TWM487460U - 曝光機之曝光平台 - Google Patents

Description

曝光機之曝光平台

本創作係關於一種曝光機之曝光平台，尤指一種用於電路板製程之曝光機中的曝光平台。

習知用於電路板製程的曝光機中，係藉由一曝光平台來使曝光光源、基板與光罩對位，以利於使曝光光源精確地曝光至基板上光罩未遮蔽的區域。其中，習知的曝光平台係具有一載台與一曝光框，該載台係用於承載該基板，該曝光框係具有矩形之框體及設置於該框體中的透光板，該透光板用於設置光罩並壓合於該基板表面，在電路板製程中，係利用連接該載台的抽真空裝置，對該載台與該曝光框之間進行抽真空，以使該曝光框及該透光板底面的光罩緊密地貼合在該基板表面後，再開啟曝光光源進行曝光。

然而，在抽真空裝置將該載台與該曝光框之間進行抽真空的過程中，抽真空的吸力逐漸提高，由於該基板表面並非完全平整，並且該透光板四周邊緣係被該框體所固定，該透光板無法隨基板表面平整度產生變形，導致該曝光框及該曝光框上的光罩無法完全緊密貼合於該基板表面，進而使降低曝光解析度。

本創作之一目的在於提供一種曝光機之曝光平台，用於使曝光光源、基板與光罩對位，該曝光平台係可隨基板表面平整度產生變形以使光罩緊密地貼合至基板表面，並具有提高曝光解析度之功效。

為達上述目的及其他目的，本創作提供一種曝光機之曝光平台，用於承載一基板並對位於一曝光光源下方，包含一曝光框、一載台、複數個升降單元及一透光板；其中，該載台係可相對該曝光框接近或遠離，該載台之上表面係具有一容置區，該容置區係用於放置該基板並使該曝光光源的入射光投射至該基板；該等升降單元係設置於該曝光框上；該透光板係與該等升降單元結合，該透光板由該等升降單元驅動而朝向或遠離該載台之容置區移動。

上述之曝光機之曝光平台，其中各該升降單元係具有一基座、一活塞及一夾具，該基座係固定於該曝光框上，該活塞係可往復移動地容置於該基座的一容置槽內並具有一往復行程，該活塞之一端係通過該容置槽之槽口並結合至該夾具，該夾具係夾持該透光板。

上述之曝光機之曝光平台，其中該基座之容置槽的槽口係具有一第一定位部，且該夾具係具有對應該第一定位部之一第二定位部。

上述之曝光機之曝光平台，其中該往復行程係為3.5±0.5 mm。

上述之曝光機之曝光平台，其中該曝光平台係具有一真空錶，用於偵測該載台之上表面的氣壓。

上述之曝光機之曝光平台，其中該升降單元係電性連接一主控電腦，用於當該真空錶偵測到之氣壓達一預定值時，該主控電腦係控制該等升降單元作動使該透光板朝向該載台之容置區移動且貼合該載台上表面之基板。

上述之曝光機之曝光平台，其中該活塞鄰近一端處係具有一密封圈，該基座上係具有一放鬆進氣孔及一夾持進氣孔，該密封圈係在該放鬆進氣孔與該夾持進氣孔之間往復移動且使該基座之容置槽內被隔離形成一放鬆進氣室及一夾持進氣室，該放鬆進氣孔係連通該放鬆進氣室，該夾持進氣孔係連通該夾持進氣室，該放鬆進氣孔及該夾持進氣孔係用於分別連接至一進氣裝置，且該進氣裝置係電性連接該主控電腦。

上述之曝光機之曝光平台，其中該等升降單元之數量係至少四個以上。

據此，本創作之曝光平台係應用在電路板製程的曝光步驟中，該曝光平台之透光板係藉由該等夾具與該等升降單元固定至該曝光框底面上，故在該載台與該曝光框相對接近後且進行抽真空時，該透光板係可藉由該等升降單元驅動並貼合於該基板表面，且該透光板在抽真空過程中可隨著該基板平整度產生變形，進而增進了透光板與基板的貼合緊密度，而能改善習知技術中曝光框的透光板在抽真空時無法隨基板平整度產生變形之缺點，故本創作之曝光平台係可增進該透光板與該基板在抽真空時緊密地貼合，進而提昇了曝光解析度。

為充分瞭解本創作之目的、特徵及功效，茲藉由下述具體之實施例，並配合所附之圖式，對本創作做一詳細說明，說明如後：

本創作實施例之曝光平台1係應用於製造電路板的曝光機中，該曝光機係具有內部空間且其中配置有一曝光光源200，首先請參閱第1圖，本創作實施例之曝光平台1係用於承載一基板100並對位於該曝光光源200下方，該曝光平台1包含一曝光框10、一載台20、複數個升降單元30及一透光板40；配合第2圖所示，該曝光框10係一矩形框體；該載台20係可相對該曝光框10接近或遠離，該載台20之上表面21係具有一容置區，該容置區係用於放置該基板100並使該曝光光源200的入射光201投射至該基板100；該等升降單元30係設置於該曝光框20上；該透光板40係與該等升降單元30結合，該透光板40由該等升降單元30驅動而朝向或遠離該載台20之容置區移動。

本創作實施例之曝光平台1係連接有一抽真空裝置(圖未示)，其係用於使該曝光框10與該載台20之間形成真空，以使在該透光板40底部的光罩(圖未示)與在該載台20上表面的基板200可緊密地貼合。其中，該載台20可鄰近在該容置區的周圍設置有密封膠條(圖未示)，而使該載台20與該透光板40相靠合後形成一氣密空間，以避免外界氣體進入而導致真空度不足。

據此，當承載有待曝光之基板100的載台20與設置有光罩的透光板40相對接近並靠合後，該抽真空裝置進行抽真空，該升降單元30係驅動該透光板40朝向該載台20之容置區移動，並使該透光板40貼合至該載台20上表面之基板200，因此，不同於習知技術中透光板的四周邊緣係固定於曝光框上，本創作實施例之曝光平台1中該透光板40係藉由該等夾具33與該等升降單元30固定至該曝光框10，故在抽真空時，該透光板40係可隨基板平整度產生變形，進而增進了透光板40與基板100的貼合緊密度。。

請參照第3A及3B圖，其係為本創作實施例中升降單元30之結構圖，於本實施例中，各該升降單元30係具有一基座31、一活塞32及一夾具33，該基座31係固定於該曝光框10上，該活塞32係可往復移動地容置於該基座31的一容置槽311內並具有一往復行程，該活塞32之一端係通過該容置槽311之槽口並結合至該夾具33，該夾具33係夾持該透光板40，如圖所示，每一升降單元30之夾具33係夾持住該透光板40的邊緣。其中，該往復行程係可為3.5±0.5 mm，即該活塞32由第3A圖之位置移動至第3B圖之位置時，係帶動該透光板40下降3.5±0.5 mm。

具體而言，本實施例之升降單元30中，如第3A圖及第3B圖所示，該活塞32鄰近一端處係具有一密封圈321，該基座31上係具有一放鬆進氣孔312及一夾持進氣孔313，其中，該基座31係可具有上蓋體31A及下蓋體31B，該上蓋體31A與該下蓋體31B蓋合組裝後係形成有該容置槽311，而該放鬆進氣孔312係設於該上蓋體31A上且鄰近該上蓋體31A的頂部，該夾持進氣孔313係設於該上蓋體31B上且鄰近該上蓋體31A與該下蓋體31B的接合處。

該活塞32之密封圈321係在該放鬆進氣孔312與該夾持進氣孔313之間往復移動且使該基座31之容置槽311內被隔離形成一放鬆進氣室311A及一夾持進氣室311B，該放鬆進氣孔312係連通該放鬆進氣室311A，該夾持進氣孔313係連通該夾持進氣室311B，該放鬆進氣孔312及該夾持進氣孔313係用於分別連接至一進氣裝置(圖未示)，且該進氣裝置係可電性連接曝光機之主控電腦(圖未示)。當進氣裝置將氣體由該夾持進氣孔313送入時，該活塞32係如第3A圖所示地被推至鄰近該放鬆進氣孔312的位置，而為該往復行程的上死點，此時，該夾持進氣室311B的體積係大於該放鬆進氣室311A；當進氣裝置將氣體由該放鬆進氣孔312送入時，該活塞32係如第3B圖所示地被推至鄰近該夾持進氣孔313的位置，而為該往復行程的下死點，此時，該放鬆進氣室311A的體積係大於該夾持進氣室311B。

於本實施例中，該基座31之容置槽311的槽口係具有一第一定位部314，且該夾具33係具有對應該第一定位部314之一第二定位部331。如第3A圖及第3B圖所示，該第一定位部314係為該容置槽311槽口的斜錐面，其係由該容置槽311內向外漸擴，該第二定位部331係為該夾具上33具有對應該第一定位部314之斜錐面的凸塊，在該活塞32由第3B圖至第3A圖之狀態時，使夾具33在隨著活塞32上升並接近該基座31時，該第二定位部331順應地靠合於該第一定位部314上，此時，該夾具33與該基座31相對定位，該活塞32係回到往復行程之上死點的位置。

於本實施例中，該曝光平台1係可具有一真空錶50，用於偵測該曝光平台1在該載台20與該曝光框10相對靠近且該透光板40貼合該基板100後的真空度(又稱真空壓力)，以監控該載台20與該曝光框10間的氣密空間之真空度。

於本實施例中，該曝光平台1係連接至該曝光機的主控電腦，該主控電腦係根據該真空錶50偵測之氣壓值來控制該升降單元30，該真空錶50所偵測之氣壓達一預定值時，於本實施例中，該預定值係示例為200 mmHg，該主控電腦係控制該等升降單元30作動使該透光板40朝向該載台20之容置區移動且貼合該載台20上表面21之基板100。此外，該曝光機係可具有一使用者介面，其係電性連接該主控電腦並用於設定製程參數(例如曝光時間、曝光強度、真空度等)，使用者係可藉由該使用者介面輸入及設定該預定值，依據曝光目標的種類、尺寸來設定該預定值。

據此，本創作實施例應用於製造電路板的自動化程序中，在開始前，該曝光平台1之透光板40的初始位置係為該等升降單元30內之活塞32位於往復行程之上死點位置(如第3A圖)，即該透光板40係位於整個往復行程中最靠近該曝光框10的位置；當基板100已對位放置於該載台20上表面21的容置區後，該載台20與該曝光框10係相對接近(可藉由傳動機構的配置使該載台20上升以接近該曝光框10，或使該曝光框10下降接近該載台20，或使同時使該曝光框10下降及該載台20上升)後，該抽真空裝置開始進行抽真空，且該真空錶50係偵測該載台20上表面的氣壓，當所偵測到的氣壓達200 mmHg的預定值時，該主控電腦係控制連接該等升降單元30的進氣裝置，以使氣體由每一升降單元30的放鬆進氣孔312送入，該活塞32係由第3A圖至第3B圖所示地被推至鄰近該夾持進氣孔313的位置，而達往復行程之下死點，在此同時，該透光板40係朝向該載台20接近而貼合於該載台20上表面之基板100上。因此，在該抽真空裝置持續抽真空的過程中，該透光板40逐漸緊貼於該基板100表面，直到該透光板40與該基板100之間達到真空狀態且完全貼合後，始開啟該曝光光源200對該基板100進行曝光步驟。

在曝光步驟完成後，該曝光機內部空間逐漸回復至常壓狀態，該主控電腦係控制連接該等升降單元30的進氣裝置，以使氣體由每一升降單元30的夾持進氣孔313送入，該活塞32如第3B圖至第3A圖所示地被推至鄰近該放鬆進氣孔312的位置，而為該往復行程的上死點，在此同時，該透光板40係相對該載台20與其上表面之基板100遠離，最後，該載台20與該曝光框10係相對遠離。

於本實施例中，該等升降單元30之數量係為八個，其係在矩形的曝光框10的每一邊上各配置二個，然該等升降單元30之數量係不限於本實施例及圖式，其係可按照該曝光框10的尺寸進行配置，例如適用於小板面基板的曝光機中，該等升降單元30之數量係可為四個，即在矩形的曝光框10的每一邊上配置一個，始可提供予透光板40足夠的支撐力與驅動力。

綜上所述，本創作實施例之曝光平台1應用在電路板製程的曝光步驟中，該曝光平台1之透光板40係藉由該等夾具33與該等升降單元30固定至該曝光框10底面上，故在該載台20與該曝光框10相對接近後且進行抽真空時，該透光板40係可藉由該等升降單元30驅動並貼合於該基板100，且該透光板40在抽真空過程中可隨基板表面的平整度產生變形，進而增進了透光板40與基板100的貼合緊密度，而能改善習知技術中曝光框的透光板在抽真空時無法隨基板100平整度產生變形而無法緊密貼合之缺點，故本創作實施例之曝光平台1係可增進該透光板40與該基板100在抽真空時緊密地貼合，進而提昇了曝光解析度。

本創作在上文中已以較佳實施例揭露，然熟習本項技術者應理解的是，該實施例僅用於描繪本創作，而不應解讀為限制本創作之範圍。應注意的是，舉凡與該實施例等效之變化與置換，均應設為涵蓋於本創作之範疇內。因此，本創作之保護範圍當以申請專利範圍所界定者為準。

1‧‧‧曝光平台
10‧‧‧曝光框
20‧‧‧載台
21‧‧‧上表面
30‧‧‧升降單元
31‧‧‧基座
31A‧‧‧上蓋體
31B‧‧‧下蓋體
314‧‧‧第一定位部
311‧‧‧容置槽
311A‧‧‧放鬆進氣室
311B‧‧‧夾持進氣室
312‧‧‧放鬆進氣孔
313‧‧‧夾持進氣孔
314‧‧‧第一定位部
32‧‧‧活塞
321‧‧‧密封圈
33‧‧‧夾具
331‧‧‧第二定位部
40‧‧‧透光板
50‧‧‧真空錶
100‧‧‧基板
200‧‧‧曝光光源
201‧‧‧入射光

第1圖係為本創作實施例之曝光平台的示意圖。 第2圖係為本創作實施例之曝光平台中曝光框的結構示意圖。 第3A及3B圖係為本創作實施例之曝光平台中升降單元的結構示意圖。

1‧‧‧曝光平台

10‧‧‧曝光框

20‧‧‧載台

21‧‧‧上表面

30‧‧‧升降單元

33‧‧‧夾具

40‧‧‧透光板

50‧‧‧真空錶

100‧‧‧基板

200‧‧‧曝光光源

201‧‧‧入射光

Claims (8)

1. 一種曝光機之曝光平台，用於承載一基板並對位於一曝光光源下方，包含： 一曝光框； 一載台，係可相對該曝光框接近或遠離，該載台之上表面係具有一容置區，該容置區係用於放置該基板並使該曝光光源的入射光投射至該基板； 複數個升降單元，係設置於該曝光框上；以及 一透光板，係與該等升降單元結合，該透光板由該等升降單元驅動而朝向或遠離該載台之容置區移動。
2. 如請求項第1項所述之曝光機之曝光平台，其中各該升降單元係具有一基座、一活塞及一夾具，該基座係固定於該曝光框上，該活塞係可往復移動地容置於該基座的一容置槽內並具有一往復行程，該活塞之一端係通過該容置槽之槽口並結合至該夾具，該夾具係夾持該透光板。
3. 如請求項第2項所述之曝光機之曝光平台，其中該基座之容置槽的槽口係具有一第一定位部，且該夾具係具有對應該第一定位部之一第二定位部。
4. 如請求項第2或3項所述之曝光機之曝光平台，其中該往復行程係為3.5±0.5 mm。
5. 如請求項第2或3項所述之曝光機之曝光平台，其中該曝光平台係具有一真空錶，用於偵測真空度。
6. 如請求項第5項所述之曝光機之曝光平台，其中該升降單元係電性連接一主控電腦，用於當該真空錶偵測到之氣壓達一預定值時，該主控電腦係控制該等升降單元作動使該透光板朝向該載台之容置區移動且貼合該載台上表面之基板。
7. 如請求項第6項所述之曝光機之曝光平台，其中該活塞鄰近一端處係具有一密封圈，該基座上係具有一放鬆進氣孔及一夾持進氣孔，該密封圈係在該放鬆進氣孔與該夾持進氣孔之間往復移動且使該基座之容置槽內被隔離形成一放鬆進氣室及一夾持進氣室，該放鬆進氣孔係連通該放鬆進氣室，該夾持進氣孔係連通該夾持進氣室，該放鬆進氣孔及該夾持進氣孔係用於分別連接至一進氣裝置，且該進氣裝置係電性連接該主控電腦。
8. 如請求項第1項所述之曝光機之曝光平台，其中該等升降單元之數量係至少四個以上。