JP5480159B2 - 基板処理装置および基板処理方法 - Google Patents
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- 239000000758 substrate Substances 0.000 title claims description 223
- 238000003672 processing method Methods 0.000 title claims description 13
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 claims description 18
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims description 13
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 12
- 239000011347 resin Substances 0.000 claims description 9
- 229920005989 resin Polymers 0.000 claims description 9
- 238000001179 sorption measurement Methods 0.000 claims description 6
- 239000012528 membrane Substances 0.000 claims description 5
- 230000032258 transport Effects 0.000 claims 6
- 239000010408 film Substances 0.000 description 53
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 16
- 230000002411 adverse Effects 0.000 description 8
- 238000012423 maintenance Methods 0.000 description 4
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 3
- 238000005452 bending Methods 0.000 description 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 1
- 238000006073 displacement reaction Methods 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 description 1
- 239000012466 permeate Substances 0.000 description 1
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 1
- 238000011144 upstream manufacturing Methods 0.000 description 1
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- B23K26/08—Devices involving relative movement between laser beam and workpiece
- B23K26/0869—Devices involving movement of the laser head in at least one axial direction
- B23K26/0876—Devices involving movement of the laser head in at least one axial direction in at least two axial directions
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- B23K26/08—Devices involving relative movement between laser beam and workpiece
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- H01L21/18—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof the devices having potential barriers, e.g. a PN junction, depletion layer or carrier concentration layer the devices having semiconductor bodies comprising elements of Group IV of the Periodic Table or AIIIBV compounds with or without impurities, e.g. doping materials
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Description
基板と、該基板に設けられた膜面とを有する被処理基板のうち、該膜面の縁部を処理する基板処理装置において、
前記膜面が前記基板の他方側に位置する状態で、前記被処理基板を一方側から吸着して保持する吸着保持部と、
レーザ光を照射するレーザ照射装置と、
前記レーザ照射装置を移動させるレーザ移動部と、を備え、
前記レーザ照射装置からレーザ光を照射させつつ、該レーザ照射装置を移動させることによって、前記吸着保持部によって保持された前記被処理基板のうち前記膜面の縁部を処理する。
前記被処理基板を挟持して位置決めする一対の位置決め部を、さらに備え、
前記吸着保持部が、前記位置決め部によって挟持された前記被処理基板を一方側から吸着して保持し、
前記位置決め部が、前記吸着保持部によって前記被処理基板が保持された後で、該被処理基板を解放してもよい。
前記吸着保持部を回転させることによって前記被処理基板を回転させる回転駆動部を、さらに備え、
前記レーザ照射装置からレーザ光を照射させつつ、該レーザ照射装置を所定の方向に沿って移動させることによって、前記被処理基板の一の縁部を処理し、その後、前記回転駆動部によって前記被処理基板を回転させた後で、前記レーザ照射装置からレーザ光を照射させつつ、該レーザ照射装置を前記所定の方向に沿って移動させることによって、該被処理基板の他の縁部を処理してもよい。
前記レーザ照射装置の下端は、前記吸着保持部の端部よりも一方側に位置してもよい。
前記吸着保持部は、前記被処理基板に当接する当接部と、該当接部の面内に設けられた複数の吸着部と、を有し、
前記当接部は、金属プレートと、該金属プレートの下面に設けられた樹脂シートと、を有してもよい。
基板と、該基板に設けられた膜面とを有する被処理基板のうち、該膜面の縁部を処理する基板処理方法において、
吸着保持部によって、前記膜面が前記基板の他方側に位置する状態で、前記被処理基板を一方側から吸着して保持する工程と、
レーザ照射装置からレーザ光を照射する工程と、
レーザ移動部によって、前記レーザ照射装置を水平方向に移動させる工程と、を備え、
前記レーザ照射装置からレーザ光を照射させつつ、該レーザ照射装置を移動させることによって、前記吸着保持部によって保持された前記被処理基板のうち前記膜面の縁部を処理する。
位置決め部によって挟持された後で、前記被処理基板を一方側から吸着して保持する工程が行われ、その後、該位置決め部によって、該被処理基板が解放されてもよい。
前記レーザ照射装置からレーザ光を照射させつつ、該レーザ照射装置を所定の方向に沿って移動させることによって、前記被処理基板の一の縁部を処理し、その後、回転駆動部によって前記被処理基板を回転させた後で、前記レーザ照射装置からレーザ光を照射させつつ、該レーザ照射装置を前記所定の方向に沿って移動させることによって、該被処理基板の他の縁部を処理してもよい。
以下、本発明に係る基板処理装置および基板処理方法の実施の形態について、図面を参照して説明する。ここで、図1乃至図11は本発明の実施の形態に関する図である。
Claims (11)
- 基板と、該基板に設けられた膜面とを有する被処理基板のうち、該膜面の縁部を処理する基板処理装置において、
前記被処理基板を、前記膜面が前記基板の下方側に位置する状態で搬送する搬送部と、
前記搬送部によって搬送された前記被処理基板を、前記膜面が前記基板の下方側に位置する状態で挟持して位置決めする一対の位置決め部と、
前記一対の位置決め部によって位置決めされた前記被処理基板を、前記膜面が前記基板の下方側に位置する状態で上方側から吸着して保持する吸着保持部と、
レーザ光を照射するレーザ照射装置と、
前記レーザ照射装置を移動させるレーザ移動部と、
を備え、
前記レーザ照射装置から前記基板を通過するようにレーザ光を照射させつつ、該レーザ照射装置を移動させることによって、前記吸着保持部によって保持された前記被処理基板のうち前記膜面の縁部を前記基板を通過したレーザ光により処理し、
前記位置決め部は、前記吸着保持部によって前記被処理基板が保持された後で、該被処理基板を解放することを特徴とする基板処理装置。 - 前記搬送部は、前記膜面のうちレーザ光で除去される部分のみに当接することを特徴とする請求項1に記載の基板処理装置。
- 前記吸着保持部を回転させることによって前記被処理基板を回転させる回転駆動部を、さらに備えたことを特徴とする請求項1に記載の基板処理装置。
- 前記レーザ照射装置からレーザ光を照射させつつ、該レーザ照射装置を所定の方向に沿って移動させることによって、前記被処理基板の一の縁部を処理し、その後、前記回転駆動部によって前記被処理基板を回転させた後で、前記レーザ照射装置からレーザ光を照射させつつ、該レーザ照射装置を前記所定の方向に沿って移動させることによって、該被処理基板の他の縁部を処理することを特徴とする請求項3に記載の基板処理装置。
- 前記レーザ照射装置の下端は、前記吸着保持部の端部よりも上方側に位置していることを特徴とする請求項4に記載の基板処理装置。
- 前記吸着保持部は、前記被処理基板に当接する当接部と、該当接部の面内に設けられた複数の吸着部と、を有し、
前記当接部は、金属プレートと、該金属プレートの下面に設けられた樹脂シートと、を有することを特徴とする請求項1に記載の基板処理装置。 - 前記吸着保持部は、前記基板のうちレーザ光が透過される部分以外の全部を保持することを特徴とする請求項1に記載の基板処理装置。
- 基板と、該基板に設けられた膜面とを有する被処理基板のうち、該膜面の縁部を処理する基板処理方法において、
搬送部によって、前記被処理基板を前記膜面が前記基板の下方側に位置する状態で搬送する工程と、
前記搬送部で搬送された前記被処理基板を、前記膜面が前記基板の下方側に位置する状態で一対の位置決め部によって挟持して位置決めする工程と、
前記一対の位置決め部によって位置決めされた前記被処理基板を、吸着保持部で、前記膜面が前記基板の下方側に位置する状態で上方側から吸着して保持する工程と、
レーザ照射装置からレーザ光を照射する工程と、
レーザ移動部によって、前記レーザ照射装置を水平方向に移動させる工程と、を備え、
前記レーザ照射装置から前記基板を通過するようにレーザ光を照射させつつ、該レーザ照射装置を移動させることによって、前記吸着保持部によって保持された前記被処理基板のうち前記膜面の縁部を前記基板を通過したレーザ光により処理し、
前記吸着保持部によって前記被処理基板が吸着して保持された後で、前記位置決め部が前記被処理基板を解放することを特徴とする基板処理方法。 - 前記レーザ照射装置からレーザ光を照射させつつ、該レーザ照射装置を所定の方向に沿って移動させることによって、前記被処理基板の一の縁部を処理し、その後、回転駆動部によって前記被処理基板を回転させた後で、前記レーザ照射装置からレーザ光を照射させつつ、該レーザ照射装置を前記所定の方向に沿って移動させることによって、該被処理基板の他の縁部を処理することを特徴とする請求項8に記載の基板処理方法。
- 前記搬送部は、前記膜面のうちレーザ光で除去される部分のみに当接することを特徴とする請求項8に記載の基板処理方法。
- 前記膜面の縁部を前記基板を通過したレーザ光により処理する際、前記吸着保持部は、前記基板のうちレーザ光が透過される部分以外の全部を保持することを特徴とする請求項8に記載の基板処理方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2010537787A JP5480159B2 (ja) | 2008-11-13 | 2009-11-11 | 基板処理装置および基板処理方法 |
Applications Claiming Priority (4)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2008291064 | 2008-11-13 | ||
JP2008291064 | 2008-11-13 | ||
PCT/JP2009/069202 WO2010055855A1 (ja) | 2008-11-13 | 2009-11-11 | 基板処理装置および基板処理方法 |
JP2010537787A JP5480159B2 (ja) | 2008-11-13 | 2009-11-11 | 基板処理装置および基板処理方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPWO2010055855A1 JPWO2010055855A1 (ja) | 2012-04-12 |
JP5480159B2 true JP5480159B2 (ja) | 2014-04-23 |
Family
ID=42169987
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2010537787A Active JP5480159B2 (ja) | 2008-11-13 | 2009-11-11 | 基板処理装置および基板処理方法 |
Country Status (5)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP5480159B2 (ja) |
KR (1) | KR101571585B1 (ja) |
CN (1) | CN102197463B (ja) |
TW (1) | TWI469840B (ja) |
WO (1) | WO2010055855A1 (ja) |
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-
2009
- 2009-11-11 CN CN200980142808.0A patent/CN102197463B/zh not_active Expired - Fee Related
- 2009-11-11 JP JP2010537787A patent/JP5480159B2/ja active Active
- 2009-11-11 KR KR1020117013388A patent/KR101571585B1/ko active IP Right Grant
- 2009-11-11 WO PCT/JP2009/069202 patent/WO2010055855A1/ja active Application Filing
- 2009-11-13 TW TW98138676A patent/TWI469840B/zh not_active IP Right Cessation
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Publication number | Publication date |
---|---|
TWI469840B (zh) | 2015-01-21 |
TW201029785A (en) | 2010-08-16 |
KR20110095318A (ko) | 2011-08-24 |
CN102197463B (zh) | 2015-09-30 |
KR101571585B1 (ko) | 2015-11-24 |
WO2010055855A1 (ja) | 2010-05-20 |
CN102197463A (zh) | 2011-09-21 |
JPWO2010055855A1 (ja) | 2012-04-12 |
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R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
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