JP2004029063A - 密着型露光装置 - Google Patents
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- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
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Abstract
【課題】フォトマスクと基板の密着性の高い密着型露光装置を提供する。
【解決手段】位置合わせなどの所定の処理が終了すると、制御装置９９は移動機構２１を制御してプラテン２０を上方に移動させて、フォトマスク１と基板２とを接近させ、シール４により両者間に密閉空間が形成される位置で停止し、同時に制御装置９９は吸引ポンプ５１を制御して吸引を開始する。この吸引によりフォトマスク１と基板２の間の空間は負圧状態となり、フォトマスク１は下方に撓んで中央部が膨出し、この中央部が基板２に接触する。制御装置９９はカム駆動機構３１を制御して、吸引と同時にカム３０を回動させて、フォトマスク１を中央部から次第に周辺部まで基板２に接触させ、この過程で中央部から周辺部に向かって徐々に空気を押し出しつつ基板２に密着させる。
【選択図】 図１
【解決手段】位置合わせなどの所定の処理が終了すると、制御装置９９は移動機構２１を制御してプラテン２０を上方に移動させて、フォトマスク１と基板２とを接近させ、シール４により両者間に密閉空間が形成される位置で停止し、同時に制御装置９９は吸引ポンプ５１を制御して吸引を開始する。この吸引によりフォトマスク１と基板２の間の空間は負圧状態となり、フォトマスク１は下方に撓んで中央部が膨出し、この中央部が基板２に接触する。制御装置９９はカム駆動機構３１を制御して、吸引と同時にカム３０を回動させて、フォトマスク１を中央部から次第に周辺部まで基板２に接触させ、この過程で中央部から周辺部に向かって徐々に空気を押し出しつつ基板２に密着させる。
【選択図】 図１
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】
この発明は、密着型露光装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】
フォトレジストなどの感光材料を塗布した基板表面に所定のパターンを露光装置により感光焼き付けし、その後エッチング工程により基板上にパターンを形成するフォトリソグラフィ法が種々の分野で広く応用されており、プリント配線基板等も近年露光装置を用いて製造されている。
この露光装置において、露光の際にパターン原画が描かれたフォトマスクと基板との密着性を高めるため、両者の間を真空に引いて密着させる真空密着方法が広く採用されており、この方法による露光装置を密着型露光装置と称している。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】
しかし、密着型露光装置において、フォトマスクと基板とを完全に均一の密着させることは難しく、微少な空気が基板の中央部に残りやすい問題があった。
フォトマスクと基板の間に空気が残存すると、フォトマスクと基板との完全な密着が得られず、露光光はフォトマスクを通過後に広がって基板に照射されるため、解像度が悪くなり露光精度が低下する。
そのため、フォトマスクの背後から圧力を掛けてフォトマスクを撓ませて基板に密着させる方法などが従来開発されている。しかし、この方法の場合中央部の密着性は向上するが、周辺部の密着性が劣る欠点がある。
また、基板に対してフォトマスクを大きくすることにより周辺部の密着性を向上させる技術も提案されているが、フォトマスクの大型化によるコストアップや交換作業の作業性が悪くなること、或いはフォトマスクが基板より下に撓んで、基板中央部の密着性が悪化するなどの問題があった。
本発明は上記従来技術の問題を解決することを目的とする。
【０００４】
【課題を解決するための手段】
上記目的を達成するために、本発明の密着型露光装置は、露光すべきパターンが描かれ、露光対象物に接触して露光されるフォトマスクと、前記フォトマスクと露光対象物とを密着可能に相対的に接近させる手段と、前記フォトマスクが露光対象物と部分的に接触する第１の位置と、前記フォトマスクが露光対象物と全体的に接触する第２の位置とを保持する位置保持手段と、前記フォトマスクと被露光対象物との間をシールする手段と、前記フォトマスクの被露光対象物との間を吸引する手段と、を備えたことを特徴とする。
上記構成において、フォトマスクと対象物が部分的に接触する第１の位置で保持され、その後第２の位置で保持されるため、フォトマスクと露光対象物との間に空気が残存することを防止でき、密着性が向上する。
前記第１の位置と第２の位置を変更可能に構成して、種々の条件に対応できるようにしておくことが望ましい。
なお、前記シールする手段は、少なくとも第１の位置から第２の位置の間でフォトマスクと露光対象物との間をシールし、前記吸引する手段が、少なくとも第１の位置から第２の位置の間でフォトマスクと露光対象物との間を吸引し、前記第１の位置においてフォトマスクと露光対象物を部分的に接触させ、その後その間を吸引しながら第２の位置で完全に密着させるように構成するのが望ましい。
【０００５】
【発明の実施の形態】
以下本発明の実施の形態を図面に基づいて説明する。
図１はプリント配線基板を製造するための密着型露光装置であり、フォトレジストを施された基板２はプラテン２０上に載置され、移動機構２１によりＸＹＺ及びθ方向に移動可能になっている。
【０００６】
回路パターンが描かれたフォトマスク１は基板２の上方に基板２に対向するようにフォトマスク支持装置１０に支持されており、基板２をフォトマスク１に接近させ、フォトマスク１と基板２の間を吸引して密着させ、露光光源９０からの露光によりフォトマスク１の回路パターンを基板２に焼き付けるようなっている。
【０００７】
フォトマスク１はこの実施形態ではガラスマスクになっており、回路パターンを直接描いてあるか或いは回路パターンを描いたフィルムマスクを貼着してある。
【０００８】
なお、ＣＣＤカメラ９１はフォトマスク１と基板２の位置合わせのために用いられる。
また制御装置９９は装置全体を制御している。
【０００９】
なお、プラテン２０を移動させるのではなくフォトマスク支持装置１０を移動させることも可能であり、更に両者を移動させるように構成することも可能である。
【００１０】
プラテン２０上の基板２を載置する部分の周囲にはシ−ル４が装着さえている。このシ−ル４はパッキン４０からなり、このパッキン４０を基板２を取り囲むように配置してあり、フォトマスク１と基板２の間の空間をシールするようになっている。
該シールされた空間は吸引路５０と吸引ポンプ５１を備えた吸引装置５により吸引されるように構成されている。
【００１１】
吸引路５０はプラテン２０に形成されており、パッキン４０によりシールされる空間に開口し、吸引ポンプ５１と連通して該空間を吸引するように構成されている。
【００１２】
基板２の外側周囲には更に複数の保持装置３が設けられている。保持装置３はフォトマスク１に当接して、フォトマスク１と基板２の位置を調整するもので、フォトマスク１と基板２が部分的に接触する第１の位置に両者を保持し、その後フォトマスク１と基板２を全面的に接触させる第２の位置にフォトマスク１と基板２を位置させるようになっている。
【００１３】
図２に保持装置３の詳細を示す。
保持装置３はカム３０とカム駆動機構３１とから構成され、カム３０の回動によりフォトマスク１を第１の位置と第２の位置に位置させるように構成されている。カム駆動機構３１は制御装置９９に制御されており、カム３０を図２に示す第１の位置と図３に示す第２の位置に回動するように構成されている。
【００１４】
図２はフォトマスク１の中央部が基板２に接触している状態を示しており、カム３０はこの状態でフォトマスク１を支持するようになっている。
この時、パッキン４０によりフォトマスク１と基板２の間はシールされ、密閉空間を形成するように構成されている。
【００１５】
動作を説明する。
位置合わせなどの所定の処理が終了すると、制御装置９９は移動機構２１を制御してプラテン２０を上方に移動させて、フォトマスク１と基板２とを接近させ、両者が密着する位置で停止する。
【００１６】
この状態が図２の状態であり、この時保持装置３は第１の位置、即ちカム３０を上方の位置に設定してある。
移動機構２１の移動を停止したら、制御装置９９は吸引ポンプ５１を制御して吸引を開始する。この吸引によりフォトマスク１と基板２の間の空間は負圧状態となり、フォトマスク１は下方に撓んで中央部が膨出し、この中央部が基板２に接触する。
【００１７】
制御装置９９は同時にカム駆動機構３１を制御して、吸引と同時にカム３０を回動させて、図３に示す第２の位置に移行する。
【００１８】
図２から図３の状態に移行するに際して、フォトマスク１は中央部から次第に周辺部まで基板２に接触し、この過程で中央部から周辺部に向かって徐々に空気を押し出しつつ基板２に密着する。そのため、フォトマスク１と基板２の間に空気が残留することがない。カム３０が回動を終了した時点で完全にフォトマスク１が基板２に密着する。
【００１９】
フォトマスク１と基板２が密着したら、露光光源９０から露光光を照射してフォトマスク１の回路パターンを基板２に焼き付けて、露光を終了し次の工程に移動する。
【００２０】
以上のように、フォトマスク１と基板２は移動機構２１の移動により、そのまま密着するのではなく、保持装置３によりフォトマスク１の中央部のみが基板２に接触した状態で保持され、この状態から吸引装置５によりフォトマスク１と基板２の間の空間を吸引しつつ、カム３０を回動して密着位置を中央から周辺に広げていくため、フォトマスク１と基板２の間の空気が排除されながら密着が行われる。そのためフォトマスク１と基板２の間に空気が残留することなく、良好な密着が得られ、露光精度が向上する。
【００２１】
図４に他の実施形態を示す。この実施形態では、保持装置３’はボールネジ３６とパルスモータ３７とから構成されており、パルスモータ３７を回動させることにより、フォトマスク１を第１の位置と第２の位置に保持するようになっている。
この構成の場合、第１の位置と第２の位置の位置調整をパルスモータ３７の回動量により簡単に調整できる利点がある。
【００２２】
図５はパッキン４０’に保持装置３の機能を持たせた実施形態を示す。パッキン４０’は図示するように内部中空の構造を有し、この内部空間に連通する吸引路５０’と吸引ポンプ５１’を設けている。この吸引ポンプ５１’によりパッキン４０’の内部空間の圧力を制御してパッキン４０’を膨らませたり縮めたりすることにより、フォトマスク１を第１の位置と第２の位置に保持するように構成している。
【００２３】
【発明の効果】
以上説明したように本発明の密着型露光装置によれば、良好なフォトマスクと基板の密着が得られるから露光精度を向上できる効果がある。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の一実施形態を示す概略図。
【図２】本発明の一実施形態の動作を示す説明図。
【図３】本発明の一実施形態の動作を示す説明図。
【図４】本発明の他の実施形態を示す部分拡大図。
【図５】本発明の更に他の実施形態を示す部分拡大図。
【符号の説明】
１：フォトマスク、２：基板、３：保持装置、４：シ−ル、５：吸引装置、１０：フォトマスク支持装置、２０：プラテン、２１：移動機構、３０：カム、３１：カム駆動機構、３５：ストッパ、３６：ボールネジ、３７：パルスモータ、５０：吸引路、５１：吸引ポンプ、９０：露光光源、９１：ＣＣＤカメラ、９９：制御装置。
【発明の属する技術分野】
この発明は、密着型露光装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】
フォトレジストなどの感光材料を塗布した基板表面に所定のパターンを露光装置により感光焼き付けし、その後エッチング工程により基板上にパターンを形成するフォトリソグラフィ法が種々の分野で広く応用されており、プリント配線基板等も近年露光装置を用いて製造されている。
この露光装置において、露光の際にパターン原画が描かれたフォトマスクと基板との密着性を高めるため、両者の間を真空に引いて密着させる真空密着方法が広く採用されており、この方法による露光装置を密着型露光装置と称している。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】
しかし、密着型露光装置において、フォトマスクと基板とを完全に均一の密着させることは難しく、微少な空気が基板の中央部に残りやすい問題があった。
フォトマスクと基板の間に空気が残存すると、フォトマスクと基板との完全な密着が得られず、露光光はフォトマスクを通過後に広がって基板に照射されるため、解像度が悪くなり露光精度が低下する。
そのため、フォトマスクの背後から圧力を掛けてフォトマスクを撓ませて基板に密着させる方法などが従来開発されている。しかし、この方法の場合中央部の密着性は向上するが、周辺部の密着性が劣る欠点がある。
また、基板に対してフォトマスクを大きくすることにより周辺部の密着性を向上させる技術も提案されているが、フォトマスクの大型化によるコストアップや交換作業の作業性が悪くなること、或いはフォトマスクが基板より下に撓んで、基板中央部の密着性が悪化するなどの問題があった。
本発明は上記従来技術の問題を解決することを目的とする。
【０００４】
【課題を解決するための手段】
上記目的を達成するために、本発明の密着型露光装置は、露光すべきパターンが描かれ、露光対象物に接触して露光されるフォトマスクと、前記フォトマスクと露光対象物とを密着可能に相対的に接近させる手段と、前記フォトマスクが露光対象物と部分的に接触する第１の位置と、前記フォトマスクが露光対象物と全体的に接触する第２の位置とを保持する位置保持手段と、前記フォトマスクと被露光対象物との間をシールする手段と、前記フォトマスクの被露光対象物との間を吸引する手段と、を備えたことを特徴とする。
上記構成において、フォトマスクと対象物が部分的に接触する第１の位置で保持され、その後第２の位置で保持されるため、フォトマスクと露光対象物との間に空気が残存することを防止でき、密着性が向上する。
前記第１の位置と第２の位置を変更可能に構成して、種々の条件に対応できるようにしておくことが望ましい。
なお、前記シールする手段は、少なくとも第１の位置から第２の位置の間でフォトマスクと露光対象物との間をシールし、前記吸引する手段が、少なくとも第１の位置から第２の位置の間でフォトマスクと露光対象物との間を吸引し、前記第１の位置においてフォトマスクと露光対象物を部分的に接触させ、その後その間を吸引しながら第２の位置で完全に密着させるように構成するのが望ましい。
【０００５】
【発明の実施の形態】
以下本発明の実施の形態を図面に基づいて説明する。
図１はプリント配線基板を製造するための密着型露光装置であり、フォトレジストを施された基板２はプラテン２０上に載置され、移動機構２１によりＸＹＺ及びθ方向に移動可能になっている。
【０００６】
回路パターンが描かれたフォトマスク１は基板２の上方に基板２に対向するようにフォトマスク支持装置１０に支持されており、基板２をフォトマスク１に接近させ、フォトマスク１と基板２の間を吸引して密着させ、露光光源９０からの露光によりフォトマスク１の回路パターンを基板２に焼き付けるようなっている。
【０００７】
フォトマスク１はこの実施形態ではガラスマスクになっており、回路パターンを直接描いてあるか或いは回路パターンを描いたフィルムマスクを貼着してある。
【０００８】
なお、ＣＣＤカメラ９１はフォトマスク１と基板２の位置合わせのために用いられる。
また制御装置９９は装置全体を制御している。
【０００９】
なお、プラテン２０を移動させるのではなくフォトマスク支持装置１０を移動させることも可能であり、更に両者を移動させるように構成することも可能である。
【００１０】
プラテン２０上の基板２を載置する部分の周囲にはシ−ル４が装着さえている。このシ−ル４はパッキン４０からなり、このパッキン４０を基板２を取り囲むように配置してあり、フォトマスク１と基板２の間の空間をシールするようになっている。
該シールされた空間は吸引路５０と吸引ポンプ５１を備えた吸引装置５により吸引されるように構成されている。
【００１１】
吸引路５０はプラテン２０に形成されており、パッキン４０によりシールされる空間に開口し、吸引ポンプ５１と連通して該空間を吸引するように構成されている。
【００１２】
基板２の外側周囲には更に複数の保持装置３が設けられている。保持装置３はフォトマスク１に当接して、フォトマスク１と基板２の位置を調整するもので、フォトマスク１と基板２が部分的に接触する第１の位置に両者を保持し、その後フォトマスク１と基板２を全面的に接触させる第２の位置にフォトマスク１と基板２を位置させるようになっている。
【００１３】
図２に保持装置３の詳細を示す。
保持装置３はカム３０とカム駆動機構３１とから構成され、カム３０の回動によりフォトマスク１を第１の位置と第２の位置に位置させるように構成されている。カム駆動機構３１は制御装置９９に制御されており、カム３０を図２に示す第１の位置と図３に示す第２の位置に回動するように構成されている。
【００１４】
図２はフォトマスク１の中央部が基板２に接触している状態を示しており、カム３０はこの状態でフォトマスク１を支持するようになっている。
この時、パッキン４０によりフォトマスク１と基板２の間はシールされ、密閉空間を形成するように構成されている。
【００１５】
動作を説明する。
位置合わせなどの所定の処理が終了すると、制御装置９９は移動機構２１を制御してプラテン２０を上方に移動させて、フォトマスク１と基板２とを接近させ、両者が密着する位置で停止する。
【００１６】
この状態が図２の状態であり、この時保持装置３は第１の位置、即ちカム３０を上方の位置に設定してある。
移動機構２１の移動を停止したら、制御装置９９は吸引ポンプ５１を制御して吸引を開始する。この吸引によりフォトマスク１と基板２の間の空間は負圧状態となり、フォトマスク１は下方に撓んで中央部が膨出し、この中央部が基板２に接触する。
【００１７】
制御装置９９は同時にカム駆動機構３１を制御して、吸引と同時にカム３０を回動させて、図３に示す第２の位置に移行する。
【００１８】
図２から図３の状態に移行するに際して、フォトマスク１は中央部から次第に周辺部まで基板２に接触し、この過程で中央部から周辺部に向かって徐々に空気を押し出しつつ基板２に密着する。そのため、フォトマスク１と基板２の間に空気が残留することがない。カム３０が回動を終了した時点で完全にフォトマスク１が基板２に密着する。
【００１９】
フォトマスク１と基板２が密着したら、露光光源９０から露光光を照射してフォトマスク１の回路パターンを基板２に焼き付けて、露光を終了し次の工程に移動する。
【００２０】
以上のように、フォトマスク１と基板２は移動機構２１の移動により、そのまま密着するのではなく、保持装置３によりフォトマスク１の中央部のみが基板２に接触した状態で保持され、この状態から吸引装置５によりフォトマスク１と基板２の間の空間を吸引しつつ、カム３０を回動して密着位置を中央から周辺に広げていくため、フォトマスク１と基板２の間の空気が排除されながら密着が行われる。そのためフォトマスク１と基板２の間に空気が残留することなく、良好な密着が得られ、露光精度が向上する。
【００２１】
図４に他の実施形態を示す。この実施形態では、保持装置３’はボールネジ３６とパルスモータ３７とから構成されており、パルスモータ３７を回動させることにより、フォトマスク１を第１の位置と第２の位置に保持するようになっている。
この構成の場合、第１の位置と第２の位置の位置調整をパルスモータ３７の回動量により簡単に調整できる利点がある。
【００２２】
図５はパッキン４０’に保持装置３の機能を持たせた実施形態を示す。パッキン４０’は図示するように内部中空の構造を有し、この内部空間に連通する吸引路５０’と吸引ポンプ５１’を設けている。この吸引ポンプ５１’によりパッキン４０’の内部空間の圧力を制御してパッキン４０’を膨らませたり縮めたりすることにより、フォトマスク１を第１の位置と第２の位置に保持するように構成している。
【００２３】
【発明の効果】
以上説明したように本発明の密着型露光装置によれば、良好なフォトマスクと基板の密着が得られるから露光精度を向上できる効果がある。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の一実施形態を示す概略図。
【図２】本発明の一実施形態の動作を示す説明図。
【図３】本発明の一実施形態の動作を示す説明図。
【図４】本発明の他の実施形態を示す部分拡大図。
【図５】本発明の更に他の実施形態を示す部分拡大図。
【符号の説明】
１：フォトマスク、２：基板、３：保持装置、４：シ−ル、５：吸引装置、１０：フォトマスク支持装置、２０：プラテン、２１：移動機構、３０：カム、３１：カム駆動機構、３５：ストッパ、３６：ボールネジ、３７：パルスモータ、５０：吸引路、５１：吸引ポンプ、９０：露光光源、９１：ＣＣＤカメラ、９９：制御装置。
Claims (3)
- 露光すべきパターンが描かれ、露光対象物に接触して露光されるフォトマスクと、
前記フォトマスクと露光対象物とを密着可能に相対的に接近させる手段と、
前記フォトマスクが露光対象物と部分的に接触する第１の位置と、前記フォトマスクが露光対象物と全体的に接触する第２の位置とを保持する位置保持手段と、
前記フォトマスクと被露光対象物との間をシールする手段と、
前記フォトマスクの被露光対象物との間を吸引する手段と、
を備えたことを特徴とする密着型露光装置。 - 前記第１の位置と第２の位置が可変である、
請求項１に記載の密着型露光装置。 - 前記シールする手段が、少なくとも第１の位置から第２の位置の間でフォトマスクと露光対象物との間をシールし、
前記吸引する手段が、少なくとも第１の位置から第２の位置の間でフォトマスクと露光対象物との間を吸引する、
請求項１又は２に記載の密着型露光装置。
Priority Applications (6)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2002180710A JP2004029063A (ja) | 2002-06-21 | 2002-06-21 | 密着型露光装置 |
| KR10-2003-0032518A KR20030097653A (ko) | 2002-06-21 | 2003-05-22 | 밀착형 노광장치 |
| US10/443,408 US6784979B2 (en) | 2002-06-21 | 2003-05-22 | Full-contact type exposure device |
| TW092114666A TWI272457B (en) | 2002-06-21 | 2003-05-30 | Full-contact type exposure device |
| EP03013373A EP1376235A3 (en) | 2002-06-21 | 2003-06-17 | Full-contact type exposure device |
| CNA031452043A CN1470940A (zh) | 2002-06-21 | 2003-06-20 | 密接型曝光装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2002180710A JP2004029063A (ja) | 2002-06-21 | 2002-06-21 | 密着型露光装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2004029063A true JP2004029063A (ja) | 2004-01-29 |
Family
ID=29717526
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2002180710A Pending JP2004029063A (ja) | 2002-06-21 | 2002-06-21 | 密着型露光装置 |
Country Status (6)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US6784979B2 (ja) |
| EP (1) | EP1376235A3 (ja) |
| JP (1) | JP2004029063A (ja) |
| KR (1) | KR20030097653A (ja) |
| CN (1) | CN1470940A (ja) |
| TW (1) | TWI272457B (ja) |
Cited By (9)
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