JP2016218117A - 密着露光装置における密着方法 - Google Patents
密着露光装置における密着方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2016218117A JP2016218117A JP2015099558A JP2015099558A JP2016218117A JP 2016218117 A JP2016218117 A JP 2016218117A JP 2015099558 A JP2015099558 A JP 2015099558A JP 2015099558 A JP2015099558 A JP 2015099558A JP 2016218117 A JP2016218117 A JP 2016218117A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- exposed
- contact
- mask
- masks
- exposed member
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Images
Abstract
Description
空気溜まりが発生しないような形で表裏のマスク51a,51bを被露光部材6に密着させるためには、1段目の排気時間はある程度長くする必要があり、全面密着に要する所要時間が長くなってしまう。
1段目の排気圧V1から2段目の排気圧V2に切替えたとき、排気圧が階段状(デジタル的、離散的)に急激に変化するため、表裏のマスク51a,51b、被露光部材6に衝撃が加わり、この排気圧の切替わり部分に空気溜まりが発生してしまう場合があった。同様の問題は、2段目から3段目に切替える場合にも発生する。ただし、この場合は、マスク面積の50%以上が既に密着されているので、排気圧の2段目から3段目への切替わり部分で空気溜りが発生する可能性は低い。
図1において、1は被露光部材のベース部材となるステンレス、鋼板、黄銅、アルミニウム等の帯状の金属薄板のコイル3を装着した巻戻機であり、モータ1aによって所定値のバックテンションが与えられている。巻戻機1から巻戻されたベース部材2は、テンションレベラー4に供給され、このテンションレベラー4によって繰返し曲げ応力を与えられて、巻癖が矯正される。
図4,図5は、両面露光部8の正面図、側面図である。図4,図5に示したように、表裏のマスク51a,51bを真空チャックで支持する表裏のフレーム52a,52bは、それぞれ表裏のテーブルTa,Tbに固着されている。また、表テーブルTaの4隅には、排気開始位置決め用のアクチュエータ59a,59b,59c,59dが設けられている。さらに、これらアクチュエータ59a,59b,59c,59dと対向する裏テーブルTbの位置には、それぞれストッパ60a,60b,60c,60dが設けられている。なお、アクチュエータ59a,59b,59c,59dしては、その駆動軸が数100kgの押圧力に耐え得るものが使用されている。
表裏のフレーム52a,52bには、表裏のマスク51a,51bの落下を防止する為のマスク落下防止機構58a、58bがそれぞれ設けられている。表裏のマスク落下防止機構58a,58bは、表裏のマスク51a,51bの各一方の対角線上の一対の角を支持可能に設けられている。表のフレーム52aに設けられた表のマスク落下防止機構58aと裏のフレーム52bに設けられた裏のマスク落下防止機構58bとは対向しないように互い違いに配置される。また、表裏のマスク51a,51bの角部のマスク落下防止機構58a,58bと対向する箇所には切欠き70a,70bが形成されている。これにより、フレーム52a,52bからマスク51a,51bが外れた際に脱落するのを防止する。また、表裏のフレーム52a,52bが互いに接近し、表裏のマスク51a,51bが密着した場合にも表のマスク落下防止機構58aと裏のマスク51b、及び裏のマスク落下防止機構58bと表のマスク51aとが干渉するのを防止することができる。
30:コントローラ
51a:表マスク
51b:裏マスク
52a:表フレーム
52b:裏フレーム
53a,53b:密閉用パッキン
54a,54b,55a,55b:チャック用パッキン
58a,58b:マスク落下防止機構
59a,59b,59c,59d:アクチュエータ
60a,60b,60c,60d:ストッパ
65:電磁弁
66:電空レギュレータ
67:真空ポンプ
70a,70b:切欠き(マスク)
L:密閉室
Ta,Tb:テーブル
Claims (1)
- 密閉室内でフォトマスクとフォトマスク落下防止機構と被露光部材との間にそれぞれ微小隙間が形成された状態でフォトマスク保持用のフレームの移動を強制的に抑止し、その移動抑止状態で前記密閉室の空気を排気することにより、前記フォトマスクを撓ませてその中央部から前記被露光部材に密着させ始め、その後、前記フレームの移動抑止を解除することにより、撓んでいた前記フォトマスクが元の形状に復元する過程で前記被露光部材との密着面積が順次周辺部に拡大していくように構成したことを特徴とする密着露光装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2015099558A JP6535211B2 (ja) | 2015-05-15 | 2015-05-15 | 密着露光装置における密着方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2015099558A JP6535211B2 (ja) | 2015-05-15 | 2015-05-15 | 密着露光装置における密着方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2016218117A true JP2016218117A (ja) | 2016-12-22 |
JP6535211B2 JP6535211B2 (ja) | 2019-06-26 |
Family
ID=57578849
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2015099558A Active JP6535211B2 (ja) | 2015-05-15 | 2015-05-15 | 密着露光装置における密着方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP6535211B2 (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2019164236A (ja) * | 2018-03-19 | 2019-09-26 | 新電元工業株式会社 | 半導体装置の製造方法、及び、遮光性吸着治具 |
Citations (12)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0749575A (ja) * | 1993-06-02 | 1995-02-21 | Sanee Giken Kk | 露光における位置合わせ方法および装置 |
JPH0943861A (ja) * | 1995-08-02 | 1997-02-14 | Dainippon Screen Mfg Co Ltd | 対向プレートの位置合わせ方法と位置合わせ装置 |
JPH10333337A (ja) * | 1997-04-01 | 1998-12-18 | Okamoto Giken:Kk | 露光装置 |
JPH11109645A (ja) * | 1997-10-07 | 1999-04-23 | Nippon Seiko Kk | 密着式露光装置のマスク密着方法 |
JPH11186139A (ja) * | 1997-12-24 | 1999-07-09 | Ushio Inc | 露光装置におけるマスク保持装置 |
JP2000235266A (ja) * | 1998-12-18 | 2000-08-29 | Nsk Ltd | 密着露光装置における密着方法 |
JP2002270486A (ja) * | 2001-03-09 | 2002-09-20 | Orc Mfg Co Ltd | 基板露光装置およびその使用方法 |
JP2004029063A (ja) * | 2002-06-21 | 2004-01-29 | Adtec Engineeng Co Ltd | 密着型露光装置 |
JP2006258929A (ja) * | 2005-03-15 | 2006-09-28 | Nsk Ltd | 露光装置のマスク密着方法 |
JP2008216798A (ja) * | 2007-03-06 | 2008-09-18 | Fujifilm Corp | カラーフィルタのパターン露光方法及び装置 |
WO2009034770A1 (ja) * | 2007-09-12 | 2009-03-19 | Hitachi Via Mechanics, Ltd. | 密着露光の方法及びその装置 |
JP2014026085A (ja) * | 2012-07-26 | 2014-02-06 | Fujifilm Corp | マスクユニット及び露光装置 |
-
2015
- 2015-05-15 JP JP2015099558A patent/JP6535211B2/ja active Active
Patent Citations (12)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0749575A (ja) * | 1993-06-02 | 1995-02-21 | Sanee Giken Kk | 露光における位置合わせ方法および装置 |
JPH0943861A (ja) * | 1995-08-02 | 1997-02-14 | Dainippon Screen Mfg Co Ltd | 対向プレートの位置合わせ方法と位置合わせ装置 |
JPH10333337A (ja) * | 1997-04-01 | 1998-12-18 | Okamoto Giken:Kk | 露光装置 |
JPH11109645A (ja) * | 1997-10-07 | 1999-04-23 | Nippon Seiko Kk | 密着式露光装置のマスク密着方法 |
JPH11186139A (ja) * | 1997-12-24 | 1999-07-09 | Ushio Inc | 露光装置におけるマスク保持装置 |
JP2000235266A (ja) * | 1998-12-18 | 2000-08-29 | Nsk Ltd | 密着露光装置における密着方法 |
JP2002270486A (ja) * | 2001-03-09 | 2002-09-20 | Orc Mfg Co Ltd | 基板露光装置およびその使用方法 |
JP2004029063A (ja) * | 2002-06-21 | 2004-01-29 | Adtec Engineeng Co Ltd | 密着型露光装置 |
JP2006258929A (ja) * | 2005-03-15 | 2006-09-28 | Nsk Ltd | 露光装置のマスク密着方法 |
JP2008216798A (ja) * | 2007-03-06 | 2008-09-18 | Fujifilm Corp | カラーフィルタのパターン露光方法及び装置 |
WO2009034770A1 (ja) * | 2007-09-12 | 2009-03-19 | Hitachi Via Mechanics, Ltd. | 密着露光の方法及びその装置 |
JP2014026085A (ja) * | 2012-07-26 | 2014-02-06 | Fujifilm Corp | マスクユニット及び露光装置 |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2019164236A (ja) * | 2018-03-19 | 2019-09-26 | 新電元工業株式会社 | 半導体装置の製造方法、及び、遮光性吸着治具 |
JP7030581B2 (ja) | 2018-03-19 | 2022-03-07 | 新電元工業株式会社 | 半導体装置の製造方法、及び、遮光性吸着治具 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP6535211B2 (ja) | 2019-06-26 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
KR101539153B1 (ko) | 노광 방법 및 노광 장치, 그리고 디바이스 제조 방법 | |
JP2020112695A (ja) | 露光装置、露光方法および、物品製造方法 | |
JP2016111343A (ja) | 基板保持装置、リソグラフィ装置、及び物品の製造方法 | |
JP6663982B2 (ja) | リソグラフィ装置及びデバイス製造の方法 | |
JP2016218117A (ja) | 密着露光装置における密着方法 | |
JP6142450B2 (ja) | 密着露光装置及び密着露光方法 | |
JP2000235266A (ja) | 密着露光装置における密着方法 | |
JP2011023425A (ja) | ステージ装置、露光装置及びデバイス製造方法 | |
JP4407333B2 (ja) | 帯状ワークの露光装置 | |
JP6833350B2 (ja) | 保持装置、搬送装置、リソグラフィ装置、および物品の製造方法 | |
JP5682832B2 (ja) | 搬送装置 | |
JP4685041B2 (ja) | ステージ装置、露光装置及びデバイス製造方法 | |
JP5956938B2 (ja) | 半導体製造装置および半導体装置の製造方法 | |
JP2006258929A (ja) | 露光装置のマスク密着方法 | |
TW201306165A (zh) | 校準裝置及校準方法 | |
KR100426991B1 (ko) | 밀착노광장치에서의 포토마스크 밀착방법 | |
JP2006210426A (ja) | 露光装置 | |
JP2010078921A (ja) | マスク及び露光方法並びにデバイス製造方法 | |
JP2011114314A (ja) | 基板保持装置、ステージ装置、露光装置及びデバイス製造方法 | |
JP2019200381A (ja) | 露光装置 | |
JP3344400B2 (ja) | スキャン型露光装置およびスキャン式露光方法 | |
JP2006041012A (ja) | ステージ装置、露光装置、及び露光方法 | |
JP2000031019A (ja) | マスクおよび露光装置 | |
JP2010245222A (ja) | 露光装置、及びそれを用いたデバイスの製造方法 | |
JP6294636B2 (ja) | 原版保持装置、露光装置、物品の製造方法、および原版保持方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20180213 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20190116 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20190129 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20190311 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20190514 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20190531 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 6535211 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |