JP2016134444A5 - - Google Patents

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上記課題を解決するために、本発明は、基板の周辺部を露光する露光装置であって、基板上に露光光を照射する光学系と、基板を保持して、光学系の光軸に垂直な方向に移動するステージと、ステージの移動動作を制御する制御部と、を備え、制御部は、光学系からの露光光が基板上の所定位置に照射されるように、光学系の光軸に平行な方向における光学系と基板の周辺部との間の距離に関する距離情報に基づいて、ステージを移動させることを特徴とする。

Claims (18)

  1. 基板の周辺部を露光する露光装置であって、
    前記基板上に露光光を照射する光学系と、
    前記基板を保持して、前記光学系の光軸に垂直な方向に移動するステージと、
    前記ステージの移動動作を制御する制御部と、を備え、
    前記制御部は、
    前記光学系からの前記露光光が前記基板上の所定位置に照射されるように、前記光学系の光軸に平行な方向における前記光学系と前記基板の周辺部との間の距離に関する距離情報に基づいて、前記ステージを移動させることを特徴とする露光装置。
  2. 前記制御部は、前記距離情報と前記光学系のテレセン度に基づいて前記ステージを移動させることを特徴とする請求項1に記載の露光装置。
  3. 前記テレセン度は、前記光学系の光軸に対する軸上の主光線の傾き量であることを特徴とする請求項2に記載の露光装置。
  4. 前記テレセン度は、前記光学系の光軸に対する軸外の主光線の傾き量であることを特徴とする請求項2に記載の露光装置。
  5. 前記光学系と前記基板の周辺部との間の距離は、前記基板の方位角ごとに異なり、
    前記制御部は、前記基板の方位角ごとに前記ステージの移動量を変更することを特徴とする請求項1乃至4のいずれか1項に記載の露光装置。
  6. 前記距離情報は、前記光学系と前記基板の周辺部との間の距離を計測する計測部によって計測された結果を含むことを特徴とする請求項1乃至5のいずれか1項に記載の露光装置。
  7. 前記距離情報は、前記基板の反り量および前記基板の厚みのうち少なくとも1つを含むことを特徴とする請求項1乃至6のいずれか1項に記載の露光装置。
  8. 前記光学系と前記基板の周辺部との間の距離は、その大きさに応じて複数の度合いのうちのいずれか1つに区分され、
    前記距離情報は、前記複数の度合いのうちのいずれか1つを含むことを特徴とする請求項1乃至7のいずれか1項に記載の露光装置。
  9. 前記制御部は、さらに前記光学系の開口数に基づいて、前記ステージを移動させることを特徴とする請求項1乃至8のいずれか1項に記載の露光装置。
  10. 前記ステージは、前記基板を回転させる回転部を有し、
    前記回転部によって前記基板を回転させながら、前記基板の周辺部を露光することを特徴とする請求項1乃至9のいずれか1項に記載の露光装置。
  11. 基板の周辺部を露光する露光装置であって、
    前記基板上に露光光を照射する光学系と、
    前記露光光の一部を遮光する遮光部材を前記光学系の光軸に垂直な方向に駆動する駆動部と、
    前記駆動部の駆動動作を制御する制御部と、を備え、
    前記制御部は、
    前記光学系からの前記露光光が前記基板上の所定位置に照射されるように、前記光学系の光軸に平行な方向における前記光学系と前記基板の周辺部との距離に関する距離情報に基づいて、前記遮光部材を駆動させることを特徴とする露光装置。
  12. 前記制御部は、前記距離情報と前記光学系のテレセン度に基づいて前記遮光部材を駆動させることを特徴とする請求項11に記載の露光装置。
  13. 前記テレセン度は、前記光学系の光軸に対する軸上の主光線の傾き量であることを特徴とする請求項12に記載の露光装置。
  14. 前記テレセン度は、前記光学系の光軸に対する軸外の主光線の傾き量であることを特徴とする請求項12に記載の露光装置。
  15. 前記遮光部材は、複数のブレードを有し、
    前記駆動部によって駆動される前記複数のブレードの間隔は、一定であることを特徴とする請求項11乃至14のいずれか1項に記載の露光装置。
  16. 前記遮光部材は、複数のブレードを有し、
    前記駆動部によって駆動される前記複数のブレードの駆動量は、互いに異なることを特徴とする請求項11乃至14のいずれか1項に記載の露光装置。
  17. 原版のパターンを基板上に露光する露光システムであって、
    請求項1乃至16のいずれか1項に記載の露光装置を有し、
    前記露光装置は、前記原版のパターンが前記基板上に露光される前に、前記基板の周辺部を露光することを特徴とする露光システム。
  18. 請求項17に記載の露光システムを用いて基板を露光する工程と、
    前記工程で露光された前記基板を現像する工程と、を含むことを特徴とする物品の製造方法。
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