JP4572626B2 - 光照射装置 - Google Patents
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Description
上記露光装置として、マスクとワークを接近させてマスクパターンをワーク上に転写するプロキシミティ露光装置、マスクとワークを密着させてマスクパターンをワーク上に転写するコンタクト露光装置がある。
上記のプロキシミティ露光装置やコンタクト露光装置において、マスクを、マスクを保持するマスクステージに保持させる際、以下のように、ワークステージを用いてマスク取り付ける方法がある(例えば特許文献1参照)。このような方法を使うと、大面積のワーク対応した大型のマスクを交換する際、作業が容易になる。
(i) マスクを、ワークを載置するワークステージ上に置く。
(ii)ワークステージを上昇させて、マスクをマスクステージの下面に接触させる。さらにワークステージを微小上昇させ、マスクをマスクステージの下面に押し付ける。
(iii) マスクステージにマスク吸着用真空を供給して、マスクをマスクステージに保持させる。
(iv)ワークステージを下降させる。
液晶パネルは、光透過性基板上に形成された光(紫外線)硬化樹脂であるシール剤の囲みの中に液晶を滴下し、該基板上にもう一枚の光透過性基板を載せ、ガラス基板越しに、紫外線を含む光をシール剤に照射し、2枚の光透過性基板を貼り合わせて製作される。上記の光照射時、紫外線が液晶に照射されると特性変化を起こすので、シール部以外に紫外線が照射されないように、遮光マスクを用いる。
液晶基板は1辺が1mを超えるものもあり、年々大型化している(例えば1100mm×1300mmから1500mm×1800mm)。このような基板を貼り合せのための光照射は、基板全体を一括して行なうことが多く、したがって、上記遮光マスクも基板に応じて大型化している。
液晶パネルの貼り合せ装置において、大型のマスク製作にかかる費用を低減させる装置として、本出願人は、特許文献2に記載されるようにマスクステージに設けた光透過性のマスク保持手段に、マスクを保持させる構造の装置を提案した。
このような、マスク保持手段を用いる場合においても、マスク保持手段の下面側にマスクを保持させるために、上記したような、『マスクをワークステージに載置→ワークステージを上昇させて、マスクをマスク保持手段に接触させ押し付ける→マスクが真空吸着によりマスク保持手段に保持される→ワークステージの下降』という方法を用いれば、遮光マスクが大型であっても、マスクを容易にマスク保持手段に保持させることができる。
図11に上記マスク取り付け治具を用いてマスクをマスク保持手段に取り付ける方法を示す。
図11に示すように、ワークステージ1の上にマスク取り付け治具2が載置され、マスク取り付け治具2の上に遮光マスク3(以下マスク3という)が載せられる。マスク取り付け治具2は、フレーム2aと、フレーム2aとワークステージ1との間に設けられた例えばスプリングプランジャなどの弾性部材2bと、フレーム2a上に設けられマスク3が載置される保護材2cとから構成される。
マスク保持手段4は透明部材で構成され、マスクステージ5に真空吸着などで保持される。マスク保持手段4には、マスク3を吸着して保持するため、真空源に連通する真空吸着孔または真空吸着溝4aが設けられている。
ワークステージ1がさらに上昇すると、マスク取り付け治具2の弾性部材2bが圧縮されて縮み、マスク3全面がマスク保持手段4に接触し、弾性部材2bの弾性力により全面に渡って均一な力でマスク保持手段4に押し付けられる。上記弾性部材2bの撓み量は図示しないセンサなどにより検出され、その値が所定の値に達すると、ワークステージの上昇が停止する。
この状態で、マスク3がマスク保持手段4に吸着され十分な保持力に達するまで待機し、待機時間経過後、ワークステージ1を下降させる。ワークステージ1が下降したら上記マスク取り付け治具を取り外し、マスク3の取り付け作業を終了する。
なお、上記マスク3の取り付け作業が終了したら、ワークステージ1上に液晶パネルなどのワークを載せ、上記マスク3を介して光照射部6からワークに光を照射して、液晶パネルなどの貼り合わせ処理等を行う。
しかし、ワークの大型化に伴いマスクが大型化するにつれ、次のような問題が生じるようになってきた。
マスクは、ワークステージが上昇してマスクステージあるいはマスク保持手段に押し付けられ、マスクステージあるいはマスク保持手段4に形成された真空吸着孔または真空吸着溝(以下、両者を合わせて真空吸着機構ともいう)に真空が供給されることにより、吸着保持される。
しかし、図11に示したようにマスク保持手段4にマスク3を吸着保持させる場合、マスク3とマスク保持手段4が全面に渡って接触しているため、マスク3がマスクマスク保持手段4に押し付けられた時、マスク3とマスク保持手段4の間にはエアーが挟まれて残る。この残存エアーは、マスク保持手段4の真空吸着機構により排気されるが、完全に排気されなければ、大気圧との圧力差が生じず、マスク3はマスク保持手段4に保持されない。
このような状態で、マスク保持手段4の真空吸着機構に真空を供給し、所定時間、マスク3をマスク保持手段4に押し付けることで、残存エアーが排気される。
ところで、光は光透過性のマスク保持手段4を介してマスク3に照射される。マスク3の中央部とその付近にはパターンが形成されており、このパターンが位置するマスク保持手段4の中央部とその付近に真空吸着溝や孔を多く形成すると、該溝や孔で光が屈折し、露光性能に悪い影響を与えることも考えられる。したがって、真空吸着溝や孔はマスク保持手段の周辺部にしか設けることができない。
上記のように、真空吸着溝や孔はマスク保持手段の周辺部にしか設けることができないので、マスクが大きくなるにつれて、上記残存エアーの量は多くなり、残存エアーを排気しマスク保持手段がマスクを保持するまで、時間がかかるようになってきた。
マスクはワークの種類に応じて交換する必要があり、マスクの交換時間が長いということは、その分生産効率を低下させることになる。そのため、ユーザからは、マスクが大きくなっても、マスクがマスク保持手段に吸着保持される時間を短くできるよう求められている。
その一方で、マスクがマスク保持手段に吸着保持されてから、ワークステージを下降しようとすると、マスクがワークステージ(あるいはマスク取り付け治具)から離れず、マスク保持手段からマスクを引き剥がしてしまうことも生じた。
これは、マスクをマスク保持手段に押し付けて保持させている最中に、マスクとマスク保持手段との間からリークした真空が、マスクとワークステージ(あるいはマスク取り付け治具)の間に回りこみ、マスクとワークステージ(あるいはマスク取り付け治具)の間を減圧してしまうことが原因と考えられる。
本発明は、上記問題点を解決するためになされたものであって、本発明の目的は、光照射装置において、マスクが大きくなっても、マスク保持手段に吸着保持させる時間が長くならないようにすることである。
マスクの周辺部を真空引きする真空吸引手段と、上記真空吸引手段を真空源に連通させるバルブを設ける。
ワークステージにマスクを載置し、ワークステージを上昇させてマスク保持手段にマスクが当接したとき、上記真空吸引手段によりマスクの周辺部(マスクとマスク保持手段とワークステージとで囲まれる空間、またはマスクとマスク保持手段とで囲まれる空間)を真空引きし、減圧雰囲気とする。これにより、マスクとマスク保持手段の間の残存エアーを排気し、マスクとマスク保持手段を密着させる。
マスク保持手段の真空吸着機構のみにより残存エアーを排気する場合に比べて、マスクがマスク保持手段に吸着保持させる時間が短くなる。
さらに、マスク保持手段とワークステージとの間が減圧雰囲気になるので、マスク保持手段とワークステージとが、大気により互いに密着する方向に押され、マスクをマスク保持手段に押さえつける力が大きくなり、残存エアーを追い出す力も働く。したがって、マスクをマスク保持手段に吸着保持させるための時間が短くなる。
上記真空吸引手段として、ワークステージに設けられた開口を利用し、該開口に真空源を接続して真空引きしてもよい。
また、上記真空吸引手段として、マスク周辺部に向けて開口を有する吸引ヘッドを設け、該吸引ヘッドに真空源を接続して真空引きしてもよい。
なお、マスク保持手段にマスクが吸着保持された後、ワークステージを下降させる際に、ワークステージからマスクに対してエアーを吹き付ければ、ワークステージからマスクを引き離すことができ、ワークステージ下降時における、マスク保持手段からマスクの引き剥がしを防ぐことができる。
(1)マスクをワークステージによりマスク保持手段に押し付けて保持させる時、マスクとマスク保持手段とワークステージとで囲まれる空間、またはマスクとマスク保持手段とで囲まれる空間を減圧雰囲気にすることにより、マスクとマスク保持手段の間の残存エアーが早くなくなる。このため、マスクが大きくなっても、マスク保持手段に吸着保持させる時間が長くならず、短時間でマスクをマスク保持手段に吸着保持させることができる。
(2)マスク保持手段にマスクが吸着保持された後、ワークステージを下降させる際に、ワークステージからマスクに対してエアーを吹き付けることにより、ワークステージからマスクを引き離すことができ、ワークステージ下降時における、マスク保持手段からマスクの引き剥がしを防ぐことができる。
同図において、マスクステージ5には、真空吸着溝5aが設けられ、図示しない真空源から上記真空吸着溝5aに真空が供給され、光透過性のマスク保持手段4が吸着保持されている。
マスク保持手段4には、取り付けるマスクの大きさに合わせて真空吸着溝4aが設けられ、この真空吸着溝4aにマスク吸着用の真空が供給されマスク3が吸着保持されている。なお、上記真空吸着溝に代えて真空吸着孔が設けられていてもよく、以下では、真空吸着溝であるとして説明する。
ワークステージ1には、光照射が行なわれる液晶パネルなどのワーク(図示せず)が載置される。また、上記マスク保持手段4に対向させて光照射部6が設けられ、光照射部6には複数のランプ6aと、ミラー6bが設けられている。
上記光照射部6から出射した光は、マスク保持手段4を通過し、マスク3を介してワークステージ1上のワークに照射される。
ワークは、例えば貼り合わせを行なう液晶パネルであり、2枚のガラス基板の間に形成された、光(紫外線)硬化樹脂であるシール剤の囲みの中に液晶が挟みこまれている。該シール剤に紫外線を含む光を照射することにより、2枚のガラス基板が貼り合わされる。 上記の光照射時、紫外線が液晶に照射されると特性変化起こすので、マスク3にはシール部以外に紫外線が照射されないように遮光部が形成されている。
上記開口1aには、管路8、切換えバルブ9を介して圧縮エアー供給源10、真空源(真空ポンプ)11が接続される。切換えバルブ9を切り換えることで、管路8を上記圧縮エアー供給源10、真空源11に選択的に接続することができ、また、切換えバルブ9を閉じることで、管路8を上記圧縮エアー供給源10、真空源11から切り離すことができる。
また、ワークステージ1は、緩衝シリンダ7aを介してワークステージ移動機構7bに取り付けられており、ワークステージ移動機構7bにより、ワークステージ1を、光照射部6に対し接近/退避させる方向(同図の上下方向)に移動させることができる。
緩衝シリンダ7aは、例えば低摩擦エアーシリンダと精密レギュレータを組み合せて構成され、ワークステージを押し上げる圧力を任意に設定し制御することができる。また、マスク3がマスク保持手段4に当接したことを検出するため、緩衝シリンダ7aには、緩衝シリンダ7aに所定以上の力が加わりシリンダの変位量が所定値を越えたとき出力を発生するセンサ(図示せず)が設けられている。なお、マスク3がマスク保持手段4に当接したことを検出する手段としては、上記のようにセンサを設けるほか、例えばマスク保持手段4の真空溝4aと図示しない真空源を接続する管路中の圧力を検出し、この圧力の変化から、マスク3がマスク保持手段4に当接したことを検出するなど、その他の検出手段を用いてもよい。
図1に示すマスク取り付け機構は、上記ワークステージ1をマスク保持手段4に向けて上昇させるワークステージ移動機構7b、上記真空吸着溝4a、ワークステージ1の開口1a、開口1aに接続された管路8、管路中に設けられた切換えバルブ9、圧縮エアー供給源10から構成され、上記のようにマスク3をマスク保持手段に押し付けることで、マスク3をマスク保持手段4に取り付ける。
また、上記切換えバルブ9を真空源11側に切り換えることにより、ワークステージ1の開口1aを真空源11に連通させることができ、マスク3をワークステージに載せて上昇させる際、マスク3が移動しないように吸着保持することができる。また、マスク3をマスク保持手段4に吸着保持させたのち、ワークステージ1を下降させる際、上記開口1aからエアーを吹きつけ、バックブローすることにより、ワークステージからマスク3を引き離すことができる。
さらに、ワークに光を照射する際にも、上記切換えバルブ9を真空源11側に切り換えることにより、ワークをワークステージ1上に吸着保持することができる。
図2、図3、図4にマスク取り付け機構によるマスク取り付け動作を示し、図5にマスク取り付け機構の動作タイミングを示す。なお、図5中の括弧数字は、以下の説明の括弧数字に対応する。
(1)図2に示すように、ワークステージ1にマスク3が載置される。ここで、前記切換えバルブ9を真空源11側に切り換え、図5の点線に示すようにワークステージ1の開口1aを真空源11に連通させれば、マスク3をワークステージ1に吸着保持させることができる。これにより、マスク3をマスク保持手段4に取り付ける際、マスク3が移動するのを防ぐことができる。なお、マスク3をワークステージ1に吸着保持させる必要がなければ、前記切換えバルブ9を閉じたままでもよい。
(2)マスクステージ5に保持されているマスク保持手段4の真空吸着溝4aにも、真空を供給する。なお、上記真空吸着溝4aへの真空の供給は、上記(1)のタイミングで行ってもよいし、あるいは、後述するマスク3がマスク保持手段4に当接したときに行ってもよい。
(3)図3に示すように、ワークステージ1がワークステージ移動機構7bにより上昇し、マスク3の一部がマスク保持手段4に当接する。この状態からワークステージ1を微小上昇させると、緩衝シリンダ7aはその弾力によって縮み、マスク3には、無理な力がかかることなく、マスク保持手段4と全面に渡って接触する。
なお、上記では、緩衝シリンダ7aに設けたセンサの出力により切換えバルブ9を切り換える場合について説明したが、前記したように、マスク保持手段4の真空溝4aと図示しない真空源を接続する管路中の圧力を検出し、この圧力が一定値以下になったとき、切換えバルブ9を切り換えるようにしてもよい。
すなわち、マスク3がマスク保持手段4に押し付けられると、マスク3とマスク保持手段4の間の空気が排出され、上記管路の圧力は急激に低下するので、この圧力低下を検出することで、マスク3がマスク保持手段4に当接し、マスク保持手段4に押し付けられたことを検出することができる。なお、その他の検出手段を用いて、上記切換えバルブ9の切換えタイミングを決定するようにしてもよい。
なお、マスク保持手段4およびマスク3の表面は、厳密な意味では平坦でなく微小な凹凸がある。このため、前記図11に示したようにマスク取り付け治具によりマスク3をマスク保持手段4に押し付けた場合、上記凹部に残ったエアーはなかなか排出されないが、バックブローによりマスク3をマスク保持手段4に押し付けることで、マスク3はマスク保持手段4に大きな力で押し付けられるととも、マスク3は、マスク3とマスク保持手段4の間の凹凸に沿って変形し、マスク3とマスク保持手段4の間のエアーを比較的短時間の間に排出させることができる。
ここで、ワークステージ1の開口1aからエアーのバックブローを続けたまま、ワークステージ1を下降させることで、マスク3はマスク保持手段4側に押し付けられ、マスク保持手段4からマスク3を引き剥がそうとする力ははたらかない。このため、前記したようにマスク1がワークステージから離れず、マスク保持手段4からマスク3を引き剥がしてしまうといった問題を解決することができる。
(7)ワークステージ1が下降したら、前記切換えバルブ9を閉じて、上記バックブロー停止する。以上で、マスク保持手段4へのマスク3の取り付けが終わる。なお、マスク3を取り外す時は、基本的には上記手順を逆にする。
本発明の実施例の光照射装置の構成は、図1に示したものと同じであり、図1に示したように、マスクステージ5に、真空吸着溝5aが設けられ、図示しない真空源から上記真空吸着溝5aに真空が供給され、光透過性のマスク保持手段4が吸着保持されている。
マスク保持手段4には、取り付けるマスクの大きさに合わせて真空吸着溝4aが設けられ、この真空吸着溝4aにマスク吸着用の真空が供給されマスク3が吸着保持されている。
ワークステージ1には、光照射が行なわれる液晶パネルなどのワーク(図示せず)が載置される。また、上記マスク保持手段4に対向させて光照射部6が設けられ、光照射部6には複数のランプ6aと、ミラー6bが設けられている。
上記光照射部6から出射した光は、マスク保持手段4を通過し、マスク3を介してワークステージ1上のワークに照射される。
ワークは、例えば前記したように貼り合わせを行なう液晶パネルであり、マスク3にはシール部以外に紫外線が照射されないように遮光部が形成されている。
また、ワークステージ1は、前記した緩衝シリンダ7aを介してワークステージ移動機構7bに取り付けられており、ワークステージ移動機構7bにより、ワークステージ1を、光照射部6に対し接近/退避させる方向(同図の上下方向)に移動させることができる。緩衝シリンダ7aには、前記したようにセンサが設けられ、所定以上の力が加わりシリンダの変位量が所定値を越えたときセンサが出力を発生する。
また、その際、本実施例においては、上記切換えバルブ9を切り換えて、ワークステージ1の開口1aを真空源11に連通させる。これにより、マスク3とワークステージ1の間から、マスク保持手段4とマスク3の近傍のエアーが吸引され、マスク保持手段4とワークステージ1の間が減圧雰囲気になる。このようにしてマスク保持手段4とワークステージ1の間が減圧されるので、大気圧によりワークステージ1とマスク保持手段4の間に、互いに密着する方向の力が働く。
この状態で、マスク3とマスク保持手段4の間の残存エアーが外に追い出されマスク3とマスク保持手段4が密着するまで待機する。これにより、マスク3をマスク保持手段4に吸着保持させることができる。
なお、前記緩衝シリンダ7aを設けることで、マスク3に無理な力をかけることなく、マスク3を均一な力でマスク保持手段4に押し付けることができる。
また、前記図1で説明したのと同様、上記切換えバルブ9を真空源11側に切り換えることにより、ワークステージ1の開口1aを真空源11に連通させることができ、マスク3をワークステージに載せて上昇させる際、マスク3が移動しないように吸着保持することができる。また、マスク3をマスク保持手段4に吸着保持させたのち、ワークステージ1を下降させる際、上記開口1aからエアーを吹きつけ、バックブローすることにより、ワークステージからマスク3を引き離すことができる。
さらに、ワークに光を照射する際にも、上記切換えバルブ9を真空源11側に切り換えることにより、ワークをワークステージ1上に吸着保持することができる。
(1)図2に示すように、ワークステージ1にマスク3が載置される。ここで、切換えバルブ9を真空源11側に切り換え、図7の点線に示すようにワークステージ1の開口1aを真空源11に連通させることにより、マスク3をワークステージ1に吸着保持させることができ、これにより、マスク3をマスク保持手段4に取り付ける際、マスク3が移動するのを防ぐことができる。なお、マスク3をワークステージ1に吸着保持させる必要がなければ、前記切換えバルブ9を閉じたままでもよい。
(2)マスクステージ5に保持されているマスク保持手段4の真空吸着溝4aにも、真空を供給する。なお、上記真空吸着溝4aへの真空の供給は、上記(1)のタイミングで行ってもよいし、あるいは、後述するマスク3がマスク保持手段4に当接したときに行ってもよい。
(4)切換えバルブ9が真空源11側に切り換えられており、ワークステージ1の開口1aが真空源11に連通している場合には、そのまま、ワークステージ1の開口1aに真空を供給し続ける。
また、切換えバルブ9が閉じている場合には、例えば、前記したように緩衝シリンダ7aが縮み、前記緩衝シリンダに設けられたセンサ(図示せず)が出力を発生したとき、前記切換えバルブ9を真空源11に切り換え、ワークステージ1の開口1aを真空源11に連通させる。
なお、上記では、緩衝シリンダ7aにセンサを設けて、このセンサの出力により切換えバルブ9を切り換える場合について説明したが、前記したようにマスク保持手段4の真空溝4aと図示しない真空源を接続する管路中の圧力を検出し、この圧力が一定値以下になったとき、切換えバルブ9を切り換えるようにしてもよい。
すなわち、図6に示すように、この状態では、マスクとマスク保持手段の間に残った残存エアーがマスク保持手段4の真空吸着溝4aから排気されるとともに、マスク3とワークステージ1の間から、マスク保持手段4とマスク3の周辺部のエアーがワークステージ1の開口1aへ吸い込まれ、マスク3の周辺部が減圧雰囲気になる。
なお、マスク保持手段4とワークステージ1の間隔は、マスク3の厚さに依存するが、、マスク3の厚さは例えば0.7mmしかなく、コンダクタンスが高いので、この隙間には大気がすぐには流入せず、減圧雰囲気が保たれる。
このようにして生じた減圧雰囲気により、マスク3とマスク保持手段4の間の残存エアーは、急速に吸い取られる。即ち、残存エアーは、マスク保持手段4の真空吸着溝4aからだけでなく、マスク保持手段4とワークステージ1の間を通って、ワークステージの開口1aから排気されることになるので、残存エアーの排気される速度が速くなる。
さらに、マスク保持手段4とワークステージ1の間が減圧されるので、大気圧によりワークステージ1とマスク保持手段4が、互いに密着する方向に押される。
前記したように、緩衝シリンダ7aには、弾力を持たせているので、ワークステージ1は、大気圧に押されて微小上昇し、マスク3はマスク保持手段4により強く密着する。これにより、残存エアーを外に追い出す力が加わるので、残存エアーの排気される速度がさらに速くなる。
(7)上記のように、マスク3に対してエアーをバックブローしながら、図4に示すように、ワークステージ1を下降させる。
ここで、ワークステージ1の開口1aからエアーのバックブローをしながらワークステージ1を下降させることで、マスク3はマスク保持手段4側に押し付けられ、マスク保持手段4からマスク3を引き剥がそうとする力ははたらかない。このため、前記したようにマスク1がワークステージから離れず、マスク保持手段4からマスク3を引き剥がしてしまうといった問題を解決することができる。
(8)ワークステージ1が下降したら、前記切換えバルブ9を閉じて、上記バックブロー停止する。以上で、マスク保持手段4へのマスク3の取り付けが終わる。なお、マスク3を取り外す時は、基本的には上記手順を逆にする。
(i) マスク3をマスク保持手段4に押し付けているとき、図1で説明したように、ワークステージ1の開口1aからエアーを供給しマスク3に対してバックブローすると、前記図11に示したように何も供給しない押し付けのみの場合に比べて、マスク3がマスク保持手段4に吸着保持されるまでの時間が14分から10分に短縮された。
(ii)さらに、マスク3をマスク保持手段4に押し付けているとき、本発明の実施例のように、ワークステージ1の開口1aを真空源11に連通させ、マスク保持手段4とワークステージ1の間(マスク周辺部)を減圧雰囲気にするとマスク3が保持されるまでの時間を大幅に短縮させることができる。この実験では、ワークステージ1への真空吸着圧力を−20kPaにすることで3分、−84kPaとすることで2分に短縮することができた。
マスク保持手段4やワークステージ1に供給する真空吸着圧力は、低くするほどマスク保持されるまでの時間が短くなる。これは、マスク保持手段4とワークステージ1の間の圧力が下がるので、残存エアーがそこに吸い取られる速度が早くなるとともに、マスク3とマスク保持手段4の密着度が高まるためと考えられる。
図8は、上記実施例の変形例1であり、ワークステージの周辺部にOリングを設けた実施例である。
図8において、前記図1に示したものと同一のものには同一の符号が付されており、この実施例では、前記図1に示したものにおいて、ワークステージ1の周辺部にOリング12が設けられている。このOリング12は、マスク3とマスク保持手段4が当接したとき、マスク3の周辺部を外気から遮断されるようにシールする。
上記Oリング12を設けることで、マスク3がマスク保持手段4に押し付けられ、マスク保持手段4とワークステージ1の間が減圧されているとき、マスク保持手段4とワークステージ1の間には大気が流れ込まなくなる。
このため、マスク保持手段4とワークステージ1の間の圧力を速やかに低くすることができ、マスクの吸着保持時間をより短くすることができる。
本実施例では、マスク保持手段4を保持するマスクステージ5に、同図に示すようにマスク保持手段4とワークステージ1の間を減圧するための開口または溝5b(以下では開口5bとして説明する)を設け、開口5bを管路14、バルブ15を介して真空源13に接続している。なお、上記真空吸引手段をマスクステージ5に設けず、真空源に接続された開口を有し該開口がマスク周辺部に向けられた吸引ヘッドを別途設けてもよい。
その他の構成は、前記図1に示したものと同様であり、マスクステージ5に、真空吸着溝5aが設けられ、図示しない真空源から上記真空吸着溝5aに真空が供給され、光透過性のマスク保持手段4が吸着保持されている。
マスク保持手段4には、取り付けるマスクの大きさに合わせて真空吸着溝4aが設けられ、この真空吸着溝4aにマスク吸着用の真空が供給されマスク3が吸着保持されている。
また、上記マスク保持手段4に対向させて光照射部6が設けられ、光照射部6には複数のランプ6aと、ミラー6bが設けられている。
なお、前記図1と同様、ワークステージ1に、マスクおよびワークの大きさに合わせて複数の開口1aを形成し、図示しない管路、切換えバルブを介して圧縮エアー供給源、真空源を接続することで、ワークステージ上に載置されたマスクを吸着保持することができ、また、マスクをマスク保持手段に吸着保持させた後、ワークステージを下降させる際、マスクに対してバックブローすることで、ワークステージをマスクから引き離すことができる。
本実施例のマスク取り付け機構は、上記ワークステージ1をマスク保持手段4に向けて上昇させるワークステージ移動機構7b、上記真空吸着溝4a、マスクステージ5に形成されたマスク保持手段4とワークステージ1の間を減圧するための開口5b、管路15、バルブ16、真空源14から構成され、前記実施例と同様、マスク保持手段4とワークステージ1の間を減圧雰囲気にすることで、マスク3とマスク保持手段4の間の残存エアーを吸引するとともに、ワークステージ1とマスク保持手段4の間に互いに密着する方向の力を作用させ、マスク3をマスク保持手段4に取り付ける。
なお、前記緩衝シリンダ7aを設けることで、マスク3に無理な力をかけることなく、マスク3を均一な力でマスク保持手段4に押し付けることができる。
(1)ワークステージ1にマスク3を載置する。ここで、図示しない切換えバルブを真空源側に切り換え、図10の点線に示すように、ワークステージ1の開口1aを真空源に連通させることにより、マスク3をワークステージ1に吸着保持させることができ、マスク3が移動するのを防ぐことができる。なお、マスク3をワークステージ1に吸着保持させる必要がなければ、上記切換えバルブを閉じたままでもよい。
(2)マスクステージ5に保持されているマスク保持手段4の真空吸着溝4aにも、真空を供給する。なお、上記真空吸着溝4aへの真空の供給は、上記(1)のタイミングで行ってもよいし、あるいは、後述するマスク3がマスク保持手段4に当接したときに行ってもよい。
また、バルブ15を開き、マスクステージ5の開口5bを真空源13に連通させる。なお、上記開口5bの真空源13への連通は、後述するマスク3がマスク保持手段4に当接したときに行なってもよい。
(3)ワークステージ1がワークステージ移動機構7bにより上昇を開始する。
なお、前記したように、マスクステージ5の開口5bを、マスク保持手段4にマスク3が当接したときに真空源13に連通させるようにしてもよい。この場合、バルブ15は、例えば前記したように、前記緩衝シリンダに設けられたセンサ(図示せず)が出力を発生したとき、開くようにすればよい。
これにより、マスク保持手段4とマスク3の近傍、即ちマスク保持手段4とワークステージ1の間が減圧され、減圧雰囲気になる。
このようにして生じた減圧雰囲気により、前記実施例で説明したように、マスク3とマスク保持手段4の間の残存エアーは、急速に吸い取られる。即ち、残存エアーは、マスク保持手段4の真空吸着溝4aからだけでなく、マスクステージ5に設けられた開口5bから排気されることになるので、残存エアーの排気される速度が速くなる。
さらに、マスク保持手段4とワークステージ1の間が減圧されるので、大気圧によりワークステージ1とマスク保持手段4が、互いに密着する方向に押される。
ワークステージ1が下降したら、上記バックブロー停止する。以上で、マスク保持手段4へのマスク3の取り付けが終わる。なお、マスク3を取り外す時は、基本的には上記手順を逆にする。
1a 開口
2 マスク取り付け治具
3 マスク
4 マスク保持手段
4a 真空吸着溝
5 マスクステージ
5a 真空吸着溝
5b 開口
6 光照射部
7a 緩衝シリンダ
7b ワークステージ移動機構
8 管路
9 切換えバルブ
10 圧縮エアー供給源
11 真空源
12 Oリング
13 真空源
14 管路
15 バルブ
Claims (1)
- ワークステージにマスクを載置し、ワークステージの上昇により光透過性のマスク保持手段にマスクを当接させて真空吸着させるマスク取付機構を備えた光照射装置であって、
ワークステージ上のマスクがマスク保持手段に当接時に、マスクの周辺部を真空引きする真空吸引手段と、
上記真空吸引手段を真空源に連通させるバルブを備え、
上記マスクの周辺部を真空引きすることにより、マスクとマスク保持手段の間の残存エアーを排気し、マスクとマスク保持手段を密着させる光照射装置において、
上記真空吸引手段は、上記マスク保持手段にマスクの大きさに合わせて形成された真空吸着溝と、上記ワークステージにマスクおよびワークの大きさに合わせて形成された複数の開口である
ことを特徴とする光照射装置。
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Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR20190031661A (ko) * | 2017-09-18 | 2019-03-27 | 주식회사 이에스티 | 대상체 들뜸 방지용 정전척 |
Families Citing this family (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP5112151B2 (ja) * | 2008-04-08 | 2013-01-09 | 株式会社アルバック | 光照射装置 |
JP5075789B2 (ja) * | 2008-10-20 | 2012-11-21 | 株式会社アルバック | 光照射装置 |
JP5190034B2 (ja) * | 2009-07-03 | 2013-04-24 | 株式会社日立ハイテクノロジーズ | 露光装置 |
JP5472616B2 (ja) * | 2010-01-27 | 2014-04-16 | ウシオ電機株式会社 | 光照射装置 |
JP5373168B2 (ja) * | 2012-10-09 | 2013-12-18 | 株式会社アルバック | 光照射装置 |
JP6287504B2 (ja) * | 2014-04-03 | 2018-03-07 | 大日本印刷株式会社 | 近接露光方法および近接露光方法を用いたカラーフィルタの製造方法 |
Citations (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5980930A (ja) * | 1983-08-31 | 1984-05-10 | Hitachi Ltd | ウエ−ハ整合方法 |
JPH0356965A (ja) * | 1989-07-26 | 1991-03-12 | Mitsumura Genshiyokuban Insatsujiyo:Kk | 露光装置 |
JPH04112076A (ja) * | 1990-08-31 | 1992-04-14 | Dainippon Printing Co Ltd | アライメント転写方法およびアライメント転写装置 |
JPH11184095A (ja) * | 1997-12-24 | 1999-07-09 | Ushio Inc | マスクローダを有する露光装置 |
JP2001215716A (ja) * | 2000-02-02 | 2001-08-10 | Orc Mfg Co Ltd | ワークとマスクの分離機構 |
JP2002091011A (ja) * | 2000-09-18 | 2002-03-27 | Dainippon Printing Co Ltd | 密着露光装置 |
JP2004029063A (ja) * | 2002-06-21 | 2004-01-29 | Adtec Engineeng Co Ltd | 密着型露光装置 |
JP2004077583A (ja) * | 2002-08-12 | 2004-03-11 | Ushio Inc | ディスプレイパネルの貼り合わせ装置 |
JP2005181540A (ja) * | 2003-12-17 | 2005-07-07 | Ushio Inc | マスク取り付け治具および該マスク取り付け治具を用いたマスク取り付け方法 |
Family Cites Families (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH10106920A (ja) * | 1996-09-27 | 1998-04-24 | Ushio Inc | プロキシミティ露光方法 |
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Patent Citations (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5980930A (ja) * | 1983-08-31 | 1984-05-10 | Hitachi Ltd | ウエ−ハ整合方法 |
JPH0356965A (ja) * | 1989-07-26 | 1991-03-12 | Mitsumura Genshiyokuban Insatsujiyo:Kk | 露光装置 |
JPH04112076A (ja) * | 1990-08-31 | 1992-04-14 | Dainippon Printing Co Ltd | アライメント転写方法およびアライメント転写装置 |
JPH11184095A (ja) * | 1997-12-24 | 1999-07-09 | Ushio Inc | マスクローダを有する露光装置 |
JP2001215716A (ja) * | 2000-02-02 | 2001-08-10 | Orc Mfg Co Ltd | ワークとマスクの分離機構 |
JP2002091011A (ja) * | 2000-09-18 | 2002-03-27 | Dainippon Printing Co Ltd | 密着露光装置 |
JP2004029063A (ja) * | 2002-06-21 | 2004-01-29 | Adtec Engineeng Co Ltd | 密着型露光装置 |
JP2004077583A (ja) * | 2002-08-12 | 2004-03-11 | Ushio Inc | ディスプレイパネルの貼り合わせ装置 |
JP2005181540A (ja) * | 2003-12-17 | 2005-07-07 | Ushio Inc | マスク取り付け治具および該マスク取り付け治具を用いたマスク取り付け方法 |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR20190031661A (ko) * | 2017-09-18 | 2019-03-27 | 주식회사 이에스티 | 대상체 들뜸 방지용 정전척 |
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