JP5424803B2 - 露光装置 - Google Patents
露光装置 Download PDFInfo
- Publication number
- JP5424803B2 JP5424803B2 JP2009232972A JP2009232972A JP5424803B2 JP 5424803 B2 JP5424803 B2 JP 5424803B2 JP 2009232972 A JP2009232972 A JP 2009232972A JP 2009232972 A JP2009232972 A JP 2009232972A JP 5424803 B2 JP5424803 B2 JP 5424803B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- substrate
- suction
- exposure
- substrate fixing
- fixing sheet
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 267
- 229920002799 BoPET Polymers 0.000 claims description 11
- 239000005041 Mylar™ Substances 0.000 claims description 11
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 21
- 230000007246 mechanism Effects 0.000 description 15
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 13
- 239000000463 material Substances 0.000 description 10
- 238000000034 method Methods 0.000 description 6
- 239000000428 dust Substances 0.000 description 5
- 229920002120 photoresistant polymer Polymers 0.000 description 5
- 238000003825 pressing Methods 0.000 description 5
- 230000008569 process Effects 0.000 description 4
- 238000001179 sorption measurement Methods 0.000 description 3
- 239000004809 Teflon Substances 0.000 description 2
- 229920006362 Teflon® Polymers 0.000 description 2
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 2
- 238000009826 distribution Methods 0.000 description 2
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 description 2
- 230000001360 synchronised effect Effects 0.000 description 2
- 239000004593 Epoxy Substances 0.000 description 1
- 229910000831 Steel Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 description 1
- 238000001514 detection method Methods 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 230000004907 flux Effects 0.000 description 1
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 1
- 230000010354 integration Effects 0.000 description 1
- 238000003475 lamination Methods 0.000 description 1
- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 description 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 1
- 230000002265 prevention Effects 0.000 description 1
- 230000009467 reduction Effects 0.000 description 1
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 1
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 1
- 238000000926 separation method Methods 0.000 description 1
- 239000010959 steel Substances 0.000 description 1
- 230000009466 transformation Effects 0.000 description 1
Images
Landscapes
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
Description
が、固定部材を完全にテーブル上から退避させなければ基板を取り外すことができないことからすれば、かかる固定治具を自動で着脱する装置は大規模となると考えられる。また、装置が大型化すれば、不可避的に、交換に要するタクト時間が長く掛かるとともに、塵芥の発生率が高くなってしまうという問題も生じてしまう。さらに、不透明部材から固定治具が構成されているために、基板の縁部に形成された基板の識別記号やアライメントマークを識別することができなくなってしまうという問題も生じる。また、基板SWは周縁付近まで感光材が塗布または貼付されているところ、固定治具に覆われた部分に塗布された感光材は感光されることがないので、以降の工程で基板SWの表面から脱落し、搬送経路、露光テーブル等の諸基板製造設備に付着し、その結果、次の基板SWに異物として転写される恐れがある。以上の理由に因り、特許文献4記載の技術を実用化するのは、実際には困難であると考えられる。
図1は、本実施形態による露光装置10の全体斜視図である。図2は、当該露光装置10の平面図である。図3は、当該露光装置10の回路構成を示すブロック図である。
面図である。また、図5は、露光テーブル13におけるZ−Y平面と平行な断面を示す断面図である。図3は露光装置の回路構成を示すブロック図、図15は露光テーブルにおけるX−Z平面と平行な断面を示す断面図であり、これらの図も引用して図2および図5の要素を説明する。
これら各図2,5に示されるように、露光テーブル13の中央には、対応可能な最大サイズの基板SWよりも若干大きい領域(基板吸着領域)に亘って、多数の吸引孔(基板吸着用吸引孔)14Cが、例えば5mmピッチで形成されている。これら基板吸着用吸引孔14Cは、大小様々なサイズの基板SWを確実に固定できるように、各基板SWの外縁に合わせた矩形の列(もしくは行)毎にグループ化され、各グループ毎に、図5に示されるように一つの管路Bにまとめられて、夫々、管路を開放することによって大気を吸い込む開放弁70に連通しているとともに、図示せぬ切替弁を通じて、真空ポンプ71(図3)に連通している。従って、各基板吸着用吸引孔14Cが基板SWによって塞がれた状態で真空ポンプ71(図3)による吸引がなされると、当該基板吸着用吸引孔14C内の気圧が大気圧以下となって、当該基板SWが真空吸着される。また、開放弁70(図3)が管路を開放して大気を吸い込むことにより、当該管路内の気圧が大気圧に戻ることで、基板SWは、露光テーブル13上から離脱可能となる。
なお、基板吸着領域,即ち、最大サイズの基板SW用の基板吸着用吸引孔14Cよりも5mm程度外側に離れた位置には、基板SWの各外縁と平行に、後述する各固定手段100(100a,100b),120(120a,120b)(図15)の基板固定シート101,121(図15)を吸着する為の吸引孔(基板固定シート吸着用吸引孔)14Pの列が、形成されている。例えば、最大サイズの基板SWが510mm×405mmである場合、基板固定シート吸着用吸引孔14Pの位置は、露光テーブルの中心線を挟んで、Y方向のピッチが520mm,X方向のピッチが415mm付近となる位置とする。これら基板固定シート吸着用吸引孔14Pも、管路A,Cを通じて、開放弁70(図3)に連通しているとともに、図示せぬ切替弁を通じて真空ポンプ71(図3)に連通している。
イズの矩形形状を有している。また、基板固定シート121a,121bは、マイラーシートであるとともに0.1乃至1.0mmの範囲の厚さを有するので、当該状態においては、基板固定シート固着用吸引孔14Pによって吸着された状態を維持しつつ、基板SWの厚さに則して若干弾性変形し、その弾発力に拠り、基板SWにおける上記マージン部分を、面状に、露光テーブル13に押しつける。また、上述したように、マージン部分における識別番号やアライメントマークの撮影や感光材の露光が可能となる。なお、各基板固定シート121a,121bの先端縁の形状は、基板SWの外縁の形状に沿ったものであれば、必ずしも直線状でなくても良い。また、先端縁以外の部分の形状については、基板固定シート固着用吸引孔14Pによって吸着可能な広さを有する限り、矩形状に限定されるものではない。
図3は、上述した制御手段60の詳細構成,並びに、上述した真空ポンプ71,開放弁70,基板固定手段100,120,光源部21,空間光変調素子23c,露光テーブル13の位置検出部69,X方向駆動機構13a,Y方向駆動機構13b,及び観察手段40の接続関係を示すブロック図である。
図4は、システムコントロール回路61による各回路ブロック67,66,64,63,62,68に対する制御の内容を示すフローチャートである。図5乃至図14の基板固定手段100(100a,100b)の動作説明図、および図15乃至図21の基板固定手段120(120a,120b)の動作説明図を併用して説明する。
スタート時点では、各基板固定手段100(図5、図15)を構成するシリンダ107a,107b(図5)がロッド108a,108b(図5)を最大量突出させ、シリンダ105a,105b(図5)がロッド104a,104b(図5)を最大量繰り込んでおり、各基板固定手段120(図15)を構成するX−Zテーブル124a,124b(図15)は、回転軸123a,123b(図15)を最も外側且つ下方へ移動させている。従って、各基板固定シート101a,101b(図5),121a,121b(図15)は、図5及び図15に示すように、最も外側に退避した位置にある。なお、システムコントロール回路61は、予め、光源制御部64を制御することによってUVランプ21bを点灯させているが、シャッタ21hが露光光を遮光している。
するシリンダ105a,105bにロッド104a,104bを繰り込ませるとともに、各基板固定手段120を構成するX−Zテーブル124a,124bを動作させる。その結果、図9及び図21に示すように、各基板固定シート101a,101b,121a,121bが、その弾性に抗して撓みつつ、各基板固定シート吸着用吸引孔14Pに吸着される。
<実施形態の利点>
以上に説明した本例によると、特許文献4において用いられた固定治具の代わりに、4枚の基板固定シート101a,101b,121a,121bにより、基板SWの各外縁近傍のマージン領域を夫々露光テーブル13に押し付けることで、基板SWの固定を行っている。従って、個々の基板固定シート101a,101b,121a,121bの表面積は、基板SW自体の表面積よりも十分に小さいので、各基板固定シート101a,101b,121a,121bの移動量は少なくて済む。よって、各基板固定シート101a,101b,121a,121bを自動的に移動させる機械である基板固定手段100,120の機械規模は小さくて済み、そのタクト時間も短くて済む。よって、塵芥発生の可能性を低く抑えることが可能となる。
図22に示す参考例は、固定治具をマイラーシートによって構成することにより、上述したマイラーシート故の効果のみを得るための構成を、示すものである。
11 筐体
13 露光テーブル
14 吸引孔
20 描画光学系
61 システムコントロール回路
66 固定手段制御部
67 真空吸着制御部
71 真空ポンプ
100,120 基板固定手段
101,121 基板固定シート
102 ブラケット
105 シリンダ
107 シリンダ
112 ローラ
122 ブラケット
123 回転軸
124 X−Zテーブル
Claims (7)
- その上面の中央に、基板を吸着するための多数の基板吸着用吸引孔が開けられた基板吸着領域が形成され、当該基板吸着領域の外側に、基板固定シート吸着用吸引孔が開けられている露光テーブルと、
各基板吸着用吸引孔,及び、各基板固定シート吸着用吸引孔から、夫々、吸引及び外気導入を選択的に行う吸引手段と、
前記露光テーブルにおける前記基板吸着領域に吸着されるべき基板の各外縁近傍に夫々設置され、対応する前記基板の外縁と平行な先端縁を有し可撓性を有する基板固定シートを、その先端縁近傍が前記基板の外縁近傍に重なる位置と前記基板上から退避した位置との間で移動させる複数の基板固定手段と
を備えたことを特徴とする露光装置。 - 前記基板固定シートは、可視光及び紫外光に対して透明であることを特徴とする請求項1記載の露光装置。
- 前記基板固定シートは、マイラーシート製であることを特徴とする請求項2記載の露光装置。
- 前記基板が矩形であり、前記基板固定手段が、当該基板の4辺の外縁に夫々対応して、設置されていることを特徴とする請求項1記載の露光装置。
- 前記各基板固定手段は、前記基板固定シートを、水平となる回転位置よりも前下がりにならないように回転規制された回転軸を介して、片持ち支持することを特徴とする請求項1記載の露光装置。
- 前記基板固定シートの先端縁近傍が前記基板の外縁近傍に重なる位置は、前記基板固定シートの先端縁近傍が前記基板の表面に接し、且つ、前記基板固定シートの一部が前記露光テーブルの上面に接する位置であることを特徴とする請求項5記載の露光装置。
- 前記露光テーブル上面に固定された基板に対して露光を行う露光手段と、
前記露光テーブルの基板吸着領域上に基板が載置された状態で前記各基板吸着用吸引孔から吸引を行うように前記吸引手段を制御した後に、前記基板固定シートが前記退避した位置から前記基板の外縁近傍に重なる位置へ移動するように前記各基板固定手段を制御するとともに、前記各基板固定シート吸着用吸引孔から吸引を行うよう前記吸引手段を制御した後、前記基板に対する露光を行うように前記露光手段を制御し、その後、前記各基板固定シート吸着用吸引孔に外気を導入するよう前記吸引手段を制御し、前記基板固定シートが前記退避した位置へ移動するように前記各基板固定手段を制御した後に、前記各基板吸着用吸引孔に外気を導入するよう前記吸引手段を制御する制御手段とを、
更に備えることを特徴とする請求項1記載の露光装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2009232972A JP5424803B2 (ja) | 2009-10-07 | 2009-10-07 | 露光装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2009232972A JP5424803B2 (ja) | 2009-10-07 | 2009-10-07 | 露光装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2011081156A JP2011081156A (ja) | 2011-04-21 |
JP5424803B2 true JP5424803B2 (ja) | 2014-02-26 |
Family
ID=44075277
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2009232972A Expired - Fee Related JP5424803B2 (ja) | 2009-10-07 | 2009-10-07 | 露光装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP5424803B2 (ja) |
Families Citing this family (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP5635466B2 (ja) * | 2011-08-31 | 2014-12-03 | 日本特殊陶業株式会社 | 配線基板の製造方法 |
JP6663252B2 (ja) | 2016-03-01 | 2020-03-11 | 株式会社アドテックエンジニアリング | プリント基板用露光装置 |
JP6774714B2 (ja) | 2016-07-25 | 2020-10-28 | 株式会社アドテックエンジニアリング | ワークステージ及び露光装置 |
JP7239388B2 (ja) * | 2019-05-09 | 2023-03-14 | 株式会社アドテックエンジニアリング | 直描式露光装置 |
JP6789368B2 (ja) * | 2019-12-25 | 2020-11-25 | 株式会社アドテックエンジニアリング | プリント基板用露光装置 |
Family Cites Families (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0767004B2 (ja) * | 1987-06-01 | 1995-07-19 | 株式会社日立製作所 | 露光機 |
JPH1131646A (ja) * | 1997-07-10 | 1999-02-02 | Seiko Epson Corp | 周辺露光方法及び露光装置 |
JP4407333B2 (ja) * | 2004-03-23 | 2010-02-03 | ウシオ電機株式会社 | 帯状ワークの露光装置 |
JP4606968B2 (ja) * | 2005-08-16 | 2011-01-05 | 富士フイルム株式会社 | ワーク固定装置及びその位置決め方法並びに画像形成装置 |
JP2009075303A (ja) * | 2007-09-20 | 2009-04-09 | Seiko Epson Corp | 電気光学装置の製造装置及び製造方法 |
-
2009
- 2009-10-07 JP JP2009232972A patent/JP5424803B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2011081156A (ja) | 2011-04-21 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US9170483B2 (en) | Photomask, photomask set, exposure apparatus and exposure method | |
CN107656425B (zh) | 工作台以及曝光装置 | |
JP5424803B2 (ja) | 露光装置 | |
CN111913363B (zh) | 直描式曝光装置 | |
JP4621136B2 (ja) | 露光装置 | |
JP2008251921A (ja) | 基板アライメント装置及び方法並びに描画装置 | |
JP2008250072A (ja) | 描画装置及び方法 | |
JP6894034B2 (ja) | ワーク吸着保持方法、ワークステージ及び露光装置 | |
JP4420507B2 (ja) | 基板露光方法および装置 | |
JP4726814B2 (ja) | 基板の位置決め装置及び位置決め方法 | |
KR102126456B1 (ko) | 프린트 기판용 노광 장치 | |
JP2009300543A (ja) | 露光描画装置 | |
JP2008298870A (ja) | 描画装置 | |
JP4959271B2 (ja) | 露光システムおよびワーク搬送方法 | |
JP2007311374A (ja) | 基板ホルダ、露光装置及びデバイスの製造方法 | |
JP2009300542A (ja) | 露光描画装置 | |
JP2002251017A (ja) | 露光装置 | |
JP5480159B2 (ja) | 基板処理装置および基板処理方法 | |
JP2009265313A (ja) | スキャン露光装置並びにスキャン露光方法 | |
JP6844804B1 (ja) | 露光装置及び露光方法 | |
JP2009294616A (ja) | 露光描画装置 | |
JP7023620B2 (ja) | 露光装置及び基板載置方法 | |
JP2006005139A (ja) | 走査投影露光装置 | |
JP6773435B2 (ja) | 露光装置 | |
JP6646556B2 (ja) | コンタクト露光装置 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20120611 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20131115 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20131119 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20131126 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 Ref document number: 5424803 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |