JP2009295950A - スキャン露光装置およびスキャン露光方法 - Google Patents

Abstract

【課題】マスク保持部、および照射部の数量を削減してコストダウンを図ることができるとともに、スループットを向上することができるスキャン露光装置およびスキャン露光方法を提供する。
【解決手段】スキャン露光装置１では、基板搬送機構１４の第１の基板駆動ユニット１６は、露光領域Ａ，第１及び第２の基板保持領域Ｂ１，Ｂ２、及び第１の基板交換領域Ｃ１間で基板ＷをＸ方向に沿って往復移動可能であり、第２の基板駆動ユニット１７は、露光領域Ａ、第１及び第２の基板保持領域Ｂ１，Ｂ２、及び第２の基板交換領域Ｃ２間で基板ＷをＸ方向に沿って往復移動可能である。第１及び第２の基板駆動ユニット１６，１７は、基板ＷがＹ方向に所定の距離移動するように構成される。
【選択図】図１

Description

本発明は、スキャン露光装置およびスキャン露光方法に関し、より詳細には、液晶ディスプレイやプラズマディスプレイ等の大型のフラットパネルディスプレイの基板上にマスクのマスクパターンを露光転写するのに好適なスキャン露光装置およびスキャン露光方法 に関する。

大型の薄形テレビ等に用いられる液晶ディスプレイやプラズマディスプレイ等の大型のフラットパネルディスプレイは、基板上にマスクのパターンを分割逐次露光方式で近接露光転写することで製造されている。この種の分割逐次露光方法としては、例えば、パネルと同寸のマスクを用い、該マスクをマスクステージで保持すると共に基板をワークステージで保持して両者を近接して対向配置する。そして、ワークステージをマスクに対してステップ移動させる毎にマスク側から基板にパターン露光用の光を照射して、複数のマスクパターンを基板上に露光転写する（例えば、特許文献１参照。）。特許文献１に記載の露光装置では、露光位置に対して左右両側にチャックに対してガラス基板のロード／アンロードを行うロード／アンロード位置が配置され、一方のチャック上のガラス基板で露光が行われている間に、他方のガラス基板でロード／アンロードを行ってスループットを向上させることが提案されている。

また、他の露光方法として、マスクを細分化して、これらマスクを保持する複数のマスク保持部を千鳥状に配置し、基板を一方向に移動させながら露光を行うスキャン露光方式が知られている（例えば、特許文献２参照。）。この露光方式では、基板に形成されるパターンに、ある程度繰り返される部位があることを前提として、これをつなぎ合わせることで大きなパターンを形成できることを利用したものである。この場合、マスクは、パネルに合わせて大きくする必要がなく、比較的安価なマスクを用いることができる。
特開２００５−１４０９３５号公報 特開２００７−１６５８２１号公報

ところで、特許文献１に記載の露光装置では、スループットの向上は図られているものの、パネルの大型化に伴ってマスクが大型化し、製造コストが嵩むという問題がある。

また、特許文献２に記載の露光装置は、全露光領域を隙間なくカバーできるように、基板の搬送方向と直交する方向に沿って千鳥状にマスク保持部、および照射部を配置しなければならず、従って多数のマスク保持部、および照射部が必要となる。近年のフラットパネルディスプレイの大型化に伴い、全露光領域を隙間なくカバーするためのマスク保持部、および照射部の数量はますます多くなり、露光装置の製造コスト上昇の一因となっていた。

本発明は、前述した課題に鑑みてなされたものであり、その目的は、マスク保持部、および照射部の数量を削減してコストダウンを図ることができるとともに、スループットを向上することができるスキャン露光装置およびスキャン露光方法を提供することにある。

本発明の上記目的は、下記の構成により達成される。
（１） 所定の方向に沿って往復自在に基板を搬送可能であるとともに、前記所定の方向と直交する方向に前記基板を移動可能な基板搬送機構と、
前記直交方向に並んで配置され、複数のマスクをそれぞれ保持する複数のマスク保持部と、
前記複数のマスク保持部の上方にそれぞれ配置され、露光用光を照射する複数の照射部と、
を備え、前記搬送される基板に対して前記複数のマスクを介して前記露光用光を照射し、前記基板に前記各マスクのパターンを露光する露光領域と、該露光領域に対して前記所定の方向の上流側及び下流側にそれぞれ設けられ、前記直交方向に移動される際に前記基板を保持可能な第１及び第２の基板保持領域と、前記第１及び第２の基板保持領域に対して前記露光領域と反対側にそれぞれ設けられ、前記基板を搬入及び搬出可能な第１及び第２の基板交換領域と、が設けられたスキャン露光装置であって、
前記基板搬送機構は、前記露光領域、前記第１及び第２の基板保持領域、及び前記第１の基板交換領域間で前記基板を前記所定の方向に沿って往復移動可能な第１の基板駆動ユニットと、前記露光領域、前記第１及び第２の基板保持領域、及び前記第２の基板交換領域間で前記基板を前記所定の方向に沿って往復移動可能な第２の基板駆動ユニットと、を備え、
前記第１及び第２の基板駆動ユニットは、前記基板が前記直交方向に所定の距離移動するように構成されることを特徴とするスキャン露光装置。
（２） 前記第１及び第２の基板交換領域では、前記基板のプリアライメントが行われることを特徴とする（１）に記載のスキャン露光装置。
（３） 前記露光領域、前記第１及び第２の基板保持領域は、これらの領域における前記基板を浮上搬送するための第１の浮上ユニットと、前記複数のマスク保持部と、前記複数の照射部と、が配置されるメインベッド上に位置し、
前記第１及び前記第２の基板交換領域は、これらの各領域における前記基板を浮上搬送するための第２の浮上ユニットがそれぞれ配置される一対のサブベッド上に位置することを特徴とする（１）又は（２）に記載のスキャン露光装置。
（４） 前記所定の距離とは、前記隣接するマスクのパターンの前記直交方向における中心間距離の略１／２であることを特徴とする（１）〜（３）のいずれかに記載のスキャン露光装置。
（５） 所定の方向に沿って往復自在に基板を搬送可能であるとともに、前記所定の方向と直交する方向に前記基板を移動可能な基板搬送機構と、前記直交方向に並んで配置され、複数のマスクをそれぞれ保持する複数のマスク保持部と、前記複数のマスク保持部の上方にそれぞれ配置され、露光用光を照射する複数の照射部と、を備えるスキャン露光装置のスキャン露光方法であって、
前記所定の方向に搬送される基板に対して前記複数のマスクを介して前記露光用光を照射して、前記基板に前記各マスクのパターンを露光することで、前記直交方向に所定の間隔ずつ離れた第１の転写パターンを形成する工程と、
前記複数のマスクに対して前記基板を前記直交方向に所定の距離移動する工程と、
前記所定の方向と反対方向に搬送される基板に対して前記複数のマスクを介して前記露光用光を照射して、前記基板に前記各マスクのパターンを露光することで、前記第１の転写パターン間に第２の転写パターンを形成する工程と、
前記露光装置で露光された露光済みの基板を搬出する工程と、
前記露光装置で露光される未露光基板を搬入する工程と、
を備え、前記第１の転写パターンの形成工程、前記移動工程、及び第２の転写パターンの形成工程を行うタイミングは、前記搬出及び搬入工程を行うタイミングと少なくともオーバーラップすることを特徴とするスキャン露光方法。
（６） 前記未露光基板をプリアライメントする工程を、さらに備え、
前記第１の転写パターンの形成工程、前記移動工程、及び第２の転写パターンの形成工程を行うタイミングは、前記搬出工程、前記搬入工程、及び前記プリアライメント工程を行うタイミングと略一致することを特徴とする（５）に記載のスキャン露光方法。
（７） 所定の方向に沿って往復自在に基板を搬送可能であるとともに、前記所定の方向と直交する方向に前記基板を移動可能な基板搬送機構と、前記直交方向に並んで配置され、複数のマスクをそれぞれ保持する複数のマスク保持部と、前記複数のマスク保持部の上方にそれぞれ配置され、露光用光を照射する複数の照射部と、を備えるスキャン露光装置のスキャン露光方法であって、
前記所定の方向に搬送される基板に対して前記複数のマスクを介して前記露光用光を照射して、前記基板に前記各マスクのパターンを露光することで、前記直交方向に所定の間隔ずつ離れた第１の転写パターンを形成する工程と、
前記複数のマスクに対して前記基板を前記所定の方向と反対方向に搬送すると共に、前記直交方向に所定の距離移動する工程と、
前記所定の方向に搬送される基板に対して前記複数のマスクを介して前記露光用光を照射して、前記基板に前記各マスクのパターンを露光することで、前記第１の転写パターン間に第２の転写パターンを形成する工程と、
前記露光装置で露光された露光済みの基板を搬出する工程と、
前記露光装置で露光される未露光基板を搬入する工程と、
を備え、前記移動工程において、前記所定の方向と反対方向への搬送と前記直交方向への移動は、同時に行なわれることを特徴とするスキャン露光方法。

本発明のスキャン露光装置及びスキャン露光方法によれば、基板を露光領域に対して往復して搬送することで、必要となるマスク保持部および照射部の数量を削減することができ、スキャン露光装置の製造コストを大幅に低減することができる。また、２つの基板交換領域を２つの基板保持領域の露光領域と反対側にそれぞれ設けて、基板の露光動作と、基板の搬出・搬入動作とを行うタイミングを少なくともオーバーラップするようにしたので、スループットを向上することができる。
また、本発明のスキャン露光方法によれば、第１の転写パターン形成後に第２の転写パターンを形成する前の移動工程において、所定の方向と反対方向（即ち、露光時の搬送方向と反対方向）への搬送と、直交方向への移動は同時に行なわれるので、スループットを向上することができる。

以下、本発明に係るスキャン露光装置及びスキャン露光方法の実施形態を図面に基づいて詳細に説明する。

先ず、本実施形態のスキャン露光装置１の構成について概略説明する。図１に示すように、本実施形態のスキャン露光装置１は、基板Ｗを浮上搬送させながら基板Ｗに露光を行う露光機本体２と、露光機本体２の搬送方向両側に位置し、基板Ｗの搬入・搬出及びプリアライメントが行われる一対のプリアライメント台３，４と、各プリアライメント台３，４と図示しない基板ストッカとの間で基板Ｗの搬入・搬出を行う一対の基板搬送ロボット５，６と、基板搬送ロボット５，６との間に位置する配電盤７と、露光機本体２に対して配電盤７と反対側に位置し、スキャン露光装置１の各作動部分の動きを操作する操作パネル８と、マスク搬送ロボット９と、マスクストッカ１０と、を備える。

図２及び図３に示すように、露光機本体２は、基板Ｗを浮上させて支持すると共に、所定の方向であるＸ方向および該所定の方向と直交する方向であるＹ方向に搬送する基板搬送機構１４と、Ｙ方向に沿って並んでそれぞれ配置され、複数のマスクＭをそれぞれ保持する複数（図１に示す実施形態において６個）のマスク保持部１１と、マスク保持部１１をそれぞれ駆動する複数のマスク駆動部１２と、複数のマスク保持部１１の上部にそれぞれ配置されて露光用光を照射する複数の照射部１３と、を主に備える。

基板搬送機構１４は、浮上ユニット１５ａ，１５ｂと、基板ＷのＹ方向一側（図１において上辺）を保持してＸ方向に搬送可能、且つＹ方向に移動可能な第１及び第２の基板駆動ユニット１６，１７とを備える。浮上ユニット１５ａ，１５ｂは、複数のフレーム１８，１９上にそれぞれ設けられた複数の排気エアパッド２０及び吸排気エアパッド２１を備え、ポンプ（図示せず）やソレノイドバルブ（図示せず）を介して排気エアパッド２０や吸排気エアパッド２１からエアを排気或いは、吸排気する。これにより、基板Ｗは、浮上ユニット１５ａ，１５ｂ上に空気流によって浮上した状態で保持され、基板Ｗを抵抗なく搬送可能とする。

第１及び第２の基板駆動ユニット１６，１７は、図２に示すように、Ｘ方向搬送機構５０，５１と、これらＸ方向搬送機構５０，５１によってＸ方向に沿って往復搬送される移動基台５２，５３と、各移動基台５２，５３上に配設されるＹ方向搬送機構５４，５５と、これらＹ方向搬送機構５４，５５によってＹ方向に沿って往復搬送される吸着パッド５６，５７をそれぞれ備える。Ｘ方向搬送機構５０，５１は、移動基台５２，５３の裏面に設けられた図示しないリニアモータが、図示しないドライバによって、ガイドレール５８に沿ってＸ方向に移動することで、移動基台５２，５３をＸ方向に沿って往復搬送する。また、Ｙ方向搬送機構５４，５５は、吸着パッド５６，５７の裏面に設けられた図示しないリニアモータが、図示しないドライバによって、ガイドレール５９，６０に沿ってＹ方向に移動することで、吸着パッド５６，５７を移動基台５２，５３に対してＹ方向に沿って往復搬送する。なお、本実施形態では、ガイドレール５８は、露光機本体２と、一対のプリアライメント台３，４の側方に亘ってＸ方向に延びるように形成されている。また、第１及び第２の基板駆動ユニット１６，１７は、後述の光学アライメントピンの代わりに、θ補正軸を具備しても良い。

また、図３に示すように、第１の浮上ユニット１５ａが設けられる複数のフレーム１８は、地面にレベルブロック２２を介して設置されたメインベッド２３上に他のレベルブロック２４を介して配置されている。また、第２の浮上ユニット１５ｂが設けられる他のフレーム１９は、地面にレベルブロック２５を介して設置されたサブベッド２６ａ，２６ｂ上に他のレベルブロック２７を介して配置されている。
従って、メインベッド２３上には、後述する露光領域Ａ、及び露光領域Ａの上流側及び下流側にそれぞれ設けられる第１及び第２の基板保持領域Ｂ１，Ｂ２における基板Ｗを浮上搬送するための第１の浮上ユニット１５ａと、複数のマスク保持部１１と、複数の照射部１３と、が配置される。また、プリアライメント台３，４を構成する各サブベッド２６ａ，２６ｂ上には、第１及び第２の基板保持領域Ｂ１，Ｂ２に対して露光領域Ａと反対側にそれぞれ設けられる各第１及び第２の基板交換領域Ｃ１、Ｃ２における基板Ｗを浮上搬送するための各第２の浮上ユニット１５ｂがそれぞれ配置される。

マスク駆動部１２は、フレーム（図示せず）に取り付けられ、マスク保持部１１をＸ方向に沿って駆動するＸ方向駆動部３１と、Ｘ方向駆動部３１の先端に取り付けられ、マスク保持部１１をＹ方向に沿って駆動するＹ方向駆動部３２と、Ｙ方向駆動部３２の先端に取り付けられ、マスク保持部１１をθ方向（Ｘ，Ｙ方向からなる水平面の法線回り）に回転駆動するθ方向駆動部３３と、θ方向駆動部３３の先端に取り付けられ、マスク保持部１１をＺ方向（Ｘ，Ｙ方向からなる水平面の鉛直方向）に駆動するＺ方向駆動部３４と、を有する。これにより、Ｚ方向駆動部３４の先端に取り付けられたマスク保持部１１は、マスク駆動部１２によってＸ，Ｙ，Ｚ，θ方向に駆動可能である。なお、Ｘ，Ｙ，θ，Ｚ方向駆動部３１，３２，３３，３４の配置の順序は、適宜変更可能である。

また、図２に示すように、Ｙ方向に沿って配置された複数のマスク保持部１１には、各マスク保持部１１のマスクＭを同時に交換可能なマスクチェンジャ３７が配設されている。マスクチェンジャ３７により搬送される使用済み或いは未使用のマスクＭは、マスクストッカ１０との間でマスクローダー９により受け渡しが行われる。なお、マスクストッカ９とマスクチェンジャ３７とで受け渡しが行われる間にマスクプリアライメント機構（図示せず）によってマスクＭのプリアライメントが行われる。

図３に示すように、各マスク保持部１１の上部に配置される複数の照射部１３は、ＹＡＧレーザーや、エキシマレーザーなどの光源４１と、この光源４１から照射された光を集光する凹面鏡４２と、この凹面鏡４２の焦点近傍に光路方向に移動可能な機構を有するオプチカルインテグレータ４３と、光路の向きを変えるための平面ミラー４５及び球面ミラー４６と、この平面ミラー４５とオプチカルインテグレータ４３との間に配置されて照射光路を開閉制御する露光制御用シャッター４４と、を備える。

マスク保持部１１に保持されるマスクＭは、露光用光ＥＬの照射によりマスクパターンを基板Ｗ上のフォトレジストに露光転写させるものであり、本実施形態のマスクＭは、２種類のマスクパターン６１、６２を備える（図６参照）。２種類のマスクパターン６１、６２は、マスク駆動部１２によってマスク保持部１１を移動させることにより、いずれか一方のマスクパターン６１、６２が、照射部１３からの露光用光ＥＬの照射領域内に配置されることで切り替えられる。即ち、露光に際しては、２種類のマスクパターン６１、６２が切り替えられて、いずれか一方のマスクパターン６１、６２が有効となって基板Ｗに露光転写される。

また、Ｙ方向に並べて配置される複数のマスク保持部１１では、後述する往路で使用される隣接するマスクパターン６１の間隔Ｇが、復路で使用されるマスクパターン６２のＹ方向の幅と、往復動作によって重ね合わせて露光される両側の幅とを考慮して設定されている。ただし、マスクパターン６１の間隔Ｇやマスクパターン６２のＹ方向の幅は、後述する基板ＷのＹ方向への移動量をできるだけ小さくするように設定されている。

マスク保持部１１の下方に配置されたフレーム１８には、基板ＷとマスクＭの相対位置を検知する検知部である複数の撮像手段３５が、複数のマスク保持部１１ごとに配置されている。撮像手段３５は、Ｘ方向に沿って配置された移動案内軸３６に案内されてＸ方向に移動可能であり、図示しない制御部からの指令に基づいて作動する駆動装置（図示せず）によって駆動されて、マスクＭに対して基板Ｗの搬送方向上流側である第１検知位置ＳＰ１と、基板Ｗの搬送方向下流側である第２検知位置ＳＰ２との間を移動する。

このようなスキャン露光装置１は、浮上ユニット１５ａ，１５ｂの排気エアパッド２０及び吸排気エアパッド２１の空気流によって基板Ｗを浮上させ、基板Ｗの一端を第１或いは第２の基板駆動ユニット１６，１７で吸着・保持して、第１或いは第２の基板保持領域Ｂ１，Ｂ２から露光領域ＡへとＸ方向に搬送する。そして、露光領域Ａにおいては、マスク保持部１１の下方に位置する基板Ｗに対して、照射部１３からの露光用光ＥＬがマスクＭを介して照射され、マスクＭのパターンを基板Ｗに塗布されたフォトレジストに転写する。このとき、基板ＷとマスクＭとの位置誤差は、複数のマスク保持部１１ごとに設けられた撮像手段３５が検出する基板Ｗ及びマスクＭの位置データに基づいて制御部から出力される指令信号によって、θ方向駆動部３３、及びＹ方向駆動部３２が作動してマスクＭの位置を微調整することで補正（位置合わせ）される。

また、図４に模式的に示すように、基板Ｗの搬入・搬出及びプリアライメントが行われる一対のプリアライメント台３，４（図４は、プリアライメント台３のみ示す。）では、Ｚ方向に進退可能な複数の基板リフトピン７０と、Ｚ方向に進退して基板Ｗの側面に当接しながら、Ｘ方向或いはＹ方向に移動することで、機械的に基板Ｗのアライメントを調整する複数の機械式アライメントピン７１と、Ｚ方向に進退して基板Ｗを吸着可能であるとともにＹ方向に移動可能な一対の光学アライメントピン７２と、基板Ｗの位置を下方から検出する光学アライメント用カメラ７３と、が配置されている。基板リフトピン７０、機械式アライメントピン７１、光学アライメントピン７２、光学アライメント用カメラ７３は、それぞれ排気エアパッド２０と干渉しない位置で、他のフレーム１９上に配置されている。

従って、各プリアライメント台３，４に露光済みの基板Ｗが搬送されてきた際には、まず、排気エアパッド２０から排気されるエアによって基板Ｗは浮上支持される。この状態で、基板リフトピン７０を所定の吸着高さまで上昇させて、基板リフトピン７０によって基板Ｗを吸着し、その後、第１の基板駆動ユニット１６の吸着パッド５６による吸着を解除する。そして、図４（ｂ）に示すように、基板リフトピン７０を基板受け渡し位置までさらに上昇させ、基板搬送ロボット５によって露光済みの基板Ｗが搬出され、未露光の基板Ｗが搬入される。基板搬送ロボット５は、２本のアームを有するハンドリングロボットで、これら２本のアームを同時に使用して、一方のアームで基板Ｗをプリアライメント台３から搬出した後、すぐに、他方のアームが基板Ｗをプリアライメント台３に搬入する。

その後、排気エアパッド２０によるエアの排気を停止した状態で、搬入された基板Ｗが載置された基板リフトピン７０を所定の吸着高さまで下降させた後、基板リフトピン７０の吸着を解除し、さらに、基板Ｗが載置された状態で基板リフトピン７０を下降させる。この状態で、基板Ｗは、その側面が機械式アライメントピン７１と当接可能な高さとなり、これらピン７１によってアライメント調整される。

そして、機械的なアライメント調整を完了した後に、これらアライメントピン７１を基板Ｗから退避させ、光学アライメントピン７２を上昇させるとともに、これら光学アライメントピン７２によって基板Ｗを吸着する。また、排気エアパッド２０によるエアの排気を開始して基板Ｗを浮上させ、光学アライメント用カメラ７３で基板Ｗを見ながら２つの光学アライメントピン７２をＹ方向に駆動して、θ方向の補正を行う。その後、第１の基板駆動ユニット１６の吸着パッド５６によって基板Ｗを吸着して、光学アライメントピン７２を下降させるとともに、光学アライメントピン７２による吸着を解除する。

次に、このように構成されたスキャン露光装置１の動作について、図５のフローチャート及び図６の動作説明図を用いて説明する。なお、図５のフローチャートにおいて、左のフローは、第１の基板交換領域Ｃ１から搬入・搬出される基板Ｗの一連の露光動作を示し、右のフローは、第２の基板交換領域Ｃ２から搬入・搬出される基板Ｗ´の一連の露光動作を示しており、二点鎖線で仕切られた左右の各工程は、同じ時間内で動作していることを示している。

まず、第１の基板駆動ユニット１６が第１の基板交換領域Ｃ１に移動した状態で（ステップＳ１ａ）、基板搬送ロボット５によって第１の基板交換領域Ｃ１に基板Ｗの搬入が行われる（ステップＳ２ａ）。そして、上述したように、搬入された基板Ｗのプリアライメントが行われた後（ステップＳ３ａ）、基板Ｗが第１の基板駆動ユニット１６の吸着バッド５６によって吸着・保持される（ステップＳ４ａ）。

その後、第１の基板駆動ユニット１６を駆動して、浮上ユニット１５ａ，１５ｂからの空気流によって浮上支持された状態で一定の速度でＸ方向に搬送され、基板Ｗは、図６（ａ）に示すように、第１の基板保持領域Ｂ１へ移動する（ステップＳ５ａ）。このとき、第２の基板駆動ユニット１７は、第２の基板交換領域Ｃ２へ移動する（ステップＳ１ｂ）。

さらに、基板Ｗは、一定の速度でＸ方向に搬送され、マスクパターン６１，６２を形成した面を下にしてマスク保持部１１に保持されるマスクＭと近接対向する露光領域Ａ内に進入する。ここで、２種類のマスクパターン６１，６２のうち、マスクパターン６１が照射部１３からの露光用光ＥＬの照射領域内に配置されており、マスクパターン６１が有効となっている。また、撮像手段３５は、マスク保持部１１に対して基板Ｗの搬送方向上流側である第１検知位置ＳＰ１に位置する。

図６（ｂ）に示すように、第１の基板駆動ユニット１６によってＸ方向に搬送される基板Ｗが、第１検知位置ＳＰ１に達すると、撮像手段３５が基板ＷとマスクＭの相対位置を検知し、この位置データに基づいて制御部から出力される指令信号によってマスク駆動部１２が作動してマスク保持部１１を移動させることにより、基板Ｗへのマスクパターン６１の露光転写に先立って、基板ＷとマスクＭとの位置誤差が修正される。

位置誤差が修正されて搬送される基板Ｗには、それぞれのマスクＭを介して照射部１３から露光用光ＥＬが照射されてマスクパターン６１が露光転写される。これにより、露光領域Ａを通過して第２の基板保持領域Ｂ２に位置する基板Ｗには、Ｙ方向に所定の間隔Ｇずつ離れた複数（図３に示す実施例では６本）の第１の転写パターン８３が形成される（ステップＳ６ａ）。なお、隣接する第１の転写パターン８３間の部分は未露光部である。

次に、第１の転写パターン８３形成後、露光領域Ａを越えた基板Ｗを保持する第２の基板保持領域Ｂ２では、図６（ｃ）に示すように、第１の基板駆動ユニット１６のＹ方向搬送機構５４によって、基板Ｗを保持する吸着パッド５６をマスク保持部１１に対してＹ方向に所定の距離Ｌだけ移動させる（ステップＳ７ａ）。具体的に、各マスクパターン６１，６２のＹ方向における中心位置が一致している本実施形態においては、所定の距離Ｌは、隣接するマスクＭのマスクパターン６１，６２のＹ方向における中心間距離Ｄの略１／２である。

また、同時に、図示しない駆動装置を作動させて、撮像手段３５を第１検知位置ＳＰ１から第２検知位置ＳＰ２に移動させる。これにより、基板Ｗの往路搬送および復路搬送のいずれの搬送時にも、基板ＷがマスクＭの下方に位置する前に、即ち、マスクパターンの露光転写に先立って、基板ＷとマスクＭとの相対位置を検知して位置誤差を修正することができる。

更に、マスクパターン６２が照射部１３からの露光用光の照射領域内に位置するように、マスク駆動部１２によってマスク保持部１１を移動させ、有効なマスクパターンをマスクパターン６１からマスクパターン６２に切り替える。

そして、第１の基板駆動ユニット１６は、Ｘ方向搬送機構５０は基板Ｗの搬送方向をＸ方向と逆方向に切り替えて、第２の基板保持領域Ｂ２に保持されていた基板Ｗを、Ｘ方向と逆方向に搬送する。そして、基板Ｗが第２検知位置ＳＰ２に達すると、撮像手段３５が基板ＷとマスクＭの相対位置を検知し、マスク駆動部１２がマスク保持部１１を移動させて基板ＷとマスクＭとの位置誤差を修正する。そして、照射部１３からの露光用光ＥＬを、それぞれのマスクＭを介して照射して、第１の転写パターン８３間の未露光部にマスクパターン６２を露光転写して第２の転写パターン８４を形成する（ステップＳ８ａ）。このとき、第２の転写パターン８４の幅は、未露光部の幅より僅かに大きいので、第１の転写パターン８３と第２の転写パターン８４には、重ね合わせ部が形成されて、基板Ｗの全面にマスクパターン６１，６２が露光転写される。

この一連のステップＳ６ａ〜Ｓ８ａの露光動作中に、第２の基板交換領域Ｃ２では、基板Ｗ´の搬入（ステップＳ２ｂ）、基板Ｗ´のプリアライメント（ステップＳ３ｂ）、第２の基板駆動ユニット１７の吸着バッド５７による吸着・保持が行われる（ステップＳ４ｂ）。

そして、図６（ｅ）に示すように、第１の基板駆動ユニット１６によって保持された露光済みの基板Ｗが、第１の基板保持領域Ｂ１から第１の基板交換領域Ｃ１へ移動する（ステップＳ１ａ）際に、同時に、第２の基板駆動ユニット１７によって保持された未露光の基板Ｗ´が第２の基板保持領域Ｂ２へ露光動作時の速度より速い速度で移動される（ステップＳ５ｂ）。 同時に、マスクパターン６１が照射部１３からの露光用光の照射領域内に位置するように、マスク駆動部１２によってマスク保持部１１を移動させ、有効なマスクパターンをマスクパターン６２からマスクパターン６１に切り替える。

なお、第１の交換領域Ｃ１から搬入・搬出される基板Ｗが、第１の転写パターン８３を露光後に第２の転写パターン８４を露光する一方、第２の交換領域Ｃ２から搬入・搬出される基板Ｗ´が、第２の転写パターン８４を露光した後に第１の転写パターン８３を露光する場合には、上記マスクパターンの切換え動作を行う必要がない。

そして、第１の基板交換領域Ｃ１では、露光済み基板Ｗの搬出と、未露光基板Ｗの搬入（ステップＳ２ａ）、未露光基板Ｗのプリアライメント（ステップＳ３ａ）、未露光基板Ｗの吸着保持が行われる。一方、この間に、第２の駆動ユニット５１によって保持された基板Ｗ´も上述した同様の露光動作によって、往路によるスキャン露光(ステップＳ６ｂ)によって第１の転写パターン８３が露光され、次に、第１の基板保持領域Ｂ１に保持された基板Ｗ´に対してＹ方向への基板Ｗの移動（ステップＳ７ｂ）を行い、復路によるスキャン露光（ステップＳ８ｂ）によって第２の転写パターン８４が露光される。その後、上記と同様の動作が繰り返される。

以上説明したように、本実施形態のスキャン露光装置１は、基板搬送機構１４の第１及び第２の基板駆動ユニット１６，１７は、複数のマスクＭと基板ＷとがＹ方向に所定の距離Ｌ、即ち、隣接するマスクＭのマスクパターン６１，６２のＹ方向における中心間距離Ｄの略１／２だけ移動するように構成されている。そして、基板Ｗの往路搬送時に、所定の間隔Ｇずつ離れた第１の転写パターン８３を露光させ、基板搬送機構１４により基板Ｗを所定の間隔Ｌだけ移動させた後、基板Ｗを復路搬送して、往路搬送時に露光した第１の転写パターン８３間に形成された未露光部に第２の転写パターン８４を隙間なく露光させることができる。

これにより、必要となるマスク保持部１１および照射部１３の数量が削減され、スキャン露光装置１の製造費用が大幅に低減する。また、スキャン露光装置１に対する基板Ｗの搬入、搬出を、１台の搬送装置で行うことができ、搬送装置の設置費用を削減すると共に、設置スペースの省スペース化が可能となる。

また、スキャン露光装置１は、露光領域Ａと、第１及び第２の基板保持領域Ｂ１，Ｂ２と、第１及び第２の基板交換領域Ｃ１、Ｃ２と、を設けて、基板搬送機構１４は、露光領域Ａ、第１及び第２の基板保持領域Ｂ１，Ｂ２、及び第１の基板交換領域Ｃ１間で基板ＷをＸ方向に沿って往復移動可能な第１の基板駆動ユニット１６と、露光領域Ａ、第１及び第２の基板保持領域Ｂ１，Ｂ２、及び第２の基板交換領域Ｃ２間で基板ＷをＸ方向に沿って往復移動可能な第２の基板駆動ユニット１７と、を備えるようにしている。これにより、基板Ｗの露光動作、すなわち、第１の転写パターン８３の形成工程、Ｙ方向への基板Ｗの移動工程、及び第２の転写パターン８４の形成工程と、基板Ｗの搬出工程及び搬入工程とを行うタイミングを少なくともオーバーラップさせて行うことができ、スループットを向上することができる。

また、第１及び第２の基板交換領域Ｂ１，Ｂ２では、基板のプリアライメントが行われるので、第１の転写パターン８３の形成工程、Ｙ方向への基板Ｗの移動工程、及び第２の転写パターン８４の形成工程と、搬出工程、搬入工程、及びプリアライメント工程とを行うタイミングを略一致して行なうことができ、スループットをさらに向上することができる。

さらに、露光領域Ａ、第１及び第２の基板保持領域Ｂ１，Ｂ２は、これらの領域における基板Ｗを浮上搬送するための第１の浮上ユニット１５ａと、複数のマスク保持部１１と、複数の照射部１３と、が配置されるメインベッド２５上に位置し、第１及び第２の基板交換領域Ｃ１，Ｃ２は、これらの各領域における基板Ｗを浮上搬送するための第２の浮上ユニット１５ｂがそれぞれ配置される一対のサブベッド２６ａ，２６ｂ上に位置するので、搬出工程、搬入工程や、プリアライメント工程における振動等が、露光動作に影響を及ぼすことを防止することができる。

また、本発明のスキャン露光装置1によれば、撮像手段３５は、マスク保持部１１に対して上流側及び下流側において基板ＷとマスクＭの相対位置を検知可能としたので、基板Ｗの往路搬送および復路搬送のいずれにおいても、基板Ｗの露光に先立って基板ＷとマスクＭとの相対位置を検知することができる。これによって、基板ＷとマスクＭとのアライメント調整を行って高精度でマスクパターン６１，６２を露光転写することができる。
さらに、撮像手段３５を移動案内軸３６によってＸ方向に移動可能としたので、上流側及び下流側の両側に撮像手段３５を設ける必要がなく、コストダウンを図ることができる。

なお、本実施形態の撮像手段３５は、１台の撮像手段３５を第１検知位置ＳＰ１と第２検知位置ＳＰ２との間で移動させるようにしたが、撮像手段３５を２台準備してそれぞれ第１検知位置ＳＰ１および第２検知位置ＳＰ２に固定設置してもよい。或いは、１台の撮像手段３５を第１検知位置ＳＰ１に固定設置すると共に、第１検知位置ＳＰ１および第２検知位置ＳＰ２にそれぞれ可動ミラーおよび固定ミラーを配置して、第１検知位置ＳＰ１においては直接、撮像手段３５で基板ＷとマスクＭの相対位置を検知し、第２検知位置ＳＰ２においてはミラーを介して基板ＷとマスクＭの相対位置を検知するようにしてもよい。

（第２実施形態）
次に、本発明の第２実施形態に係るスキャン露光装置及び露光方法を図面に基づいて詳細に説明する。なお、第１実施形態と同一又は同等部分については、同一符号を付して説明を省略或いは簡略化する。

本実施形態では、複数のマスク保持部１１ごとに設けられる撮像手段３５は、第１及び第２検出位置ＳＰ１，ＳＰ２に２台設けたり、上記実施形態の駆動手段やミラーを設けたりせずに、第１検出位置ＳＰ１のみで基板ＷとマスクＭの相対位置を検知する。

以下、本実施形態の露光動作について、図７のフローチャート及び図８の動作説明図を用いて説明する。なお、図８において、各基板保持領域Ｂ１，Ｂ２と各基板交換領域Ｃ１，Ｃ２において、吸着パッド５６，５７の初期位置に対応する基板Ｗ，Ｗ´の位置をＢ１ａ，Ｂ２ａ，Ｃ１ａ，Ｃ２ａとし、吸着パッド５６，５７がＹ方向に所定の距離Ｌ（Ｄ／２）移動後の基板Ｗの位置をＢ１ｂ，Ｂ２ｂ，Ｃ１ｂ，Ｃ２ｂとする。また、本実施形態では、第１及び第２の基板交換領域Ｃ１，Ｃ２は露光動作中の基板Ｗを保持する基板保持領域として使用される。

まず、図８（ａ）に示すように、第１の基板駆動ユニット１６が第１の基板交換領域Ｃ１に移動した状態で、基板搬送ロボット５によって第１の基板交換領域Ｃ１に基板Ｗの搬入が行われる（ステップＳ１１ａ）。そして、搬入された基板Ｗのプリアライメントが行われた後（ステップＳ１２ａ）、基板Ｗが第１の基板駆動ユニット１６の吸着バッド５６によって吸着・保持される（ステップＳ１３ａ）。
この間、吸着パッド５７によって基板Ｗ´を吸着・保持した第２の基板駆動ユニット１７は、第２の基板交換領域Ｃ２ａから第１の基板保持領域Ｂ１ａへ移動する（ステップＳ１１ｂ）。

次に、図８（ｂ）に示すように、第１の基板保持領域Ｂ１ａに位置する基板Ｗ´が、第２の基板駆動ユニット１７のＸ方向搬送機構５１の駆動により、一定の速度でＸ方向に搬送されて露光領域Ａに進入する。ここで、露光領域Ａでは、２種類のマスクパターン６１，６２のうち、マスクパターン６１が有効となっている。そして、第１検知位置ＳＰ１に設けられた撮像手段３５によって基板Ｗ´とマスクＭとの位置誤差が修正された後、それぞれのマスクＭを介して照射部１３から露光用光ＥＬが照射されてマスクパターン６１が露光転写される。
また、第１の基板交換領域Ｃ１ａに位置する基板Ｗも、第１の基板駆動ユニット１６のＸ方向搬送機構５０の駆動により、一定の速度でＸ方向に搬送されて露光領域Ａに進入する。そして、第１検知位置ＳＰ１に設けられた撮像手段３５によって基板ＷとマスクＭとの位置誤差が修正された後、それぞれのマスクＭを介して照射部１３から露光用光ＥＬが照射されてマスクパターン６１が露光転写される。
これにより、露光領域Ａを通過して第２の基板交換領域Ｃ２ａに位置する基板Ｗ´と第２の基板保持領域Ｂ２ａに位置する基板Ｗには、Ｙ方向に所定の間隔Ｇずつ離れた複数の第１の転写パターン８３が形成される（ステップＳ１４ａ、ステップＳ１２ｂ）。

次に、図８（ｃ）に示すように、第１の転写パターン８３が形成された基板Ｗは、第１の基板駆動ユニット１６のＸ方向搬送機構５０とＹ方向搬送機構５４の両方の駆動により、第１の基板駆動ユニット１６の基板Ｗを保持する吸着パッド５６をマスク保持部１１に対してＹ方向に所定の距離Ｌだけ移動させつつ、Ｘ方向に移動させ、第１の基板交換領域Ｃ１ｂに位置させる（ステップＳ１５ａ）。
同様に、第１の転写パターン８３が形成された基板Ｗ´も、第２の基板駆動ユニット１７のＸ方向搬送機構５１とＹ方向搬送機構５５の両方の駆動により、第２の基板駆動ユニット１７の基板Ｗを保持する吸着パッド５７をマスク保持部１１に対してＹ方向に所定の距離Ｌだけ移動させつつ、Ｘ方向に移動させ、第１の基板保持領域Ｂ１ｂに位置させる（ステップＳ１３ｂ）。

そして、図８（ｄ）に示すように、第１の基板保持領域Ｂ１ｂに位置する基板Ｗ´が、第２の基板駆動ユニット１７のＸ方向搬送機構５１の駆動により、一定の速度でＸ方向に搬送されて露光領域Ａに進入する。ここで、露光領域Ａでは、２種類のマスクパターン６１，６２のうち、マスクパターン６２が有効となっている。そして、第１検知位置ＳＰ１に設けられた撮像手段３５によって基板Ｗ´とマスクＭとの位置誤差が修正された後、それぞれのマスクＭを介して照射部１３から露光用光ＥＬが照射されてマスクパターン６２が露光転写して第２の転写パターン８４を形成する。
また、第１の基板交換領域Ｃ１ｂに位置する基板Ｗも、第１の基板駆動ユニット１６のＸ方向搬送機構５０の駆動により、一定の速度でＸ方向に搬送されて露光領域Ａに進入する。そして、第１検知位置ＳＰ１に設けられた撮像手段３５によって基板ＷとマスクＭとの位置誤差が修正された後、それぞれのマスクＭを介して照射部１３から露光用光ＥＬが照射されてマスクパターン６２が露光転写して第２の転写パターン８４を形成する。
これにより、露光領域Ａを通過して第２の基板交換領域Ｃ２ｂに位置する基板Ｗ´と第２の基板保持領域Ｂ２ｂに位置する基板Ｗには、全面にマスクパターン６１，６２が露光転写される。

その後、図８（ｅ）に示すように、第２の基板保持領域Ｂ２ｂに位置する基板Ｗは、第１の基板駆動ユニット１６のＸ方向搬送機構５０の駆動により、第１の基板交換領域Ｃ１ｂに戻され（ステップＳ１７ａ）、第２の基板交換領域Ｃ２ｂに位置する基板Ｗ´は、そのまま搬出される（ステップＳ１５ｂ）。

次に、第１の基板交換領域Ｃ１ｂでは基板Ｗが搬出され（ステップＳ１８ａ）、この間に、第２の基板交換領域Ｃ２ａでは、基板Ｗ´の搬入（ステップＳ１６ｂ）、基板Ｗ´のプリアライメント（ステップＳ１７ｂ）、第２の基板駆動ユニット１７の吸着バッド５７による吸着・保持が行われる（ステップＳ１８ｂ）。その後、上記と同様の動作が繰り返される。

従って、本実施形態に係るスキャン露光装置及び露光方法では、撮像手段３５の構成がより簡潔となり、スキャン露光装置１の製造費用をさらに低減することができる。
また、この露光方法では、第１の転写パターン８３の形成後、各基板Ｗ，Ｗ´をＸ方向と反対方向への搬送及びＹ方向への移動が同時に行なわれ、第２の転写パターン８４を形成する際の待機位置へ移動させることができるので、スループットを向上することができる。
なお、各基板Ｗ，Ｗ´をＸ方向及びＹ方向に同時に移動させる場合に基板Ｗ、Ｗ´のアライメントが行なわれてもよい。

なお、本実施形態のスキャン露光装置では、図９のフローチャート及び図１０の動作説明図に示すような他の露光方法が適用されてもよい。

この方法では、まず、図１０（ａ）に示すように、第１の基板交換領域Ｃ１ａに位置する基板Ｗが、第１の基板駆動ユニット１６のＸ方向搬送機構５０の駆動により、一定の速度でＸ方向に搬送されて露光領域Ａに進入する。そして、第１検知位置ＳＰ１に設けられた撮像手段３５によって基板ＷとマスクＭとの位置誤差が修正された後、それぞれのマスクＭを介して照射部１３から露光用光ＥＬが照射されてマスクパターン６１が露光転写される。これにより、露光領域Ａを通過して第２の基板保持領域Ｂ２ａに位置する基板Ｗには、Ｙ方向に所定の間隔Ｇずつ離れた複数の第１の転写パターン８３が形成される（ステップＳ２１ａ）。
この間、第２の基板駆動ユニット１７が第２の基板交換領域Ｃ２に移動した状態で、基板搬送ロボット６によって第２の基板交換領域Ｃ２に基板Ｗの搬入が行われる（ステップＳ２１ｂ）。そして、搬入された基板Ｗのプリアライメントが行われた後（ステップＳ２２ｂ）、基板Ｗが第２の基板駆動ユニット１７の吸着バッド５７によって吸着・保持される（ステップＳ２３ｂ）。

次に、図１０（ｂ）に示すように、第１の転写パターン８３が形成された基板Ｗは、第１の基板駆動ユニット１６のＸ方向搬送機構５０とＹ方向搬送機構５４の両方の駆動により、第１の基板駆動ユニット１６の基板Ｗを保持する吸着パッド５６をマスク保持部１１に対してＹ方向に所定の距離Ｌだけ移動させつつ、Ｘ方向に移動させ、第１の基板交換領域Ｃ１ｂに位置させる（ステップＳ２２ａ）。
また、第２の基板交換領域Ｃ２ａに位置する基板Ｗ´は、第２の基板駆動ユニット１７のＸ方向搬送機構５１の駆動により、第１の基板保持領域Ｂ１ａに移動させる（ステップＳ２４ｂ）。

次に、図１０（ｃ）に示すように、第１の基板保持領域Ｂ１ａに位置する基板Ｗ´が、第２の基板駆動ユニット１７のＸ方向搬送機構５１の駆動により、一定の速度でＸ方向に搬送されて露光領域Ａに進入する。ここで、露光領域Ａでは、２種類のマスクパターン６１，６２のうち、マスクパターン６１が有効となっている。そして、第１検知位置ＳＰ１に設けられた撮像手段３５によって基板Ｗ´とマスクＭとの位置誤差が修正された後、それぞれのマスクＭを介して照射部１３から露光用光ＥＬが照射されてマスクパターン６１が露光転写される（ステップＳ２５ｂ）。
この間、第１の基板交換領域Ｃ１ｂに位置する基板Ｗは待機しているが、基板Ｗ´の露光転写が完了した後、有効なマスクパターンがマスクパターン６１からマスクパターン６２に切り替えられる（ステップＳ２３ａ）。

その後、図１０（ｄ）に示すように、基板Ｗ´を待機させた状態で（ステップＳ２６ｂ）、第１の基板交換領域Ｃ１ｂに位置する基板Ｗは、第１の基板駆動ユニット１６のＸ方向搬送機構５０の駆動により、一定の速度でＸ方向に搬送されて露光領域Ａに進入する。そして、第１検知位置ＳＰ１に設けられた撮像手段３５によって基板ＷとマスクＭとの位置誤差が修正された後、それぞれのマスクＭを介して照射部１３から露光用光ＥＬが照射されてマスクパターン６２が露光転写される。これにより、第２の転写パターン８４が形成され、第２の基板保持領域Ｂ２ｂに位置する基板Ｗには、全面にマスクパターン６１，６２が露光転写される(ステップＳ２４ａ)。

次に、図１０（ｅ）に示すように、第２の基板保持領域Ｂ２ｂに位置する基板Ｗは、第１の基板駆動ユニット１６のＸ方向搬送機構５０の駆動により、第１の基板交換領域Ｃ１ｂに戻される（ステップＳ２５ａ）。
また、第１の転写パターン８３が形成された基板Ｗ´は、第２の基板駆動ユニット１７のＸ方向搬送機構５１とＹ方向搬送機構５５の両方の駆動により、第２の基板駆動ユニット１７の基板Ｗを保持する吸着パッド５７をマスク保持部１１に対してＹ方向に所定の距離Ｌだけ移動させつつ、Ｘ方向に移動させ、第１の基板保持領域Ｂ１ｂに位置させる（ステップＳ２７ｂ）。

そして、第１の基板交換領域Ｃ１ｂでは基板Ｗが搬出され（ステップＳ２６ａ）、一方、第１の基板保持領域Ｂ１ｂに位置する基板Ｗ´が、第２の基板駆動ユニット１７のＸ方向搬送機構５１の駆動により、一定の速度でＸ方向に搬送されて露光領域Ａに進入する。そして、第１検知位置ＳＰ１に設けられた撮像手段３５によって基板Ｗ´とマスクＭとの位置誤差が修正された後、それぞれのマスクＭを介して照射部１３から露光用光ＥＬが照射されてマスクパターン６２が露光転写される。これにより、第２の転写パターン８４が形成され、第２の基板交換領域Ｃ２ｂに位置する基板Ｗ´には、全面にマスクパターン６１，６２が露光転写される(ステップＳ２８ｂ)。

次に、第１の基板交換領域Ｃ１ｂでは、基板Ｗの搬入（ステップＳ２７ａ）、基板Ｗ´のプリアライメント（ステップＳ２８ａ）、第１の基板駆動ユニット１７の吸着バッド５７による吸着・保持が行われる（ステップＳ２９ａ）。また、第２の基板交換領域Ｃ２ａでは、基板Ｗが搬出される（ステップＳ２９ｂ）。その後、上記と同様の動作が繰り返される。

従って、この露光方法においても、撮像手段３５の構成がより簡潔となり、スキャン露光装置１の製造費用をさらに低減することができる。
また、この露光方法では、第１の転写パターン８３の形成後、各基板Ｗ，Ｗ´をＸ方向と反対方向への搬送及びＹ方向への移動が同時に行なわれ、第２の転写パターン８４を形成する際の待機位置へ移動させることができるので、スループットを向上することができる。
さらに、基板Ｗの露光動作、すなわち、基板Ｗの第１の転写パターン８３の形成工程と、基板Ｗ´の搬入工程を行なうタイミングとがオーバーラップしており、基板Ｗ´の第２の転写パターン８４の形成工程と、基板Ｗの搬出工程を行なうタイミングとがオーバーラップしており、スループットを向上することができる。

尚、本発明は、前述した実施形態に限定されるものではなく、適宜、変形、改良、等が可能である。

本実施形態では、基板Ｗの露光動作時間に、基板の搬出・搬入、基板のプリアライメント、基板駆動ユニットへの基板の吸着・保持の動作を行っているが、これらの累計時間が露光動作時間に対して短い場合には、異物検査や基板温度調整が合わせて行われても良い。

本実施形態では、サブベッド２６ａ，２６ｂ上の第１及び第２の基板交換領域Ｃ１，Ｃ２の一方からメインベッド２３上の第１及び第２の基板保持領域Ｂ１，Ｂ２の一方へ基板Ｗ´を移動させる際に発生する振動などが、露光動作中の基板Ｗの露光精度に影響するのを防止するため、基板Ｗが露光領域Ａを越えて第１及び第２の基板保持領域Ｂ１，Ｂ２の他方に移動した際に、基板Ｗ´を速やかに第１及び第２の基板保持領域Ｂ１，Ｂ２の一方に移動させるようにしている。一方、振動などが露光動作に影響しない場合には、基板Ｗが露光領域Ａを通過する露光動作中に基板Ｗ´を同期させて、第１及び第２の基板保持領域Ｂ１，Ｂ２の一方へ移動させるようにしてもよい。

また、本実施形態では、基板交換領域Ｃ１，Ｃ２にプリアライメント台３，４を配置して、基板Ｗの搬入・搬出とプリアライメントとを同じ位置で行っているが、図１１に示すように、基板交換部８０，８１をプリアライメント台３，４とを別々に設けて、基板の搬入・搬出とプリアライメントとを別な位置で行っても良い。

或いは、第１及び第２の基板保持領域にそれぞれプリアライメント機構を設けて、プリアライメント及び露光動作を行っている間に、基板の搬入・搬出を行うように構成してもよい。

また、本実施形態では、基板搬送ロボットとして、２本のアームを有するハンドリングロボットを使用したが、コンベアやエア浮上させて駆動する機構等、他の搬送方法であってもよい。

さらに、本実施形態では、往路搬送から復路搬送に切り替える際の、複数のマスクＭと基板Ｗとが直交方向に移動する所定の距離Ｌは、隣接するマスクＭのマスクパターン６１，６２のＹ方向における中心間距離Ｄの略１／２としたが、コストとタクトとの関係が供される範囲で、中心間距離Ｄの略１／３あるいは略１／４であってもよい。

また、撮像手段３５は、１台の撮像手段３５を第１検知位置ＳＰ１と第２検知位置ＳＰ２との間で移動させるようにしたが、撮像手段３５を２台準備してそれぞれ第１検知位置ＳＰ１および第２検知位置ＳＰ２に固定設置してもよい。或いは、１台の撮像手段３５を第１検知位置ＳＰ１に固定設置すると共に、第１検知位置ＳＰ１および第２検知位置ＳＰ２にそれぞれ可動ミラーおよび固定ミラーを配置して、第１検知位置ＳＰ１においては直接、撮像手段３５で基板ＷとマスクＭの相対位置を検知し、第２検知位置ＳＰ２においてはミラーを介して基板ＷとマスクＭの相対位置を検知するようにしてもよい。

さらに、本実施形態においては、基板搬送機構１４は、浮上ユニット１５ａ，１５ｂと第１及び第２基板駆動ユニット１６，１７によって基板Ｗを浮上して保持しながら搬送する場合について述べたが、これに限らず、基板Ｗを上面に載置しながら保持及び搬送するものであってもよい。

本発明の一実施形態であるスキャン露光装置の平面図である。 図１におけるスキャン露光装置の拡大平面図である。 図２におけるスキャン露光装置の拡大正面図である。 （ａ）は、基板搬入・搬出時における第１のプリアライメント台を模式的に示す上面図であり、（ｂ）は、基板搬入・搬出時におけるプリアライメント台の側面図であり、（ｃ）は、基板が吸着保持された状態におけるプリアライメント台の側面図である。 第１の交換領域から搬入・搬出される基板の露光動作と、第２の交換領域から搬入・搬出される基板の露光動作を示すフローチャートである。 第１の交換領域から搬入される基板と、第２の交換領域から搬入される基板の動作説明図である。 本発明の第２実施形態の露光方法において、第１の交換領域から搬入・搬出される基板の露光動作と、第２の交換領域から搬入・搬出される基板の露光動作を示すフローチャートである。 図７に対応する、第１の交換領域から搬入される基板と、第２の交換領域から搬入される基板の動作説明図である。 本発明の第２実施形態の他の露光方法において、第１の交換領域から搬入・搬出される基板の露光動作と、第２の交換領域から搬入・搬出される基板の露光動作を示すフローチャートである。 図９に対応する、第１の交換領域から搬入される基板と、第２の交換領域から搬入される基板の動作説明図である。 本発明の他の実施形態に係るスキャン露光装置の平面図である。

符号の説明

１ スキャン露光装置
３，４ プリアライメント台
１０ 基板搬送機構
１１ マスク保持部
１３ 照射部
１６ 第１の基板駆動ユニット
１７ 第２の基板駆動ユニット
３５ 撮像手段
６１ マスクパターン
６２ マスクパターン
８３ 第１の転写パターン
８４ 第２の転写パターン
Ａ 露光領域
Ｂ１ 第１の基板保持領域
Ｂ２ 第２の基板保持領域
Ｃ１ 第１の基板交換領域
Ｃ２ 第２の基板交換領域
Ｌ 所定の距離
Ｍ マスク
Ｗ 基板

Claims (7)

1. 所定の方向に沿って往復自在に基板を搬送可能であるとともに、前記所定の方向と直交する方向に前記基板を移動可能な基板搬送機構と、
   前記直交方向に並んで配置され、複数のマスクをそれぞれ保持する複数のマスク保持部と、
   前記複数のマスク保持部の上方にそれぞれ配置され、露光用光を照射する複数の照射部と、
   を備え、前記搬送される基板に対して前記複数のマスクを介して前記露光用光を照射し、前記基板に前記各マスクのパターンを露光する露光領域と、該露光領域に対して前記所定の方向の上流側及び下流側にそれぞれ設けられ、前記直交方向に移動される際に前記基板を保持可能な第１及び第２の基板保持領域と、前記第１及び第２の基板保持領域に対して前記露光領域と反対側にそれぞれ設けられ、前記基板を搬入及び搬出可能な第１及び第２の基板交換領域と、が設けられたスキャン露光装置であって、
   前記基板搬送機構は、前記露光領域、前記第１及び第２の基板保持領域、及び前記第１の基板交換領域間で前記基板を前記所定の方向に沿って往復移動可能な第１の基板駆動ユニットと、前記露光領域、前記第１及び第２の基板保持領域、及び前記第２の基板交換領域間で前記基板を前記所定の方向に沿って往復移動可能な第２の基板駆動ユニットと、を備え、
   前記第１及び第２の基板駆動ユニットは、前記基板が前記直交方向に所定の距離移動するように構成されることを特徴とするスキャン露光装置。
2. 前記第１及び第２の基板交換領域では、前記基板のプリアライメントが行われることを特徴とする請求項１に記載のスキャン露光装置。
3. 前記露光領域、前記第１及び第２の基板保持領域は、これらの領域における前記基板を浮上搬送するための第１の浮上ユニットと、前記複数のマスク保持部と、前記複数の照射部と、が配置されるメインベッド上に位置し、
   前記第１及び前記第２の基板交換領域は、これらの各領域における前記基板を浮上搬送するための第２の浮上ユニットがそれぞれ配置される一対のサブベッド上に位置することを特徴とする請求項１又は２に記載のスキャン露光装置。
4. 前記所定の距離とは、前記隣接するマスクのパターンの前記直交方向における中心間距離の略１／２であることを特徴とする請求項１〜３のいずれかに記載のスキャン露光装置。
5. 所定の方向に沿って往復自在に基板を搬送可能であるとともに、前記所定の方向と直交する方向に前記基板を移動可能な基板搬送機構と、前記直交方向に並んで配置され、複数のマスクをそれぞれ保持する複数のマスク保持部と、前記複数のマスク保持部の上方にそれぞれ配置され、露光用光を照射する複数の照射部と、を備えるスキャン露光装置のスキャン露光方法であって、
   前記所定の方向に搬送される基板に対して前記複数のマスクを介して前記露光用光を照射して、前記基板に前記各マスクのパターンを露光することで、前記直交方向に所定の間隔ずつ離れた第１の転写パターンを形成する工程と、
   前記複数のマスクに対して前記基板を前記直交方向に所定の距離移動する工程と、
   前記所定の方向と反対方向に搬送される基板に対して前記複数のマスクを介して前記露光用光を照射して、前記基板に前記各マスクのパターンを露光することで、前記第１の転写パターン間に第２の転写パターンを形成する工程と、
   前記露光装置で露光された露光済みの基板を搬出する工程と、
   前記露光装置で露光される未露光基板を搬入する工程と、
   を備え、前記第１の転写パターンの形成工程、前記移動工程、及び第２の転写パターンの形成工程を行うタイミングは、前記搬出及び搬入工程を行うタイミングと少なくともオーバーラップすることを特徴とするスキャン露光方法。
6. 前記未露光基板をプリアライメントする工程を、さらに備え、
   前記第１の転写パターンの形成工程、前記移動工程、及び第２の転写パターンの形成工程を行うタイミングは、前記搬出工程、前記搬入工程、及び前記プリアライメント工程を行うタイミングと略一致することを特徴とする請求項５に記載のスキャン露光方法。
7. 所定の方向に沿って往復自在に基板を搬送可能であるとともに、前記所定の方向と直交する方向に前記基板を移動可能な基板搬送機構と、前記直交方向に並んで配置され、複数のマスクをそれぞれ保持する複数のマスク保持部と、前記複数のマスク保持部の上方にそれぞれ配置され、露光用光を照射する複数の照射部と、を備えるスキャン露光装置のスキャン露光方法であって、
   前記所定の方向に搬送される基板に対して前記複数のマスクを介して前記露光用光を照射して、前記基板に前記各マスクのパターンを露光することで、前記直交方向に所定の間隔ずつ離れた第１の転写パターンを形成する工程と、
   前記複数のマスクに対して前記基板を前記所定の方向と反対方向に搬送すると共に、前記直交方向に所定の距離移動する工程と、
   前記所定の方向に搬送される基板に対して前記複数のマスクを介して前記露光用光を照射して、前記基板に前記各マスクのパターンを露光することで、前記第１の転写パターン間に第２の転写パターンを形成する工程と、
   前記露光装置で露光された露光済みの基板を搬出する工程と、
   前記露光装置で露光される未露光基板を搬入する工程と、
   を備え、前記移動工程において、前記所定の方向と反対方向への搬送と前記直交方向への移動は、同時に行なわれることを特徴とするスキャン露光方法。

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