TWI405048B - 接近式曝光裝置、其光罩搬送方法及面板基板的製造方法 - Google Patents

Description

接近式曝光裝置、其光罩搬送方法及面板基板的製造方法

本發明是有關於一種在液晶顯示器裝置等的顯示用面板基板的製造中，使用接近式(proximity)方式來進行基板曝光的接近式曝光裝置、接近式曝光裝置的光罩搬送方法、以及使用所述裝置及方法的顯示用面板基板的製造方法，特別涉及一種適於對大型的光罩進行定位而安裝在光罩架上的接近式曝光裝置、接近式曝光裝置的光罩搬送方法、以及使用所述裝置及方法的顯示用面板基板的製造方法。

用作顯示用面板的液晶顯示器裝置的薄膜晶體管(Thin Film Transistor，TFT)基板、彩色濾光片(color filter)基板、電漿(plasma)顯示器面板用基板、以及有機電致發光(ElectroIuminescence，EL)顯示面板用基板等的製造是使用曝光裝置，並通過微影(photolithography)技術而在基板上形成圖案來進行。作為曝光裝置，有使用透鏡(lens)或鏡面而將光罩的圖案投影到基板上的投影(projection)方式、以及在光罩和基板之間設有微小的間隙(接近式間隙)以將光罩的圖案轉印到基板的接近式方式。與投影方式相比，接近式方式的圖案析像性能較差，但照射光學系統的構成簡單，且處理能力高而適合於量產用。

接近式曝光裝置包括搭載基板的夾盤及保持光罩的光罩架，通過使保持在光罩架上的光罩和搭載在夾盤上的基板極為接近而進行曝光。通常，夾盤是搭載在使基板進行移動及定位的平臺上，對基板進行真空吸附而加以固定。光罩架是設置在搭載著基板的夾盤的上方，對光罩的周邊部進行真空吸附而加以固定。向夾盤中搬入基板以及從夾盤中搬出基板，通常是由基板搬送機器人的操作臂(handling arm)所進行，但為了避免光罩和基板的接觸而在遠離光罩下方的曝光位置的裝載/卸載位置處進行。在裝載/卸載位置處將基板搭載到夾盤上之後，使平臺向光罩下方的曝光位置移動，並在曝光位置進行基板的定位。

向光罩架中搬入光罩以及從光罩架中搬出光罩，以前也是通過光罩搬送機器人的操作臂而進行。但是，光罩搬送機器人的操作臂是一端固定式，因此在光罩為大型而其重量增大時，操作臂會彎曲而無法水平地支撐光罩，而且操作臂的晃動會變大，從而難以確保用以向光罩架下方移動的衝程(stroke)。相對於此，專利文獻1中揭示有一種技術，在夾盤的外周緣部設置光罩的暫時支撐構件，將光罩載置於暫時支撐構件上，通過平臺來修正光罩的搬送偏移，並通過連結在夾盤下表面側的Z軸方向驅動機構而將光罩按壓到光罩架的下端面。

專利文獻1：日本專利特開2003-186199號公報

近年來，為了應對大型化及尺寸的多樣化，在顯示用面板的各種基板的製造中，準備相對較大的基板，根據顯示用面板的尺寸，由一塊基板而製造一塊或多塊顯示用面板基板。在此情況下，在接近式方式中，如果要對基板的一面統一進行曝光，則需要有與基板相同大小的光罩，所以昂貴的光罩的成本會進一步增大。因此，如下方式正成為主流，即，使用與基板相比相對較小的光罩，一邊通過平臺而使基板朝XY方向進行步進(step)移動，一面將基板的一面分成多個曝光區域(shot)而進行曝光。此方式中，因為光罩比搭載在夾盤上的基板小，所以無法應用專利文獻1中記載的技術。

而且，在使光罩和基板接近時或者在使光罩和基板分開時，受到光罩和基板之間的空氣的擠壓或拉伸，保持在光罩架上的光罩會彎曲。而且，在彎曲的光罩恢復原樣時，有可能發生光罩的偏位。以前，在使用光罩搬送機器人的操作臂來搬送光罩時，光罩架上設置著多個定位用的銷，將光罩安裝到光罩架上之後，利用定位用的銷來按壓光罩的側面，以調節光罩的位置。在使光罩和基板接近時或者在使光罩和基板分開時，所述定位用的銷也發揮了防止光罩偏位的作用。但是，當在光罩安裝前進行光罩的定位時，如果要利用以前的定位用的銷來防止光罩的偏位，則存在如下問題，即，當定位用的銷碰到光罩的側面時，已定位 的光罩的位置會發生偏移。

本發明的目的在於精度良好地定位比基板小的光罩而將其安裝到光罩架上。另外，本發明的課題在於，在已定位的光罩不會錯位的情況下在使光罩和基板接近時、或者在使光罩和基板分開時防止光罩的偏位。進而，本發明的課題在於製造高品質的顯示用面板基板。

本發明的接近式曝光裝置包括：搭載基板的夾盤、保持光罩的光罩架、以及移動夾盤的平臺，在光罩和基板之間設有微小的間隙，以將光罩的圖案轉印到基板，其中，該接近式曝光裝置包括：對平臺的移動加以控制的第一控制機構；將光罩搬入到夾盤的光罩搬送裝置；多個上頂銷單元，具有從夾盤內部上升的上頂銷、及使上頂銷上下移動的馬達(motor)，並安裝在夾盤上；第一圖像獲取裝置，獲取設置在光罩上的位置檢測用標記的圖像，並輸出圖像信號；使第一圖像獲取裝置移動的移動機構；以及圖像處理裝置，對第一圖像獲取裝置所輸出的圖像信號進行處理，檢測光罩的位置，且，多個上頂銷單元通過上頂銷而從光罩搬送裝置接收光罩；第一控制機構根據圖像處理裝置對第一圖像獲取裝置的圖像信號進行處理而檢測出的光罩的位置，利用平臺來移動夾盤，進行光罩的定位；多個上頂銷單元通過上頂銷而將光罩安裝到光罩架上。

另外，本發明的接近式曝光裝置的光罩搬送方法是如下的接近式曝光裝置的光罩搬送方法，該接近式曝光裝置包括搭載基板的夾盤、保持光罩的光罩架、以及移動夾盤的平臺，在光罩和基板之間設有微小的間隙，以將光罩的圖案轉印到基板，其中，將多個上頂銷單元設置在夾盤上，所述多個上頂銷單元具有從夾盤內部上升的上頂銷、及使上頂銷上下移動的馬達；設置第一圖像獲取裝置與使第一圖像獲取裝置移動的移動機構，所述第一圖像獲取裝置獲取設置在光罩上的位置檢測用標記的圖像，並輸出圖像信號；利用光罩搬送裝置將光罩搬入到夾盤；通過上頂銷而從光罩搬送裝置接收光罩；利用移動機構來移動第一圖像獲取裝置，並利用第一圖像獲取裝置而獲取光罩的位置檢測用標記的圖像；對第一圖像獲取裝置的圖像信號進行處理，以檢測光罩的位置；根據已檢測出的光罩的位置，利用平臺來移動夾盤，以進行光罩的定位；以及通過上頂銷而將光罩安裝到光罩架上。

在夾盤上設置著多個上頂銷單元，其具有從夾盤內部上升的上頂銷、及使上頂銷上下移動的馬達，並通過上頂銷而從光罩搬送裝置接收光罩，因此即便光罩比搭載在夾盤上的基板小，也可以將光罩搬入到夾盤。而且，利用平臺來移動夾盤以進行光罩的定位，並通過上頂銷而將光罩 安裝到光罩架上，因此已搬入到夾盤中的光罩可通過平臺而精度良好地定位著，並安裝到光罩架上。

為了精度良好地進行光罩的定位，必須精度良好地檢測出光罩的位置。光罩位置的檢測是通過獲取光罩的位置檢測用標記的圖像而進行，所用圖像獲取裝置的分辨率越高，檢測精度就越高。但是，高分辨率的圖像獲取裝置的視野狹小，在光罩的位置發生偏移時，有可能出現光罩的位置檢測用標記未進入到視野內的情況。因此，設置有用於獲取設置在光罩上的位置檢測用標記的圖像的第一圖像獲取裝置、與使第一圖像獲取裝置移動的移動機構，並利用移動機構來移動第一圖像獲取裝置，利用第一圖像獲取裝置而獲取光罩的位置檢測用標記的圖像。而且，對第一圖像獲取裝置的圖像信號進行處理，以檢測光罩的位置，並根據已檢測出的光罩的位置，利用平臺來移動夾盤，以進行光罩的定位。即便光罩的位置發生偏移，也可以利用高分辨率的圖像獲取裝置而精度良好地檢測出光罩的位置，從而精度良好地進行光罩的定位。

進而，本發明的接近式曝光裝置包括第二圖像獲取裝置，該第二圖像獲取裝置被固定在光罩架的上方，以獲取光罩的位置檢測用標記的圖像，並輸出圖像信號，圖像處理裝置對第二圖像獲取裝置所輸出的圖像信號進行處理， 以檢測光罩的位置，第一控制機構根據圖像處理裝置對第二圖像獲取裝置的圖像信號進行處理而檢測出的光罩的位置，利用平臺來移動夾盤，對已定位的光罩的位置進行修正。

另外，本發明的接近式曝光裝置的光罩搬送方法為：設置第二圖像獲取裝置，該第二圖像獲取裝置被固定在光罩架的上方，以獲取光罩的位置檢測用標記的圖像，並輸出圖像信號；利用第二圖像獲取裝置而獲取光罩的位置檢測用標記的圖像；對第二圖像獲取裝置的圖像信號進行處理，以檢測光罩的位置；根據已檢測出的光罩的位置，利用平臺來移動夾盤，對已定位的光罩的位置進行修正。

當使第一圖像獲取裝置移動時，光罩位置的檢測結果中將包含第一圖像獲取裝置的移動誤差。因此，設置有第二圖像獲取裝置，該第二圖像獲取裝置被固定在光罩架的上方，以獲取光罩的位置檢測用標記的圖像，並輸出圖像信號，利用該第二圖像獲取裝置而獲取光罩的位置檢測用標記的圖像。而且，對第二圖像獲取裝置的圖像信號進行處理，檢測光罩的位置，並根據已檢測出的光罩的位置，利用平臺來移動夾盤，對已定位的光罩的位置進行修正。使用固定在光罩架上方的第二圖像獲取裝置，可以進一步精度良好地檢測光罩的位置，對已定位的光罩的位置進行 精度良好的修正。

進而，本發明的接近式曝光裝置包括第三圖像獲取裝置，在通過上頂銷而從光罩搬送裝置接收光罩的光罩接收位置的上空，該第三圖像獲取裝置具有比第一圖像獲取裝置的分辨率低而更廣的視野，獲取光罩的位置檢測用標記的圖像，並輸出圖像信號，圖像處理裝置對第三圖像獲取裝置所輸出的圖像信號進行處理，以檢測光罩的位置，第一控制機構根據圖像處理裝置對第三圖像獲取裝置的圖像信號進行處理而檢測出的光罩的位置，利用平臺來移動夾盤，將光罩從光罩接收位置移動到光罩架下方的光罩安裝位置。

另外，本發明的接近式曝光裝置的光罩搬送方法為：在與光罩架下方的光罩安裝位置不同地另外設置的光罩接收位置處，通過上頂銷而從光罩搬送裝置接收光罩；將第三圖像獲取裝置設置在光罩接收位置的上方，所述第三圖像獲取裝置具有比第一圖像獲取裝置的分辨率低而更廣的視野，獲取光罩的位置檢測用標記的圖像，並輸出圖像信號；利用第三圖像獲取裝置而獲取光罩的位置檢測用標記的圖像；對第三圖像獲取裝置的圖像信號進行處理，以檢測光罩的位置；根據已檢測出的光罩的位置，利用平臺來移動夾盤，將光罩從光罩接收位置移動到光罩安裝位置。

在與光罩架下方的光罩安裝位置不同地另外設置的光罩接收位置處，通過上頂銷而從光罩搬送裝置接收光罩，並將光罩從光罩接收位置移動到光罩安裝位置，在此情況下，在光罩接收位置處檢測光罩的位置，並根據已檢測出的光罩的位置，利用平臺來移動夾盤，將光罩從光罩接收位置移動到光罩安裝位置，因此，即便在光罩接收位置處由上頂銷從光罩搬送裝置所接收到的光罩的位置有所偏移，也可以使光罩精度良好地移動到光罩安裝位置。

在光罩接收位置進行的光罩位置的檢測，是通過獲取光罩的位置檢測用標記的圖像而進行，但當通過上頂銷而從光罩搬送裝置所接收到的光罩的位置發生較大偏移時，如果使用與第一圖像獲取裝置相同的高分辨率的圖像獲取裝置，則有可能為了使光罩的位置檢測用標記進入視野而需要較長時間。因此，將具有比第一圖像獲取裝置的分辨率低而更廣的視野的第三圖像獲取裝置設置在光罩接收位置的上方，並利用第三圖像獲取裝置而獲取光罩的位置檢測用標記的圖像。即便由上頂銷從光罩搬送裝置所接收到的光罩的位置發生較大的偏移，也可以在短時間內獲取光罩的位置檢測用標記的圖像，並在光罩接收位置處短時間內檢測出光罩的位置。

進而，本發明的接近式曝光裝置包括多個間隔片 (spacer)，設置在夾盤的表面，當載置著光罩的上頂銷下降時所述多個間隔片接觸到光罩的圖案面的周邊部。另外，本發明的接近式曝光裝置的光罩搬送方法是將在載置著光罩的上頂銷下降時接觸到光罩的圖案面的周邊部的多個間隔片設置在夾盤的表面。當上頂銷從光罩搬送裝置接收到基板後，如果因某些原因而引起上頂銷下降，則光罩的圖案面會接觸到夾盤的表面而有可能造成圖案受損。因此，在夾盤的表面設置了在載置著光罩的上頂銷下降時會接觸到光罩的圖案面的周邊部的多個間隔片，以防止光罩的圖案面接觸到夾盤的表面。

進而，本發明的接近式曝光裝置包括：多個防偏位銷單元，具有與保持在光罩架上的光罩的側面接觸以防止光罩偏位的防偏位銷、使防偏位銷移動而接觸到光罩側面的馬達、及用來檢測防偏位銷接觸到光罩側面的感測器，且所述多個防偏位銷單元安裝在光罩架上；以及對各防偏位銷單元的馬達加以控制的第二控制機構，且，第二控制機構對各防偏位銷單元的馬達進行控制，使防偏位銷朝向光罩的側面移動，並根據感測器的檢測結果而使防偏位銷的移動停止。

另外，本發明的接近式曝光裝置的光罩搬送方法為：將多個防偏位銷單元設置在光罩架上，所述多個防偏位銷 單元具有與保持在光罩架上的光罩的側面接觸以防止光罩偏位的防偏位銷、使所述防偏位銷移動而接觸到光罩側面的馬達、以及檢測所述防偏位銷接觸到光罩側面的感測器，且，對各防偏位銷單元的馬達加以控制，使所述防偏位銷朝向光罩的側面移動，並根據所述感測器的檢測結果而使所述防偏位銷的移動停止。

由於對各防偏位銷單元的馬達加以控制，使所述防偏位銷朝向光罩的側面移動，並根據檢測所述防偏位銷接觸到光罩側面的感測器的檢測結果而使所述防偏位銷的移動停止，故而在已定位的光罩不會錯位的情況下使所述防偏位銷接觸到光罩的側面，從而在使光罩和基板接近時、或者在使光罩和基板分開時防止光罩的偏位。

本發明的顯示用面板基板的製造方法為：使用所述任一項的接近式曝光裝置來進行基板的曝光，或者使用所述任一項的接近式曝光裝置的光罩搬送方法而將光罩安裝到光罩架上，並進行基板的曝光。由於精度良好地進行光罩的定位，故而可精度良好地進行圖案的轉印，從而可製造高品質的顯示用面板基板。

根據本發明的接近式曝光裝置及接近式曝光裝置的光罩搬送方法，利用光罩搬送裝置將光罩搬入到夾盤，通過 上頂銷而從光罩搬送裝置接收光罩，並利用移動機構而使第一圖像獲取裝置移動，以通過第一圖像獲取裝置而獲取光罩的位置檢測用標記的圖像，並對第一圖像獲取裝置的圖像信號進行處理，以檢測光罩的位置，根據已檢測出的光罩的位置，利用平臺來移動夾盤，進行光罩的定位，並通過上頂銷而將光罩安裝到光罩架上，這樣，可以精度良好地定位比基板小的光罩而將其安裝到光罩架上。

進而，根據本發明的接近式曝光裝置及接近式曝光裝置的光罩搬送方法，利用固定在光罩架上方的第二圖像獲取裝置而獲取光罩的位置檢測用標記的圖像，對第二圖像獲取裝置的圖像信號進行處理，以檢測光罩的位置，並根據已檢測出的光罩的位置，利用平臺來移動夾盤，對已定位的光罩的位置進行修正，這樣，使用固定在光罩架上方的第二圖像獲取裝置，可以進一步精度良好地檢測光罩的位置，對已定位的光罩的位置進行精度良好地修正。

進而，根據本發明的接近式曝光裝置及接近式曝光裝置的光罩搬送方法，在與光罩架下方的光罩安裝位置不同地另外設置的光罩接收位置處通過上頂銷而從光罩搬送裝置來接收光罩，利用具有比第一圖像獲取裝置的分辨率低而更廣的視野的第三圖像獲取裝置來獲取光罩的位置檢測用標記的圖像，對第三圖像獲取裝置的圖像信號進行處理 而檢測光罩的位置，並根據已檢測出的光罩的位置，利用平臺來移動夾盤，將光罩從光罩接收位置移動到光罩安裝位置，這樣，即便由上頂銷從光罩搬送裝置所接收到的光罩的位置發生較大的偏移，也可以在光罩接收位置處短時間檢測出光罩的位置，從而可將光罩精度良好地移動到光罩安裝位置。

進而，根據本發明的接近式曝光裝置及接近式曝光裝置的光罩搬送方法，在夾盤的表面設置了在上頂銷下降時會接觸到光罩的圖案面的周邊部的多個間隔片，這樣，即便因某些原因而引起上頂銷下降，也可以防止光罩的圖案面接觸到夾盤的表面而損傷圖案。

進而，根據本發明的接近式曝光裝置及接近式曝光裝置的光罩搬送方法，在光罩架上設置了多個防偏位銷單元，所述多個防偏位銷單元具有與保持在光罩架上的光罩的側面接觸以防止光罩偏位的防偏位銷、使所述防偏位銷移動而接觸到光罩側面的馬達、以及檢測所述防偏位銷接觸到光罩側面的感測器，且，對各防偏位銷單元的馬達加以控制，使所述防偏位銷朝向光罩的側面移動，並根據所述感測器的檢測結果而使所述防偏位銷的移動停止，這樣，在已定位的光罩不會錯位的情況下可在使光罩和基板接近時或者在使光罩和基板分開時防止光罩的偏位。

根據本發明的顯示用面板基板的製造方法，可精度良好地進行光罩的定位，因此可精度良好地進行圖案的轉印，從而可製造高品質的顯示用面板基板。

為讓本發明之上述和其他目的、特徵和優點能更明顯易懂，下文特舉較佳實施例，並配合所附圖式，作詳細說明如下。

圖1是表示本發明的一實施方式的接近式曝光裝置的概略構成的示圖。另外，圖2是本發明的一實施方式的接近式曝光裝置的平面圖。接近式曝光裝置包括以下部分而構成：基座3、X導向器4、X平臺5、Y導向器6、Y平臺7、θ平臺8、夾盤支撐台9、夾盤10、上頂銷單元、上頂銷單元的控制系統、光罩架20、光罩保護間隔片30、間隔片設置裝置31、光罩搬送機器人40、光罩儲庫(mask stocker)42、廣視野相機51、高分辨率可動相機52、相機移動機構53、高分辨率固定相機54、圖像處理裝置55、X平臺驅動電路71、Y平臺驅動電路72、θ平臺驅動電路73及主控制裝置80。

再者，圖1中，省略了上頂銷單元的控制系統、光罩保護間隔片30、間隔片設置裝置31、光罩搬送機器人40、光罩儲庫42、及相機移動機構53。另外，圖2中，省略了 上頂銷單元的控制系統、圖像處理裝置55、X平臺驅動電路71、Y平臺驅動電路72、θ平臺驅動電路73、及主控制裝置80。除所述各部分之外，接近式曝光裝置包括照射曝光用光的照射光學系統、間隙感測器、對準(alignment)用感測器、及進行裝置內的溫度管理的溫度控制單元等。

再者，以下說明的實施方式中的XY方向僅為例示，也可以將X方向和Y方向調換。

圖2中，夾盤10存在於進行光罩2的接收的光罩接收位置。光罩搬送機器人40從光罩儲庫42中取出光罩2，並搬入到光罩接收位置處的夾盤10中，而且從光罩接收位置處的夾盤10中搬出光罩2，並收納到光罩儲庫42中。在光罩搬送機器人40的操作臂41上，設置著與光罩2的圖案面(下表面)的未形成圖案的周邊部接觸的光罩支撐部41a，操作臂41通過光罩支撐部41a而支撐光罩2的圖案面(下表面)的周邊部。關於下述上頂銷單元的上頂銷，在向夾盤10中搬入光罩2時，從光罩搬送機器人40的操作臂41接收光罩2，在從夾盤10中搬出光罩2時，向光罩搬送機器人40的操作臂41交接光罩2。如下所述，已搬入到夾盤10中的光罩2向光罩架20下方的光罩安裝位置移動，並在光罩安裝位置安裝到光罩架20上。

在進行基板曝光時，夾盤10首先向進行基板的裝載/ 卸載的裝載/卸載位置移動。在裝載/卸載位置處，向夾盤10上裝載基板，且從夾盤10上卸載基板。裝載著基板的夾盤10從裝載/卸載位置向進行基板曝光的曝光位置移動。

在曝光位置的上空，設置有保持光罩2的光罩架20。光罩架20對光罩2的周邊部進行真空吸附而予以保持著。在保持於光罩架20上的光罩2的上空，配置著未圖示的照射光學系統。在曝光時，使來自照射光學系統的曝光用光透過光罩2而照射到基板，以此將光罩2的圖案轉印到基板1的表面，從而在基板1上形成圖案。

圖1中，夾盤10經由夾盤支撐台9而搭載在θ平臺8上，θ平臺8的下方設置有Y平臺7及X平臺5。X平臺5搭載在基座3上所設置的X導向器4上，沿著X導向器4而朝X方向(圖1的圖面寬度方向)移動。Y平臺7搭載在X平臺5上所設置的Y導向器6上，沿著Y導向器6而朝Y方向(圖1的圖面縱深方向)移動。θ平臺8搭載在Y平臺7上，朝θ方向旋轉。夾盤支撐台9搭載在θ平臺8上，通過多個點來支撐夾盤10的背面。X平臺驅動電路71、Y平臺驅動電路72、及θ平臺驅動電路73通過主控制裝置80的控制而分別驅動X平臺5、Y平臺7、及θ平臺8。

在X平臺5朝X方向的移動及Y平臺7朝Y方向的移動的作用下，夾盤10在裝載/卸載位置和曝光位置之間移動。在裝載/卸載位置，通過X平臺5朝X方向的移動、Y平臺7朝Y方向的移動、及θ平臺8朝θ方向的旋轉，來進行搭載在夾盤10上的基板的預對準。在曝光位置，通過X平臺5朝X方向的移動及Y平臺7朝Y方向的移動，來進行搭載在夾盤10上的基板朝XY方向的步進移動。而且，通過X平臺5朝X方向的移動、Y平臺7朝Y方向的移動、及θ平臺8朝θ方向的旋轉，來進行基板的對準。另外，利用未圖示的Z-傾斜機構而使光罩架20朝Z方向(圖1的圖面上下方向)移動及傾斜，以此來進行光罩2和基板的間隙對準。

再者，本實施方式中，是通過使光罩架20朝Z方向移動及傾斜來進行光罩2和基板的間隙對準，但也可以在夾盤支撐台9上設置Z-傾斜機構，使夾盤10朝Z方向移動及傾斜，借此來進行光罩2和基板的間隙對準。

圖3是夾盤的俯視圖。在夾盤10的表面，設置有未圖示的凸部、堤及吸附孔。凸部為直徑數mm的銷形狀，以規定的間隔在夾盤10的表面設置著多個該凸部。當夾盤10上搭載有基板時，凸部通過多個點而支撐基板。此時，在夾盤10的表面的凸部以外的部分和基板之間，形成了空 間。堤是規定寬度的連續的壁，將夾盤10的表面的凸部以外的部分和基板之間所形成的空間分成多個真空區。堤是由不規則的線而非直線所構成，以於夾盤10的表面形狀轉印至基板表面所進行的背面轉印發生時，使得人眼難以辨識" 堤" 。吸附孔以規定的間隔在夾盤10的表面的凸部及堤以外的部分設置著多個，進行被堤所劃分的各真空區的真空抽吸。

另外，在夾盤10上，設置著未圖示的多個基板接收/交接用的上頂銷。基板接收/交接用的上頂銷自夾盤10的表面上升，在向夾盤10上裝載基板時，從未圖示的基板搬送機器人中接收基板，且在從夾盤中卸載基板時，向未圖示的基板搬送機器人交接基板。

圖3中，在夾盤10的中央部附近，設置著下述的上頂銷單元所插入的多個開口，所述開口上安裝著蓋13，在蓋13上設置有貫通孔，所述貫通孔中從蓋13的下方插入有上頂銷12。再者，本實施方式中，在夾盤10的中央部附近設有16個開口，但開口的位置及數量並不限定於此。

圖4(a)是夾盤上所設的開口的俯視圖，圖4(b)是圖4(a)的A-A部分的剖面圖。另外，圖5(a)是夾盤上所設的開口的俯視圖，圖5(b)是圖5(a)的B-B部分的剖面圖。上頂銷單元包括以下部分而構成：馬達11、上頂 銷12、蓋13、凸緣14、螺釘15和17、以及止動螺絲16。

馬達11包括脈衝馬達(pulse motor)、連接於脈衝馬達的滾珠螺釘(ball screw)、及杆(rod)而構成，由脈衝馬達來驅動滾珠螺釘，由此使收納在杆收納部11a內的杆上升及下降。在馬達11的杆的前端，安裝著上頂銷12。

圖4(b)中，在馬達11的杆收納部11a的上表面，安裝著凸緣14，凸緣14是通過螺釘15而固定在蓋13的背面。另一方面，在夾盤10的背面的開口周邊，安裝有支撐著蓋13的環狀的支撐板18。支撐板18是通過螺釘19而固定在夾盤10的背面。

圖4(a)及圖5(a)中，在蓋13的周邊部的多個部位，設置著止動螺絲16所螺入的螺孔與螺釘17所穿通的帶有段差的孔。圖4(b)中，蓋13是通過蓋13的周邊部的帶有段差的孔中所穿通的螺釘17而固定在支撐板18上。圖5(b)中，止動螺絲16被螺入蓋13的周邊部的螺孔中，並從蓋13的底面突出而與支撐板18的上表面接觸。

本實施方式中，在將上頂銷單元安裝到夾盤10中時，首先，將上頂銷單元從夾盤10的上方插入到開口，調節止動螺絲16的螺入量，以調節上頂銷單元的安裝高度。然後，利用螺釘17將蓋13固定在支撐板18上，並將上頂銷單元安裝到夾盤10上。由於是將上頂銷單元從夾盤10的 上方插入到開口，並通過止動螺絲16而調節安裝高度以安裝到夾盤10上，故而即便對於用手或夾具從夾盤10的外側難以到達的夾盤的中央部附近，也容易從夾盤10的上方進行上頂銷單元的安裝高度的調節。因此，即便隨著基板的大型化而使夾盤10大型化，也容易調節上頂銷12的高度。

圖6是表示上頂銷單元的控制系統的示圖。上頂銷驅動控制電路50是通過主控制裝置80的控制而對各上頂銷單元的馬達11指定上頂銷12的移動目的地，並指示上頂銷12向移動目的地移動。馬達11的內部具有編碼器(encoder)，當上頂銷12從被指示的移動目的地起到達規定範圍時，編碼器向上頂銷驅動控制電路50輸出一種表示移動已結束的結束信號。

以下，對本發明的一實施方式的接近式曝光裝置的光罩搬送方法加以說明。圖2中，在光罩接收位置處的夾盤10的上空，配置著間隔片設置裝置31及廣視野相機51。圖7是表示間隔片設置裝置及廣視野相機的配置的示圖。圖7中，通過光罩搬送機器人40而搬入的光罩2用虛線表示。間隔片設置裝置31配置在光罩2的周邊部的上方，如下所述，將光罩保護間隔片30從夾盤10的上方到夾盤10的表面進行設置。廣視野相機51配置在光罩2上所設的位 置檢測用標記的上方，獲取光罩2的位置檢測用標記的圖像。

圖8(a)是光罩保護間隔片的俯視圖，圖8(b)是從圖8(a)的箭頭C方向觀察到的光罩保護間隔片的側視圖，圖8(c)是從圖8(a)的箭頭D方向觀察到的光罩保護間隔片的側視圖。光罩保護間隔片30具有：平坦面30a、比平坦面30a高的段差面30b、以及設置在平坦面30a和段差面30b之間的傾斜面30c。在光罩保護間隔片30的側面，如圖8(b)及圖8(c)所示，設置著向水平方向延伸的槽30d。當設置著光罩2的上頂銷12下降時，光罩2的圖案面(下表面)的邊緣被傾斜面30c引導，平坦面30a接觸到光罩的圖案面(下表面)的未形成圖案的周邊部而支撐光罩2。

圖9(a)是間隔片設置裝置的側視圖，圖9(b)是間隔片設置裝置的前視圖。間隔片設置裝置31包括以下部分而構成：氣缸台(air cylinder table)32、夾盤基座(chuck base)33、空氣夾盤(air chuck)34、支架(bracket)35、夾鉗(clamp)36、及爪37。氣缸台32利用從未圖示的空氣壓回路所供給的空氣的壓力而驅動氣缸(air cylinder)，使台32a朝圖面下方向移動。在氣缸台32的台32a上，安裝著剖面為L字形的夾盤基座33，在夾盤基 座33的下端，安裝著空氣夾盤34。如圖9(b)所示，在連接於空氣夾盤34的兩個支架35上，分別安裝著夾鉗36，兩個夾鉗36在空氣夾盤34的驅動下，朝圖9(b)的圖面寬度方向移動而進行開閉。在各夾鉗36上，設置著爪37，所述爪37被掛在光罩保護間隔片30的側面所設的槽30d中，兩個夾鉗36在圖9(b)所示的閉狀態下，將爪37掛在光罩保護間隔片30的槽30d中，以保持光罩保護間隔片30。

圖10是對間隔片設置裝置的動作進行說明的示圖。在將光罩2搬入到夾盤10之前，間隔片設置裝置31將光罩保護間隔片30設置在夾盤10的表面。在設置光罩保護間隔片30之前，如圖10(a)所示，氣缸台32的台32a處於上升的狀態，夾鉗36將光罩保護間隔片30保持在夾盤10的上空。在設置光罩保護間隔片30時，如圖10(b)所示，間隔片設置裝置31使氣缸台32的台32a下降，從而使保持在夾鉗36中的光罩保護間隔片30朝夾盤10的表面移動。然後，打開夾鉗36，將光罩保護間隔片30放置在夾盤10的表面。之後，如圖10(c)所示，間隔片設置裝置31使氣缸台32的台32a再次上升、等待。在從夾盤10中回收光罩保護間隔片30時，進行與上述相反的動作。

再者，本實施方式中，是將間隔片設置裝置31配置在 夾盤10的上空，並將光罩保護間隔片30從夾盤10的上方到夾盤10的表面進行設置，但也可以將光罩保護間隔片內置於夾盤10中，並使光罩保護間隔片從夾盤10的表面上升。

圖11是設置有光罩保護間隔片的夾盤的俯視圖。在設置著虛線所示的光罩2的上頂銷12下降時，設置在夾盤10的表面的光罩保護間隔片30接觸到光罩2的圖案面(下表面)的未形成圖案的周邊部而支撐光罩2。這樣，可防止光罩2的圖案面(下表面)接觸到夾盤10的表面而損傷圖案。

圖12是對上頂銷單元及光罩搬送機器人的動作進行說明的示圖。在將光罩2搬入到夾盤10中時，首先，各上頂銷單元的馬達11使上頂銷12上升(圖12(a))。光罩搬送機器人40使設置著光罩2的操作臂41朝夾盤10的上空移動(圖12(a))。然後，光罩搬送機器人40使操作臂41下降，將光罩2設置在上頂銷12上(圖12(b))，並使操作臂41進一步下降，以使操作臂41的光罩支撐部41a離開光罩2(圖12(c))。這樣，各上頂銷12從光罩搬送機器人40接收光罩2。接著，光罩搬送機器人40使操作臂41從夾盤10的上空退避(圖8(d))。

由於夾盤10上設置著多個上頂銷單元，其具有從夾盤 10的內部上升的上頂銷12及使上頂銷上下移動的脈衝馬達11，並通過上頂銷12而從光罩搬送機器人40接收光罩2，所以即便光罩2比搭載在夾盤10上的基板小，也可以將光罩2搬入到夾盤10中。

在使夾盤10從光罩接收位置朝光罩安裝位置移動時，各上頂銷單元的馬達11使上頂銷12下降，從而將光罩2設置在光罩保護間隔片30上。在從夾盤10中搬出光罩2時，進行與上述相反的動作。

圖13是表示在光罩接收位置將光罩搬入到夾盤中的狀態的示圖。在光罩接收位置處的夾盤10的上空所配置的廣視野相機51具有比下述的高分辨率可動相機52及高分辨率固定相機54的分辨率低而更廣的視野，以獲取設置在上頂銷12上的光罩2的位置檢測用標記的圖像，並將圖像信號輸出到圖1的圖像處理裝置55。圖像處理裝置55對廣視野相機51所輸出的圖像信號進行處理，以檢測光罩2的位置。即便由上頂銷12從光罩搬送機器人40所接收到的光罩2的位置發生較大的偏移，也可以使用廣視野相機51在短時間內獲取光罩2的位置檢測用標記的圖像，從而在光罩接收位置處短時間內檢測出光罩2的位置。

圖1中，主控制裝置80將圖像處理裝置55對廣視野相機51的圖像信號進行處理而檢測出的光罩2的位置的檢 測結果予以輸入，並與預先存儲的光罩接收位置處的光罩2的基準位置加以比較，以檢測光罩2的位置的偏移量。接著，主控制裝置80對X平臺驅動電路71、Y平臺驅動電路72、及θ平臺驅動電路73加以控制，利用X平臺5、Y平臺7、及θ平臺8來移動夾盤10，使光罩2從光罩接收位置朝光罩架20下方的光罩安裝位置移動。此時，主控制裝置80根據預先存儲的光罩2的基準位置的座標和光罩安裝位置的座標，來決定X平臺5、Y平臺7、及θ平臺8的移動量，並根據所檢測出的光罩2的位置的偏移量來修正所決定的移動量。

由於是在光罩接收位置檢測光罩2的位置，並根據所檢測出的光罩2的位置，利用X平臺5、Y平臺7、及θ平臺8來移動夾盤10，以使光罩2從光罩接收位置朝光罩安裝位置移動，所以即便在光罩接收位置處由上頂銷12從光罩搬送機器人40所接收到的光罩2的位置有所偏移，也可以使光罩2精度良好地移動到光罩安裝位置。

圖14是光罩架的俯視圖。在光罩架20上，設置著比曝光用光所穿過的開口20a大一圈的開口，在此開口的內側，形成有通過保持器部21a、21b而使曝光用光穿過的開口20a。保持器部21a、21b安裝在光罩架20的下表面，保持器部21a、21b的比光罩架20更靠近下方的部分用虛 線表示。保持器部21a、21b對虛線所示的光罩2的周邊部進行真空吸附而予以保持著。保持器部21a中，在光罩2的位置檢測用標記的位置處，設置有下述的光罩位置檢測窗，在光罩位置檢測窗的上空，配置著高分辨率可動相機52及高分辨率固定相機54。高分辨率可動相機52安裝在相機移動機構53上，通過相機移動機構53而在光罩架20的上方朝X方向及Y方向移動、且朝θ方向旋轉。高分辨率固定相機54固定在光罩架20的上方。

圖15是對在光罩架上安裝光罩的動作進行說明的示圖。在光罩安裝位置，在將光罩安裝到光罩架上時，首先，各上頂銷單元的馬達11使上頂銷12上升到使光罩2的位置檢測用標記和高分辨率可動相機52的焦點一致的高度為止(圖15(a))。高分辨率可動相機52通過設置在保持器部21a上的光罩位置檢測窗22而獲取光罩2的位置檢測用標記的圖像。此時，當朝光罩安裝位置移動的光罩2的位置稍有偏移而使光罩2的位置檢測用標記偏離高分辨率可動相機52的視野時，利用相機移動機構53來移動高分辨率可動相機52，以使光罩2的位置檢測用標記進入到高分辨率可動相機52的視野中。高分辨率可動相機52將所獲取的圖像的圖像信號輸出到圖1的圖像處理裝置55。圖像處理裝置55對高分辨率可動相機52所輸出的圖像信號 進行處理，以檢測光罩2的位置。

圖1中，主控制裝置80將圖像處理裝置55對高分辨率可動相機52的圖像信號進行處理而檢測出的光罩2的位置的檢測結果予以輸入，並與預先存儲的光罩安裝位置處的光罩2的基準位置加以比較，以檢測光罩2的位置的偏移量。接著，主控制裝置80根據已檢測出的光罩2的位置的偏移量而控制X平臺驅動電路71、Y平臺驅動電路72、及θ平臺驅動電路73，以利用X平臺5、Y平臺7、及θ平臺8來移動夾盤10，進行光罩2的定位。在光罩安裝位置，即便光罩2的位置有所偏移，也可以使用高分辨率可動相機52而精度良好地檢測出光罩2的位置，從而精度良好地進行光罩2的定位。

圖15中，在光罩2的定位結束後，各上頂銷單元的馬達11使上頂銷12進一步上升，將光罩2按壓到保持器部21a、21b(圖15(b))。在按壓到保持器部21a、21b的光罩2的上空，設置著負壓玻璃23，在負壓玻璃23和光罩2之間形成有負壓室。保持器部21a、21b中設置有未圖示的吸附槽，在負壓室內的壓力得到控制後，保持器部21a、21b通過未圖示的吸附槽而對光罩2的周邊部進行真空吸附。

因為是利用X平臺5、Y平臺7、及θ平臺8來移動夾 盤10而進行光罩2的定位，並通過上頂銷12而將光罩2安裝到光罩架20上，所以搬入到夾盤10中的光罩2可通過X平臺5、Y平臺7、及θ平臺8而精度良好地定位以安裝到光罩架20上。

在保持器部21a、21b對光罩2進行真空吸附之後，高分辨率固定相機54通過設置在保持器部21a的光罩位置檢測窗22而獲取光罩2的位置檢測用標記的圖像，並將圖像信號輸出到圖1的圖像處理裝置55。圖像處理裝置55對高分辨率固定相機54所輸出的圖像信號進行處理，以檢測光罩2的位置。

圖1中，主控制裝置80將圖像處理裝置55對高分辨率固定相機54的圖像信號進行處理而檢測出的光罩2的位置的檢測結果予以輸入，並與預先存儲的光罩安裝位置處的光罩2的基準位置加以比較，以檢測光罩2的位置的偏移量，並判斷是否需要進行光罩2的位置修正。本實施方式中，在使高分辨率可動相機52移動而檢測出光罩2的位置的情況下，在光罩2的位置的檢測結果中包含高分辨率可動相機52的移動誤差。因此，有可能會使根據圖像處理裝置55對高分辨率可動相機52的圖像信號進行處理而檢測出的光罩2的位置所定位的光罩2的位置偏離光罩2的基準位置。

當需要進行光罩2的位置修正時，解除光罩2的真空吸附，使負壓室內的壓力恢復到大氣壓之後，使上頂銷12下降而使光罩2離開保持器部21a、21b。然後，主控制裝置80根據已檢測出的光罩2的位置的偏移量，來對X平臺驅動電路71、Y平臺驅動電路72、及θ平臺驅動電路73加以控制，並利用X平臺5、Y平臺7、及θ平臺8來移動夾盤10，以修正光罩2的位置。使用固定在光罩架20上方的高分辨率固定相機54，可進一步精度良好地檢測光罩2的位置，從而對已定位的光罩2的位置進行精度良好地修正。

在進行了光罩2的位置修正之後，各上頂銷單元的馬達11使上頂銷12再次上升，將光罩2按壓到保持器部21a、21b。在對負壓室內的壓力進行控制之後，保持器部21a、21b利用未圖示的吸附槽而對光罩2進行真空吸附。在光罩2的安裝結束後，各上頂銷單元的馬達11使上頂銷12下降(圖15(c))。然後，使夾盤10恢復到光罩接收位置，通過間隔片設置裝置31而從夾盤10中回收光罩保護間隔片30。

在基板的曝光中，在進行光罩2和基板的間隙對準時或者在光罩2和基板分開時，受到光罩2和基板之間的空氣的擠壓或拉伸，保持在光罩架20上的光罩2會彎曲。而 且，在已彎曲的光罩2恢復原樣時，光罩2的偏位可能會發生。本實施方式中，在光罩架的下表面設置著防偏位銷單元，以使光罩2和基板接近時或者在使光罩2和基板分開時防止光罩2的偏位。

圖16是表示設置在光罩架下表面的防偏位銷單元的示圖。在本實施形態中，使用基準銷及按壓銷這兩種銷來作為防偏位銷。基準銷的防偏位銷單元包括基準銷61、脈衝馬達62、滾珠螺釘63、及接觸感測器64而構成，且設置在光罩2的相對的兩邊的一側。按壓銷的防偏位銷單元包括按壓銷66及氣缸67而構成，且設置在光罩2的相對的兩邊的另一側。

再者，本實施方式中，設置著基準銷的防偏位銷單元與按壓銷的防偏位銷單元，但也可以取代按壓銷的防偏位銷單元而設置基準銷的防偏位銷單元，將所有的防偏位銷單元均作為基準銷的防偏位銷單元。另外，在本實施方式中，在光罩2的長邊側設置有兩個防偏位銷單元，且短邊側設置有一個防偏位銷單元，但防偏位銷單元的數量及位置可根據光罩2的尺寸而適當決定。

圖17是對基準銷的防偏位銷單元的動作進行說明的示圖。脈衝馬達62上連接著滾珠螺釘63，滾珠螺釘63的螺母上安裝著基準銷61及接觸感測器64。通過脈衝馬達 62對滾珠螺釘63進行驅動而使基準銷61及接觸感測器64朝向光罩2的側面移動。如圖17(a)所示，接觸感測器64的前端部比基準銷61的前端只突出了距離D。

圖16的基準銷驅動控制電路65對脈衝馬達62加以控制，以使基準銷61及接觸感測器64朝向光罩2的側面移動。接觸感測器64的前端部在碰到光罩2的側面時會發生位移，接觸感測器64對該位移量進行檢測，並將檢測信號輸出到基準銷驅動控制電路65。如圖17(a)所示，在接觸感測器64的前端部未接觸到光罩2的側面的狀態下，接觸感測器64的前端部的位移量成為零。如圖17(b)所示，若接觸感測器64的前端部接觸到光罩2的側面，隨後，接觸感測器64的前端部的位移量將變為與基準銷61及接觸感測器64的移動量相同。

在接觸感測器64的前端部的位移量變為與基準銷61及接觸感測器64的移動量相同時，基準銷驅動控制電路65使基準銷61及接觸感測器64的移動速度較慢。基準銷61及接觸感測器64以低速進一步移動，並如圖17(c)所示，當基準銷61的前端接觸到光罩2的側面時，隨後即便使基準銷61及接觸感測器64進行移動，接觸感測器64的前端部的位移量也不會變化。在基準銷61的前端接觸到光罩2的側面後接觸感測器64的前端部的位移量不再變化 時，基準銷驅動控制電路65使基準銷61及接觸感測器64的移動停止。由於在基準銷61接觸到光罩2的側面時使基準銷61的移動停止，因此將光罩2壓到基準銷61上而定位的光罩2的位置不會發生偏移。

圖16中，在使基準銷61的前端接觸到光罩2的側面後，按壓銷驅動控制電路68對氣缸67供給空氣，氣缸67將按壓銷66按壓到光罩2的側面。在使光罩2和基板接近時、或者在使光罩2和基板分開時，如果保持在光罩架20上的光罩2彎曲，則光罩2的側面朝光罩的中心方向移動。基準銷61並不跟隨光罩2的側面的移動，而光罩2的側面離開基準銷61的前端。按壓銷66跟隨光罩2的側面的移動而移動。在已彎曲的光罩2恢復原樣時，光罩2的基準銷61側的側面會接觸到基準銷61而被定位，光罩2的按壓銷66側的側面克服按壓銷66的按壓力而恢復到初始位置。因此，可防止在使光罩2和基板接近時、或者在使光罩2和基板分開時的光罩的偏位。

根據以上所說明的實施方式，利用光罩搬送機器人40將光罩2搬入到夾盤10，利用上頂銷12而從光罩搬送機器人40接收光罩2，並通過相機移動機構53來移動高分辨率可動相機52，通過高分辨率可動相機52而獲取光罩2的位置檢測用標記的圖像，對高分辨率可動相機52的圖像 信號進行處理，以檢測光罩2的位置，並根據已檢測出的光罩2的位置，利用X平臺5、Y平臺7、及θ平臺8來移動夾盤10，進行光罩2的定位，利用上頂銷12將光罩2安裝到光罩架20上，這樣，可精度良好地定位比基板小的光罩2而將其安裝到光罩架20。

進而，利用固定在光罩架20上方的高分辨率固定相機54而獲取光罩2的位置檢測用標記的圖像，對高分辨率固定相機54的圖像信號進行處理，以檢測光罩2的位置，並根據已檢測出的光罩2的位置，利用X平臺5、Y平臺7、及θ平臺8來移動夾盤10，對已定位的光罩2的位置進行修正，這樣，使用固定在光罩架20上方的高分辨率固定相機54，可進一步精度良好地檢測光罩2的位置，對已定位的光罩2的位置進行精度良好地修正。

進而，在與光罩架20下方的光罩安裝位置不同地另外設置的光罩接收位置處通過上頂銷12而從光罩搬送機器人40中接收光罩2，利用具有比高分辨率可動相機52的分辨率低而更廣的視野的廣視野相機51來獲取光罩2的位置檢測用標記的圖像，對廣視野相機2的圖像信號進行處理而檢測光罩2的位置，並根據已檢測出的光罩2的位置，利用X平臺5、Y平臺7、及θ平臺8來移動夾盤，將光罩2從光罩接收位置移動到光罩安裝位置，這樣，即便由上 頂銷12從光罩搬送機器人40中所接收到的光罩2的位置發生較大的偏移，也可以在光罩接收位置處短時間內檢測出光罩2的位置，從而可將光罩2精度良好地移動到光罩安裝位置。

進而，在夾盤10的表面設置著在頂銷12下降時會接觸到光罩2的圖案面的周邊部的多個光罩保護間隔片30，這樣，即便因某些原因而引起上頂銷12下降，也可以防止光罩2的圖案面接觸到夾盤10的表面而損傷圖案。

進而，在光罩架20上設置著多個防偏位銷單元，所述多個防偏位銷單元具有與保持在光罩架20上的光罩2的側面接觸以防止光罩2偏位的基準銷61、使基準銷61移動而接觸到光罩2的側面的脈衝馬達62、以及檢測基準銷61接觸到光罩2的側面的接觸感測器64，且，對各防偏位銷單元的脈衝馬達62加以控制，使基準銷61朝向光罩2的側面移動，並根據接觸感測器64的檢測結果而使基準銷61的移動停止，這樣，在已定位的光罩2不會錯位的情況下可在使光罩2和基板接近時、或者在使光罩2和基板分開時防止光罩2的偏位。

使用本發明的接近式曝光裝置進行基板的曝光，或者使用本發明的接近式曝光裝置的光罩搬送方法而將光罩安裝到光罩架上，並進行基板的曝光，這樣，可精度良好地 進行光罩的定位，因此可精度良好地進行圖案的轉印，從而製造出高品質的顯示用面板基板。

例如，圖18是表示液晶顯示器裝置的TFT基板的製造過程之一例的流程圖。在薄膜形成過程(步驟101)中，利用濺射(sputtering)法或電漿化學氣相沉積(Chemical Vapor Deposition，CVD)法等，在基板上形成作為液晶驅動用的透明電極的導電體膜或絕緣體膜等的薄膜。在抗蝕劑(resist)塗布過程(步驟102)中，利用輥塗法等來塗布感光樹脂材料(光阻劑(photoresist))，在薄膜形成過程(步驟101)所形成的薄膜上形成光阻膜。在曝光過程(步驟103)中，使用接近式曝光裝置或投影曝光裝置等，將光罩的圖案轉印到光阻膜上。在顯影過程(步驟104)中，使用淋浴(shower)顯影法等而將顯影液供給到光阻膜上，以去除光阻膜的多餘部分。在蝕刻(etching)過程(步驟105)中，通過濕式蝕刻(wet etching)，將薄膜形成過程(步驟101)中形成的薄膜內未被光阻膜所遮蓋的部分去除。在剝離過程(步驟106)中，利用剝離液將蝕刻過程(步驟105)中的已完成遮蓋作用的光阻膜剝離。在所述各過程之前或之後，根據需要而實施基板的清洗/乾燥過程。將所述過程反復進行數次，在基板上形成TFT陣列(array)。

另外，圖19是液晶顯示器裝置的彩色濾光片基板的製造過程之一例的流程圖。在黑矩陣(black matrix)形成過程(步驟201)中，通過抗蝕劑塗布、曝光、顯影、蝕刻、剝離等的處理，在基板上形成黑矩陣。在著色圖案形成過程(步驟202)中，通過染色法、顏料分散法、印刷法、電沉積(electrodeposition)法等，在基板上形成著色圖案。針對R、G、B的著色圖案而反復進行所述過程。在保護膜形成過程(步驟203)中，在著色圖案上形成保護膜，在透明電極膜形成過程(步驟204)中，在保護膜上形成透明電極膜。在所述各過程之前、中途或者之後，根據需要而實施基板的清洗/乾燥過程。

在圖18所示的TFT基板的製造過程的曝光過程(步驟103)中、圖19所示的彩色濾光片基板的製造過程的黑矩陣形成過程(步驟201)及著色圖案形成過程(步驟202)的曝光處理中，可應用本發明的接近式曝光裝置或者本發明的接近式露光裝置的光罩搬送方法。

雖然本發明已以較佳實施例揭露如上，然其並非用以限定本發明，任何熟習此技藝者，在不脫離本發明之精神和範圍內，當可作些許之更動與潤飾，因此本發明之保護範圍當視後附之申請專利範圍所界定者為準。

1‧‧‧基板

2‧‧‧光罩

3‧‧‧基座

4‧‧‧X導向器

5‧‧‧X平臺

6‧‧‧Y導向器

7‧‧‧Y平臺

8‧‧‧θ平臺

9‧‧‧夾盤支撐台

10‧‧‧夾盤

11‧‧‧馬達

11a‧‧‧杆收納部

12‧‧‧上頂銷

13‧‧‧蓋

14‧‧‧凸緣

15、17、19‧‧‧螺釘

16‧‧‧止動螺絲

18‧‧‧支撐板

20‧‧‧光罩架

20a‧‧‧開口

21a、21b‧‧‧保持器部

22‧‧‧光罩位置檢測窗

23‧‧‧負壓玻璃

30‧‧‧光罩保護間隔片

30a‧‧‧平坦面

30b‧‧‧段差面

30c‧‧‧傾斜面

30d‧‧‧槽

31‧‧‧間隔片設置裝置

32‧‧‧氣缸台

32a‧‧‧台

33‧‧‧夾盤基座

34‧‧‧空氣夾盤

35‧‧‧支架

36‧‧‧夾鉗

37‧‧‧爪

40‧‧‧光罩搬送機器人

41‧‧‧操作臂

41a‧‧‧光罩支撐部

42‧‧‧光罩儲庫

50‧‧‧上頂銷驱动控制电路

51‧‧‧廣視野相機

52‧‧‧高分辨率可動相機

53‧‧‧相機移動機構

54‧‧‧高分辨率固定相機

55‧‧‧圖像處理裝置

61‧‧‧基準銷(防偏位銷)

62‧‧‧脈衝馬達

63‧‧‧滾珠螺釘

64‧‧‧接觸感測器

65‧‧‧基準銷驅動控制電路

66‧‧‧按壓銷(防偏位銷)

67‧‧‧氣缸

68‧‧‧按壓銷驅動控制電路

71‧‧‧X平臺驅動電路

72‧‧‧Y平臺驅動電路

73‧‧‧θ平臺驅動電路

80‧‧‧主控制裝置

圖1是表示本發明的一實施方式的接近式曝光裝置的概略構成的示圖。

圖2是本發明的一實施方式的接近式曝光裝置的平面圖。

圖3是夾盤的俯視圖。

圖4(a)是夾盤上所設的開口的俯視圖，圖4(b)是圖4(a)的A-A部分的剖面圖。

圖5(a)是夾盤上所設的開口的俯視圖，圖5(b)是圖5(a)的B-B部分的剖面圖。

圖6是表示上頂銷單元的控制系統的示圖。

圖7是表示間隔片設置裝置及廣視野相機的配置的示圖。

圖8(a)是光罩保護間隔片的俯視圖，圖8(b)是從圖8(a)的箭頭C方向觀察到的光罩保護間隔片的側視圖，圖8(c)是從圖8(a)的箭頭D方向觀察到的光罩保護間隔片的側視圖。

圖9(a)是間隔片設置裝置的側視圖，圖9(b)是間隔片設置裝置的前視圖。

圖10是對間隔片設置裝置的動作進行說明的示圖。

圖11是設置有光罩保護間隔片的夾盤的俯視圖。

圖12是對上頂銷單元及光罩搬送機器人的動作進行說明的示圖。

圖13是表示在光罩接收位置將光罩搬入到夾盤中的狀態的示圖。

圖14是光罩架的俯視圖。

圖15是對在光罩架上安裝光罩的動作進行說明的示圖。

圖16是表示設置在光罩架下表面的防偏位銷單元的示圖。

圖17是對基準銷的防偏位銷單元的動作進行說明的示圖。

圖18是表示液晶顯示器裝置的TFT基板的製造過程之一例的流程圖。

圖19是表示液晶顯示器裝置的彩色濾光片基板的製造過程之一例的流程圖。

2‧‧‧光罩

10‧‧‧夾盤

11‧‧‧馬達

21a‧‧‧保持器部

22‧‧‧光罩位置檢測窗

23‧‧‧負壓玻璃

52‧‧‧高分辨率可動相機

53‧‧‧相機移動機構

54‧‧‧高分辨率固定相機

Claims (12)

1. 一種接近式曝光裝置，包括：搭載基板的夾盤、保持光罩的光罩架、以及移動該夾盤的平臺，在該光罩和該基板之間設有微小的間隙，以將該光罩的圖案轉印到該基板，該接近式曝光裝置的特徵在於包括：將該光罩搬入到該夾盤的光罩搬送裝置；多個上頂銷單元，經由該夾盤的表面所設的多個開口而使多個上頂銷上升及下降，以從該光罩搬送裝置接收該光罩並把該光罩安裝到該光罩架；第一圖像獲取裝置，獲取設置在該光罩上的位置檢測用標記的圖像，並輸出圖像信號；使該第一圖像獲取裝置移動的移動機構；圖像處理裝置，對該第一圖像獲取裝置所輸出的該圖像信號進行處理，檢測該光罩的位置；第一控制機構，根據該圖像處理裝置所檢測的該光罩的位置，對該平臺的移動加以控制，以移動該夾盤並定位該光罩；多個防偏位銷單元，被保持於該光罩支架，且移動可與該光罩的側面接觸的防偏位銷並使該防偏位銷接觸到該光罩的側面，藉此以防止該光罩的位置偏移；感測器，設於該多個防偏位銷單元中的至少一部分， 且對該防偏位銷接觸到該光罩的側面進行檢測；第二控制機構，驅動該多個防偏位銷單元，使得該防偏位銷與該感測器往該光罩的側面移動，並於該感測器檢測到該防偏位銷接觸到該光罩的側面時，停止該防偏位銷的移動。
2. 根據申請專利範圍第1項所述的接近式曝光裝置，其中：包括第二圖像獲取裝置，被固定在該光罩架的上方，獲取該光罩的位置檢測用標記的圖像，並輸出圖像信號，該圖像處理裝置對該第二圖像獲取裝置所輸出的圖像信號進行處理，以檢測該光罩的位置，該第一控制機構根據該圖像處理裝置對該第二圖像獲取裝置的圖像信號進行處理而檢測出的該光罩的位置，利用該平臺來移動該夾盤，對已定位的該光罩的位置進行修正。
3. 根據申請專利範圍第2項所述的接近式曝光裝置，其中：包括第三圖像獲取裝置，在利用該上頂銷而從該光罩搬送裝置接收該光罩的光罩接收位置的上空，該第三圖像獲取裝置具有比該第一圖像獲取裝置的分辨率低而更廣的視野，獲取該光罩的位置檢測用標記的圖像，並輸出圖像 信號，該圖像處理裝置對該第三圖像獲取裝置所輸出的圖像信號進行處理，以檢測該光罩的位置，該第一控制機構根據該圖像處理裝置對該第三圖像獲取裝置的圖像信號進行處理而檢測出的該光罩的位置，利用該平臺來移動該夾盤，將該光罩從該光罩接收位置移動到該光罩架下方的光罩安裝位置。
4. 根據申請專利範圍第1至3項中任一項所述的接近式曝光裝置，其中：包括多個間隔片，設置在該夾盤的表面，當載置著該光罩的該上頂銷下降時接觸到該光罩的圖案面的周邊部。
5. 根據申請專利範圍第1至3項中任一項所述的接近式曝光裝置，其中該多個防偏位銷單元由防偏位基準銷單元與防偏位按壓銷單元構成，該防偏位基準銷單元具備接觸感測器作為該感測器及基準銷，該接觸感測器因接觸該光罩的側面而產生位移，並根據位移量而檢測出該防偏位銷已接觸到該光罩的側面，該基準銷不跟隨該光罩的側面的移動而是利用馬達被驅動；該防偏位按壓銷單元不具備該感測器而是具備按壓銷，該按壓銷是跟隨著該光罩的側面移動的方式而移動， 以利用氣缸按壓到該光罩的側面。
6. 一種接近式曝光裝置的光罩搬送方法，該接近式曝光裝置包括：搭載基板的夾盤；保持光罩的光罩架；移動該夾盤的平臺；多個頂銷單元，經由該夾盤的表面所設的多個開口而使多個上頂銷上升及下降，以從光罩搬送裝置接收該光罩並安裝到該光罩架；第一圖像獲取裝置，獲取設置在該光罩上的位置檢測用標記的圖像，並輸出圖像信號；移動機構，使該第一圖像獲取裝置移動；多個防偏位銷單元，被保持於該光罩支架，且移動可與該光罩的側面接觸的防偏位銷並使該防偏位銷接觸到該光罩的側面，藉此以防止該光罩的位置偏移；以及感測器，設於該多個防偏位銷單元中的至少一部分，且對該防偏位銷接觸到該光罩的側面進行檢測，在該光罩和該基板之間設有微小的間隙，以將該光罩的圖案轉印到該基板，該接近式曝光裝置的光罩搬送方法的特徵在於：利用該光罩搬送裝置將該光罩搬入到該夾盤； 利用該上頂銷而從該光罩搬送裝置接收該光罩；利用該移動機構來移動該第一圖像獲取裝置，並利用該第一圖像獲取裝置而獲取該光罩的位置檢測用標記的圖像；對該第一圖像獲取裝置的圖像信號進行處理，以檢測該光罩的位置；根據已檢測出的該光罩的位置，利用該平臺來移動該夾盤，進行該光罩的定位；通過該上頂銷而將該光罩安裝到該光罩架上；驅動該多個防偏位銷單元，使該防偏位銷及該感測器往該光罩的側面移動；以及當該感測器檢測出該防偏位銷單元接觸到該光罩的側面時，停止該防偏位銷的移動。
7. 根據申請專利範圍第6項所述的接近式曝光裝置的光罩搬送方法，其中該接近式曝光置還包括第二圖像獲取裝置，該第二圖像獲取裝置被固定在該光罩架的上方，獲取該光罩的該位置檢測用標記的圖像，並輸出圖像信號，且該接近式曝光裝置的光罩搬送方法還包括：利用該第二圖像獲取裝置而獲取該光罩的該位置檢測用標記的圖像；對該第二圖像獲取裝置的圖像信號進行處理，以檢測 該光罩的位置；以及根據已檢測出的該光罩的位置，利用該平臺來移動該夾盤，對已定位的該光罩的位置進行修正。
8. 根據申請專利範圍第7項所述的接近式曝光裝置的光罩搬送方法，其中該接近式曝光裝置還包括第三圖像獲取裝置，該第三圖像獲取裝置設置在光罩接收位置的上方，該第三圖像獲取裝置具有比該第一圖像獲取裝置的分辨率低而更廣的視野，以獲取該光罩的該位置檢測用標記的圖像，並輸出圖像信號，且該接近式曝光裝置的光罩搬送方法還包括：在與該光罩架下方的光罩安裝位置不同地另外設置的該光罩接收位置處，利用該上頂銷而從該光罩搬送裝置接收該光罩；利用該第三圖像獲取裝置而獲取該光罩的該位置檢測用標記的圖像；對第該三圖像獲取裝置的圖像信號進行處理，以檢測該光罩的位置；根據已檢測出的該光罩的位置，利用該平臺來移動該夾盤，將該光罩從該光罩接收位置移動到該光罩安裝位置。
9. 根據申請專利範圍第6至8項中任一項所述的接近式曝光裝置的光罩搬送方法，包括： 將多個間隔片設置在該夾盤的表面，該多個間隔片在載置著該光罩的該上頂銷下降時接觸到該光罩的圖案面的周邊部。
10. 根據申請專利範圍第6至8項中任一項所述的接近式曝光裝置的光罩搬送方法，其中：將多個防偏位銷單元由防偏位基準銷單元與防偏位按壓銷單元構成，該防偏位基準銷單元具備接觸感測器作為該感測器及基準銷，該接觸感測器因接觸該光罩的側面而產生位移，並根據位移量而檢測出該防偏位銷已接觸到該光罩的側面，該基準銷不跟隨該光罩的側面的移動而是利用馬達被驅動；該防偏位按壓銷單元不具備該感測器而是具備按壓銷，該按壓銷是跟隨著該光罩的側面移動的方式而移動，以利用氣缸按壓到該光罩的側面。
11. 一種顯示用面板基板的製造方法，其特徵在於：使用申請專利範圍第1至5項中任一項所述的接近式曝光裝置來進行基板的曝光。
12. 一種顯示用面板基板的製造方法，其特徵在於：使用申請專利範圍第6至10項中任一項所述的接近式曝光裝置的光罩搬送方法，將該光罩安裝到該光罩架上，進行該基板的曝光。