JP6535211B2 - 密着露光装置における密着方法 - Google Patents

Description

本発明は、シャドウマスク、リードフレーム等の製造工程において、レジスト剤を塗布した被露光部材に所定のパターンが形成されたフォトマスクを密着して露光する露光装置に関し、特にフォトマスクと被露光部材とを真空吸着により密着させる真空密着技術に関する。

従来、シャドウマスク、リードフレーム等の製造に用いられる露光装置では、一般に、両面密着露光が行われ、フォトマスクと被露光部材との密着方式としては、フォトマスクと被露光部材とを密閉する密閉室を形成し、その密閉室の空気を排気して真空状態にする過程でフォトマスクと被露光部材とを密着させる真空吸着方式が採られている。

すなわち、図１２に示したように、表側の硝子マスク（以下、表マスクという）５１ａを保持する表側のマスク保持フレーム（以下、表フレームという）５２ａと、裏側の硝子マスク（以下、裏マスクという）５１ｂを保持する裏側のマスク保持フレーム（以下、裏フレームという）５２ｂの外周部には、それぞれ密閉された真空室（密閉室）Ｌを形成するための密閉用パッキン５３ａ，３ｂが取付けられている。また、表フレーム５２ａの上記密閉用パッキン５３ａよりも内周位置には、表マスク１ａを真空チャックで保持するためのチャック用パッキン５４ａ，５５ａが取付けられ、同様に裏フレーム５２ｂの上記密閉用パッキン５３ｂよりも内周位置には、裏マスク１ｂを真空チャックで保持するためのチャック用パッキン５４ｂ，５５ｂが取付けられている。

そして、表フレーム５２ａには、被露光部材６の両面に表裏のマスク５１ａ，５１ｂを真空吸着により密着させるべく排気を行うための密着用排気口５６と、表マスク５１ａを表フレーム５２ａに真空チャックで保持すべく排気を行うためのチャック用排気口５７ａが形成されている。また、裏フレーム５２ｂには、裏マスク５１ｂを裏フレーム５２ｂに真空チャックで保持すべく排気を行うためのチャック用排気口５７ｂが形成されている。

このような構成の下で密着露光を行うときは、所定の駆動機構により表裏のマスク５１ａ，５１ｂを、それぞれ表裏のフレーム５２ａ，５２ｂにより保持した状態で被露光部材６に接近させ、密閉用パッキン５３ａ，５３ｂが接触して密閉室Ｌが形成された段階で密着用排気口５６を介して密閉室内の空気を排気する。すると、密閉室を狭くするような力が働くので、密閉用パッキン５３ａ，５３ｂが弾性変形し、表裏のマスク５１ａ，５１ｂがそれぞれ被露光部材６に密着する。

この際、表裏のマスク５１ａ，５１ｂと被露光部材６との間に空気溜りが発生すると、表裏のマスク５１ａ，５１ｂに形成されたパターンを露光する際に被露光部材６に正確に転写することができなくなっしまう。また、密着に要する時間を極力短縮することも望まれている。

そこで、表裏のマスク５１ａ，５１ｂと被露光部材６との間に空気溜りが発生しないような形で迅速に密着させるため、図１３に示したように排気圧を制御していた。すなわち、最初の段階（１段目）では、非常に低い排気圧Ｖ１で長い長時間ｔ１だけ排気し、次の段階（２段目）では、排気圧（真空圧）Ｖ１より高圧の排気圧（真空圧）Ｖ２で短い時間ｔ２だけ排気し、次の段階（３段目）では、排気圧Ｖ２より高圧の排気圧（真空圧）Ｖ３で露光終了まで（ｔ３）排気していた。

特開平１１−１０９６４５号公報

しかし、従来の密着技術では下記の問題があった。すなわち、密閉室を形成する密閉用パッキン５３ａ，５３ｂの弾性が劣化した場合は、各段での排気圧等の制御条件が変化するため、その変化に応じて制御内容を変更する必要があった。
空気溜まりが発生しないような形で表裏のマスク５１ａ，５１ｂを被露光部材６に密着させるためには、１段目の排気時間はある程度長くする必要があり、全面密着に要する所要時間が長くなってしまう。
１段目の排気圧Ｖ１から２段目の排気圧Ｖ２に切替えたとき、排気圧が階段状（デジタル的、離散的）に急激に変化するため、表裏のマスク５１ａ，５１ｂ、被露光部材６に衝撃が加わり、この排気圧の切替わり部分に空気溜まりが発生してしまう場合があった。同様の問題は、２段目から３段目に切替える場合にも発生する。ただし、この場合は、マスク面積の５０％以上が既に密着されているので、排気圧の２段目から３段目への切替わり部分で空気溜りが発生する可能性は低い。

この排気圧の切替わり部分での空気溜まりを除去するために、２段目の排気時間、および３段目の排気開始から露光開始までの時間を長くすることが考えられるが、それでは密着所要時間の短縮化という要請に反してしまう。なお、従来の密着所要時間４０ｓｅｃ程度を２０ｓｅｃ以下に短縮することが望まれている。

また、排気圧の変化段数を多くして各段間の排気圧差を小さくすることにより、排気圧の切替わり部分で空気溜まりそのものが極力発生しないようにすることも考えられる。しかし、最終段では真空度が約７００ｍｍＨｇになるまで排気する必要があるため、この方式では排気圧の切替段数が多くなり、高精度に排気圧を制御する必要があるので、コスト高を招いてしまう。また、この場合でも各段間の排気圧差が小さくなったとは言え、依然として排気圧はデジタル的に変化するため、小さな空気溜まりの発生までも完全に防止することは困難であり、その空気溜まりを除去するためには、各段である程度の排気時間が必要となる。このため、マスク全面をマスク保持枠に吸着する手段として、特許文献１のような考案が為されている。

本発明は、このような背景の下になされたもので、その課題は、フォトマスクと被露光部材とを真空吸着により密着させる際に、空気溜まりの発生を確実に防止しながら、一定の排気圧等の制御でより迅速にフォトマスクの全面を密着させることができるようにすることにある。

上記課題を解決するため、本発明は、密閉室内でフォトマスクとフォトマスク落下防止機構と被露光部材との間に微小隙間が形成された状態でフォトマスク保持用のフレームの移動を強制的に抑止し、その移動抑止状態で前記密閉室の空気を排気することにより、前記フォトマスクを撓ませてその中央部から前記被露光部材に密着させ始め、その後、前記フレームの移動抑止を解除することにより、撓んでいた前記フォトマスクが元の形状に復元する過程で前記被露光部材との密着面積が順次周辺部に拡大していくように構成している。また、前記フォトマスクは、表マスクと裏マスクを有し、前記フォトマスク落下防止機構は、前記表マスクと前記裏マスクの各一方の対角線上の一対の角を支持可能にそれぞれ設けられ、前記表マスクに設けられた前記フォトマスク落下防止機構と前記裏マスクに設けられた前記フォトマスク落下防止機構とは互い違いに配置される。

本発明では、フォトマスクを撓ませてその中央部から前記被露光部材に密着させ始め、その後、撓んでいた前記フォトマスクが元の形状に復元する過程で前記被露光部材との密着面積が順次周辺部に拡大していくので、前記フォトマスクは、常に湾曲した状態で前記被露光部材に密着していくこととなり、空気溜まりの発生は確実に防止される。

また、密着動作の大部分は前記フォトマスクが元の形状に復元する過程でなされるので、一定の排気圧等の制御で迅速にフォトマスクの全面を密着させることができる。

本発明の実施形態例に係る密着両面露光装置の全体の概略構成を示す構成図である。 上記密着両面露光装置の両面露光部の光学系の構成を示す構成図である。 上記密着両面露光装置のアライメント用のマークを示す図である。 上記密着両面露光装置の両面露光部の概略構成を示す正面図である。 上記密着両面露光装置の両面露光部の概略構成を示す側面図である。 上記密着両面露光装置の密着機構の概略構成を示す側面図である。 上記密着機構で表裏のマスクが撓んで被露光部材に密着し始めた状態を示す図である。 上記密着機構で表裏のマスクと被露光部材との密着面積が拡大していく様子を示す図である。 上記密着機構における第１の排気圧制御例を示す図である。 上記密着機構における第２の排気圧制御例を示す図である。 上記密着機構における第３の排気圧制御例を示す図である。 従来の密着機構の概略構成を示す側面図である。 従来の密着機構における排気圧制御を示す図である。

以下、本発明の実施の形態を図面に基づいて説明する。

図１は、本発明を適用した密着両面露光装置の全体の概略構成を示す構成図である。
図１において、１は被露光部材のベース部材となるステンレス、鋼板、黄銅、アルミニウム等の帯状の金属薄板のコイル３を装着した巻戻機であり、モータ１ａによって所定値のバックテンションが与えられている。巻戻機１から巻戻されたベース部材２は、テンションレベラー４に供給され、このテンションレベラー４によって繰返し曲げ応力を与えられて、巻癖が矯正される。

巻癖が矯正されたベース部材２は、レジスト塗布装置５に供給され、このレジスト塗布装置５により、ベース部材２の表裏両面には例えばネガ型レジストが塗布されて、被露光部材６が形成される。

この被露光部材６は、例えば外表面に樹脂コーティングを施したローラ状の搬送機構７により、レジスト乾燥用のベーキング炉７ａ、両面露光部８にステップ搬送される。そして、両面露光部８により所定のパターンＰ、及び位置合せマークＭ（図３参照）が露光されて、レジスト層が感光される。

感光された被露光部材６は、両面露光部８の直後に配設されたマーク読取機９に搬送され、このマーク読取機９により、レジスト層に感光された位置合せマークＭが読取られ、その読取情報に基づいて、両面露光部８で光学系及び被露光部材６間の相対位置合せが行われる。

マーク読取機９の後段には、感光された被露光部材６を現像する現像処理部１０が配設され、この現像処理部１０の後段側には、現像された被露光部材６のレジスト層に対してエッチングを行うエッチング処理部１１が配設され、このエッチング処理部１１の後段側に巻取機１２が配設されている。この巻取機１２は、コントローラ３０からの搬送機構７の制御信号に同期する制御信号により、モータドライバ１２ａを介して駆動モータ１２ｂを駆動制御することにより、時計方向に回転駆動される。

両面露光部８は、図２及び図３に示したように、被露光部材６を挟んで対向する位置に、後述する焼枠（フレーム）にて支持された表マスク５１ａ及び裏マスク５１ｂが配置される。また、表マスク５１ａ及び裏マスク５１ｂの被露光部材６とは反対側には、光源１８ａ，１８ｂが配設されている。

表マスク５１ａには、図３に示すように、回路パターン等の所定のパターンＰが形成されていると共に、被露光部材６に対向しない平面からみて前後位置の中央部にそれぞれ透光性を有する比較的幅広のＬ字状のアライメントマークＦＡＭ1及びＦＡＭ2 が形成され、少なくともその周辺部が不透光性部とされている。

また、裏マスク５１ｂには、図３に示すように、表マスク５１ａと同様に回路パターン等の所定のパターンが形成されていると共に、表マスク５１ａのアライメントマークＦＡＭ1 ，ＦＡＭ2 に対応する位置に光を透過させず、且つアライメントマークＦＡＭ1 ，ＦＡＭ2 より幅狭に選定されたＬ字状のアライメントマークＢＡＭ1 ，ＢＡＭ2 が形成され、少なくともその周辺部が透光性部とされている。

一方、両面露光部８の裏マスク５１ｂの側には、図２に示すように、アライメントマークＦＡＭ１、ＦＡＭ2 、及びＢＡＭ1 ，ＢＡＭ2 に対向する位置に、それぞれ凸レンズ１９a ，１９ｂを介して発光ダイオード等の投光素子２０ａ，２０ｂが配置されている。また、これら投光素子２０ａ，２０ｂに対向する表マスク５１ａの上面側には、凸レンズ２１ａ，２１ｂ、及びハーフミラー２２ａ，２２ｂを介して、図形読取素子としての１次元のイメージセンサ２３ａｘ，２３ａｙ及び２３ｂx ，２３ｂｙが配設されている。

なお、イメージセンサ２３ａｘ，２３ｂｘは、各マスク５１ａ，５１ｂのアライメントマークＦＡＭ1 ，ＦＡＭ１、及びＢＡＭ1 ，ＢＡＭ2 の被露光部材６の移動方向と直交する部分を読取るように、被露光部材６の移動方向と平行に配設され、イメージセンサ２３ａｙ，２３ｂｙは、各マスク５１ａ，５１ｂのアライメントマークＦＡＭ1 ，ＦＡＭ2 、及びＢＡＭ1 、ＢＡＭ2 の被露光部材６の移動方向と平行な部分を読取るように、被露光部材６の移動方向と直交して配設されている。そして、各イメージセンサ２３ａｘ，２３ａｙ、及び２３ｂｘ，２３ｂｙから出力されるパルス出力でなる読取情報がコントローラ３０に入力され、この読取情報に基づいて表マスク５１ａと裏マスク５１ｂとのアライメントが行われる。なお、コントローラ３０は、後述するように、密着動作時の排気圧制御、アクチュエータ５９ａ，５９ｂ，５９ｃ，５９ｄの制御も行っている。

次に、本発明に特有な密着露光機構を説明する。
図４，図５は、両面露光部８の正面図、側面図である。図４，図５に示したように、表裏のマスク５１ａ，５１ｂを真空チャックで支持する表裏のフレーム５２ａ，５２ｂは、それぞれ表裏のテーブルＴａ，Ｔｂに固着されている。また、表テーブルＴａの４隅には、排気開始位置決め用のアクチュエータ５９ａ，５９ｂ，５９ｃ，５９ｄが設けられている。さらに、これらアクチュエータ５９ａ，５９ｂ，５９ｃ，５９ｄと対向する裏テーブルＴｂの位置には、それぞれストッパ６０ａ，６０ｂ，６０ｃ，６０ｄが設けられている。なお、アクチュエータ５９ａ，５９ｂ，５９ｃ，５９ｄしては、その駆動軸が数１００ｋｇの押圧力に耐え得るものが使用されている。

また、ベース６１には、２本のガイドレール６２ａ，６２ｂが取付けられ、表裏のテーブルＴａ，Ｔｂの下側には、それぞれ４つのガイド部材６３ａａ〜６３ａｄ，６３ｂａ〜６３ｂｄが取付けられている。そして、ガイド部材６３ａａ，６３ａｄ，６３ｂａ，６３ｂｄはガイドレール６２ａを摺動可能に跨ぎ、ガイド部材６３ａｂ，６３ａｃ，６３ｂｂ，６３ｂｃはガイドレール６２ｂを摺動可能に跨ぐように配設され、図示省略した駆動機構により表裏のテーブルＴａ，Ｔｂを移動制御することにより、表裏のフレーム５２ａ，５２ｂ間（すなわち表裏のマスク５１ａ，５１ｂ間）の離間距離を変化させることが可能になっている。なお、表裏のマスク５１ａ，５１ｂ、および被露光部材６間のアライメントを行うために、表テーブルＴａの表フレーム５２ａ、及び裏テーブルＴｂの裏フレーム５２ｂのいずれか一方或いは両方は、図示省略した所定の駆動機構によりＸＹθ方向に微動可能に構成されている。
表裏のフレーム５２ａ，５２ｂには、表裏のマスク５１ａ，５１ｂの落下を防止する為のマスク落下防止機構５８ａ、５８ｂがそれぞれ設けられている。表裏のマスク落下防止機構５８ａ，５８ｂは、表裏のマスク５１ａ，５１ｂの各一方の対角線上の一対の角を支持可能に設けられている。表のフレーム５２ａに設けられた表のマスク落下防止機構５８ａと裏のフレーム５２ｂに設けられた裏のマスク落下防止機構５８ｂとは対向しないように互い違いに配置される。また、表裏のマスク５１ａ，５１ｂの角部のマスク落下防止機構５８ａ，５８ｂと対向する箇所には切欠き７０ａ，７０ｂが形成されている。これにより、フレーム５２ａ，５２ｂからマスク５１ａ，５１ｂが外れた際に脱落するのを防止する。また、表裏のフレーム５２ａ，５２ｂが互いに接近し、表裏のマスク５１ａ，５１ｂが密着した場合にも表のマスク落下防止機構５８ａと裏のマスク５１ｂ、及び裏のマスク落下防止機構５８ｂと表のマスク５１ａとが干渉するのを防止することができる。

図６は、密着機構を示す側面図である。なお、図６の構成は、従来技術の欄で説明した図１２と共通する部分が多いので、ここでは、その相違点と従来技術の欄で説明しなかった事項の補足説明を簡単に行う。

上記アクチュエータ５９ａ，５９ｂ，５９ｃ，５９ｄは、それらの駆動軸を所定量だけ突出させた状態で表裏のフレーム５２ａ，５２ｂを接近させた場合に、各軸がストッパ６０ａ，６０ｂ，６０ｃ，６０ｄに接触し始めるときに、密閉用パッキン５３ａ，５３ｂも同時に接触し始めるような位置関係で設けられている。

そして、密閉用パッキン５３ａ，５３ｂが接触し始めて密閉室Ｌが形成された時点から排気が開始されるが、この開始時の表マスク５１ａと被露光部材６、裏マスク５１ｂと被露光部材６との間隔は、それぞれ数ｍｍとなるように設計されている。また、たとえ大きな排気圧で排気されたとしても、アクチュエータ５９ａ，５９ｂ，５９ｃ，５９ｄとストッパ６０ａ，６０ｂ，６０ｃ，６０ｄにより表裏のテーブルＴａ，Ｔｂの移動、従って表裏のフレーム５２ａ，５２ｂの移動が抑止される。

また、表裏のマスク５１ａ，５１ｂの材質は、本実施形態ではガラスとなっているが、この表裏のマスク５１ａ，５１ｂは、シャドウマスク等の製造工程で使用されるものであり、その面積は１ｍ2程度の大きなものである。表裏のマスク５１ａ，５１ｂは、その４辺の縁が表裏のフレーム５２ａ，５２ｂにより真空チャックされるように構成されている。

すなわち、表フレーム５２ａには、２つのチャック用パッキン５４ａ，５５ａが微小間隔でその径の半分が埋設される形で設けられている。同様に、裏フレーム５２ｂにも、２つのチャック用パッキン５４ｂ，５５ｂが微小間隔でその径の半分が埋設される形で設けられている。また、表フレーム５２ａには、２つのチャック用パッキン５４ａ，５５ａの間の位置に、チャック用排気口５７ａが形成され、裏フレーム５２ｂには、２つのチャック用パッキン５４ｂ，５５ｂの間の位置に、チャック用排気口５７ｂが形成されている。

従って、表マスク５１ａをチャック用パッキン５４ａ，５５ａを介して表フレーム５２ａに被せると、表フレーム５２ａの４辺には、表マスク５１ａ、チャック用パッキン５４ａ，５５ａ、及び表フレーム５２ａで閉じられた細長い管状の密閉空間が形成される。同様に、裏マスク５１ｂをチャック用パッキン５４ｂ，５５ｂを介して裏フレーム５２ｂに被せると、裏フレーム５２ｂの４辺には、裏マスク５１ｂ、チャック用パッキン５４ｂ，５５ｂ、及び裏フレーム５２ｂで閉じられた細長い管状の密閉空間が形成される。この状態でチャック用排気口５７ａ，５７ｂからそれぞれ排気すると、表裏のマスク５１ａ，５１ｂは、それぞれ表裏のフレーム５２ａ，５２ｂに吸着されて支持されることとなる。この場合、表裏のマスク５１ａ，５１ｂは、その４辺の縁だけが表裏のフレーム５２ａ，５２ｂに直接支持され、その面積の大部分は直接的には支持されない自由な部分となっている。換言すれば、表裏のマスク５１ａ，５１ｂは、その全面が表裏のフレーム５２ａ，５２ｂに接触しているのではなく、大部分は空気のみに接触しているので、後述するように、排気によって撓みが発生し得るようになっている。

また、密着用排気口５６には排気管６４が取り付けられ、チャック用排気口５７ａ，５７ｂには２又状の排気管６５が取付けられている。この排気管６４は、電空レギュレータ６６を介して真空ポンプ６７に接続され、排気管６５は電磁弁６８を介して真空ポンプ６７に接続されている。電空レギュレータ６６と電磁弁６８はコントローラ３０に接続されており、このコントローラ３０により電空レギュレータ６６、電磁弁６８を制御することにより、密着用排気口５６、チャック用排気口５７ａ，５７ｂから排気する際の排気圧（真空圧）が制御される。

次に、本発明に特有な密着動作を図７〜図１１に基づいて説明する。

被露光部材６、表裏のマスク５１ａ，５１ｂ間のアライメント補正を行った後、表裏のマスク５１ａ，５１ｂがセットされた表裏のテーブルＴａ，Ｔｂを、密閉用パッキン５３ａ，５３ｂが密着する位置まで駆動する。このとき、アクチュエータ５９ａ，５９ｂ，５９ｃ，５９ｄの駆動軸を所定量だけ突出させた状態とする。そして、アクチュエータ５９ａ，５９ｂ，５９ｃ，５９ｄの駆動軸とストッパ６０ａ，６０ｂ，６０ｃ，６０ｄとを接触させる。この接触状態では、図６に示したように、密閉用パッキン５３ａ，５３ｂも密着しており、密閉室Ｌが形成されている。また、表マスク５１ａと被露光部材６、及び裏マスク５１ｂと被露光部材６との間には、数ｍｍ程度の微小隙間が形成され、表マスク５１ａと被露光部材６の間隔と、裏マスク５１ｂと被露光部材６の間隔は等しくなっている。

この状態で、コントローラ３０は、電空レギュレータ６６を制御して、排気管６４を介して密閉室Ｌ内の空気を排気させる。密閉室Ｌ内の空気を排気すると、表裏のマスク５１ａ，５１ｂは撓みを生じ、図７に示したように、その中央部分から密着し始め、図８（ａ），（ｂ）に示したように密着領域が徐々に周辺部に広がっていく。この際、密着領域は周辺部に向かって滑らかに広がっていくので、その過程で空気溜まりが発生することはない。

ここで、この原理を説明しておく。表裏のマスク５１ａ，５１ｂは、表裏のフレーム５２ａ，５２ｂにより、一種の両端支持ばりのような形で支持されている。この状態で密閉室Ｌ内の空気を排気すると、密閉室Ｌには、その容積を小さくするような力が作用する。しかし、アクチュエータ５９ａ，５９ｂ，５９ｃ，５９ｄと、ストッパ６０ａ，６０ｂ，６０ｃ，６０ｄとにより、表裏のテーブルＴａ，Ｔｂ、すなわち表裏のフレーム５２ａ，５２ｂが互いに接近することが妨げられている。

一方、両端支持ばりの状態で支持された表裏のマスク５１ａ，５１ｂには、その面に垂直な方向に数１００ｋｇ程度の押圧力も作用している。従って、表裏のマスク５１ａ，５１ｂには、排気による真空状態の形成過程で撓みが発生する。このような状況では、最大撓みが発生する位置は、表裏のマスク５１ａ，５１ｂの中央位置となることが知られている。なお、表裏のマスク５１ａ，５１ｂは、ガラス製であり、弾性に乏しくなっているが、１ｍ2程度の広い面積を有しているので、割れることなく微小の撓みが発生する。

また、撓みの方向は、表裏のマスク５１ａ，５１ｂが共に被露光部材６に接近する方向となる。すなわち、表マスク５１ａと被露光部材６，裏マスク５１ｂと被露光部材６との間は、上記のように微小隙間となっている。一方、表マスク５１ａの被露光部材６とは反対側の領域と，裏マスク５１ｂの被露光部材６とは反対側の領域とは、格段に広い空間領域となっている。従って、排気を行った場合、表マスク５１ａと被露光部材６との隙間の領域、及び裏マスク５１ｂと被露光部材６との隙間の領域では、表マスク５１ａの被露光部材６とは反対側の領域、及び裏マスク５１ｂの被露光部材６とは反対側の領域よりも空気の流速が格段に速くなり、表裏のマスク５１ａ，５１ｂが共に被露光部材６に接近する方向の力の方が反対方向の力より格段に大きくなる。従って、表裏のマスク５１ａ，５１ｂは、被露光部材６の方向に撓み、その中央部から被露光部材６に密着していくこととなる。この密着動作の初期の段階では、密着面積が小さく、また表裏のマスク５１ａ，５１ｂは湾曲しながら密着面積を広げていくので、空気溜まりが発生する可能性はほとんどない。

このようにして、表裏のマスク５１ａ，５１ｂの中央部での密着面積が２０〜３０％程度になった時点で、コントローラ３０は、アクチュエータ５９ａ，５９ｂ，５９ｃ，５９ｄの駆動軸を短縮させる。すると、図８（ｃ）に示したように、撓んでいた表裏のマスク５１ａ，５１ｂは、元の形状に復帰し、この復帰の過程で密着領域が更に周辺部に広がり、全面が密着することとなる。

この場合も、密着領域は中央部から周辺部に向かって滑らかに広がっていくので、その過程で空気溜まりが発生することはない。また、撓んだ表裏のマスク５１ａ，５１ｂの復元力により密着領域を広げているので、密着所要時間は、非常に短くなる。しかも、排気圧だけで密着させる段階では、ある程度の時間を要するが、この排気圧だけで密着させるべき密着領域は２０〜３０％程度であるので、この点でも、密着所要時間の短縮化を図ることが可能となる。

６：被露光部材
３０：コントローラ
５１ａ：表マスク
５１ｂ：裏マスク
５２ａ：表フレーム
５２ｂ：裏フレーム
５３ａ，５３ｂ：密閉用パッキン
５４ａ，５４ｂ，５５ａ，５５ｂ：チャック用パッキン
５８ａ，５８ｂ：マスク落下防止機構
５９ａ，５９ｂ，５９ｃ，５９ｄ：アクチュエータ
６０ａ，６０ｂ，６０ｃ，６０ｄ：ストッパ
６５：電磁弁
６６：電空レギュレータ
６７：真空ポンプ
７０ａ，７０ｂ：切欠き（マスク）
Ｌ：密閉室
Ｔａ，Ｔｂ：テーブル

Claims (2)

1. 密閉室内でフォトマスクとフォトマスク落下防止機構と被露光部材との間にそれぞれ微小隙間が形成された状態でフォトマスク保持用のフレームの移動を強制的に抑止し、その移動抑止状態で前記密閉室の空気を排気することにより、前記フォトマスクを撓ませてその中央部から前記被露光部材に密着させ始め、その後、前記フレームの移動抑止を解除することにより、撓んでいた前記フォトマスクが元の形状に復元する過程で前記被露光部材との密着面積が順次周辺部に拡大していくように構成し、
   前記フォトマスクは、表マスクと裏マスクを有し、前記フォトマスク落下防止機構は、前記表マスクと前記裏マスクの各一方の対角線上の一対の角を支持可能にそれぞれ設けられ、前記表マスクに設けられた前記フォトマスク落下防止機構と前記裏マスクに設けられた前記フォトマスク落下防止機構とは互い違いに配置されることを特徴とする密着露光装置。
2. 前記表マスクと前記裏マスクの角のうち、前記マスク落下防止機構と対向する箇所には、切欠きが形成されていることを特徴とする請求項１に記載の密着露光装置。

Images