JP4594541B2

JP4594541B2 - 基板露光装置およびその使用方法

Info

Publication number: JP4594541B2
Application number: JP2001065946A
Authority: JP
Inventors: 伊勢　　勝; 政昭松田; 真一松永
Original assignee: Orc Manufacturing Co Ltd
Current assignee: Orc Manufacturing Co Ltd
Priority date: 2001-03-09
Filing date: 2001-03-09
Publication date: 2010-12-08
Anticipated expiration: 2021-03-09
Also published as: JP2002270486A

Description

【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、基板をマスクに真空密着させて露光処理する基板露光装置に関し、詳しくは、露光処理する基板をマスクに確実に密着させ、また、露光処理された基板をマスクから確実に分離できるように改良された基板露光装置およびその使用方法に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】
基板をマスクに真空密着させて露光処理する基板露光装置として、従来、図６に示すような概略構成を有する基板露光装置が一般に知られている。この基板露光装置は、ワークステージＡの上面に基板Ｂを水平に吸着保持する吸着面Ａ１が設けられた横型構成の基板露光装置であり、前記ワークステージＡの上方には透光板Ｃが水平に配設されている。前記ワークステージＡの吸着面Ａ１には多数の吸着孔Ａ２が開口され、各吸着孔Ａ２はワークステージＡ内を通る真空通路Ａ３によりバルブシステムＤを介してブロワや真空ポンプ等の真空源Ｅに接続されている。また、前記透光板Ｃの下面には、所定の露光パターンを有するマスクＦが密着して付設されており、透光板Ｃの上方には露光用の光源Ｇが配設されている。
【０００３】
前記の基板露光装置は、基板ＢとマスクＦとを水平面内で位置合せした後、両者を真空密着状態として光源Ｇの点灯により基板Ｂを露光処理する。このため、前記ワークステージＡは、吸着面Ａ１に平行な水平方向のＸＹ軸方向、吸着面Ａ１に直交する垂直方向のＺ軸方向およびＺ軸廻りのθ方向に駆動可能な図示しない駆動装置を介してテーブルＨ上に搭載されている。一方、前記透光板Ｃには真空ポートＩ，Ｉが形成されており、この真空ポートＩ，Ｉは、図示しない真空通路によりバルブシステムを介してブロワや真空ポンプなどの真空源および大気開放口やエアコンプレッサなどの圧気源に接続されている。また、透光板Ｃの下面には、前記ワークステージＡの吸着面Ａ１に密着することで、基板ＢおよびマスクＦの周囲に前記真空ポートＩ，Ｉが開口する密閉空間を形成するためのシールリングＪが付設されている。
【０００４】
図６に示した従来の基板露光装置においては、ローラコンベアＫ上を搬送されて来る基板ＢがハンドラＬに吸着搬送されてワークステージＡの吸着面Ａ１に載置される。続いて、バルブシステムＤの作動により真空源Ｅからの吸着真空が真空通路Ａ３を介して多数の吸着孔Ａ２に作用することで、前記基板ＢがワークステージＡの吸着面Ａ１に吸着保持される。そして、この状態で基板ＢとマスクＦとが位置合せされ、両者を真空密着状態として光源Ｇの点灯により基板Ｂが露光処理される。
【０００５】
前記基板ＢとマスクＦとの位置合せ工程では、ワークステージＡをＺ軸に沿って上方の透光板Ｃ側へ接近駆動させ、ワークステージＡの吸着面Ａ１の周縁部を透光板Ｃ側のシールリングＪに密着させる（図７（ａ）参照）。続いて、図示しないバルブシステムの作動により真空源からの真空を透光板Ｃの真空ポートＩ，Ｉを介して基板ＢおよびマスクＦの周囲の密閉空間に作用させる。そして、基板ＢとマスクＦとを真空密着状態とし、図示しないＣＣＤカメラ等を備える位置合せ手段により、前記基板ＢとマスクＦとを位置合せする。
【０００６】
ここで、前記基板ＢとマスクＦとの間に位置ずれがある場合には、基板ＢとマスクＦとの真空密着状態を解消した後（図７（ｂ）参照）、ワークステージＡをＺ軸方向、ＸＹ軸方向およびθ方向に適宜駆動させ、再び基板ＢとマスクＦとを真空密着状態とし（図７（ａ）参照）、この状態で基板ＢとマスクＦとを再度位置合せする。
【０００７】
前記のように基板ＢとマスクＦとの位置合せが完了すると、図７（ａ）に示すように基板ＢとマスクＦとを真空密着状態としたまま、図６に示す光源Ｇを点灯して基板ＢにマスクＦ上の露光パターンを露光処理する。その後、図示しないバルブシステムの作動により圧気を透光板Ｃの真空ポートＩ，Ｉを介して前記基板ＢおよびマスクＦの周囲の密閉空間に導入し、基板ＢとマスクＦとの真空密着状態を解消した後、ワークステージＡをＺ軸に沿って透光板Ｃから離間する方向へ駆動し、ワークステージＡの吸着面Ａ１の所定位置に吸着保持された基板Ｂを透光板Ｃ側のマスクＦから分離する。
【０００８】
【発明が解決しようとする課題】
ところで、前記従来の基板露光装置においては、ワークステージＡを透光板Ｃから離間させて基板ＢをマスクＦから分離する際、基板Ｂの一部がマスクＦに張り付いて引っ張られ、基板Ｂが吸着面Ａ１から浮き上がって位置ずれを起こしたり、極端な場合には、基板Ｂの全面がマスクＦに貼り付いたまま吸着面Ａ１から離れてしまうという現象が発生していた。また、マスクＦに貼り付いた基板Ｂがその後、自重によりマスクＦから剥がれて落下するという現象も発生していた。この場合、ワークステージＡおよび透光板Ｃが基板ＢおよびマスクＦを水平に保持するように構成された横型の基板露光装置では、落下する基板ＢをワークステージＡの吸着面Ａ１に受け止めることができるが、吸着面Ａ１の所定位置に基板Ｂを保持することができず、ハンドラＬによる基板Ｂの吸着搬送の際にエラーが発生するなどの不都合がある。
【０００９】
一方、ワークステージおよび透光板が基板およびマスクを垂直に保持するように構成された縦型の基板露光装置では、基板の一部がマスクに張り付いて引っ張られると、剥がれた部分の重量が他の部分の負荷となって基板の位置が大きく狂う。また、薄板の基板の上部が剥がれた場合には、剥がれた上部が垂れ下がって基板が折り曲げ破損したり、あるいは、剥がれた上部によってマスクに傷が付くなどの問題がある。このような傾向は、最近の極薄板の基板において顕著である。そして、このように折れ曲がった基板やマスクに貼り付いた基板が落下した場合には、基板露光装置の操業を一時停止する必要が生じる。すなわち、従来の基板露光装置においては、露光処理された基板をマスクから確実に分離してワークステージの所定位置に確実に吸着保持することが難しく、その結果、特に縦型の基板露光装置においては、基板に変形や傷付き不良が発生したり、基板露光装置の構成部品が破損したり、あるいは基板露光装置の操業の停止を余儀なくされたりするなどの種々の問題が指摘されている。
【００１０】
ここで、露光処理された基板ＢをマスクＦから分離する際に基板ＢがマスクＦに貼り付いて吸着面Ａ１から離れるという現象は、真空密着状態を解消するための空気が基板ＢとマスクＦとの間に速やかに浸入できないために発生するものと推定される。従って、この現象を回避するには、基板ＢとマスクＦとの間に空気の浸入を容易とする溝、突起、穴などを設けることが考えられる。しかしながら、基板ＢとマスクＦとの間に溝、突起、穴などを設けると、基板Ｂを露光処理する際に光源Ｇからの光が乱反射して露光結果に悪影響を及ぼすという別の問題が発生するため、このような手段は採用できない。
【００１１】
そこで、本発明は、露光処理する基板をマスクに確実に密着させると共に、露光処理された基板をマスクから確実に分離することができ、しかも基板の露光結果に悪影響を及ぼすことのない基板露光装置およびその使用方法を提供することを課題とする。
【００１２】
【課題を解決するための手段】
前記の課題を解決する手段として、本発明に係る基板露光装置は、縦型のワークステージに垂直に吸着保持される基板と、縦型の透光板に垂直に保持されるマスクとを真空密着状態にして基板を露光処理し、両者の真空密着状態を解消して基板とマスクとを分離するように構成された縦型の基板露光装置において、前記ワークステージを前記透光板側へ弾性的に支持する弾持機構と、この弾持機構に抗して前記ワークステージを前記透光板から離間する方向へ傾動可能とさせるアクチュエータとを備えて構成した。
【００１３】
このように構成された本発明の基板露光装置では、露光処理する基板をマスクに密着させる際、アクチュエータによりワークステージを傾動状態から復帰させつつ基板とマスクとを真空密着状態にする。この場合、ワークステージと共に基板がマスクに対して傾動状態から復帰し、その傾動端部側から順次基板がマスクに当接する。その結果、基板とマスクとが確実に真空密着する。また、露光処理された基板をマスクから分離する際、アクチュエータによりワークステージを傾動させつつ基板とマスクとの真空密着状態を解消する。この場合、ワークステージと共に基板がマスクに対して傾動し、その傾動端部側から順次基板がマスクから剥離される。その結果、基板とマスクとの間の真空密着状態が速やかに解消され、基板はワークステージの所定位置に吸着保持された状態で確実にマスクから分離される。
【００１４】
本発明に係る基板露光装置において、前記弾持機構は、前記透光板を前記ワークステージ側へ弾性的に支持する構成に変更し、前記アクチュエータは、弾持機構に抗して前記透光板を前記ワークステージから離間する方向へ傾動可能とさせる構成に変更することができる。このように変更された本発明の基板露光装置では、ワークステージの代わりに透光板が傾動動作するため、前記基板露光装置と同様の作用効果を奏する。なお、前記アクチュエータは、前記ワークステージの周縁部に配置された複数のシリンダ装置で構成することができる。
【００１５】
【発明の実施の形態】
以下、図面を参照して本発明に係る基板露光装置の実施の形態を説明する。参照する図面において、図１は一実施形態に係る基板露光装置のワークステージ機構の正面図、図２は図１のＩＩ矢視図、図３は図１のＩＩＩ矢視図、図４は図１のＩＶ部拡大図である。
【００１６】
一実施形態に係る基板露光装置は、いわゆる縦型の基板露光装置に適用される。この縦型の基板露光装置は、図１〜図４に示すように、露光処理される基板Ｗより大き目の縦長の長方形を呈する板状に形成されたワークステージ１を備えている。このワークステージ１の正面は、前記基板Ｗを垂直に吸着保持するための吸着面１Ａとして構成される。すなわち、この吸着面１Ａには、図１に示すような多数の吸着孔１Ｂが所定のパターンで配列されており、各吸着孔１Ｂは、ワークステージ１内を通る真空通路１Ｃ（図５参照）により図示しないバルブシステムを介してブロワや真空ポンプ等の真空源に接続されている。
【００１７】
前記ワークステージ１の正面側には、図５に示すように、透光板２がワークステージ１と平行に垂直に配設されている。この透光板２のワークステージ１に対面する正面側には、所定の露光パターンを有するマスク３がセロテープ等により固定されており、背面側には図示しない露光用の光源が反射鏡を介して投光するように配設されている。なお、前記マスク３は、ガラス乾板を採用してもよい。
【００１８】
前記ワークステージ１および透光板２は、基板Ｗとマスク３とを垂直面内で位置合せした後、両者を真空密着状態として前記光源の点灯により基板Ｗを露光処理する。このため、前記透光板２は、図示しない駆動機構により、マスク３に平行なＸＺ軸方向、マスク３に直交するＹ軸方向およびＹ軸廻りのθ方向に駆動可能に構成されている。そして、透光板２が前記Ｙ軸方向に駆動されることにより、ワークステージ１と透光板２とが相対的に接近、離間可能に構成されている。なお、前記透光板２に代えてワークステージ１を前記ＸＺ軸方向、Ｙ軸方向およびθ方向に駆動可能に構成してもよいし、ワークステージ１をＹ軸方向にのみ駆動可能に構成してもよい。
【００１９】
また、前記基板Ｗとマスク３とを真空密着状態とするため、前記透光板２には上下一対の真空ポート２Ａ，２Ａが形成されている。各真空ポート２Ａは、図示しない真空通路によりバルブシステムを介してブロワや真空ポンプなどの真空源と、大気開放口やエアコンプレッサなどの圧気源とに選択的に接続される。また、透光板２の正面には、密閉空間を形成するためのシールリング４が付設されている。なお、このシールリング４は、透光板２の正面に密着するように、ワークステージ１の吸着面１Ａに付設されていてもよい。
【００２０】
また、基板露光装置は、図１〜図４に示すように、前記ワークステージ１をワークステージベース５に対して前記透光板２側へ弾性的に支持する弾持機構６と、前記ワークステージベース５とワークステージ１との間に介設されてワークステージ１を前記弾持機構６に抗して透光板２から離間する方向へ傾動可能とさせるアクチュエータ７とを備えている。
【００２１】
前記ワークステージベース５は、図１に示すように、前記ワークステージ１と略同幅で若干縦長の板状に形成されており、図２に示すように、ワークステージ１の背面側に所定の間隔を開けて平行に配置される。このワークステージベース５の上下両端部は、その背面側に固定されたブラケット８を介して支持部材９に支持されている。
【００２２】
前記ワークステージベース５の周縁部には、ワークステージ１側へ突出してワークステージ１の正面側の周縁部を係止する複数のガイド爪１０が固定されている。各ガイド爪１０は、図１に示すように、ワークステージ１の四辺を取り囲むように配置されており、ワークステージ１の脱落を防止している。各ガイド爪１０の先端部には、図４に示すように、ワークステージ１側に屈曲する爪部１０Ａが形成されており、この爪部１０Ａの内面には、ワークステージ１の周縁部に弾性的に当接するクッション材１０Ｂが固定されている。このクッション材１０Ｂは、合成ゴムやエラストマーなどの適宜の弾性材料で構成される。
【００２３】
前記弾持機構６は、図１に示すように、例えば前記ワークステージ１の各コーナ部に対応して４箇所に配設される。なお、弾持機構６の配設箇所および配設個数は、弾持機構６の目的および機能を損わない限り、適宜変更することができる。この弾持機構６は、図４に示すように、伸縮可能なステージ固定ピン６Ａを有する空圧式のステージ固定シリンダ６Ｂと、前記ステージ固定ピン６Ａに巻装されるコイルスプリング６Ｃとで構成されている。前記ステージ固定シリンダ６Ｂは、ステージ固定ピン６Ａをワークステージ１側へ突出させた状態でワークステージベース５に固定されており、ステージ固定ピン６Ａの伸張動作によりワークステージ１を押圧してその周縁部を前記ガイド爪１０の爪部１０Ａに係止させる。また、コイルスプリング６Ｃは、ワークステージベース５とワークステージ１との間に介設されており、ワークステージ１を弾性的に押圧してその周縁部を前記ガイド爪１０の爪部１０Ａに係止させる。そして、このコイルスプリング６Ｃは、前記ステージ固定ピン６Ａの収縮状態において、ワークステージ１を透光板２（図５参照）に弾性接触可能とさせる。
【００２４】
前記アクチュエータ７は、図１に示すように、例えば前記弾持機構６の近傍の４箇所に配設される。なお、アクチュエータ７の配設箇所および配設個数は、アクチュエータ７の目的および機能を損わない限り、適宜変更することができる。このアクチュエータ７は、図４に示すように、伸縮可能なステージ引込ピン７Ａを有する空圧式のステージ引込シリンダ７Ｂで構成されており、ステージ引込ピン７Ａの先端部には、引き込み操作用の係合頭部７Ｃが設けられている。このステージ引込シリンダ７Ｂは、ステージ引込ピン７Ａをワークステージ１側へ突出させた状態でワークステージベース５に固定されている。そして、ステージ引込ピン７Ａの先端部の係合頭部７Ｃは、ワークステージ１の背面に固定された係止ブラケット１１に係止されており、ステージ引込ピン７Ａの収縮動作によりワークステージ１を透光板２（図５参照）から離間する方向、すなわちワークステージベース５側へ引き込む。
【００２５】
以上のように構成された一実施形態に係る基板露光装置の作用を基板Ｗの露光処理作業に沿って説明する。この縦型の基板露光装置においては、図示しないローラコンベア上を横向きに搬送されて来る基板Ｗがハンドラにより吸着搬送されて縦向きに方向変換され、この状態で基板Ｗがワークステージ１の吸着面１Ａに吸着保持される。すなわち、ワークステージ１は、図示しないバルブシステムの作動により真空源からの吸着真空が真空通路１Ｃ（図５参照）を介して多数の吸着孔１Ｂに作用することで、前記基板Ｂを吸着面１Ａに吸着保持する。そして、この状態で基板Ｗとマスク３とが位置合せされ、両者を真空密着状態として図示しない光源の点灯により基板Ｗが露光処理される。
【００２６】
前記基板Ｗとマスク３との位置合せ工程では、ワークステージ１をＹ軸に沿って側方の透光板２側へ接近駆動させ、ワークステージ１の吸着面１Ａの周縁部を透光板２側のシールリング４に密着させる（図５（ａ）参照）。続いて、図示しないバルブシステムの作動により真空源からの真空を透光板２の真空ポート２Ａ，２Ａを介して基板Ｗおよびマスク３の周囲のシールリング４で囲まれた密閉空間に作用させる。そして、基板Ｗとマスク３とを真空密着状態とし、図示しないＣＣＤカメラ等を備える位置合せ手段により、前記基板Ｗとマスク３とを位置合せする。
【００２７】
ここで、前記基板Ｗとマスク３との間に位置ずれがある場合には、基板Ｗとマスク３との真空密着状態を解消した後、ワークステージ１をＹ軸方向、ＸＺ軸方向およびθ方向に適宜駆動させ、再び基板Ｗとマスク３とを真空密着状態とし（図５（ａ）参照）、この状態で基板Ｗとマスク３とを再度位置合せする。
【００２８】
前記のように基板Ｗとマスク３との位置合せが完了すると、図５（ａ）に示すように基板Ｗとマスク３とを真空密着状態としたまま、図示しない光源を点灯して基板Ｗにマスク３上の露光パターンを露光処理する。その後、圧気源からの圧気を透光板２の真空ポート２Ａ，２Ａを介して前記基板Ｗおよびマスク３の周囲のシールリング４で囲まれた密閉空間に作用させる（図５（ｂ）参照）。そして、基板Ｗとマスク３との真空密着状態を解消可能な状態とする。
【００２９】
ここで、基板Ｗとマスク３との真空密着状態が解消可能となると、各弾持機構６を構成する各ステージ固定シリンダ６Ｂがステージ固定ピン６Ａを収縮可能な状態とされる。また、初期段階として、ワークステージ１の例えば下部の左右のコーナ部に配設された各ステージ引込シリンダ７Ｂがステージ引込ピン７Ａを伸張させた状態に保持され、ワークステージ１の例えば上部の左右のコーナ部に配設された各ステージ引込シリンダ７Ｂがステージ引込ピン７Ａを収縮させるように操作される。このため、図５（ｂ）に示すように、ワークステージ１は、その上部がワークステージベース５側に引込まれ、透光板２から離間する方向に垂直な姿勢から傾動する。これに応じて基板Ｗがマスク３に対して垂直な姿勢から傾動し、その傾動端部である上部から下部に向かって空気が速やかに浸入する。このため、基板Ｗとマスク３との間の真空密着状態が速やかに解消され、基板Ｗは上部から下部に向かって順次マスク３から剥離される。
【００３０】
続いて、ワークステージ１の下部のコーナ部に配設された左右のステージ引込シリンダ７Ｂがステージ引込ピン７Ａを収縮させるように操作されることで、図５（ｃ）に示すように、ワークステージ１の下部がワークステージベース５側に引込まれる。その結果、基板Ｗはワークステージ１の吸着面１Ａに吸着保持された状態で確実にマスク３から分離される。そして、図５（ｄ）に示すように、透光板２がＹ軸に沿ってワークステージ１から離間する方向に駆動されることにより、基板Ｗとマスク３とが完全に分離される。従って、縦型の基板露光装置において、露光処理された基板Ｗをワークステージ１の所定位置に吸着保持した状態で確実にマスク３から分離することができる。
【００３１】
なお、一実施形態に係る基板露光装置において、基板Ｗとマスク３とを分離する初期段階では、ワークステージ１の例えば左右の一方の上下のコーナ部に配設された各ステージ引込シリンダ７Ｂのステージ引込ピン７Ａを伸張させた状態に保持し、ワークステージ１の左右の他方の上下のコーナ部に配設された各ステージ引込シリンダ７Ｂのステージ引込ピン７Ａを収縮させるように操作してもよい。また、ワークステージ１の何れか１箇所のコーナ部に配設されたステージ引込シリンダ７Ｂのステージ引込ピン７Ａのみを収縮させるように操作し、他の３箇所のコーナ部に配設された各ステージ引込シリンダ７Ｂのステージ引込ピン７Ａを伸張させた状態に保持するようにしてもよい。
【００３２】
また、一実施形態に係る基板露光装置において、露光処理する基板Ｗをマスク３に密着させる際には、基板Ｗをマスタ３から分離する際の手順と反対の手順により、ワークステージ１を傾動状態から復帰させつつ基板Ｗとマスク３とを真空密着状態にすることができる。この場合、ワークステージ１と共に基板Ｗがマスク３に対して傾動状態から復帰し、その傾動端部側から順次基板Ｗがマスク３に当接するため、基板Ｗとマスク３とを確実に真空密着させることができる。
【００３３】
本発明の基板露光装置において、前記弾持機構は、前記透光板を前記ワークステージ側へ弾性的に支持する構成に変更し、前記アクチュエータは、弾持機構に抗して前記透光板を前記ワークステージから離間する方向へ傾動可能とさせる構成に変更することができる。このように変更された本発明の基板露光装置では、ワークステージの代わりに透光板が傾動動作するため、前記基板露光装置と同様の作用効果を奏する。
【００３４】
本発明の基板露光装置は、基板を水平に吸着保持する横型のワークステージと、マスクを水平に保持する横型の透光板とを備えた、いわゆる横型の基板露光装置にも適用することができ、この場合にも同様の作用効果を奏する。
【００３５】
【発明の効果】
以上説明したように、本発明に係る基板露光装置では、露光処理する基板をマスクに密着させる際、アクチュエータによりワークステージを傾動状態から復帰させつつ基板とマスクとを真空密着状態にする。この場合、ワークステージと共に基板がマスクに対して傾動状態から復帰し、その傾動端部側から順次基板がマスクに当接する。その結果、基板とマスクとが確実に真空密着する。また、露光処理された基板をマスクから分離する際、アクチュエータによりワークステージを傾動させつつ基板とマスクとの真空密着状態を解消する。この場合、ワークステージと共に基板がマスクに対して傾動し、その傾動端部側から順次基板がマスクから剥離される。その結果、基板とマスクとの間の真空密着状態が速やかに解消され、基板はワークステージの所定位置に吸着保持された状態で確実にマスクから分離される。従って、本発明の基板露光装置によれば、露光処理する基板をマスクに確実に密着させると共に、露光処理された基板をワークステージの所定位置に吸着保持した状態で確実にマスクから分離することができる。しかも基板の露光結果に悪影響を及ぼすことがない。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の一実施形態に係る基板露光装置のワークステージ機構の正面図である。
【図２】図１のＩＩ矢視図である。
【図３】図１のＩＩＩ矢視図である。
【図４】図３のＩＶ部拡大図である。
【図５】一実施形態に係る基板露光装置のワークステージ機構の作用を（ａ）〜（ｄ）の段階に分けて模式的に示す作用説明図である。
【図６】従来例に係る基板露光装置の概略構成を模式的に示す正面図である。
【図７】従来例に係る基板露光装置のワークステージの作用を（ａ），（ｂ）の段階に分けて模式的に示す作用説明図である。
【符号の説明】
１：ワークステージ
１Ａ：吸着面
１Ｂ：吸着孔
１Ｃ：真空通路
２：透光板
２Ａ：真空ポート
３：マスク
４：シールリング
５：ワークステージベース
６：弾持機構
６Ａ：ステージ固定ピン
６Ｂ：ステージ固定シリンダ
６Ｃ：コイルスプリング
７：アクチュエータ
７Ａ：ステージ引込ピン
７Ｂ：ステージ引込シリンダ
７Ｃ：係合頭部
８：ブラケット
９：支持部材
１０：ガイド爪
１０Ａ：爪部
１０Ｂ：クッション材
１１：係止ブラケット

Claims

基板を垂直に吸着保持する縦型のワークステージと、マスクを垂直に保持する縦型の透光板とを相対的に接近、離間可能に備え、前記ワークステージおよび透光板の相対的接近により前記基板とマスクとを真空密着状態にして基板を露光処理し、前記真空密着状態を解消して前記ワークステージおよび透光板の相対的離間により前記基板とマスクとを分離するように構成された基板露光装置において、前記ワークステージを前記透光板側へ弾性的に支持する弾持機構と、この弾持機構に抗して前記ワークステージを前記透光板から離間する方向へ傾動可能とさせるアクチュエータとを備えていることを特徴とする基板露光装置。
基板を垂直に吸着保持する縦型のワークステージと、マスクを垂直に保持する縦型の透光板とを相対的に接近、離間可能に備え、前記ワークステージおよび透光板の相対的接近により前記基板とマスクとを真空密着状態にして基板を露光処理し、前記真空密着状態を解消して前記ワークステージおよび透光板の相対的離間により前記基板とマスクとを分離するように構成された基板露光装置において、前記透光板を前記ワークステージ側へ弾性的に支持する弾持機構と、この弾持機構に抗して前記透光板を前記ワークステージから離間する方向へ傾動可能とさせるアクチュエータとを備えていることを特徴とする基板露光装置。
前記アクチュエータは、前記ワークステージまたは透光板の周縁部に配置される複数のシリンダ装置で構成されていることを特徴とする請求項１または請求項２に記載の基板露光装置。
前記アクチュエータによりワークステージまたは透光板を傾動させつつ基板とマスクとの真空密着状態を解消することを特徴とする請求項１ないし請求項２に記載された基板露光装置の使用方法。
前記アクチュエータによりワークステージまたは透光板を傾動状態から復帰させつつ基板とマスクとを真空密着状態にすることを特徴とする請求項１ないし請求項２に記載された基板露光装置の使用方法。