JP5288104B2 - スキャン露光装置およびスキャン露光方法 - Google Patents
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Description
(1) 所定の方向に沿って基板を搬送可能な基板搬送機構と、
前記所定の方向と直交する方向に並んで配置され、複数のマスクをそれぞれ保持する複数のマスク保持部と、
前記複数のマスク保持部の上方にそれぞれ配置され、露光用光を照射する複数の照射部と、
を備え、前記搬送される基板に対して前記複数のマスクを介して前記露光用光を照射し、前記基板に前記各マスクのパターンを露光するスキャン露光装置であって、
前記マスクは、前記マスク保持部を前記所定の方向に沿って移動させることにより、いずれか一方を有効とすることが可能な2種類の第1及び第2パターンを有し、
前記複数のマスク保持部と前記基板搬送機構の少なくとも一方は、前記複数のマスクと前記基板とが前記直交方向に前記所定の距離だけ相対移動するように移動可能に構成されることを特徴とするスキャン露光装置。
(2) 前記所定の距離とは、前記隣接するマスクのパターンの前記直交方向における中心間距離の略1/2であることを特徴とする(1)に記載のスキャン露光装置。
(3) 前記複数のマスク保持部ごとに設けられ、前記複数のマスク保持部に対して前記所定の方向の上流側及び下流側で前記基板と前記マスクの相対位置を検知可能な複数の検知部と、をさらに備えることを特徴とする(1)に記載のスキャン露光装置。
(4) 所定の方向に沿って基板を搬送可能な基板搬送機構と、前記所定の方向と直交する方向に並んで配置され、複数のマスクをそれぞれ保持する複数のマスク保持部と、前記複数のマスク保持部の上方にそれぞれ配置され、露光用光を照射する複数の照射部と、を備えるスキャン露光装置のスキャン露光方法であって、
前記マスクは、前記マスク保持部を前記所定の方向に沿って移動させることにより、いずれか一方を有効とすることが可能な2種類の第1及び第2パターンを有し、
前記所定の方向に搬送される基板に対して前記複数のマスクを介して前記露光用光を照射して、前記基板に前記各マスクの前記第1パターンを露光することで、前記直交方向に所定の間隔ずつ離れた第1の転写パターンを形成する工程と、
前記複数のマスク保持部と前記基板搬送機構の少なくとも一方を、前記複数のマスクと前記基板とが前記直交方向に所定の距離だけ相対移動するように移動する工程と、
前記マスクを前記所定の方向に沿って移動させることにより、前記第2パターンを有効とする工程と、
前記所定の方向と反対方向に搬送される基板に対して前記複数のマスクを介して前記露光用光を照射して、前記基板に前記各マスクの前記第2パターンを露光することで、前記第1の転写パターン間に第2の転写パターンを形成する工程と、
を備えることを特徴とするスキャン露光方法。
さらに、撮像手段35を移動案内軸36によってX方向に移動可能としたので、上流側及び下流側の両側に撮像手段35を設ける必要がなく、コストダウンを図ることができる。
さらに、本実施形態では、往路搬送から復路搬送に切り替える際の、複数のマスクMと基板Wとが直交方向に相対移動する所定の距離Aは、隣接するマスクMのマスクパターン51,52のY方向における中心間距離Dの略1/2としたが、コストとタクトとの関係が供される範囲で、中心間距離Dの略1/3あるいは略1/4であってもよい。
10 基板搬送機構
11 マスク保持部
13 照射部
35 撮像手段(検知部)
51 マスクパターン
52 マスクパターン
53 第1の転写パターン
54 第2の転写パターン
A 所定の距離
M マスク
W 基板
Claims (4)
- 所定の方向に沿って基板を搬送可能な基板搬送機構と、
前記所定の方向と直交する方向に並んで配置され、複数のマスクをそれぞれ保持する複数のマスク保持部と、
前記複数のマスク保持部の上方にそれぞれ配置され、露光用光を照射する複数の照射部と、
を備え、前記搬送される基板に対して前記複数のマスクを介して前記露光用光を照射し、前記基板に前記各マスクのパターンを露光するスキャン露光装置であって、
前記マスクは、前記マスク保持部を前記所定の方向に沿って移動させることにより、いずれか一方を有効とすることが可能な2種類の第1及び第2パターンを有し、
前記複数のマスク保持部と前記基板搬送機構の少なくとも一方は、前記複数のマスクと前記基板とが前記直交方向に前記所定の距離だけ相対移動するように移動可能に構成されることを特徴とするスキャン露光装置。 - 前記所定の距離とは、前記隣接するマスクのパターンの前記直交方向における中心間距離の略1/2であることを特徴とする請求項1に記載のスキャン露光装置。
- 前記複数のマスク保持部ごとに設けられ、前記複数のマスク保持部に対して前記所定の方向の上流側及び下流側で前記基板と前記マスクの相対位置を検知可能な複数の検知部と、をさらに備えることを特徴とする請求項1に記載のスキャン露光装置。
- 所定の方向に沿って基板を搬送可能な基板搬送機構と、前記所定の方向と直交する方向に並んで配置され、複数のマスクをそれぞれ保持する複数のマスク保持部と、前記複数のマスク保持部の上方にそれぞれ配置され、露光用光を照射する複数の照射部と、を備えるスキャン露光装置のスキャン露光方法であって、
前記マスクは、前記マスク保持部を前記所定の方向に沿って移動させることにより、いずれか一方を有効とすることが可能な2種類の第1及び第2パターンを有し、
前記所定の方向に搬送される基板に対して前記複数のマスクを介して前記露光用光を照射して、前記基板に前記各マスクの前記第1パターンを露光することで、前記直交方向に所定の間隔ずつ離れた第1の転写パターンを形成する工程と、
前記複数のマスク保持部と前記基板搬送機構の少なくとも一方を、前記複数のマスクと前記基板とが前記直交方向に所定の距離だけ相対移動するように移動する工程と、
前記マスクを前記所定の方向に沿って移動させることにより、前記第2パターンを有効とする工程と、
前記所定の方向と反対方向に搬送される基板に対して前記複数のマスクを介して前記露光用光を照射して、前記基板に前記各マスクの前記第2パターンを露光することで、前記第1の転写パターン間に第2の転写パターンを形成する工程と、
を備えることを特徴とするスキャン露光方法。
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