JP4984810B2 - 露光方法、露光装置及びフォトマスク - Google Patents
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Description
Claims (49)
- 感光物体にパターンの像を露光する露光方法であって、
第1方向に沿って互いに所定間隔を置いて配置された複数の第1パターンと、前記第1方向に沿って互いに前記所定間隔を置いて前記複数の第1パターンの間に配置された複数の第2パターンとが形成されたマスクを準備することと、
前記複数の第1パターンの拡大像を前記第1方向に関して連続させて前記感光物体に投影露光することと、
前記複数の第2パターンの拡大像を前記第1方向に関して連続させて前記感光物体に投影露光することと、
を含むことを特徴とする露光方法。 - 前記複数の第1パターンの拡大像のうち互いに隣り合う少なくとも一対の前記第1パターンの拡大像の一部は、互いに重複して前記感光物体に投影露光され、
前記複数の第2パターンの拡大像のうち互いに隣り合う少なくとも一対の前記第2パターンの拡大像の一部は、互いに重複して前記感光物体に投影露光されることを特徴とする請求項1に記載の露光方法。 - 前記複数の第1パターンの拡大像と前記複数の第2パターンの拡大像とは、同一の前記感光物体に投影露光されることを特徴とする請求項1又は2に記載の露光方法。
- 前記複数の第1パターンの拡大像は、前記感光物体の第1領域に投影露光され、
前記複数の第2パターンの拡大像は、前記感光物体の前記第1領域と異なる第2領域に投影露光されることを特徴とする請求項3に記載の露光方法。 - 前記複数の第1パターンの拡大像は、前記感光物体の第1領域に投影露光され、
前記複数の第2パターンの拡大像は、前記感光物体の前記第1領域に少なくとも一部が重複する第2領域に投影露光されることを特徴とする請求項3に記載の露光方法。 - 前記複数の第1パターンの拡大像と前記複数の第2パターンの拡大像とは、前記感光物体に互いに2重露光されることを特徴とする請求項5に記載の露光方法。
- 前記感光物体は、互いに異なる第1感光物体及び第2感光物体を含み、
前記複数の第1パターンの拡大像は、前記第1感光物体に投影露光され、
前記複数の第2パターンの拡大像は、前記第2感光物体に投影露光されることを特徴とする請求項1又は2に記載の露光方法。 - 前記複数の第1パターンの拡大像と前記複数の第2パターンの拡大像とは、2倍よりも大きい投影倍率で前記感光物体に投影露光されることを特徴とする請求項1〜7のいずれか一項に記載の露光方法。
- 前記複数の第1パターンの拡大像は、前記第1方向に関して互いに前記所定間隔を置いて配列された複数の投影光学ユニットによって前記感光物体に投影露光され、
前記複数の第2パターンの拡大像は、前記複数の投影光学ユニットによって前記感光物体に投影露光されることを特徴とする請求項1〜8のいずれか一項に記載の露光方法。 - 前記複数の第1パターンの拡大像を前記感光物体に投影露光することは、前記複数の投影光学ユニットに対して前記マスク及び前記感光物体を、前記第1方向と交差する第2方向に走査させることを含み、
前記複数の第2パターンの拡大像を前記感光物体に投影露光することは、前記複数の投影光学ユニットに対して前記マスク及び前記感光物体を、前記第2方向に走査させることを含むことを特徴とする請求項9に記載の露光方法。 - 前記複数の第1パターンの拡大像を前記感光物体に投影露光することは、前記マスクと前記感光物体とを前記複数の投影光学ユニットが有する倍率に等しい速度比で前記第2方向に走査させることを含み、
前記複数の第2パターンの拡大像を前記感光物体に投影露光することは、前記マスクと前記感光物体とを前記速度比で前記第2方向に走査させることを含むことを特徴とする請求項10に記載の露光方法。 - 前記第1パターンと前記第2パターンとの前記第1方向の間隔に応じて前記マスクを前記第1方向に関してステップ移動させ、前記複数の第1パターン又は前記複数の第2パターンと前記複数の投影光学ユニットとをそれぞれ対向させることを含むことを特徴とする請求項9〜11のいずれか一項に記載の露光方法。
- 前記第1パターン及び前記第2パターンの一方を選択するための露光情報を取得することと、
前記露光情報に基づいて、前記複数の第1パターン又は前記複数の第2パターンと前記複数の投影光学ユニットとをそれぞれ対向させることを含むことを特徴とする請求項9〜12のいずれか一項に記載の露光方法。 - 前記複数の第1パターン及び前記複数の第2パターンの少なくとも一方に対応して前記マスクの所定位置に形成された複数の計測用マークの像を前記複数の投影光学ユニットによって形成することと、
前記複数の計測用マークの像を計測することと、
前記複数の計測用マークの像の計測結果に基づいて、前記複数の投影光学ユニットを調整することと、を含み、
前記複数の第1パターンの拡大像及び前記複数の第2パターンの拡大像は、前記複数の計測用マークの計測結果に基づいて調整された前記複数の投影光学ユニットによって前記感光物体に投影露光されることを特徴とする請求項9〜13のいずれか一項に記載の露光方法。 - 前記複数の計測用マークの像の計測結果は、前記マスクの変形量と、前記第1パターン及び前記第2パターンの描画誤差との少なくとも一方に関する情報を含むことを特徴とする請求項14に記載の露光方法。
- 前記所定間隔は、前記感光物体に投影露光される前記第1パターンの拡大像及び前記第2パターンの拡大像の投影倍率に対応して設定されることを特徴とする請求項1〜15のいずれか一項に記載の露光方法。
- 前記所定間隔は、前記複数の投影光学ユニットが有する倍率と、前記複数の投影光学ユニットにより形成される複数の露光領域の前記第1方向に沿ったピッチ間隔とに対応して設定されることを特徴とする請求項9〜15のいずれか一項に記載の露光方法。
- 前記マスクは、前記第1方向に沿って離散的に配置される複数のマスク基板を含み、
前記複数の第1パターン及び前記複数の第2パターンは、それぞれ前記複数のマスク基板に分割して設けられ、
前記マスクを準備することは、前記第1方向に沿って離散的に配置された前記複数のマスク基板を支持することを含むことを特徴とする請求項1〜17のいずれか一項に記載の露光方法。 - 感光物体にパターンの像を露光する露光方法であって、
第1のデバイスパターンを第1方向に分割して形成された複数の第1パターンを前記第1方向に沿って互いに所定間隔を置いて配置させ、且つ第2のデバイスパターンを前記第1方向に分割して形成された複数の第2パターンを前記第1方向に沿って互いに前記所定間隔を置いて前記複数の第1パターンの間に配置させたマスクを準備することと、
前記複数の第1パターンの拡大像を前記感光物体に投影して前記第1のデバイスパターンの拡大像を前記感光物体に露光することと、
前記複数の第2パターンの拡大像を前記感光物体に投影して前記第2のデバイスパターンの拡大像を前記感光物体に露光することと、
を含むことを特徴とする露光方法。 - 前記第1のデバイスパターンの拡大像は、前記第1方向に関して互いに前記所定間隔を置いて配列された複数の投影光学ユニットによって前記感光物体に投影露光され、
前記第2のデバイスパターンの拡大像は、前記複数の投影光学ユニットによって前記感光物体に投影露光されることを特徴とする請求項19に記載の露光方法。 - 感光物体にパターンの像を露光する露光装置であって、
第1方向に関して互いに所定間隔を置いて配列され、第1面に配置される前記パターンの拡大像をそれぞれ第2面に投影露光する複数の投影光学ユニットと、
前記第1方向に沿って互いに前記所定間隔を置いて配置された複数の第1パターンと、前記第1方向に沿って互いに前記所定間隔を置いて前記複数の第1パターンの間に配置された複数の第2パターンとが形成されたマスクを支持し、該マスクを前記複数の投影光学ユニットに対して相対移動可能に前記第1面に配置させる第1保持装置と、
前記感光物体を支持して前記第2面に配置させる第2保持装置と、を備え、
前記複数の投影光学ユニットは、当該複数の投影光学ユニットにそれぞれ対向するように前記第1保持装置によって前記第1面に配置された前記複数の第1パターンの拡大像を前記第1方向に関して連続させ、前記第2保持装置によって前記第2面に配置された前記感光物体に投影露光し、かつ当該複数の投影光学ユニットにそれぞれ対向するように前記第1保持装置によって前記第1面に配置された前記複数の第2パターンの拡大像を前記第1方向に関して連続させ、前記第2保持装置によって前記第2面に配置された前記感光物体に投影露光することを特徴とする露光装置。 - 前記複数の投影光学ユニットは、前記複数の第1パターンの拡大像のうち互いに隣り合う少なくとも一対の前記第1パターンの拡大像の一部を互いに重複させて前記感光物体に投影露光し、前記複数の第2パターンの拡大像のうち互いに隣り合う少なくとも一対の前記第2パターンの拡大像の一部を互いに重複させて前記感光物体に投影露光することを特徴とする請求項21に記載の露光装置。
- 前記複数の第1パターンの拡大像と前記複数の第2パターンの拡大像とは、同一の前記感光物体に投影露光されることを特徴とする請求項21又は22に記載の露光装置。
- 前記複数の第1パターンの拡大像は、前記感光物体の第1領域に投影露光され、
前記複数の第2パターンの拡大像は、前記感光物体の前記第1領域と異なる第2領域に投影露光されることを特徴とする請求項23に記載の露光装置。 - 前記複数の第1パターンの拡大像は、前記感光物体の第1領域に投影露光され、
前記複数の第2パターンの拡大像は、前記感光物体の前記第1領域に少なくとも一部が重複する第2領域に投影露光されることを特徴とする請求項23に記載の露光装置。 - 前記複数の第1パターンの拡大像と前記複数の第2パターンの拡大像とは、前記感光物体に互いに2重露光されることを特徴とする請求項25に記載の露光装置。
- 前記感光物体は、互いに異なる第1感光物体及び第2感光物体を含み、
前記複数の第1パターンの拡大像は、前記第1感光物体に投影露光され、
前記複数の第2パターンの拡大像は、前記第2感光物体に投影露光されることを特徴とする請求項21又は22に記載の露光装置。 - 前記複数の投影光学ユニットは、2倍よりも大きい倍率を有することを特徴とする請求項21〜27のいずれか一項に記載の露光装置。
- 前記第1保持装置と前記第2保持装置とは、前記マスクと前記感光物体とを前記複数の投影光学ユニットが有する倍率に等しい速度比で前記第1方向と交差する第2方向に走査させることを特徴とする請求項21〜28のいずれか一項に記載の露光装置。
- 前記第1保持装置は、前記第1パターンと前記第2パターンとの前記第1方向の間隔に応じて前記マスクを前記第1方向に関してステップ移動させ、前記複数の第1パターン又は前記複数の第2パターンと前記複数の投影光学ユニットとをそれぞれ対向させることを特徴とする請求項21〜29のいずれか一項に記載の露光装置。
- 前記第1保持装置は、前記第1パターン及び前記第2パターンの一方を選択するために当該露光装置に入力された露光情報に基づいて、前記複数の第1パターン又は前記複数の第2パターンと前記複数の投影光学ユニットとをそれぞれ対向させることを特徴とする請求項21〜30のいずれか一項に記載の露光装置。
- 前記複数の第1パターン及び前記複数の第2パターンの少なくとも一方に対応して前記マスクの所定位置に形成された複数の計測用マークの前記複数の投影光学ユニットによる像を計測する像計測装置と、
前記複数の計測用マークの計測結果に基づいて、前記複数の投影光学ユニットを調整する調整装置と、
を備えることを特徴とする請求項21〜31のいずれか一項に記載の露光装置。 - 前記所定間隔は、前記複数の投影光学ユニットが有する倍率と、前記複数の投影光学ユニットにより形成される複数の露光領域の前記第1方向に沿ったピッチ間隔とに対応して設定されることを特徴とする請求項21〜32のいずれか一項に記載の露光装置。
- 前記マスクは、前記第1方向に沿って離散的に配置される複数のマスク基板を含み、
前記複数の第1パターン及び前記複数の第2パターンは、それぞれ前記複数のマスク基板に分割して設けられ、
前記第1保持装置は、前記第1方向に沿って離散的に配置された前記複数のマスク基板を支持することを特徴とする請求項21〜33のいずれか一項に記載の露光装置。 - 感光物体にパターンの像を露光する露光装置であって、
第1方向に関して互いに所定間隔を置いて配列され、第1面に配置される前記パターンの拡大像をそれぞれ第2面に投影露光する複数の投影光学ユニットと、
第1のデバイスパターンを前記第1方向に分割して形成された複数の第1パターンを前記第1方向に沿って互いに前記所定間隔を置いて配置させ、且つ第2のデバイスパターンを前記第1方向に分割して形成された複数の第2パターンを前記第1方向に沿って互いに前記所定間隔を置いて前記複数の第1パターンの間に配置させたマスクを支持し、該マスクを前記複数の投影光学ユニットに対して相対移動可能に前記第1面に配置させる第1保持装置と、
前記感光物体を支持して前記第2面に配置させる第2保持装置と、を備え、
前記複数の投影光学ユニットは、当該複数の投影光学ユニットにそれぞれ対向するように前記第1保持装置によって前記第1面に配置された前記複数の第1パターンの拡大像を、前記第2保持装置によって前記第2面に配置された前記感光物体に投影して前記第1のデバイスパターンの拡大像を前記感光物体に露光し、かつ当該複数の投影光学ユニットにそれぞれ対向するように前記第1保持装置によって前記第1面に配置された前記複数の第2パターンの拡大像を、前記第2保持装置によって前記第2面に配置された前記感光物体に投影して前記第2のデバイスパターンの拡大像を前記感光物体に露光することを特徴とする露光装置。 - 感光物体に露光されるパターンが形成されたフォトマスクであって、
第1方向に沿って互いに所定間隔を置いて配置され、前記感光物体上で前記第1方向に関して連続したパターンとなるように前記感光物体に拡大像が投影露光される複数の第1パターンと、
前記第1方向に沿って互いに前記所定間隔を置いて前記複数の第1パターンの間に配置され、前記感光物体上で前記第1方向に関して連続したパターンとなるように前記感光物体に拡大像が投影露光される複数の第2パターンと、
を有することを特徴とするフォトマスク。 - 前記複数の第1パターンの拡大像のうち互いに隣り合う少なくとも一対の前記第1パターンの拡大像の一部は、互いに重複して前記感光物体に投影露光され、
前記複数の第2パターンの拡大像のうち互いに隣り合う少なくとも一対の前記第2パターンの拡大像の一部は、互いに重複して前記感光物体に投影露光されることを特徴とする請求項36に記載のフォトマスク。 - 前記複数の第1パターンの拡大像と前記複数の第2パターンの拡大像とは、前記感光物体に互いに2重露光されることを特徴とする請求項37に記載のフォトマスク。
- 前記複数の第1パターンの拡大像と前記複数の第2パターンの拡大像とは、2倍よりも大きい投影倍率で前記感光物体に投影露光されることを特徴とする請求項36〜38のいずれか一項に記載のフォトマスク。
- 前記複数の第1パターンの拡大像は、前記第1方向に関して互いに前記所定間隔を置いて配列された複数の投影光学ユニットによって前記感光物体に投影露光され、
前記複数の第2パターンの拡大像は、前記複数の投影光学ユニットによって前記感光物体に投影露光されることを特徴とする請求項36〜39のいずれか一項に記載のフォトマスク。 - 前記第1パターン及び前記第2パターンは、それぞれ前記第1方向と交差する第2方向に沿って形成されていることを特徴とする請求項36〜40のいずれか一項に記載のフォトマスク。
- 前記複数の第1パターン及び前記複数の第2パターンの少なくとも一方に対応して所定位置に配置された複数の計測用マークを有することを特徴とする請求項36〜41のいずれか一項に記載のフォトマスク。
- 前記複数の計測用マークの少なくとも一部は、互いに隣り合う前記第1パターンと前記第2パターンとの間に配置されることを特徴とする請求項42に記載のフォトマスク。
- 前記複数の第1パターンのうち互いに隣り合う少なくとも一対の前記第1パターンの端部に、同一のパターンを有する第1共通領域が設けられ、
前記複数の第2パターンのうち互いに隣り合う少なくとも一対の前記第2パターンの端部に、同一のパターンを有する第2共通領域が設けられることを特徴とする請求項36〜43のいずれか一項に記載のフォトマスク。 - 前記第1共通領域は、互いに隣り合う少なくとも一対の前記第1パターンの隣り合う側にそれぞれ設けられ、
前記第2共通領域は、互いに隣り合う少なくとも一対の前記第2パターンの隣り合う側にそれぞれ設けられることを特徴とする請求項44に記載のフォトマスク。 - 前記第1共通領域は、互いに隣り合う少なくとも一対の前記第1パターンの隣り合う側とは反対側にそれぞれ設けられ、
前記第2共通領域は、互いに隣り合う少なくとも一対の前記第2パターンの隣り合う側とは反対側にそれぞれ設けられることを特徴とする請求項44に記載のフォトマスク。 - 前記所定間隔は、前記感光物体に投影露光される前記第1パターンの拡大像及び前記第2パターンの拡大像の投影倍率に対応して設定されることを特徴とする請求項36〜46のいずれか一項に記載のフォトマスク。
- 前記第1方向に沿って離散的に配置される複数のマスク基板を含み、
前記複数の第1パターン及び前記複数の第2パターンは、それぞれ前記複数のマスク基板に分割して設けられることを特徴とする請求項36〜47のいずれか一項に記載のフォトマスク。 - 感光物体に露光されるパターンが形成されたフォトマスクであって、
第1のデバイスパターンを第1方向に分割して形成され、前記第1方向に沿って互いに所定間隔を置いて配置される複数の第1パターンと、
第2のデバイスパターンを前記第1方向に分割して形成され、前記第1方向に沿って互いに前記所定間隔を置いて前記複数の第1パターンの間に配置される複数の第2パターンと、
を有することを特徴とするフォトマスク。
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