの一方が前記移動体に設けられ、前記計測ビームの前記格子領域への照射により前記移動体の位置に関する情報を取得する取得部と、を備える露光装置。 - 前記二次元平面内の位置が固定で、前記物体の面積よりも狭い保持面を有し、前記二次元平面に沿って移動する前記物体のうち、前記保持面に対向する部分を前記物体の下方から非接触状態で保持して該部分の前記二次元平面に交差する方向の位置を調整する調整装置をさらに備える請求項39に記載の露光装置。
- 前記物体は、サイズが500mm以上の基板である請求項39又は40に記載の露光装置。
- 請求項39又は40に記載の露光装置を用いて前記物体を露光することと、
前記露光された物体を現像することと、を含むデバイス製造方法。 - 請求項39又は40に記載の露光装置を用いてフラットパネルディスプレイ用の基板を露光することと、
露光された前記基板を現像することと、を含むフラットパネルディスプレイの製造方法。 - エネルギビームを用いて物体を露光することにより所定のパターンを前記物体上に形成する露光装置であって、
水平面に平行な所定の二次元平面内の一部の領域に、前記パターンを介した前記エネルギビームを照射する光学系と、
前記二次元平面に沿って配置された平板状の物体を、前記二次元平面内の前記一部の領域を含む所定の領域内で少なくとも一軸方向に駆動する駆動装置と、
前記物体が前記駆動装置により駆動される際に、前記物体の前記エネルギビームが照射される一部の領域を含む部分を、前記物体の下方から非接触状態で保持し、前記部分の前記二次元平面に交差する方向の位置を調整する定点ステージと、
複数の格子領域が設けられる格子部材と、前記格子部材に対して計測ビームを照射するヘッドとの一方が前記移動体に設けられ、前記計測ビームの前記格子領域への照射により前記移動体の位置に関する情報を取得する取得部と、を備える露光装置。 - 前記物体の前記定点ステージに保持される部分を除く他の領域に支持面を対向させて前記物体を下方から非接触支持する非接触支持装置を、さらに備える請求項44に記載の露光装置。
- 前記所定の領域内の一部で、前記物体の上面の前記二次元平面に垂直な方向の面位置の分布を計測する面位置計測系をさらに備える請求項44又は45に記載の露光装置。
- 前記物体は、サイズが500mm以上の基板である請求項44〜46のいずれか一項に記載の露光装置。
- 請求項44〜47のいずれか一項に記載の露光装置を用いて前記物体を露光することと、
前記露光された物体を現像することと、を含むデバイス製造方法。 - 請求項44〜47のいずれか一項に記載の露光装置を用いてフラットパネルディスプレイ用の基板を露光することと、
露光された前記基板を現像することと、を含むフラットパネルディスプレイの製造方法。 - エネルギビームを用いて物体を露光することにより所定のパターンを前記物体上に形成する露光方法であって、
前記パターンを介した前記エネルギビームが光学系により照射される一部の領域を含む水平面に平行な所定の二次元平面内の所定の領域内で、移動体により保持され前記二次元平面に沿って配置された平板状の物体を、少なくとも一軸方向に駆動することと、
前記物体が駆動される際に、前記物体の前記エネルギビームが照射される一部の領域を含む部分を、前記物体の下方から非接触状態で保持し、前記部分の前記二次元平面に交差する方向の位置を調整することと、
複数の格子領域が設けられる格子部材と、前記格子部材に対して計測ビームを照射するヘッドとの一方が前記移動体に設けられ、前記計測ビームの前記格子領域への照射により前記移動体の位置に関する情報を取得することと、を含む露光方法。 - 前記物体の前記部分を除く他の領域を下方から非接触支持することを、さらに含む請求項50に記載の露光方法。
- 請求項50又は51に記載の露光方法を用いて前記物体を露光することと、
露光された前記物体を現像することと、を含むデバイス製造方法。
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CN106044243B (zh) * | 2016-07-08 | 2019-06-04 | 佛山格尼斯磁悬浮技术有限公司 | 面板立式输送装置 |
JP6527491B2 (ja) * | 2016-07-26 | 2019-06-05 | 住友理工株式会社 | 弾性連結装置 |
CN106372608A (zh) * | 2016-09-06 | 2017-02-01 | 乐视控股(北京)有限公司 | 物体状态变化的检测方法、装置及终端 |
JP6866631B2 (ja) * | 2016-12-20 | 2021-04-28 | 東京エレクトロン株式会社 | 光処理装置、塗布、現像装置、光処理方法及び記憶媒体 |
JP6846943B2 (ja) * | 2017-02-10 | 2021-03-24 | 東京エレクトロン株式会社 | 塗布装置、および塗布方法 |
KR20230110827A (ko) * | 2017-03-31 | 2023-07-25 | 가부시키가이샤 니콘 | 노광 장치, 노광 방법, 플랫 패널 디스플레이의 제조방법, 및, 디바이스 제조 방법 |
KR102535916B1 (ko) * | 2017-04-26 | 2023-05-23 | 도쿄엘렉트론가부시키가이샤 | 플라즈마 처리 장치 |
KR101936427B1 (ko) * | 2017-06-19 | 2019-01-08 | 세메스 주식회사 | 이송 가이드 어셈블리 및 이를 포함하는 기판 이송 장치 |
US10497667B2 (en) * | 2017-09-26 | 2019-12-03 | Taiwan Semiconductor Manufacturing Co., Ltd. | Apparatus for bond wave propagation control |
CN108160530A (zh) * | 2017-12-29 | 2018-06-15 | 苏州德创测控科技有限公司 | 一种上料平台及工件上料方法 |
CN109030357B (zh) * | 2018-07-27 | 2024-04-16 | 苏州精濑光电有限公司 | 一种面板翻转机构 |
CN108692882B (zh) * | 2018-08-07 | 2020-12-01 | 安徽信息工程学院 | 滤清器密封性自动检测方法 |
CN112223425A (zh) * | 2020-09-29 | 2021-01-15 | 上海精测半导体技术有限公司 | 一种输送机构及切割装置 |
Family Cites Families (51)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS4642908B1 (ja) * | 1968-09-19 | 1971-12-18 | ||
KR100300618B1 (ko) | 1992-12-25 | 2001-11-22 | 오노 시게오 | 노광방법,노광장치,및그장치를사용하는디바이스제조방법 |
JP3689949B2 (ja) * | 1995-12-19 | 2005-08-31 | 株式会社ニコン | 投影露光装置、及び該投影露光装置を用いたパターン形成方法 |
EP0866375A3 (en) | 1997-03-17 | 2000-05-24 | Nikon Corporation | Article positioning apparatus and exposing apparatus having the same |
JPH10256356A (ja) * | 1997-03-17 | 1998-09-25 | Nikon Corp | 位置決め装置及び該装置を備えた露光装置 |
KR100638533B1 (ko) * | 1998-02-09 | 2006-10-26 | 가부시키가이샤 니콘 | 기판지지장치, 기판반송장치 및 그 방법, 기판교환방법,그리고 노광장치 및 그 제조방법 |
JP2000243693A (ja) * | 1999-02-23 | 2000-09-08 | Nikon Corp | ステージ装置及び露光装置 |
JP2001215718A (ja) | 1999-11-26 | 2001-08-10 | Nikon Corp | 露光装置及び露光方法 |
TW529172B (en) | 2001-07-24 | 2003-04-21 | Asml Netherlands Bv | Imaging apparatus |
JP2003063643A (ja) * | 2001-08-30 | 2003-03-05 | Nippon Sekkei Kogyo:Kk | 薄板の搬送方法及び装置 |
US20030098965A1 (en) | 2001-11-29 | 2003-05-29 | Mike Binnard | System and method for supporting a device holder with separate components |
US6888620B2 (en) | 2001-11-29 | 2005-05-03 | Nikon Corporation | System and method for holding a device with minimal deformation |
TWI222423B (en) * | 2001-12-27 | 2004-10-21 | Orbotech Ltd | System and methods for conveying and transporting levitated articles |
US7232715B2 (en) * | 2002-11-15 | 2007-06-19 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Method for fabricating semiconductor film and semiconductor device and laser processing apparatus |
JP2004238133A (ja) | 2003-02-05 | 2004-08-26 | Sharp Corp | 薄板把持装置、薄板搬送装置および薄板検査装置 |
CN102152966B (zh) * | 2003-04-30 | 2013-03-27 | 奥林巴斯株式会社 | 基板上浮装置 |
US7077019B2 (en) | 2003-08-08 | 2006-07-18 | Photon Dynamics, Inc. | High precision gas bearing split-axis stage for transport and constraint of large flat flexible media during processing |
JP4542043B2 (ja) * | 2004-01-30 | 2010-09-08 | シャープ株式会社 | 半導体製造装置およびそれを用いた半導体製造方法 |
WO2005099350A2 (en) * | 2004-04-14 | 2005-10-27 | Coreflow Scientific Solutions Ltd. | Non-contact support platforms for distance adjustment |
JP4429825B2 (ja) * | 2004-06-30 | 2010-03-10 | 東京エレクトロン株式会社 | 基板処理装置 |
JPWO2006009254A1 (ja) | 2004-07-23 | 2008-05-01 | 株式会社ニコン | 支持装置、ステージ装置、露光装置、及びデバイスの製造方法 |
US7440081B2 (en) * | 2004-11-05 | 2008-10-21 | Asml Netherlands B.V. | Lithographic apparatus, device manufacturing method, and substrate table |
JP4413789B2 (ja) * | 2005-01-24 | 2010-02-10 | 東京エレクトロン株式会社 | ステージ装置および塗布処理装置 |
JP4858439B2 (ja) * | 2005-01-25 | 2012-01-18 | 株式会社ニコン | 露光装置及び露光方法並びにマイクロデバイスの製造方法 |
JP2006265020A (ja) * | 2005-03-23 | 2006-10-05 | Nippon Sheet Glass Co Ltd | ガラス板搬送支持装置 |
CN100514193C (zh) | 2005-03-29 | 2009-07-15 | 株式会社尼康 | 曝光装置、曝光装置的制造方法以及微元件的制造方法 |
KR100949502B1 (ko) | 2005-06-20 | 2010-03-24 | 엘지디스플레이 주식회사 | 액정표시장치 제조 공정용 기판 반송장치 |
JP4553376B2 (ja) * | 2005-07-19 | 2010-09-29 | 東京エレクトロン株式会社 | 浮上式基板搬送処理装置及び浮上式基板搬送処理方法 |
JP4535972B2 (ja) * | 2005-09-09 | 2010-09-01 | 株式会社ブイ・テクノロジー | ワークステージ及び露光装置 |
US7543867B2 (en) | 2005-09-30 | 2009-06-09 | Photon Dynamics, Inc. | Vacuum gripping system for positioning large thin substrates on a support table |
CN101385122B (zh) | 2006-02-21 | 2010-12-08 | 株式会社尼康 | 图案形成装置、标记检测装置、曝光装置、图案形成方法、曝光方法及组件制造方法 |
JP2008147291A (ja) * | 2006-12-07 | 2008-06-26 | Dainippon Printing Co Ltd | 基板支持装置、基板支持方法、基板加工装置、基板加工方法、表示装置構成部材の製造方法 |
WO2008129762A1 (ja) | 2007-03-05 | 2008-10-30 | Nikon Corporation | 移動体装置、パターン形成装置及びパターン形成方法、デバイス製造方法、移動体装置の製造方法、並びに移動体駆動方法 |
US7607647B2 (en) | 2007-03-20 | 2009-10-27 | Kla-Tencor Technologies Corporation | Stabilizing a substrate using a vacuum preload air bearing chuck |
US9256140B2 (en) * | 2007-11-07 | 2016-02-09 | Nikon Corporation | Movable body apparatus, pattern formation apparatus and exposure apparatus, and device manufacturing method with measurement device to measure movable body in Z direction |
JP4942617B2 (ja) * | 2007-11-14 | 2012-05-30 | Nskテクノロジー株式会社 | スキャン露光装置 |
JP2009147240A (ja) * | 2007-12-18 | 2009-07-02 | Dainippon Printing Co Ltd | 基板支持装置、基板支持方法、基板加工装置、基板加工方法、表示装置構成部材の製造方法 |
JP5257832B2 (ja) * | 2007-12-28 | 2013-08-07 | 株式会社ニコン | 較正方法、移動体駆動方法及び移動体駆動装置、露光方法及び露光装置、パターン形成方法及びパターン形成装置、並びにデバイス製造方法 |
JP5125739B2 (ja) | 2008-05-08 | 2013-01-23 | 凸版印刷株式会社 | Xyステップ露光装置 |
JP2010037082A (ja) * | 2008-08-07 | 2010-02-18 | Sharp Corp | 基板搬送装置および基板搬送方法 |
JP5164069B2 (ja) | 2008-08-28 | 2013-03-13 | Nskテクノロジー株式会社 | スキャン露光装置およびスキャン露光方法 |
WO2010103829A1 (ja) * | 2009-03-11 | 2010-09-16 | パナソニック株式会社 | 基板搬送処理システムおよび基板搬送処理方法、ならびに部品実装装置および方法 |
WO2011016369A1 (ja) * | 2009-08-07 | 2011-02-10 | シャープ株式会社 | エア浮上式基板搬送装置 |
US20110042874A1 (en) | 2009-08-20 | 2011-02-24 | Nikon Corporation | Object processing apparatus, exposure apparatus and exposure method, and device manufacturing method |
US8699001B2 (en) * | 2009-08-20 | 2014-04-15 | Nikon Corporation | Object moving apparatus, object processing apparatus, exposure apparatus, object inspecting apparatus and device manufacturing method |
KR101862234B1 (ko) | 2009-08-20 | 2018-05-29 | 가부시키가이샤 니콘 | 물체 처리 장치, 노광 장치와 노광 방법, 및 디바이스 제조 방법 |
WO2011102410A1 (ja) * | 2010-02-17 | 2011-08-25 | 株式会社ニコン | 搬送装置、搬送方法、露光装置、及びデバイス製造方法 |
US8598538B2 (en) | 2010-09-07 | 2013-12-03 | Nikon Corporation | Movable body apparatus, object processing device, exposure apparatus, flat-panel display manufacturing method, and device manufacturing method |
US20120064460A1 (en) | 2010-09-07 | 2012-03-15 | Nikon Corporation | Movable body apparatus, object processing device, exposure apparatus, flat-panel display manufacturing method, and device manufacturing method |
US20120064461A1 (en) | 2010-09-13 | 2012-03-15 | Nikon Corporation | Movable body apparatus, exposure apparatus, device manufacturing method, flat-panel display manufacturing method, and object exchange method |
JP5731786B2 (ja) * | 2010-10-08 | 2015-06-10 | 川崎重工業株式会社 | 板ガラスの切込分断装置 |
-
2010
- 2010-08-12 US US12/855,181 patent/US8699001B2/en active Active
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