JP5339744B2 - プロキシミティ露光装置、プロキシミティ露光装置の基板移動方法、及び表示用パネル基板の製造方法 - Google Patents
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Description
2 マスク
10 チャック
11 ステージベース
13 Xガイド
14 Xステージ
15 Yガイド
16 Yステージ
17 θステージ
19 チャック支持台
20 マスクホルダ
30 検出プレート
31 ゲート
32 検出プレート支持台
33 Zガイド
34 ボールねじ
35 カップリング
36 モータ
40 AEセンサー
50 高さセンサー
60 制御装置
71 Xステージ駆動回路
72 Yステージ駆動回路
73 θステージ駆動回路
74 モータ駆動回路
Claims (4)
- 受け渡し位置で基板をチャックに搭載し、基板を搭載したチャックを受け渡し位置からフォトマスクの下の露光位置へ移動し、露光位置において、フォトマスクと基板とのギャップ合わせを行って、フォトマスクのパターンを基板へ転写するプロキシミティ露光装置において、
チャックを受け渡し位置から露光位置へ移動するステージと、
前記ステージを駆動する駆動手段と、
前記駆動手段を制御する制御手段と、
受け渡し位置と露光位置との間に配置され、チャックに搭載された基板上の異物、またはチャックと基板との間の異物により盛り上がった基板に接触する接触手段と、
前記接触手段の振動又は前記接触手段が発生する音を検出する第1のセンサーと、
チャックに搭載された基板の表面の高さを検出する第2のセンサーと、
前記第2のセンサーの検出結果に基づいて、基板を搭載したチャックを受け渡し位置から露光位置へ移動するときに前記接触手段とその下を通過する基板との間隔が、基板を搭載したチャックを受け渡し位置から露光位置へ移動するときのフォトマスクと基板との間隔以下となる様に、前記接触手段の設置高さを調節する調節手段とを備え、
前記接触手段は、複数の薄い板で構成され、
前記複数の薄い板は、基板のチャック移動方向と交差する方向の幅に渡って、チャック移動方向に離されてチャック移動方向に見て一部重なって配置され、
前記第1のセンサーは、前記複数の薄い板にそれぞれ取り付けられ、
前記制御手段は、基板を搭載したチャックを受け渡し位置から露光位置へ移動するとき、前記第1のセンサーの検出結果に基づいて、異物がフォトマスクの下へ移動する前に、チャックの移動を停止することを特徴とするプロキシミティ露光装置。 - 受け渡し位置で基板をチャックに搭載し、基板を搭載したチャックを受け渡し位置からフォトマスクの下の露光位置へ移動し、露光位置において、フォトマスクと基板とのギャップ合わせを行って、フォトマスクのパターンを基板へ転写するプロキシミティ露光装置の基板移動方法において、
受け渡し位置と露光位置との間に、チャックに搭載された基板上の異物、またはチャックと基板との間の異物により盛り上がった基板に接触する接触手段を配置し、
接触手段を、複数の薄い板で構成し、
複数の薄い板を、基板のチャック移動方向と交差する方向の幅に渡って、チャック移動方向に離してチャック移動方向に見て一部重ねて配置し、
各板の振動又は各板が発生する音を検出する第1のセンサーを、複数の薄い板にそれぞれ取り付け、
チャックに搭載された基板の表面の高さを第2のセンサーで検出し、
第2のセンサーの検出結果に基づいて、基板を搭載したチャックを受け渡し位置から露光位置へ移動するときに接触手段とその下を通過する基板との間隔が、基板を搭載したチャックを受け渡し位置から露光位置へ移動するときのフォトマスクと基板との間隔以下となる様に、接触手段の設置高さを調節して、
基板を搭載したチャックを受け渡し位置から露光位置へ移動しながら、接触手段の振動又は接触手段が発生する音を第1のセンサーで検出し、
第1のセンサーの検出結果に基づいて、異物がフォトマスクの下へ移動する前に、チャックの移動を停止することを特徴とするプロキシミティ露光装置の基板移動方法。 - 請求項1に記載のプロキシミティ露光装置を用いて基板の露光を行うことを特徴とする表示用パネル基板の製造方法。
- 請求項2に記載のプロキシミティ露光装置の基板移動方法を用いて、基板を搭載したチャックを受け渡し位置から露光位置へ移動し、基板の露光を行うことを特徴とする表示用パネル基板の製造方法。
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