以下、本発明の露光装置の一実施形態に係る近接スキャン露光装置について図面を参照して詳細に説明する。
本実施形態の近接スキャン露光装置1は、図6に示すように、マスクMに近接しながら所定方向に搬送される略矩形状の基板Wに対して、パターンPを形成した複数のマスクMを介して露光用光ELを照射し、基板WにパターンPを露光転写する。即ち、該露光装置1は、基板Wを複数のマスクMに対して相対移動しながら露光転写が行われるスキャン露光装置である。なお、本実施形態で使用されるマスクのサイズは、350mm×250mmに設定されており、パターンPのX方向長さは、有効露光領域のX方向長さに対応する。
近接スキャン露光装置1は、図1及び図5に示すように、基板Wを浮上させて支持すると共に、基板Wを所定方向(図において、X方向)に搬送する基板搬送機構20と、複数のマスクMをそれぞれ保持し、所定方向と交差する方向(図において、Y方向)に沿って千鳥状に二列配置される複数のマスク保持部71を有するマスク保持機構70と、複数のマスク保持部71の上部にそれぞれ配置され、露光用光ELを照射する複数の照射部80と、複数の照射部80と複数のマスク保持部71との間にそれぞれ配置され、照射部80から出射された露光用光ELを遮光する複数の遮光装置90と、複数のマスク保持部71に保持される各マスクMを交換するためのマスクチェンジャー120と、マスクチェンジャー120がマスクMを交換する前にマスクMをプリアライメントするマスクプリアライメント機構140と、これらを制御する制御部190を備える。
これら基板搬送機構20、マスク保持機構70、複数の照射部80、遮光装置90、マスクチェンジャー120、及び、マスクプリアライメント機構140は、レベルブロック3(図4参照。)を介して地面に設置される装置ベース2上に配置されている。ここで、基板搬送機構20が基板Wを搬送する領域のうち、上方にマスク保持機構70が配置される領域をマスク配置領域EA、マスク配置領域EAに対して上流側の領域を基板搬入側領域IA、露光領域EAに対して下流側の領域を基板搬出側領域OAと称す。
基板搬送機構20は、装置ベース2上に他のレベルブロック4を介して設置された複数の角パイプ等によってそれぞれ構成される搬入フレーム5、精密フレーム6、搬出フレーム7上に配置され(図4参照。)、エアで基板Wを浮上させて支持する浮上ユニット21と、浮上ユニット21のY方向側方で、装置ベース2上にさらに他のレベルブロック8を介して設置されたフレーム9上に配置され、基板Wを把持すると共に、基板WをX方向に搬送する基板駆動ユニット40と、基板搬入側領域IAに設けられ、この基板搬入側領域IAで待機される基板Wのプリアライメントを行う基板プリアライメント機構50と、基板Wのアライメントを行う基板アライメント機構60と、を有する。なお、各レベルブロック3,4,8は、除振台と置き換えられても良い。
浮上ユニット21は、図3〜図5に示すように、搬入出及び精密フレーム5,6,7の上面から上方に延びる複数の連結棒22が下面にそれぞれ取り付けられる長尺状の複数の排気エアパッド23,24及び長尺状の複数の吸排気エアパッド25a,25bと、各エアパッド23,24,25a,25bに形成された複数の排気孔26からエアを排出するエア排出系30及びエア排出用ポンプ31と、吸排気エアパッド25a,25bに形成された吸気孔27からエアを吸引するためのエア吸引系32及びエア吸引用ポンプ33と、を備える。
基板搬入側領域IA及び基板搬出側領域OAに配置される排気エアパッド23は、長手方向が主にX方向に沿うように敷設されており、隣接するパッド同士の間隔を比較的大きくしてコストダウンを図っている。また、図3に示すように、マスク配置領域EAに配置されるエアパッド24,25a,25bのうち、排気エアパッド24は、長手方向がX方向に沿うように敷設される一方、吸排気エアパッド25a,25bは、長手方向がY方向に沿うように敷設されている。
また、吸排気エアパッド25a,25bは、図5に示すように、複数の排気孔26及び複数の吸気孔27を有しており、エアパッド25a,25bの支持面34と基板Wとの間のエア圧をバランス調整し、所定の浮上量に高精度で設定することができ、安定した高さで水平支持することができる。
図6に示すように、吸排気エアパッド25a,25bは、マスク保持部71に保持された露光時におけるマスクMの下方に位置するように対向配置され、マスクMのパターンPが形成された露光領域より大きく設計されている。このように吸排気エアパッド25a,25bが、マスクMの露光領域より大きく設計されることで、エアパッドによる露光むらが発生するのを抑制することができる。
なお、精密フレーム6は、マスク配置領域EAに配置された吸排気エアパッド24,25a,25bからY方向一側に延設されており、後述するマスクプリアライメント機構140を構成する排気エアパッド141が、長手方向をY方向に沿うように連続配置されている。
基板駆動ユニット40は、図2に示すように、真空吸着により基板Wを把持する把持部材41と、把持部材41をX方向に沿って案内するリニアガイド42と、把持部材41をX方向に沿って駆動する駆動モータ43及びボールねじ機構44と、フレーム9の上面から突出するように、基板搬入領域IAにおけるフレーム9の側方にZ方向に移動可能且つ回転自在に取り付けられ、マスク保持機構70への搬送待ちの基板Wの下面を支持する複数のワーク衝突防止ローラ45と、を備える。なお、基板駆動ユニット40は、基板Wの撓み等を考慮して、Y方向一側のみに設けられているが、Y方向両側に設けられる構成であってもよい。また、把持部材41は、基板Wのθ方向(X,Y方向からなる水平面の法線回り)の駆動を許容する構成であってもよい。
基板プリアライメント機構50は、図7に示すように、基板搬入側領域IAのX方向上流側、及びY方向一側、即ち、基板搬入側領域IAで待機される基板Wの対向辺の一側近傍に配置される複数の基準ピン51,52と、X方向下流側、及びY方向他側、即ち、待機した基板Wの対向辺の他側近傍に配置される複数の押し当てピン53,54と、基板Wを吸着すると共に、吸着した基板Wと共にX方向に駆動可能なハンドシェイクピン55と、を有する。
X方向に対向して配置された基準ピン51及び押し当てピン53は、上面視で複数のエアパッド23と重ならない位置に配置される。これら基準ピン51及び押し当てピン53はそれぞれ、図示しない駆動部により、搬入フレーム5の上面から上方に進退可能であると共に、X方向に移動可能である。Y方向に対向して配置された基準ピン52及び押し当てピン54は、Y方向両側の一対のフレーム10(図1参照。)に跨ってY方向に延びる一対の連結フレーム11に掛け渡されるX方向フレーム18に取り付けられる。基準ピン52は、図示しない駆動部により、下方に進退可能に設けられ、また、押し当てピン54は、図示しない駆動部により、下方に進退可能であると共に、Y方向に移動可能である。また、これら基準ピン51,52及び押し当てピン53,54は、基板Wの縁端面と当接する軸受ローラ58,59をそれぞれ有する。さらに、ハンドシェイクピン55は、エアパッド23が配置されていない基板Wと対向可能な位置で搬入フレーム5に設けられ、図示しない駆動部により基板搬入領域IAの略2/3程度に亘ってX方向に移動可能である。
なお、基準ピン51のX方向位置は、基板Wのサイズ変更や、基板毎のアライメントマーク位置の変更、後述する遮光装置90との同期を図るための基板Wの搬送開始位置変更等によって調整される。また、各基準ピン及び押し当てピンの本数は、少なくとも図7に示された数、即ち、2本の基準ピン51と、それぞれ1本の基準ピン52、押し当てピン53,54だけ最低限あればよく、必要に応じて増加してもよい。
基板アライメント機構60も、図7に示すように、基板Wに設けられた基準マークを検出する2つのアライメント用カメラ61と、基板Wを吸着すると共に、吸着した基板Wと共にY方向にそれぞれ駆動可能な一対のθ補正用吸着ピン62と、を有する。
アライメント用カメラ61は、連結フレーム11にそれぞれ取り付けられ、図示しない駆動部によりY方向に沿って移動可能である。これにより、カメラ61が基準マークを検出することで、アライメント時の基板WのX,Y,θ方向の補正移動量が算出される。一対の吸着ピン62は、エアパッド23が配置されていない基板Wと対向可能な位置で搬入フレーム5に設けられ、図示しない駆動部によりY方向及びZ方向に移動可能である。従って、X方向に所定距離離れた一対の吸着ピン62がY方向に相対的に移動することで、吸着された基板Wのθ方向の位置合わせが行われる。なお、基板WのX,Y方向のアライメント調整は、把持部材41のX方向補正、後述するマスク保持部71のY方向補正によって行われる。
マスク保持機構70は、図2及び図5に示すように、上述した複数のマスク保持部71と、マスク保持部71毎に設けられ、マスク保持部71をX,Y,Z,θ方向、即ち、所定方向、交差方向、所定方向及び交差方向との水平面に対する鉛直方向、及び、該水平面の法線回りに駆動する複数のマスク駆動部72と、を有する。
Y方向に沿って千鳥状に二列配置される複数のマスク保持部71は、上流側に配置される複数の上流側マスク保持部71a(本実施形態では、6個)と、下流側に配置される複数の下流側マスク保持部71b(本実施形態では、6個)と、で構成され、装置ベース2のY方向両側に立設した柱部12(図1参照。)間で上流側と下流側に2本ずつ架設されたメインフレーム13にマスク駆動部72を介してそれぞれ支持されている。各マスク保持部71は、Z方向に貫通する開口77を有すると共に、その周縁部下面にマスクMが真空吸着されている。
マスク駆動部72は、メインフレーム13に取り付けられ、X方向に沿って移動するX方向駆動部73と、X方向駆動部73の先端に取り付けられ、Z方向に駆動するZ方向駆動部74と、Z方向駆動部74に取り付けられ、Y方向に駆動するY方向駆動部75と、Y方向駆動部75に取り付けられ、θ方向に駆動するθ方向駆動部76と、を有し、θ方向駆動部76の先端にマスク保持部71が取り付けられている。従って、各駆動部73,74,75,76はX方向に並んで配置されており、マスク駆動部72は、マスク保持部71a,71bのX方向側方で、上流側マスク保持部71aと下流側マスク保持部71bとが対向する側と反対側に延びて、メインフレーム13に取り付けられている。
複数の照射部80は、図5及び図8に示すように、筐体81内に図示しない光源、ミラー、オプチカルインテグレータ、シャッター等を備え、マスク保持部71に保持されたマスクMに露光用光ELを照射する。また、筐体81の下面には、ガイドレール82が取り付けられており、照射部80は、メインフレーム13や後述するサブフレーム11に固設されたスライダ83に案内され、マスク保持部71の上方に配置される露光位置EP(図5の実線)と、露光位置EPから外れた後退位置RP(図5の二点鎖線)との間をX方向に移動可能である。このため、照射部80が後退位置RPに位置される場合には、後述する中間連結フレーム16の上方にスペースが形成されるので、作業者が中間連結フレーム16上に乗って、マスク保持機構40、後述する遮光装置90、各種検出手段等の交換やメンテナンスを容易に行うことができる。
なお、露光位置EPと後退位置RPでの照射部80の位置決めは、筐体81の下面に設けられた一対のストッパ部材84a,84bをメインフレーム13に設けられた固定部材85に当接させることで行われる。また、照射部80には、露光位置EPに移動したことを検出する位置検知センサが構成されている。具体的には、露光位置EPを規定するストッパ部材84aには、センサドグ86が取り付けられており、固定部材85近傍に設けられたフォトスイッチ87によって、照射部80が露光位置EPに位置決めされたことを検知する。なお、図8に一点鎖線で示された固定部材85及びフォトスイッチ87は、照射部80が露光位置EPに位置する際の筐体81との相対位置を示している。また、本実施形態では、各照射部80のX方向移動量は、670mmに設定されている。
複数の遮光装置90は、図5、図9及び図10に示すように、マスク保持部71に保持されたマスクMの近傍で、照射部80から出射された露光用光ELを遮光するとともに、露光用光ELを遮光する所定方向における遮光幅、即ち、Z方向から見た投影面積が可変となるように、傾斜角度を変更する一対の板状のブラインド部材(遮光部材)108,109と、一対のブラインド部材108,109の傾斜角度を変更するブラインド駆動ユニット92と、を有する。
ブラインド駆動ユニット92は、上流側及び下流側のメインフレーム13,13との間で、装置ベース2のY方向両側に立設した柱部14,14(図1参照。)間で上流側と下流側に架設されたサブフレーム15,15にZ軸駆動機構91を介してZ方向に昇降可能に固定される。
図9に示すように、ブラインド駆動ユニット92は、開口93aを画成する筐体93のY方向両側で、且つ、上下に取り付けられた4つのモータ95a,95a,95b,95bと、モータ95a,95bの回転によってねじ軸96a,96bを回転させ、ナット97a,97bをX方向に移動させる4つのボールねじ機構98a,98a,98b,98bと、ナット97a,97bをスライダ99a,99bと固定し、スライダ99a,99bがレール100a,100bに案内される4つのリニアガイド101a,101a,101b,101bと、下側のナット97aにねじ固定された連結部102aを介して、ナット97aと共にX方向に移動し、一方のブラインド部材108が取り付けられる一対のアーム部103と、上側のナット97bにねじ固定された連結部102bを介して、ナット97bと共にX方向に移動し、他方のブラインド部材109が取り付けられる一対のアーム部104と、を備える。
また、各アーム部103,104はそれぞれ、図10(a)に示すように、筐体93からナット97a,97bと共にX方向に移動する第1アーム部105a,105bと、各一端が第1アーム部105a,105bの下端とそれぞれ連結し、各他端同士が互いに連結される第2アーム部106a,106bと、を備える。Y方向両側に設けられた第2アーム部106aの下方には、その長手方向がY方向に沿うように一方のブラインド部材108が固定される。また、Y方向両側に設けられた第2アーム部106bの下方には、その長手方向がY方向に沿うように他方のブラインド部材109が固定される。
従って、遮光装置90が照射部80から出射された露光用光ELを遮光する場合には、一対のブラインド部材108,109が、開口93a内の露光領域から外れた位置に収納された状態から、上側の一対のモータ95a,95aを駆動して、第1アーム部105bを第1アーム部105aから離間するようにX方向に移動させることで、一対のブラインド部材108,109が同一の傾斜角度を持って徐々に開かれる。これにより、ブラインド部材108,109が露光領域に進出した部分の露光用光ELが遮光される。
さらに、下側の一対のモータ95b、95bを駆動して、第1アーム部105aを第1アーム部105bから離間するようにX方向に移動させることで、一対のブラインド部材108,109がさらに開かれ、露光領域全域をブラインド部材108,109によって遮光できる。
また、図10(b)に示すように、一方のブラインド部材108の一端部108aは、略平板状に形成され、他方のブラインド部材109の一端部109aは、一方のブラインド部材108の一端部108aを覆う湾曲形状を有する。両ブラインド部材108,109は、駆動ユニット92によって傾斜角度を可変とするが、これら一端部108a,109aは、互いに近接対向し、傾斜角度に関わらず、上下方向から見て互いにオーバーラップしている。これにより、一対のブラインド部材108,109が傾斜角度を変えてX方向に移動した際に、互いの一端部側において露光用光ELが漏れることが防止される。
また、一対のブラインド部材108,109は互いに平行となる位置まで傾斜角度を変更可能であるので、ブラインド部材108,109が露光領域を横切る際の露光量の低下を極力抑制することができる。
マスクチェンジャー120は、図11及び図12に示すように、上流側マスク保持部71aと下流側マスク保持部71bとの間に配置されており、マスクMを保持すると共に、マスクMをマスク保持部71の下面に吸着させるべく、上流側及び下流側マスク保持部71a,71bの下面と対向可能な一対のマスクトレー部121と、上流側マスク保持部71aと下流側マスク保持部71bとの間で、これら一対のマスクトレー部121を連結する連結部122と、これら一対のマスクトレー部を連結部122と共にY方向に駆動するマスク交換用駆動部123と、を有する。
一対のマスクトレー部121は、平板状のベース部191と、このベース部191の上方でベース部191に対して水平方向に相対移動可能に配置され、開口192aを有する平板状のチェイサー板192と、このチェイサー板192の開口周辺の上面にマスクMが載置されると共に、マスクMを吸着可能な複数の吸着ブロック125と、を備える。なお、トレー部121上の吸着ブロック125の一部は、単にマスクMを支持する支持ブロックとしてもよい。
また、一対のマスクトレー部121は、チェイサー板192をベース部191に対して浮上させるチェイサー浮上機構193と、チェイサー板192をベース部191に対して所定の範囲で水平方向に弾性移動可能となるように、ベース部191とチェイサー板192を連結する複数のばね部材194と、後述するマスクプリアライメントの際にベース部191に対してチェイサー板192を水平方向に位置決めするための複数のチェイサー用位置決めピン195と、同じくマスクプリアライメントの際にベース部191に対してマスクMを水平方向に位置決めするための複数のマスク用位置決めピン196と、マスク交換の際に、マスク保持部71に対してマスクMを位置合わせするための複数のホルダ用位置決めピン197と、を備える。
なお、チェイサー板192、チェイサー浮上機構193、ばね部材194は追従機構を構成し、ベース部191に対してマスクMを相対移動させる際に、チェイサー板192をマスクMと共に移動させる。即ち、マスク交換の際には、ホルダ用位置決めピン197が収容孔78に押し当てられるまでチェイサー板192をマスクMと共にマスク保持部71の移動に追従させ、チェイサー板192をベース部191に対して相対移動させる。また、マスクプリアライメントの際にも、チェイサー板192がチャイサー用位置決めピン195と当接するまでチェイサー板192を後述するマスクプリアライメント機構140の押し付けピン144の移動に追従させ、チェイサー板192をベース部191に対して相対移動させる。
チェイサー浮上機構193は、チェイサー板192に設けられたポンプやエアパッド等を備え、ベース部191に対して正圧エアを吐出することで、チェイサー板192をベース部191上で浮上させる。チェイサー用位置決めピン195は、ベース部191上のX方向一側及びY方向一側に立設され、マスクプリアライメントの際にチェイサー板192の側面と当接し、ベース部191に対してチェイサー板192を位置決めする。
マスク用位置決めピン196は、チェイサー用位置決めピン195と同じX方向一側及びY方向一側でベース部191上に配置されており、チェイサー板192に形成されたピン孔192bから突出する。具体的に、マスク用位置決めピン196は、チェイサー用位置決めピン195より内側、即ち、複数の吸着ブロック125によって支持されるマスクMの端面がプリアライメントされる際に当接可能な位置に設けられている。
ホルダ用位置決めピン197は、チェイサー板192上で、X方向一側に並んで立設されている。これにより、マスク交換の際に、ホルダ用位置決めピン197がマスク保持部71に形成された収容孔78に押し当てられることで、マスクプリアライメント時にチェイサー板192に位置合わせされたマスクMをマスク保持部71に対して位置合わせする。
連結部122は、上部にスライダ127が取り付けられる連結部本体128と、千鳥状に配置されるマスク保持部71の配置に併せて、一対のマスクトレー部121をX方向に対して斜めに連結する一対の腕部129と、を有している。
マスク交換用駆動部123は、Y方向に延びる中間連結フレーム16の下部に同じくY方向に延設された支持部131内に収容され、駆動モータ132によって回転駆動されるベルト133と、連結部122に固定されると共に、ベルト133の一部と連結され、ベルト133の回転によりY方向に駆動される可動部134と、を有する。可動部134は、支持部131の開口部131aから側方に延び、下方に位置する連結部122に固定される。また、支持部134の下部にはガイドレール135が設けられ、ガイドレール135を跨ぐスライダ127によって一対のマスクトレー部121をY方向に案内する。なお、中間連結フレーム16は、上流側及び下流側のサブフレーム15,15をY方向両側で連結するX方向に延びるフレーム17,17の中間部に取り付けられている(図1参照。)。
従って、連結部122を介して可動部134と連結された一対のマスクトレー部121は、マスクMを交換すべく、ベルト133を駆動して、マスクMを搬入又は搬出するための受け渡し位置WPと、各マスク保持部71の下面と対向する交換位置CPとの間でY方向に移動する。この受け渡し位置WPは、マスクトレー部121やマスク交換駆動部123等が基板駆動ユニット40の各部品と干渉しないように、基板駆動ユニット40が設置されるY方向の一端側と反対側に設けられている。
マスクプリアライメント機構140は、図13及び図14に示すように、上述したマスクトレー部121と、上述したマスク配置領域EAからY方向に延出したマスクMの受け渡し位置WPに配置され、受け渡し位置WPに位置するマスクトレー部121にエアを吐出する排気エアパッド141と、マスクの受け渡し位置WPの上方に設けられ、マスクトレー部121に載置されたマスクMのプリアライメントを行うマスクプリアライメント駆動部142と、を備えて構成される。
マスクプリアライメント駆動部142は、上下方向に駆動される押し付け板143と、中間連結フレーム16上に固設されたベース部材145に押し付け板143を連結すると共に、押し付け板143を上下方向に駆動する複数の上下動シリンダ146と、押し付け板143の下面で、且つ、トレー部121に設けられたマスク用位置決めピン196とマスクMに対してX方向他側及びY方向他側に設けられ、マスクMに向けて移動してマスクMの端面と当接可能な複数の押し付けピン144と、押し付け板143に対して押し当てピン144を所定方向に駆動するピン駆動シリンダ147と、を有する。
マスクプリアライメント機構140は、マスクトレー部121に対して浮上しているマスクMを押し付け板143で押さえつけながら、押し付けピン144を駆動してマスクMを水平方向に移動させ、マスクMをマスク用位置決めピン196にX及びY方向で当接することでマスクMのプリアライメントを行っている。
また、図4及び図11に示すように、近接スキャン露光装置1には、レーザー変位計160,161、マスクアライメント用カメラ171、追従用カメラ172、追従用照明173等の各種検出手段が配置されている。
レーザー変位計160(160a,160b,160c)は、基板Wと各マスクMとが対向する領域で少なくとも3箇所の位置にそれぞれ設けられている。マスクMの上方に位置する一つのレーザー変位計160aは、マスク保持部71に取り付けられており、基板WとマスクMとのギャップを検出するギャップセンサを構成する。基板の下方に位置する2つのレーザー変位計160b,160cは、マスクMの下方に位置する露光領域より大きいエアパッド25aの側方で、基板WとマスクMとが対向する位置に配置され、基板Wの厚さを検出する(図3参照。)。なお、基板Wが素ガラスの場合には、レーザー変位計160b,160cは、上記ギャップも検出可能であり、レーザー変位計160a,160b,160cが、ギャップセンサを構成する。
マスクアライメント用カメラ171は、マスクMに形成された基準マークを撮像して、後述する制御部190に送信する。追従用カメラ172は、マスクMと基板Wとの相対位置ズレを検出するため、基板W上の基準マーク、又は基板Wに形成された下地パターンを撮像して、後述する制御部190に送信する。
これら2つのレーザー変位計160b,160c、マスクアライメント用カメラ171、追従用カメラ172は、マスク配置領域EAの隣接するエアパッド24,25a,25b間に、エアパッド24,25a,25bの上面より突出しないように精密フレーム6に取り付けられている。
また、レーザー変位計161は、搬入フレーム5に取り付けられ、基板Wの厚さを検出する。追従用照明173は、ブラインド駆動ユニット92の筐体93に取り付けられる。
ここで、図4に示すように、搬入、精密、搬出フレーム5,6,7は、装置ベース2上に水平方向に延びる複数の角パイプ180、及び鉛直方向に延びる複数の角パイプ181を連結して構成され、X方向及びY方向に貫通するスペース182を画成している。これにより、作業者は、このスペース182内に入り込んで、例えば、エアパッド22,23,24,25a,25bや、上述した各種検出手段、ワーク衝突防止ローラ45、また、基準ピン51、押し付けピン53、ハンドシェイクピン55、吸着ピン62、及びこれらピン51,53,55,62の駆動軸等、これら補機類の交換、メンテナンス作業等を容易に行うことができる。
制御部190は、上記検出手段や上記各駆動部を含む基板搬送機構20、マスク保持機構70、照射部80、遮光装置90、マスクチェンジャー120、マスクプリアライメント機構140等の各機構と接続されており、プログラムや各検出手段からの検出信号に基づいて各機構を駆動制御する。特に、制御部190は、露光時において、マスクMと基板Wとの相対位置ズレを検出し、検出された相対位置ズレに基づいてマスク駆動部72を駆動させ、マスクMの位置を基板Wにリアルタイムで追従させる。同時に、マスクMと基板Wとのギャップを検出し、検出されたギャップに基づいてマスク駆動部72を駆動させ、マスクMと基板Wのギャップをリアルタイムで補正する。
次に、以上のように構成される近接スキャン露光装置1を用いて、基板Wの露光転写について説明する。なお、本実施形態では、下地パターン(例えば、ブラックマトリクス)が描画されたカラーフィルタ基板Wに対して、R(赤)、G(緑)、B(青)のいずれかのパターンを描画する場合について説明する。
近接スキャン露光装置1は、図示しないローダ等によって、基板搬入領域IAに搬送された基板Wを排気エアパッド23からのエアによって浮上させて支持し、基板Wのプリアライメント作業、アライメント作業を行った後、基板駆動ユニット40の把持部材41にてチャックされた基板Wをマスク配置領域EAに搬送する。
図15に示すように、基板Wのプリアライメント作業は、初期化後(ステップS11)、基板Wが基板搬入領域IAに1/3程度搬入されると(ステップS12)、基板Wを排気エアパッド23によってエア浮上した状態で、上流側に位置したハンドシェイクピン55が基板Wを吸着し、所定位置まで搬送する(ステップS13)。所定位置に基板Wが搬送されると、基準ピン51,52及び押し付けピン53,54を上下方向に駆動させ、基板Wの端面と当接する高さ位置に軸受ローラ58,59を進出させる(ステップS14)。さらに、押し付けピン53,54をX方向、Y方向にそれぞれ移動させ、軸受ローラ59を基板Wの端面と当接させながら基板Wを移動することで、基板Wを基準ピン51,52の軸受ローラ58と当接させ、基板Wのプリアライメントを完了する(ステップS15)。
次に、基板Wのアライメント作業は、基板Wの下面に位置する一対のθ補正用吸着ピン62を上昇させ、基板Wに吸着させる(ステップS20)。基準ピン51,52及び押し付けピン53,54は、軸受ローラ58,59が基板Wの端面と当接する高さ位置から後退させるように移動される(ステップS21)。そして、アライメント用カメラ61で、基板Wに描画された基準マークを監視し(ステップS22)、X,Y,θ方向の補正移動量を算出する(ステップS23)。さらに、算出後、一対の吸着ピン62をY方向にそれぞれ駆動して基板Wをθ方向に回転させ、ブラックマトリクスのX方向格子パターンがX方向に沿うように基板Wの下地パターンを基準としたθ方向補正を行う(ステップS24)。なお、Y方向の補正移動量が大きい場合には、一対の吸着ピン62を同期駆動して概アライメントを行う。
その後、基板Wが把持部材41によってチャックされ(ステップS25)、一対の吸着ピン62は基板Wの吸着を解除して、下降する(ステップS26)。また、基板Wと遮光装置90との同期を図るため、基板Wをチャックした把持部材41が搬送を開始するX方向位置が補正され(ステップS27)、さらに、露光時のマスク保持部71の補正量を低減するため、予めマスク保持部71のY方向位置が補正される(ステップS28)。
その後、基板Wは、基板駆動ユニット40の駆動モータ43を駆動させることで、レール42に沿ってX方向に移動する。そして、基板Wがマスク配置領域EAに設けられた排気エアパッド24及び吸排気エアパッド25a,25b上に移動させ、振動を極力排除した状態で浮上させて支持される。そして、照射部80内の光源から露光用光ELを出射すると、かかる露光用光ELは、マスク保持部71に保持されたマスクMを通過し、パターンを基板Wに露光転写する。
このとき、基板Wの移動誤差によるパターンのズレが、追従用カメラ172によって検出された下地パターンの画像を処理することで与えられる。そして、マスク駆動部72が、この処理された画像データに応じてマスクMの位置を微調整することで、パターンのズレをリアルタイムに補正することができる。
また、露光動作中、各マスク毎に設置されたレーザー変位計160a,160b,160cは、基板WとマスクMとの間のギャップを検出している。そして、検出されたギャップに基づいて、マスク駆動部72のZ方向駆動部74が、マスク保持部71を上下方向にリアルタイムに駆動制御する。このため、基板Wが基板搬送機構20によって搬送される際、基板Wの厚さばらつきにより、30μm〜40μm程度の高さのばらつきが発生する場合があるが、上記制御によりリアルタイムでのギャップ調整を可能としている。
以上、同様にして、連続露光することで、基板W全体にパターンの露光を行うことができる。マスク保持部71に保持されたマスクMは、千鳥状に配置されているので、上流側或いは下流側のマスク保持部71a,71bに保持されるマスクMが離間して並べられていても、基板Wに隙間なくパターンを形成することができる。
また、基板Wから複数のパネルを切り出すような場合には、隣接するパネル同士の間に対応する領域に露光用光ELを照射しない非露光領域を形成する。このため、露光動作中、一対のブラインド部材108,109を開閉して、非露光領域にブラインド部材108,109が位置するように、基板Wの送り速度に合わせて基板Wの送り方向と同じ方向にブラインド部材108,109を移動させる。
さらに、一対のブラインド部材108,109を照射部80からの光を横切って基板Wの送り方向と逆方向に移動させる際には、一対のブラインド部材108,109が互いに平行となる位置まで畳まれているので、ブラインド部材108,109が露光領域を横切る際の露光量の低下を極力抑制することができる。
また、基板Wが露光され、基板搬出領域OAに送られて搬出されるまでの間に、新しい基板Wが基板搬入領域IAに送られてくる。このため、新しい基板Wは、基板駆動ユニット40の把持部材41が戻ってくるまでの間、複数のワーク衝突防止ローラ45を上方に移動させることによって基板Wの一端下面を支持し、この間に基板Wのプリアライメント作業が行われる。なお、これら複数のワーク衝突防止ローラ45の上方移動は、前述した基準ピン51,52及び押し付けピン53,54を上下方向に駆動させた後に行われる(図15のステップS16参照。)。
また、マスクMを所定のタイミングで洗浄するために、マスクチェンジャー120を用いて随時マスクMの交換が行われる。該マスク交換は、図16に示すように、まず、Y方向一端に配置された1番目の上流側及び下流側のマスク保持部71a1,71b1において左右同時に行われ、順次、隣の上流側及び下流側のマスク保持部71a2,71b2,...,71a5,71b5にて行われ、最後に、Y方向他端に配置された6番目の上流側及び下流側のマスク保持部71a6,71b6にて行われる。
具体的に、図17に示すように、まず、マスク駆動部72は、全てのマスク保持部71をマスク交換を行うための退避位置に上昇させる(ステップS31)。この時、遮光装置90も筐体93を上昇して退避させる。そして、カウンタnを1として(ステップS32)、マスクMが搭載されていない空の一対のマスクトレー部121を1番目の上流側及び下流側のマスク保持部71a1,71b1の下方(交換位置CP)へ移動させる(ステップS33)。そして、1番目の上流側及び下流側のマスク保持部71a1,71b1のマスク駆動部72を駆動して、マスク保持部71a1,71b1を着脱位置まで下降させる(ステップS34)。
次に、マスク保持部71a1,71b1に保持された使用済みのマスクMをマスクトレー部121が受け取る(ステップS35)。具体的に、マスク保持部71a1,71b1が使用済みのマスクMの吸着を解除すると共に、マスクトレー部121でマスクMを吸着する。その後、マスク保持部71a1,71b1を退避位置まで上昇させ(ステップS36)、マスクトレー部121を受け渡し位置WPに移動させる(ステップS37)。
受け渡し位置WPでは、まず、マスクMの吸着が解除され(ステップS38)、図示しないマスクローダにより使用済みのマスクMをマスクトレー部121から図示しないカセットに戻す(ステップS39)。その後、未使用(洗浄済み)のマスクMをマスクローダによりカセットからマスクトレー部121に載置し(ステップS40)、後述するマスクプリアライメント機構140によってマスクMをプリアライメントする(ステップS41)。
そして、プリアライメント後のマスクMを吸着ブロック125によって吸着し、マスクMが載置されたトレー部121を再び、1番目の上流側及び下流側マスク保持部71a1,71b1の下方へ移動させた後(ステップS42)、1番目のマスク保持部71a1,71b1を再び着脱位置まで下降させる(ステップS43)。
また、1番目のマスク保持部71a1,71b1をマスク駆動部72により移動させ、未使用のマスクMの位置を微調整する(ステップS44)。即ち、図18に示すように、マスク保持部71a1,71b1が着脱位置まで下降した状態において、トレー部121のチェイサー板192に設けられたホルダ用位置決めピン197はマスク保持部71a1,71b1の収容孔78に収容されている。この状態で、マスク駆動部72によりマスク保持部71a1,71b1をX方向及びY方向に斜めに移動させることで(矢印A参照。)、位置決めピン196が収容孔78に押し当てられ、マスクMの自動調芯が行われる。
その後、トレー部121で未使用のマスクMの吸着が解除され、マスク保持部71a1,71b1でマスクMが吸着される(ステップS45)。また、マスク保持部71a1,71b1が退避位置まで上昇する(ステップS46)。これにより、1番目のマスクMの交換を完了する。
次に、空きとなったマスクトレー部121をY方向一端から隣の2番目の上流側及び下流側のマスク保持部71a2,71b2の下方へ移動させる(ステップS47)。以降、カウンタnをインクリメントして(ステップS50)、ステップS34に移行する。また、1番目のマスク保持部71a1,71b1は、マスクトレー部121が2番目の上流側及び下流側のマスク保持部71a2,71b2の下方へ移動した後に、露光位置まで下げて待機する(ステップS48)。
以降、上記動作を繰り返し行い、ステップS49にてカウンタnが6である、即ち、Y方向他端側の6番目のマスク保持部71a6,71b6のマスクMが交換されるまで行われ、マスクMの交換作業が完了する。なお、ステップS47において、カウンタnが6である場合には、マスクチェンジャー120のマスクトレー部121は受け渡し位置WPに移動する。従って、上記マスク交換によれば、一対のマスクトレー部121の1往復の動作で1対のマスクMの回収及び装着を実現でき、タクトタイムの短縮を図ることができる。
また、ステップS41で示すように、上記マスク交換を行う際には、マスク保持部71に向けて搬送されるマスクMに対してプリアライメントが行われる。具体的に、マスクローダによって搬送されたマスクMは、マスクトレー部121の吸着ブロック125上に載置される。この時、マスクトレー部121のベース部191は、その下方に位置する排気エアパッド141によってエア浮上されており、また、チェイサー板192は、チェイサー浮上機構193によってベース部191に対して正圧エアを吐出することで、ベース部191に対して浮上されている。
この状態で、マスクプリアライメント駆動部142を駆動して、押し付け板143を降下させ、押し付け板143をマスクMに押し当てる。さらに、マスクMの端面を押し付けピン144と当接させながらマスクMをX,Y方向に移動させる。マスクMを移動させると、まず、マスクMが載置されたチェイサー板192もベース部191に対して移動し、チェイサー板192の側面がチェイサー用位置決めピン195と当接して、チェイサー板192とベース部191との位置合わせが行われる。さらに、マスクMを移動させると、マスクMの端面が複数のマスク用位置決めピン196と当接して、マスクMがベース部191に位置合わせされる。従って、チェイサー板192とマスクMがベース部191に対して位置合わせされることから、マスクMはチェイサー板192に対しても位置合わせされることになり、マスクMはチェイサー板192に載置された吸着ブロック125の所望の位置でX,Y方向に位置決めされる。その後、マスクトレー部121は、吸着ブロック125でマスクMを吸着する。そして、押し付け板143を上昇させることで、マスクMのプリアライメントを完了する。
以上説明したように、基板Wに対してマスクMを介して露光用光ELを照射し、基板WにマスクMのパターンPを露光する、本実施形態の近接スキャン露光装置1によれば、マスクMを保持するマスク保持部71と、マスクMを交換すべく、マスクMを搬入又は搬出するための受け渡し位置WPと、マスク保持部71の下面と対向する交換位置CPとの間を移動可能なマスクトレー部121を有するマスクチェンジャー120と、受け渡し位置WPの上方に設けられ、マスクトレー部121に載置されたマスクMのプリアライメントを行うマスクプリアライメント駆動部142と、を備える。従って、マスクMの受け渡し位置WPで、プリアライメントが行われるため、受け渡し位置WPの外側に、別途プリアライメント装置を設ける必要がなく、装置を大型化せずにマスクのプリアライメントが可能となる。
また、マスクトレー部121は、ベース部191と、マスクMを載置すると共に、マスクMを吸着可能な複数の吸着ブロック125と、複数の吸着ブロック125が配置されるチェイサー板192を有し、ベース部191に対してマスクMを相対移動させる際に、チェイサー板192をマスクMと共に移動させる追従機構と、を有する。従って、マスクMをマスク保持部71に搬送するマスクトレー部121上で、プリアライメントが可能となり、ローダを別途設けずにプリアライメント後のマスクMを直接マスク保持部71に装着することができる。
さらに、マスクトレー部121は、マスクMを載置すると共に、マスクMを吸着可能な複数の吸着ブロック125と、マスクMの端面と当接可能な複数のマスク用位置決めピン196をさらに有し、マスクプリアライメント駆動部142は、上下方向に駆動される押し付け板143と、押し付け板143の下面に設けられ、マスクMの端面と当接可能な複数の押し付けピン144と、を有する。そして、受け渡し位置WPには、マスクトレー部121にエアを吐出する排気エアパッド141が配置される。これにより、マスクMを浮上させた状態で、押し付けピン144を押し付けてプリアライメントを行うことができ、プリアライメントの際にマスクMが載置されるマスクトレー部121を駆動する必要がない。
また、基板Wに対してマスクMを介して露光用光ELを照射し、基板WにマスクMのパターンPを露光する、本実施形態の近接スキャン露光装置1によれば、マスクMを保持するマスク保持部71と、マスク保持部71を駆動するマスク駆動部72と、マスクMを交換すべく、マスクMを搬入又は搬出するための受け渡し位置WPと、マスク保持部71の下面と対向する交換位置CPとの間を移動可能なマスクトレー部121を有するマスクチェンジャー120と、を備える。そして、マスクトレー部121は、ベース部191と、マスクMを載置すると共に、マスクMを吸着可能な複数の吸着ブロック125と、複数の吸着ブロック125が配置されるチェイサー板192を有し、ベース部191に対してマスクMを相対移動させる際に、チェイサー板192をマスクMと共に移動させる追従機構と、を有する。従って、マスクMをマスク保持部71に搬送するマスクトレー部121上で、プリアライメントが可能となり、ローダを別途設けずにプリアライメント後のマスクMを直接マスク保持部71に装着することができる。
加えて、マスクトレー部121は、チェイサー板192に立設された複数のホルダ用位置決めピン197を有し、マスク保持部71には、複数のホルダ用位置決めピン197を移動可能に収容可能な収容孔78が形成され、ホルダ用位置決めピン197が収容孔78内に位置される状態でマスク駆動部72が駆動されることで、マスクMがマスク保持部71に位置合わせされる。これにより、プリアライメント後のマスクMをマスク保持部71に対して容易に位置合わせすることができる。
なお、本発明のプリアライメント駆動部142は、中間連結フレーム16に固設されたベース部材145に取り付けられており、露光装置1と一体に設けられているが、マスクMの受け渡し位置WP上に押し付け板143が配置されるものであれば、プリアライメント駆動部142を露光装置1と別体に設けても良い。
以上、本発明を実施の形態を参照して説明してきたが、本発明は上記実施の形態に限定されることなく、その発明の範囲内で変更・改良が可能であることはもちろんである。
本発明では、少なくとも一つの検出手段を含む補機が、隣接するエアパッド23,24,25a,25b間に、エアパッド23,24,25a,25bの上面より突出しないように搬入、精密、搬出フレーム5,6,7のいずれかに取り付けられればよい。
本発明の基板を浮上させて支持する機構は、本実施形態のように、低コストで入手でき取り扱いが容易なエアを利用した浮上ユニットであると好ましいが、それに限られない。また、本発明の基板を浮上させて支持する機構は、少なくとも露光領域に設けられていればよく、他の領域においては、支持面から突出する複数のローラで基板Wを支持し、支持面から浮上させる構成であってもよい。
また、本発明のマスクチェンジャー120は、一対のマスクトレー部121がそれぞれ1枚ずつマスクMを搬送しているが、それぞれ複数枚ずつマスクMを搬送するように構成してもよい。