JP2011048209A - プロキシミティ露光装置、プロキシミティ露光装置の露光領域変更方法、及び表示用パネル基板の製造方法 - Google Patents
プロキシミティ露光装置、プロキシミティ露光装置の露光領域変更方法、及び表示用パネル基板の製造方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2011048209A JP2011048209A JP2009197563A JP2009197563A JP2011048209A JP 2011048209 A JP2011048209 A JP 2011048209A JP 2009197563 A JP2009197563 A JP 2009197563A JP 2009197563 A JP2009197563 A JP 2009197563A JP 2011048209 A JP2011048209 A JP 2011048209A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- substrate
- mask
- mask holder
- chuck
- exposure
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Images
Abstract
【課題】基板の一面を複数の露光領域に分けて露光するプロキシミティ露光装置を小型化する。
【解決手段】基板1を支持するチャック10と、マスク2を保持するマスクホルダ20と、チャック10を移動するステージと、マスクホルダ20を移動するマスクホルダ移動装置とを設け、ステージによりチャック10をX方向(又はY方向)へ移動して、基板1の露光領域のX方向(又はY方向)への変更を行い、マスクホルダ移動装置によりマスクホルダ20をY方向(又はX方向)へ移動して、基板1の露光領域のY方向(又はX方向)への変更を行う。露光領域をY方向(又はX方向)へ変更する際は、マスク2より大きな基板1をY方向(又はX方向)へ移動する必要が無く、マスク2がマスク2より大きな基板1の上方でY方向(又はX方向)へ移動される。従って、露光装置のY方向(又はX方向)の寸法を小さくすることができる。
【選択図】図1
【解決手段】基板1を支持するチャック10と、マスク2を保持するマスクホルダ20と、チャック10を移動するステージと、マスクホルダ20を移動するマスクホルダ移動装置とを設け、ステージによりチャック10をX方向(又はY方向)へ移動して、基板1の露光領域のX方向(又はY方向)への変更を行い、マスクホルダ移動装置によりマスクホルダ20をY方向(又はX方向)へ移動して、基板1の露光領域のY方向(又はX方向)への変更を行う。露光領域をY方向(又はX方向)へ変更する際は、マスク2より大きな基板1をY方向(又はX方向)へ移動する必要が無く、マスク2がマスク2より大きな基板1の上方でY方向(又はX方向)へ移動される。従って、露光装置のY方向(又はX方向)の寸法を小さくすることができる。
【選択図】図1
Description
本発明は、液晶ディスプレイ装置等の表示用パネル基板の製造において、基板の一面を複数の露光領域に分けて露光するプロキシミティ露光装置、プロキシミティ露光装置の露光領域変更方法、及びそれらを用いた表示用パネル基板の製造方法に関する。
表示用パネルとして用いられる液晶ディスプレイ装置のTFT(Thin Film Transistor)基板やカラーフィルタ基板、プラズマディスプレイパネル用基板、有機EL(Electroluminescence)表示パネル用基板等の製造は、露光装置を用いて、フォトリソグラフィー技術により基板上にパターンを形成して行われる。露光装置としては、レンズ又は鏡を用いてマスクのパターンを基板上に投影するプロジェクション方式と、マスクと基板との間に微小な間隙(プロキシミティギャップ)を設けてマスクのパターンを基板へ転写するプロキシミティ方式とがある。プロキシミティ方式は、プロジェクション方式に比べてパターン解像性能は劣るが、照射光学系の構成が簡単で、かつ処理能力が高く量産用に適している。
近年、表示用パネルの各種基板の製造では、大型化及びサイズの多様化に対応するため、比較的大きな基板を用意し、表示用パネルのサイズに応じて、1枚の基板から1枚又は複数枚の表示用パネル基板を製造している。その場合、プロキシミティ方式では、基板の一面を一括して露光しようとすると、基板と同じ大きさのマスクが必要となり、高価なマスクのコストがさらに増大する。そこで、基板より比較的小さなマスクを用い、ステージにより基板をXY方向へステップ移動させて、基板の一面を複数の露光領域に分けて露光する方式が主流となっている。この様な方式の露光装置として、例えば、特許文献1に記載のものがある。
表示用パネルの大画面化に伴い基板が大型化する程、基板をXY方向へステップ移動させる際に必要なステージの移動量が増加する。そのため、露光装置が大型になって、装置の加工及び運搬に手間が掛かるという問題があった。また、基板のステップ移動に時間が掛かって、タクトタイムが長くなるという問題があった。
本発明の課題は、基板の一面を複数の露光領域に分けて露光するプロキシミティ露光装置を小型化することである。また、本発明の課題は、基板の一面を複数の露光領域に分けて露光する際、露光領域の変更を短時間に行うことである。さらに、本発明の課題は、表示用パネル基板を高いスループットで製造することである。
本発明のプロキシミティ露光装置は、マスクより大きな基板の一面を複数の露光領域に分けて露光するプロキシミティ露光装置において、基板を支持するチャックと、マスクを保持するマスクホルダと、チャックを移動するステージと、マスクホルダを移動するマスクホルダ移動装置とを備え、ステージが、チャックをX方向(又はY方向)へ移動して、基板の露光領域のX方向(又はY方向)への変更を行い、マスクホルダ移動装置が、マスクホルダをY方向(又はX方向)へ移動して、基板の露光領域のY方向(又はX方向)への変更を行うものである。
また、本発明のプロキシミティ露光装置の露光領域変更方法は、マスクより大きな基板の一面を複数の露光領域に分けて露光するプロキシミティ露光装置の露光領域変更方法であって、基板を支持するチャックと、マスクを保持するマスクホルダと、チャックを移動するステージと、マスクホルダを移動するマスクホルダ移動装置とを設け、ステージによりチャックをX方向(又はY方向)へ移動して、基板の露光領域のX方向(又はY方向)への変更を行い、マスクホルダ移動装置によりマスクホルダをY方向(又はX方向)へ移動して、基板の露光領域のY方向(又はX方向)への変更を行うものである。
基板を支持するチャックと、マスクを保持するマスクホルダと、チャックを移動するステージと、マスクホルダを移動するマスクホルダ移動装置とを設け、ステージによりチャックをX方向(又はY方向)へ移動して、基板の露光領域のX方向(又はY方向)への変更を行い、マスクホルダ移動装置によりマスクホルダをY方向(又はX方向)へ移動して、基板の露光領域のY方向(又はX方向)への変更を行うので、露光領域をY方向(又はX方向)へ変更する際は、マスクより大きな基板をY方向(又はX方向)へ移動する必要が無く、マスクがマスクより大きな基板の上方でY方向(又はX方向)へ移動される。従って、露光装置のY方向(又はX方向)の寸法を小さくすることができる。
また、本発明のプロキシミティ露光装置は、基板の一面を複数の露光領域に分けて露光するプロキシミティ露光装置において、基板を支持するチャックと、マスクを保持するマスクホルダと、チャックをXY方向へ移動するステージと、マスクホルダをXY方向へ移動するマスクホルダ移動装置とを備え、ステージ及びマスクホルダ移動装置が、チャック及びマスクホルダを互いに逆方向へ移動して、基板の露光領域を変更するものである。
また、本発明のプロキシミティ露光装置の露光領域変更方法は、基板の一面を複数の露光領域に分けて露光するプロキシミティ露光装置の露光領域変更方法であって、基板を支持するチャックと、マスクを保持するマスクホルダと、チャックをXY方向へ移動するステージと、マスクホルダをXY方向へ移動するマスクホルダ移動装置とを設け、ステージによりチャックをXY方向へ移動し、かつ、マスクホルダ移動装置によりマスクホルダをチャックの移動方向と逆方向へ移動して、基板の露光領域を変更するものである。
基板を支持するチャックと、マスクを保持するマスクホルダと、チャックをXY方向へ移動するステージと、マスクホルダをXY方向へ移動するマスクホルダ移動装置とを設け、ステージによりチャックをXY方向へ移動し、かつ、マスクホルダ移動装置によりマスクホルダをチャックの移動方向と逆方向へ移動して、基板の露光領域を変更するので、露光領域の変更に必要なステージの移動量及びマスクホルダ移動装置の移動量が少なく済み、露光装置を小型化することができる。
さらに、本発明のプロキシミティ露光装置は、ステージ及びマスクホルダ移動装置が、チャックの移動及びマスクホルダの移動を並行して行うものである。また、本発明のプロキシミティ露光装置の露光領域変更方法は、ステージによるチャックの移動と、マスクホルダ移動装置によるマスクホルダの移動とを並行して行うものである。露光領域の変更に必要なステージの移動量及びマスクホルダ移動装置の移動量が少なく済み、かつ、両者の移動を並行して行うので、露光領域の変更が短時間に行われる。
本発明の表示用パネル基板の製造方法は、上記のプロキシミティ露光装置を用いて基板の露光を行い、あるいは、上記のプロキシミティ露光装置の露光領域変更方法を用いて露光領域を変更して、基板の露光を行うものである。露光領域の変更が短時間に行われるので、タクトタイムが短縮され、表示用パネル基板が高いスループットで製造される。
本発明のプロキシミティ露光装置及びプロキシミティ露光装置の露光領域変更方法によれば、基板を支持するチャックと、マスクを保持するマスクホルダと、チャックを移動するステージと、マスクホルダを移動するマスクホルダ移動装置とを設け、ステージによりチャックをX方向(又はY方向)へ移動して、基板の露光領域のX方向(又はY方向)への変更を行い、マスクホルダ移動装置によりマスクホルダをY方向(又はX方向)へ移動して、基板の露光領域のY方向(又はX方向)への変更を行うことにより、マスクより大きな基板の一面を複数の露光領域に分けて露光するプロキシミティ露光装置のY方向(又はX方向)の寸法を小さくして、プロキシミティ露光装置を小型化することができる。
また、本発明のプロキシミティ露光装置及びプロキシミティ露光装置の露光領域変更方法によれば、基板を支持するチャックと、マスクを保持するマスクホルダと、チャックをXY方向へ移動するステージと、マスクホルダをXY方向へ移動するマスクホルダ移動装置とを設け、ステージによりチャックをXY方向へ移動し、かつ、マスクホルダ移動装置によりマスクホルダをチャックの移動方向と逆方向へ移動して、基板の露光領域を変更することにより、基板の一面を複数の露光領域に分けて露光するプロキシミティ露光装置を小型化することができる。
さらに、本発明のプロキシミティ露光装置及びプロキシミティ露光装置の露光領域変更方法によれば、ステージによるチャックの移動と、マスクホルダ移動装置によるマスクホルダの移動とを並行して行うことにより、基板の一面を複数の露光領域に分けて露光する際、露光領域の変更を短時間に行うことができる。
本発明の表示用パネル基板の製造方法によれば、露光領域の変更を短時間に行うことができるので、タクトタイムを短縮して、表示用パネル基板を高いスループットで製造することができる。
図1は、本発明の一実施の形態によるプロキシミティ露光装置の上面図である。また、図2は、本発明の一実施の形態によるプロキシミティ露光装置の側面図である。プロキシミティ露光装置は、ベース3、Xガイド4、Xステージ5、Yガイド6、Yステージ7、θステージ8、チャック支持台9、チャック10、マスクホルダ20、負圧ガラス21、チルト用腕24、Z−チルト機構25、及びマスクホルダ移動装置を含んで構成されている。プロキシミティ露光装置は、これらの他に、基板1をチャック10へ搬入し、また基板1をチャック10から搬出する基板搬送ロボット、露光光を照射する照射光学系、装置内の温度管理を行う温度制御ユニット等を備えている。
なお、以下に説明する実施の形態におけるXY方向は例示であって、X方向とY方向とを入れ替えてもよい。
図1及び図2において、チャック10は、基板1のロード及びアンロードを行うロード/アンロード位置にある。ロード/アンロード位置において、図示しない基板搬送ロボットにより、基板1がチャック10へ搬入され、また基板1がチャック10から搬出される。チャック10への基板1のロード及びチャック10からの基板1のアンロードは、チャック10に設けた複数の突き上げピンを用いて行われる。突き上げピンは、チャック10の内部に収納されており、チャック10の内部から上昇して、基板1をチャック10にロードする際、基板搬送ロボットから基板1を受け取り、基板1をチャック10からアンロードする際、基板搬送ロボットへ基板1を受け渡す。
基板1の露光を行う露光位置の上空には、マスク2を保持するマスクホルダ20が配置されている。マスクホルダ20には、露光光が通過する開口が設けられており、マスクホルダ20は、開口の周囲に設けられた図示しない吸着溝により、マスク2の周辺部を真空吸着して保持する。マスクホルダ20の開口の上方には、負圧ガラス21が設置されており、マスク2と、マスクホルダ20と、負圧ガラス21とによって、負圧室が構成されている。負圧室に負圧を掛けることによって、マスク2に重力の方向と反対方向へ浮上する力が掛かり、マスク2のたわみが抑制される。マスクホルダ20に保持されたマスク2の上空には、図示しない照射光学系が配置されている。露光時、照射光学系からの露光光がマスク2を透過して基板1へ照射されることにより、マスク2のパターンが基板1の表面に転写され、基板1上にパターンが形成される。
なお、図示しない照射光学系では、光源ユニットを複数設け、後述するマスク2の移動に応じて、光源ユニットを切り替えて使用してもよい。あるいは、半導体発光素子を多数並べた光源を用い、後述するマスク2の移動に応じて、点灯する半導体発光素子を変更してもよい。
図2において、チャック10は、チャック支持台9を介してθステージ8に搭載されており、θステージ8の下にはYステージ7及びXステージ5が設けられている。Xステージ5は、ベース3に設けられたXガイド4に搭載され、Xガイド4に沿ってX方向(図2の図面横方向)へ移動する。Yステージ7は、Xステージ5に設けられたYガイド6に搭載され、Yガイド6に沿ってY方向(図2の図面奥行き方向)へ移動する。Xステージ5及びYステージ7は、ボールねじ及びモータや、リニアモータ等の図示しない移動機構により移動される。θステージ8は、Yステージ7に搭載され、θ方向へ回転する。チャック支持台9は、θステージ8に搭載され、チャック10を複数箇所で支持する。
マスクホルダ20は、マスクホルダ移動装置により、露光位置の上空に支持されている。マスクホルダ移動装置は、支柱30a、ガイドベース30b、Yガイド33、Y移動ブロック34、及びホルダベース35を含んで構成されている。図1及び図2において、ガイドベース30bは、支柱30aにより、Xステージ5の移動範囲をまたいで、ベース3の上方に設けられている。Y移動ブロック34は、ガイドベース30bに設けられたYガイド33に搭載され、Yガイド33に沿ってY方向へ移動する。ホルダベース35は、Y移動ブロック34に取り付けられ、Y移動ブロック34の移動によりY方向へ移動される。Y移動ブロック34は、ボールねじ及びモータや、リニアモータ等の図示しない移動機構により移動される。マスクホルダ20には、3本のチルト用腕24が取り付けられており、各チルト用腕24は、ホルダベース35に設けられたZ−チルト機構25により支持されている。
Xステージ5のX方向への移動及びYステージ7のY方向への移動により、チャック10は、ロード/アンロード位置と露光位置との間を移動される。ロード/アンロード位置において、Xステージ5のX方向への移動、Yステージ7のY方向への移動、及びθステージ8のθ方向への回転により、チャック10に搭載された基板1のプリアライメントが行われる。露光位置において、Xステージ5のX方向への移動、またはホルダベース35のY方向への移動により、基板1の露光領域が変更される。そして、Xステージ5のX方向への移動、Yステージ7のY方向への移動、及びθステージ8のθ方向への回転により、基板1のアライメントが行われる。また、Z−チルト機構25によりマスクホルダ20をZ方向(図2の図面上下方向)へ移動及びチルトすることにより、マスク2と基板1とのギャップ合わせが行われる。
なお、本実施の形態では、マスクホルダ20をZ方向へ移動及びチルトすることにより、マスク2と基板1とのギャップ合わせを行っているが、チャック支持台9にZ−チルト機構を設けて、チャック10をZ方向へ移動及びチルトすることにより、マスク2と基板1とのギャップ合わせを行ってもよい。
図3は、基板の露光領域の一例を示す図である。図3は、基板1の一面を破線で示した4つの露光領域1a,1b,1c,1dに分けて露光する例を示している。本発明は、これに限らず、基板の一面を3つ又は5つ以上の露光領域に分けて露光する場合にも適用される。
以下、本発明の一実施の形態によるプロキシミティ露光装置の露光領域変更方法について説明する。図4〜図7は、本発明の一実施の形態によるプロキシミティ露光装置の露光領域変更方法を説明する図である。図4は、図3に示した基板1の露光領域1aを露光する場合を示している。本実施の形態では、Xステージ5によりチャック10をX方向へ移動して、基板1の露光領域を1aから1bへ変更する。図5は、図3に示した基板1の露光領域1bを露光する場合を示している。
さらに、本実施の形態では、マスクホルダ移動装置によりマスクホルダ20をY方向へ移動して、基板1の露光領域を1bから1cへ変更する。図6は、図3に示した基板1の露光領域1cを露光する場合を示している。そして、本実施の形態では、Xステージ5によりチャック10をX方向へ移動して、基板1の露光領域を1cから1dへ変更する。図7は、図3に示した基板1の露光領域1dを露光する場合を示している。
図8は、露光領域変更時の基板及びマスクの移動量を示す図である。図8(a)は、図3に示した基板1の露光領域1aを露光する場合の基板1及びマスク2の位置を示し、図8(b)は、図3に示した基板1の露光領域1bを露光する場合の基板1及びマスク2の位置を示している。図8(a),(b)に示す様に、基板1の露光領域を1aから1bへ変更する際、実線で示す基板1はX方向へX0だけ移動される。
図8(c)は、図3に示した基板1の露光領域1cを露光する場合の基板1及びマスク2の位置を示している。図8(b),(c)に示す様に、基板1の露光領域を1bから1cへ変更する際、破線で示すマスク2はY方向へY0だけ移動される。このとき、マスク2より大きな基板1をY方向へ移動する必要が無く、マスク2がマスク2より大きな基板1の上方でY方向へ移動される。従って、露光装置のY方向の寸法を小さくすることができる。
なお、長方形の基板に対し、長方形の長辺又は短辺のどちらをX方向とし、どちらをY方向とするかは、Xステージ5及びマスクホルダ移動装置の構造的な強度と荷重の違いによる移動速度の違いを考慮して、移動時間が短くなる様に決定することができる。
以上説明した実施の形態によれば、基板1を支持するチャック10と、マスク2を保持するマスクホルダ20と、チャック10を移動するXステージ5と、マスクホルダ20を移動するマスクホルダ移動装置とを設け、Xステージ5によりチャック10をX方向へ移動して、基板1の露光領域のX方向への変更を行い、マスクホルダ移動装置によりマスクホルダ20をY方向へ移動して、基板1の露光領域のY方向への変更を行うことにより、マスク2より大きな基板1の一面を複数の露光領域に分けて露光するプロキシミティ露光装置のY方向の寸法を小さくして、プロキシミティ露光装置を小型化することができる。
図9は、本発明の他の実施の形態によるプロキシミティ露光装置の上面図である。また、図10は、本発明の他の実施の形態によるプロキシミティ露光装置の側面図である。本実施の形態のマスクホルダ移動装置は、ガイドベース30b、Xガイド31、X移動バー32、Yガイド33、Y移動ブロック34、及びホルダベース35を含んで構成されている。その他の構成要素は、図1及び図2に示した実施の形態と同様である。
図9において、ガイドベース30bは、Xステージ5の移動範囲を挟んで、ベース3上に設けられている。X移動バー32は、ガイドベース30bに設けられたXガイド31に搭載され、Xステージ5の移動範囲をまたいで、Xガイド31に沿ってX方向へ移動する。Y移動ブロック34は、X移動バー32に設けられたYガイド33に搭載され、Yガイド33に沿ってY方向へ移動する。ホルダベース35は、Y移動ブロック34に取り付けられ、X移動バー32の移動によりX方向へ移動され、Y移動ブロック34の移動によりY方向へ移動される。X移動バー32及びY移動ブロック34は、ボールねじ及びモータや、リニアモータ等の図示しない移動機構により移動される。
以下、本発明の他の実施の形態によるプロキシミティ露光装置の露光領域変更方法について説明する。図11〜図14は、本発明の他の実施の形態によるプロキシミティ露光装置の露光領域変更方法を説明する図である。図11は、図3に示した基板1の露光領域1aを露光する場合を示している。本実施の形態では、Xステージ5によりチャック10をX方向へ移動し、かつ、マスクホルダ移動装置によりマスクホルダ20をチャック10の移動方向と逆方向へ移動して、基板1の露光領域を1aから1bへ変更する。図12は、図3に示した基板1の露光領域1bを露光する場合を示している。
さらに、本実施の形態では、Yステージ7によりチャック10をY方向へ移動し、かつ、マスクホルダ移動装置によりマスクホルダ20をチャック10の移動方向と逆方向へ移動して、基板1の露光領域を1bから1cへ変更する。図13は、図3に示した基板1の露光領域1cを露光する場合を示している。そして、本実施の形態では、Xステージ5によりチャック10をX方向へ移動し、かつ、マスクホルダ移動装置によりマスクホルダ20をチャック10の移動方向と逆方向へ移動して、基板1の露光領域を1cから1dへ変更する。図14は、図3に示した基板1の露光領域1dを露光する場合を示している。
図15〜図17は、露光領域変更時の基板及びマスクの移動量を示す図である。図15〜図17は、図11〜図14において、Xステージ5又はYステージ7の移動量と、マスクホルダ移動装置の移動量とを同じにした例を示している。図15(a)は、図3に示した基板1の露光領域1aを露光する場合の基板1及びマスク2の位置を示し、図15(b)は、図3に示した基板1の露光領域1bを露光する場合の基板1及びマスク2の位置を示している。図15に示す様に、基板1の露光領域を1aから1bへ変更する際、破線で示すマスク2はX方向へX1だけ移動され、実線で示す基板1は逆方向へX1だけ移動される。
図16(a)は、図3に示した基板1の露光領域1bを露光する場合の基板1及びマスク2の位置を示し、図16(b)は、図3に示した基板1の露光領域1cを露光する場合の基板1及びマスク2の位置を示している。図16に示す様に、基板1の露光領域を1bから1cへ変更する際、実線で示す基板1はY方向へY1だけ移動され、破線で示すマスク2は逆方向へY1だけ移動される。
図17(a)は、図3に示した基板1の露光領域1cを露光する場合の基板1及びマスク2の位置を示し、図17(b)は、図3に示した基板1の露光領域1dを露光する場合の基板1及びマスク2の位置を示している。図17に示す様に、基板1の露光領域を1cから1dへ変更する際、実線で示す基板1はX方向へX1だけ移動され、破線で示すマスク2は逆方向へX1だけ移動される。
図15〜図17に示した例の場合、基板1の移動量は、従来のマスク2が移動されない場合の半分で済み、マスク2の移動量も、基板1の移動量と同じで済む。従って、露光領域の変更に必要なXステージ5又はYステージ7の移動量及びマスクホルダ移動装置の移動量が少なく済み、露光装置を小型化することができる。
さらに、本実施の形態では、Xステージ5又はYステージ7によるチャック10の移動と、マスクホルダ移動装置によるマスクホルダ20の移動とを並行して行う。露光領域の変更に必要なXステージ5又はYステージ7の移動量及びマスクホルダ移動装置の移動量が少なく済み、かつ、両者の移動を並行して行うので、露光領域の変更が短時間に行われる。
なお、図15〜図17では、Xステージ5又はYステージ7の移動量と、マスクホルダ移動装置の移動量とを同じにした例を示したが、両者の移動量は、Xステージ5、Yステージ7、及びマスクホルダ移動装置の構造的な強度と荷重の違いによる移動速度の違いを考慮して、移動時間が最短となる様に決定することができる。
以上説明した実施の形態によれば、基板1を支持するチャック10と、マスク2を保持するマスクホルダ20と、チャック10をXY方向へ移動するXステージ5及びYステージ7と、マスクホルダ20をXY方向へ移動するマスクホルダ移動装置とを設け、Xステージ5又はYステージ7によりチャック10をXY方向へ移動し、かつ、マスクホルダ移動装置によりマスクホルダ20をチャック10の移動方向と逆方向へ移動して、基板1の露光領域を変更することにより、基板1の一面を複数の露光領域に分けて露光するプロキシミティ露光装置を小型化することができる。
さらに、Xステージ5又はYステージ7によるチャック10の移動と、マスクホルダ移動装置によるマスクホルダ20の移動とを並行して行うことにより、基板1の一面を複数の露光領域に分けて露光する際、露光領域の変更を短時間に行うことができる。
本発明のプロキシミティ露光装置を用いて基板の露光を行い、あるいは、本発明のプロキシミティ露光装置の露光領域変更方法を用いて露光領域を変更して、基板の露光を行うことにより、露光領域の変更を短時間に行うことができるので、タクトタイムを短縮して、表示用パネル基板を高いスループットで製造することができる。
例えば、図18は、液晶ディスプレイ装置のTFT基板の製造工程の一例を示すフローチャートである。薄膜形成工程(ステップ101)では、スパッタ法やプラズマ化学気相成長(CVD)法等により、基板上に液晶駆動用の透明電極となる導電体膜や絶縁体膜等の薄膜を形成する。レジスト塗布工程(ステップ102)では、ロール塗布法等により感光樹脂材料(フォトレジスト)を塗布して、薄膜形成工程(ステップ101)で形成した薄膜上にフォトレジスト膜を形成する。露光工程(ステップ103)では、プロキシミティ露光装置や投影露光装置等を用いて、マスクのパターンをフォトレジスト膜に転写する。現像工程(ステップ104)では、シャワー現像法等により現像液をフォトレジスト膜上に供給して、フォトレジスト膜の不要部分を除去する。エッチング工程(ステップ105)では、ウエットエッチングにより、薄膜形成工程(ステップ101)で形成した薄膜の内、フォトレジスト膜でマスクされていない部分を除去する。剥離工程(ステップ106)では、エッチング工程(ステップ105)でのマスクの役目を終えたフォトレジスト膜を、剥離液によって剥離する。これらの各工程の前又は後には、必要に応じて、基板の洗浄/乾燥工程が実施される。これらの工程を数回繰り返して、基板上にTFTアレイが形成される。
また、図19は、液晶ディスプレイ装置のカラーフィルタ基板の製造工程の一例を示すフローチャートである。ブラックマトリクス形成工程(ステップ201)では、レジスト塗布、露光、現像、エッチング、剥離等の処理により、基板上にブラックマトリクスを形成する。着色パターン形成工程(ステップ202)では、染色法、顔料分散法、印刷法、電着法等により、基板上に着色パターンを形成する。この工程を、R、G、Bの着色パターンについて繰り返す。保護膜形成工程(ステップ203)では、着色パターンの上に保護膜を形成し、透明電極膜形成工程(ステップ204)では、保護膜の上に透明電極膜を形成する。これらの各工程の前、途中又は後には、必要に応じて、基板の洗浄/乾燥工程が実施される。
図18に示したTFT基板の製造工程では、露光工程(ステップ103)において、図19に示したカラーフィルタ基板の製造工程では、ブラックマトリクス形成工程(ステップ201)及び着色パターン形成工程(ステップ202)の露光処理において、本発明のプロキシミティ露光装置又は本発明のプロキシミティ露光装置の露光領域変更方法を適用することができる。
1 基板
2 マスク
3 ベース
4 Xガイド
5 Xステージ
6 Yガイド
7 Yステージ
8 θステージ
9 チャック支持台
10 チャック
20 マスクホルダ
21 負圧ガラス
24 チルト用腕
25 Z−チルト機構
30a 支柱
30b ガイドベース
31 Xガイド
32 X移動バー
33 Yガイド
34 Y移動ブロック
35 ホルダベース
2 マスク
3 ベース
4 Xガイド
5 Xステージ
6 Yガイド
7 Yステージ
8 θステージ
9 チャック支持台
10 チャック
20 マスクホルダ
21 負圧ガラス
24 チルト用腕
25 Z−チルト機構
30a 支柱
30b ガイドベース
31 Xガイド
32 X移動バー
33 Yガイド
34 Y移動ブロック
35 ホルダベース
Claims (8)
- マスクより大きな基板の一面を複数の露光領域に分けて露光するプロキシミティ露光装置において、
基板を支持するチャックと、
マスクを保持するマスクホルダと、
前記チャックを移動するステージと、
前記マスクホルダを移動するマスクホルダ移動装置とを備え、
前記ステージは、前記チャックをX方向(又はY方向)へ移動して、基板の露光領域のX方向(又はY方向)への変更を行い、前記マスクホルダ移動装置は、前記マスクホルダをY方向(又はX方向)へ移動して、基板の露光領域のY方向(又はX方向)への変更を行うことを特徴とするプロキシミティ露光装置。 - 基板の一面を複数の露光領域に分けて露光するプロキシミティ露光装置において、
基板を支持するチャックと、
マスクを保持するマスクホルダと、
前記チャックをXY方向へ移動するステージと、
前記マスクホルダをXY方向へ移動するマスクホルダ移動装置とを備え、
前記ステージ及び前記マスクホルダ移動装置は、前記チャック及び前記マスクホルダを互いに逆方向へ移動して、基板の露光領域を変更することを特徴とするプロキシミティ露光装置。 - 前記ステージ及び前記マスクホルダ移動装置は、前記チャックの移動及び前記マスクホルダの移動を並行して行うことを特徴とする請求項2に記載のプロキシミティ露光装置。
- マスクより大きな基板の一面を複数の露光領域に分けて露光するプロキシミティ露光装置の露光領域変更方法であって、
基板を支持するチャックと、
マスクを保持するマスクホルダと、
チャックを移動するステージと、
マスクホルダを移動するマスクホルダ移動装置とを設け、
ステージによりチャックをX方向(又はY方向)へ移動して、基板の露光領域のX方向(又はY方向)への変更を行い、マスクホルダ移動装置によりマスクホルダをY方向(又はX方向)へ移動して、基板の露光領域のY方向(又はX方向)への変更を行うことを特徴とするプロキシミティ露光装置の露光領域変更方法。 - 基板の一面を複数の露光領域に分けて露光するプロキシミティ露光装置の露光領域変更方法であって、
基板を支持するチャックと、
マスクを保持するマスクホルダと、
チャックをXY方向へ移動するステージと、
マスクホルダをXY方向へ移動するマスクホルダ移動装置とを設け、
ステージによりチャックをXY方向へ移動し、かつ、マスクホルダ移動装置によりマスクホルダをチャックの移動方向と逆方向へ移動して、基板の露光領域を変更することを特徴とするプロキシミティ露光装置の露光領域変更方法。 - ステージによるチャックの移動と、マスクホルダ移動装置によるマスクホルダの移動とを並行して行うことを特徴とする請求項5に記載のプロキシミティ露光装置の露光領域変更方法。
- 請求項3に記載のプロキシミティ露光装置を用いて基板の露光を行うことを特徴とする表示用パネル基板の製造方法。
- 請求項6に記載のプロキシミティ露光装置の露光領域変更方法を用いて露光領域を変更して、基板の露光を行うことを特徴とする表示用パネル基板の製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2009197563A JP2011048209A (ja) | 2009-08-28 | 2009-08-28 | プロキシミティ露光装置、プロキシミティ露光装置の露光領域変更方法、及び表示用パネル基板の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2009197563A JP2011048209A (ja) | 2009-08-28 | 2009-08-28 | プロキシミティ露光装置、プロキシミティ露光装置の露光領域変更方法、及び表示用パネル基板の製造方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2011048209A true JP2011048209A (ja) | 2011-03-10 |
Family
ID=43834583
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2009197563A Pending JP2011048209A (ja) | 2009-08-28 | 2009-08-28 | プロキシミティ露光装置、プロキシミティ露光装置の露光領域変更方法、及び表示用パネル基板の製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2011048209A (ja) |
Citations (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS61226924A (ja) * | 1985-04-01 | 1986-10-08 | Canon Inc | 露光装置 |
JPH0845823A (ja) * | 1994-08-03 | 1996-02-16 | Sony Corp | 露光装置およびその方法 |
JPH11121365A (ja) * | 1997-10-17 | 1999-04-30 | Nikon Corp | 露光装置及び露光方法 |
JPH11237744A (ja) * | 1997-12-18 | 1999-08-31 | Sanee Giken Kk | 露光装置および露光方法 |
JP2000292942A (ja) * | 1999-04-06 | 2000-10-20 | Adtec Engineeng Co Ltd | 露光装置及び露光方法 |
JP2007052239A (ja) * | 2005-08-18 | 2007-03-01 | V Technology Co Ltd | 露光装置 |
JP2007193296A (ja) * | 2005-12-19 | 2007-08-02 | Nsk Ltd | 露光装置及び露光方法 |
-
2009
- 2009-08-28 JP JP2009197563A patent/JP2011048209A/ja active Pending
Patent Citations (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS61226924A (ja) * | 1985-04-01 | 1986-10-08 | Canon Inc | 露光装置 |
JPH0845823A (ja) * | 1994-08-03 | 1996-02-16 | Sony Corp | 露光装置およびその方法 |
JPH11121365A (ja) * | 1997-10-17 | 1999-04-30 | Nikon Corp | 露光装置及び露光方法 |
JPH11237744A (ja) * | 1997-12-18 | 1999-08-31 | Sanee Giken Kk | 露光装置および露光方法 |
JP2000292942A (ja) * | 1999-04-06 | 2000-10-20 | Adtec Engineeng Co Ltd | 露光装置及び露光方法 |
JP2007052239A (ja) * | 2005-08-18 | 2007-03-01 | V Technology Co Ltd | 露光装置 |
JP2007193296A (ja) * | 2005-12-19 | 2007-08-02 | Nsk Ltd | 露光装置及び露光方法 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP4863948B2 (ja) | 露光装置、露光方法、及び表示用パネル基板の製造方法 | |
JP2010128079A (ja) | プロキシミティ露光装置、プロキシミティ露光装置の基板支持方法、及び表示用パネル基板の製造方法 | |
JP5219599B2 (ja) | プロキシミティ露光装置、プロキシミティ露光装置の基板吸着方法、及び表示用パネル基板の製造方法 | |
JP4799172B2 (ja) | 露光装置、露光方法、及び表示用パネル基板の製造方法 | |
JP2007171723A (ja) | 露光装置、露光方法、及び表示用パネル基板の製造方法 | |
KR101084620B1 (ko) | 프록시미티 노광 장치, 그 마스크 반송 방법 및 패널 기판의 제조 방법 | |
JP2010093265A (ja) | 処理液供給ユニットとこれを利用した基板処理装置及び方法 | |
JP5334675B2 (ja) | プロキシミティ露光装置、プロキシミティ露光装置のマスクの位置ずれ防止方法、及び表示用パネル基板の製造方法 | |
JP2009258195A (ja) | プロキシミティ露光装置、プロキシミティ露光装置の基板移動方法、及び表示用パネル基板の製造方法 | |
JP5339745B2 (ja) | 露光装置、露光方法、及び表示用パネル基板の製造方法 | |
JP2011003605A (ja) | プロキシミティ露光装置、プロキシミティ露光装置のアライメント方法、及び表示用パネル基板の製造方法 | |
JP5052438B2 (ja) | プロキシミティ露光装置、プロキシミティ露光装置の基板搬送方法、及び表示用パネル基板の製造方法 | |
JP2013205709A (ja) | 露光装置 | |
JP5392946B2 (ja) | プロキシミティ露光装置、プロキシミティ露光装置のマスク搬送方法、及び表示用パネル基板の製造方法 | |
JP5320552B2 (ja) | プロキシミティ露光装置、プロキシミティ露光装置のマスク保持方法、及び表示用パネル基板の製造方法 | |
JP2011048209A (ja) | プロキシミティ露光装置、プロキシミティ露光装置の露光領域変更方法、及び表示用パネル基板の製造方法 | |
JP2010160327A (ja) | プロキシミティ露光装置、プロキシミティ露光装置の基板位置決め方法、及び表示用パネル基板の製造方法 | |
JP5334674B2 (ja) | プロキシミティ露光装置、プロキシミティ露光装置のマスク装着方法、及び表示用パネル基板の製造方法 | |
JP2009282110A (ja) | プロキシミティ露光装置、プロキシミティ露光装置のチャック高さ調整方法、及び表示用パネル基板の製造方法 | |
JP2011123102A (ja) | プロキシミティ露光装置、プロキシミティ露光装置の基板温度調節方法、及び表示用パネル基板の製造方法 | |
JP5306020B2 (ja) | プロキシミティ露光装置、プロキシミティ露光装置の基板移動方法、及び表示用パネル基板の製造方法 | |
JP5441770B2 (ja) | プロキシミティ露光装置、プロキシミティ露光装置のギャップ制御方法、及び表示用パネル基板の製造方法 | |
JP5456620B2 (ja) | プロキシミティ露光装置、プロキシミティ露光装置の露光光照射方法、及び表示用パネル基板の製造方法 | |
JP5371859B2 (ja) | プロキシミティ露光装置、プロキシミティ露光装置の基板支持方法、及び表示用パネル基板の製造方法 | |
JP5047040B2 (ja) | プロキシミティ露光装置、プロキシミティ露光装置の基板移動方法、及び表示用パネル基板の製造方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20120131 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20130218 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20130226 |
|
A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20130625 |