JP6773435B2 - 露光装置 - Google Patents
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Description
以下では、図面を参照して本発明の実施形態について説明する。
図1は、本実施形態である露光装置の全体構成である。
次に、図2a〜gに従って露光装置1の動作を説明する。
10 露光部
11 露光ステージ
20 搬入装置
21 第1テーブル
22 位置合せユニット
23 第1テーブル移動ユニット
24 カメラ
25 カメラ照明
30 搬送ユニット
31 吸着ハンド
32 昇降部
33 吸着ハンド移動ユニット
40 搬出装置
41 第2テーブル
43 第2テーブル移動ユニット
50 制御部
Claims (3)
- 露光ステージ上の基板にパターンを露光する露光装置において、
前記露光装置の内へ搬入する基板を載置する第1テーブルと、
前記第1テーブルに配設され基板の位置合わせを行う位置合わせユニットと、
前記第1テーブルを水平方向に移動させる第1テーブル移動ユニットと、
前記露光装置の外へ搬出する基板を載置する第2テーブルと、
前記第2テーブルを水平方向に移動させる第2テーブル移動ユニットと、
前記第1テーブルから前記露光ステージへ、または、前記露光ステージから前記第2テーブルへ基板を搬送する搬送ユニットと、
を備えることを特徴とする露光装置。 - 前記第1テーブルは、前記露光装置の内へ基板を搬入する位置と、前記搬送ユニットへ基板を渡す位置との間を前記第1テーブル移動ユニットによって移動し、
前記第2テーブルは、前記露光装置の外へ基板を搬出する位置と、前記搬送ユニットから基板を受ける位置との間を前記第2テーブル移動ユニットによって移動することを特徴とする請求項1に記載の露光装置。 - 前記露光装置の外から前記第1テーブルへ基板を搬入するステップと、
前記第1テーブルが、前記露光装置の内へ前記基板を搬入する位置から、前記搬送ユニットへ前記基板を渡す位置へ、前記第1テーブル移動ユニットにより移動するステップと、
前記位置合わせユニットが前記第1テーブルに載置された前記基板を位置合わせするステップと、
前記搬送ユニットが前記第1テーブルから前記露光ステージ上へ前記基板を搬送するステップと、
前記露光ステージ上に載置された前記基板を露光するステップと、
前記搬送ユニットが前記露光ステージ上から前記第2テーブルへ前記基板を搬送するステップと、
前記第2テーブルが、前記搬送ユニットから前記基板を受ける位置から、前記露光装置の外へ前記基板を搬出する位置へ、前記第2テーブル移動ユニットにより移動するステップと、
前記第2テーブルから前記基板を前記露光装置の外へ搬出するステップとを、
前記露光装置に実行させる制御部を備えることを特徴とする請求項1に記載の露光装置。
Priority Applications (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2016071990A JP6773435B2 (ja) | 2016-03-31 | 2016-03-31 | 露光装置 |
KR1020170038213A KR102336186B1 (ko) | 2016-03-31 | 2017-03-27 | 노광장치 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2016071990A JP6773435B2 (ja) | 2016-03-31 | 2016-03-31 | 露光装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2017181936A JP2017181936A (ja) | 2017-10-05 |
JP6773435B2 true JP6773435B2 (ja) | 2020-10-21 |
Family
ID=60004537
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2016071990A Active JP6773435B2 (ja) | 2016-03-31 | 2016-03-31 | 露光装置 |
Country Status (2)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP6773435B2 (ja) |
KR (1) | KR102336186B1 (ja) |
Family Cites Families (10)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS61201440A (ja) * | 1985-03-04 | 1986-09-06 | Hitachi Electronics Eng Co Ltd | ウエハのアライメント装置 |
JPH04239797A (ja) * | 1991-01-23 | 1992-08-27 | Sharp Corp | スクリーン印刷装置 |
JP2832673B2 (ja) * | 1993-10-29 | 1998-12-09 | 株式会社オーク製作所 | 露光装置およびワークの露光方法 |
JP3070006B2 (ja) | 1997-02-07 | 2000-07-24 | 株式会社オーク製作所 | 薄板状ワークの搬送方法 |
JPH11237744A (ja) * | 1997-12-18 | 1999-08-31 | Sanee Giken Kk | 露光装置および露光方法 |
JP4342663B2 (ja) | 1999-12-20 | 2009-10-14 | 株式会社オーク製作所 | 周辺露光装置 |
JP2004233608A (ja) * | 2003-01-30 | 2004-08-19 | Fuji Photo Film Co Ltd | 露光装置 |
US8599359B2 (en) * | 2008-12-19 | 2013-12-03 | Nikon Corporation | Exposure apparatus, exposure method, device manufacturing method, and carrier method |
JP5316135B2 (ja) * | 2009-03-19 | 2013-10-16 | ウシオ電機株式会社 | 露光装置 |
TWI777060B (zh) | 2010-02-17 | 2022-09-11 | 日商尼康股份有限公司 | 搬送裝置、曝光裝置以及元件製造方法 |
-
2016
- 2016-03-31 JP JP2016071990A patent/JP6773435B2/ja active Active
-
2017
- 2017-03-27 KR KR1020170038213A patent/KR102336186B1/ko active IP Right Grant
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
KR102336186B1 (ko) | 2021-12-06 |
KR20170113266A (ko) | 2017-10-12 |
JP2017181936A (ja) | 2017-10-05 |
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