JP5334675B2 - プロキシミティ露光装置、プロキシミティ露光装置のマスクの位置ずれ防止方法、及び表示用パネル基板の製造方法 - Google Patents
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Description
2 マスク
3 ベース
4 Xガイド
5 Xステージ
6 Yガイド
7 Yステージ
8 θステージ
9 チャック支持台
10 チャック
11 Z−チルト機構
20 マスクホルダ
21 吸着溝
22,25 エア通路
23 負圧ガラス
26,27,28 台
30 マスクリフタ
31 固定ベース
32 ガイド
33 移動ベース
34 移動用エアシリンダ
35 アームスタンド
36 アーム
40 引張コイルバネ
41 取り付けベース
42 昇降ガイド
43 昇降ベース
44 昇降用エアシリンダ
45 ローラスタンド
46 ローラ
50 基準ピンユニット
51 固定ベース
52 ガイド
53 移動ブロック
54 モータ
55 軸継手
56 軸受
57a ボールねじ
57b ナット
58 アーム
59 基準ピン
60 プレート
61 ガイド
70 押圧ピンユニット
71 固定ベース
73 移動ブロック
74 エアシリンダ
75 圧縮コイルバネ
78 アーム
79 押圧ピン
80 プレート
81 ガイド
82,85 方向制御弁
83a,83b 速度制御弁
84 レギュレータ
Claims (8)
- 基板を支持するチャックと、マスクを保持するマスクホルダと、基板のステップ移動及びアライメントを行うステージと、マスクと基板とのギャップ合わせを行う機構とを備え、マスクと基板との間に微小なギャップを設けて、マスクのパターンを基板へ転写するプロキシミティ露光装置において、
マスクを前記マスクホルダに押し当てるマスク装着手段と、
前記マスクホルダに押し当てられたマスクの側面を押して、マスクの位置決めを行う位置決め手段とを備え、
前記位置決め手段は、マスクの落下を防止する爪を有し、マスクの側面に接触して、マスクの位置を規制する複数の基準ピンと、マスクの落下を防止する爪を有し、マスクの基準ピンが接触する側面に向かい合う側面を押して、マスクを基準ピンに押し付ける複数の押圧ピンと、各押圧ピンをマスクの側面へ向けて押す複数の押圧機構とを備え、
前記複数の押圧機構は、マスクの位置決め後、マスクの位置決め時よりも小さい力で前記押圧ピンをマスクの側面へ向けて押すことを特徴とするプロキシミティ露光装置。 - 前記複数の押圧機構は、前記押圧ピンをマスクの側面へ向けて前進させるエアシリンダと、前記押圧ピンをマスクの側面へ向けて付勢する付勢手段とを有し、マスクの位置決め時、エアシリンダと付勢手段とにより、前記押圧ピンをマスクの側面へ向けて押し、マスクの位置決め後、エアシリンダ内の圧縮空気を開放し、付勢手段により、前記押圧ピンをマスクの側面へ向けて押すことを特徴とする請求項1に記載のプロキシミティ露光装置。
- 基板を支持するチャックと、マスクを保持するマスクホルダと、基板のステップ移動及びアライメントを行うステージと、マスクと基板とのギャップ合わせを行う機構とを備え、マスクと基板との間に微小なギャップを設けて、マスクのパターンを基板へ転写するプロキシミティ露光装置のマスクの位置ずれ防止方法であって、
マスクをマスクホルダに押し当て、
マスクの落下を防止する爪を有し、マスクの側面に接触して、マスクの位置を規制する複数の基準ピンと、マスクの落下を防止する爪を有し、マスクの基準ピンが接触する側面に向かい合う側面を押して、マスクを基準ピンに押し付ける複数の押圧ピンとを用い、複数の押圧ピンによりマスクの側面を押してマスクの位置決めを行い、
マスクの位置決め後、複数の押圧ピンによりマスクの位置決め時よりも小さい力でマスクの側面を押すことを特徴とするプロキシミティ露光装置のマスクの位置ずれ防止方法。 - マスクの位置決め時、押圧ピンをマスクの側面へ向けて前進させるエアシリンダと、押圧ピンをマスクの側面へ向けて付勢する付勢手段とを用いて、押圧ピンをマスクの側面へ向けて押し、
マスクの位置決め後、エアシリンダ内の圧縮空気を開放し、付勢手段を用いて、押圧ピンをマスクの側面へ向けて押すことを特徴とする請求項3に記載のプロキシミティ露光装置のマスクの位置ずれ防止方法。 - 請求項1又は請求項2に記載のプロキシミティ露光装置を用いて基板の露光を行うことを特徴とする表示用パネル基板の製造方法。
- マスクをマスクホルダに装着した後、基板の露光を開始する前に、基板のステップ移動、マスクと基板とのギャップ合わせ又は基板のアライメントを、マスクの位置が安定するまで行うことを特徴とする請求項5に記載の表示用パネル基板の製造方法。
- 請求項3又は請求項4に記載のプロキシミティ露光装置のマスクの位置ずれ防止方法を用いてマスクの位置ずれを防止しながら、基板の露光を行うことを特徴とする表示用パネル基板の製造方法。
- マスクをマスクホルダに装着した後、基板の露光を開始する前に、基板のステップ移動、マスクと基板とのギャップ合わせ又は基板のアライメントを、マスクの位置が安定するまで行うことを特徴とする請求項7に記載の表示用パネル基板の製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2009116191A JP5334675B2 (ja) | 2009-05-13 | 2009-05-13 | プロキシミティ露光装置、プロキシミティ露光装置のマスクの位置ずれ防止方法、及び表示用パネル基板の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2009116191A JP5334675B2 (ja) | 2009-05-13 | 2009-05-13 | プロキシミティ露光装置、プロキシミティ露光装置のマスクの位置ずれ防止方法、及び表示用パネル基板の製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2010266561A JP2010266561A (ja) | 2010-11-25 |
JP5334675B2 true JP5334675B2 (ja) | 2013-11-06 |
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ID=43363601
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2009116191A Expired - Fee Related JP5334675B2 (ja) | 2009-05-13 | 2009-05-13 | プロキシミティ露光装置、プロキシミティ露光装置のマスクの位置ずれ防止方法、及び表示用パネル基板の製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP5334675B2 (ja) |
Families Citing this family (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP5334674B2 (ja) * | 2009-05-13 | 2013-11-06 | 株式会社日立ハイテクノロジーズ | プロキシミティ露光装置、プロキシミティ露光装置のマスク装着方法、及び表示用パネル基板の製造方法 |
JP5577730B2 (ja) * | 2010-02-15 | 2014-08-27 | Nskテクノロジー株式会社 | 近接露光装置及び近接露光方法 |
KR101539153B1 (ko) | 2010-12-14 | 2015-07-23 | 가부시키가이샤 니콘 | 노광 방법 및 노광 장치, 그리고 디바이스 제조 방법 |
JP2013205764A (ja) * | 2012-03-29 | 2013-10-07 | Hitachi High-Technologies Corp | 露光装置 |
Family Cites Families (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0447720Y2 (ja) * | 1986-10-25 | 1992-11-11 | ||
JP3725671B2 (ja) * | 1997-08-08 | 2005-12-14 | 日立ハイテク電子エンジニアリング株式会社 | プロキシミティ露光装置及び方法並びに液晶ディスプレイの製造方法 |
JP3928232B2 (ja) * | 1997-12-24 | 2007-06-13 | ウシオ電機株式会社 | 露光装置におけるマスク保持装置 |
JP3571243B2 (ja) * | 1999-02-22 | 2004-09-29 | 日立ハイテク電子エンジニアリング株式会社 | プロキシミティ露光方法及び装置 |
JP3862131B2 (ja) * | 1999-10-14 | 2006-12-27 | 日本精工株式会社 | 近接露光装置 |
JP3936546B2 (ja) * | 2001-03-30 | 2007-06-27 | 株式会社日立ハイテクノロジーズ | 露光装置及びその装置における基板位置決め方法並びにフラットディスプレイパネルの製造方法 |
JP4812422B2 (ja) * | 2005-12-26 | 2011-11-09 | 株式会社日立ハイテクノロジーズ | 露光装置、露光方法、及び表示用パネル基板の製造方法 |
JP3919022B2 (ja) * | 2006-07-26 | 2007-05-23 | 日本精工株式会社 | 露光方法及びマスクの保持方法 |
JP5334674B2 (ja) * | 2009-05-13 | 2013-11-06 | 株式会社日立ハイテクノロジーズ | プロキシミティ露光装置、プロキシミティ露光装置のマスク装着方法、及び表示用パネル基板の製造方法 |
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2009
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Publication number | Publication date |
---|---|
JP2010266561A (ja) | 2010-11-25 |
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A621 | Written request for application examination |
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