JP5071382B2 - 走査露光装置及びマイクロデバイスの製造方法 - Google Patents
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Description
0.8×|β|≦f3/f1≦1.25×|β|
|β|≧1.8
を満足している。
Dp=Dm×|β|(但し、|β|>1.8)
を満足するように配置されている。
図11に示すように、反射屈折光学系PL10は、凹面反射鏡CCM、第1レンズ群G1、第2レンズ群G2、第3レンズ群G3、第1偏向部材FM1及び第2偏向部材FM2を備えている。
投影倍率: 2.4倍
像側NA:0.05625
物体側NA:0.135
像野:φ228mm
視野:φ95mm
条件式の対応値:f3/f1=1430/600=2.38
(表1)
(光学部材諸元)
図14に示すように、反射屈折光学系PL20は、凹面反射鏡CCM、第1レンズ群G1、第2レンズ群G2、第3レンズ群G3、第1偏向部材FM1及び第2偏向部材FM2を備えている。
投影倍率: 2.0倍
像側NA:0.069
物体側NA:0.138
像野:φ240mm
視野:φ120mm
条件式の対応値:f3/f1=1321/642=2.06
(表2)
(光学部材諸元)
Claims (13)
- 第1面に配置され該第1面に沿って走査方向へ移動される第1物体の像を、第2面に配置され該第2面に沿って前記走査方向へ移動される第2物体に露光する走査露光装置において、
前記第1面上の第1視野領域に位置する前記第1物体の拡大像を前記第2面上の第1投影領域に投影する第1投影光学系と、
前記第1面上の前記第1視野領域とは異なる第2視野領域に位置する前記第1物体の拡大像を、前記第2面上の前記第1投影領域と異なる第2投影領域に投影する第2投影光学系と、
を備え、
前記第1投影光学系および前記第2投影光学系は、重力方向に対して平行に設けられた光軸を有する第1レンズ群、第2レンズ群、第3レンズ群および前記第1面側に反射面を向けた凹面反射鏡と、前記第1面からの光であって前記第1レンズ群、前記第2レンズ群および前記凹面反射鏡を介した光を前記走査方向に沿って移送して前記第3レンズ群へ進行させる移送部と、を有する反射屈折光学系を含み、
前記第1視野領域と前記第2視野領域との前記走査方向に沿った間隔Dmと、前記第1投影領域と前記第2投影領域との前記走査方向に沿った間隔Dpと、前記第1投影光学系および前記第2投影光学系の倍率βとは、Dp=Dm×|β|を満足することを特徴とする走査露光装置。 - 前記凹面反射鏡は、前記第1面と前記第2面との間に配置され、
前記第1レンズ群は、前記第1面と前記凹面反射鏡との間に配置され、
前記第2レンズ群は、前記第1レンズ群と前記凹面反射鏡との間に配置され、
前記移送部は、重力方向に関して、前記第1レンズ群と前記第2レンズ群との間に配置されていることを特徴とする請求項1に記載の走査露光装置。 - 前記移送部は、前記第1レンズ群、前記第2レンズ群および前記凹面反射鏡を介した前記光を前記走査方向に偏向させる第1偏向部材と、該第1偏向部材を介した前記光を重力方向に偏向させ前記第3レンズ群に向けて進行させる第2偏向部材と、を含むことを特徴とする請求項1又は2に記載の走査露光装置。
- 前記第1偏向部材は、前記第1レンズ群、前記第2レンズ群および前記凹面反射鏡を介した前記光を、前記第1レンズ群の光軸を横切るように前記走査方向に偏向させることを特徴とする請求項3に記載の走査露光装置。
- 前記反射屈折光学系は、該反射屈折光学系が前記第1面側および前記第2面側に略テレセントリックとなるように、前記凹面反射鏡と前記第2レンズ群との間に配置された開口絞りを含むことを特徴とする請求項1〜4の何れか一項に記載の走査露光装置。
- 前記第1レンズ群の焦点距離f1と、前記第3レンズ群の焦点距離f3と、前記倍率βとは、0.8×|β|≦f3/f1≦1.25×|β|かつ|β|≧1.8を満足することを特徴とする請求項1〜5の何れか一項に記載の走査露光装置。
- 前記第1投影光学系および前記第2投影光学系は、前記第2面上に前記第1物体の一次像を形成することを特徴とする請求項1〜6の何れか一項に記載の走査露光装置。
- 前記第1投影領域と前記第2投影領域とは、前記走査方向と直交する非走査方向に関して連続していることを特徴とする請求項1〜7の何れか一項に記載の走査露光装置。
- 前記第1投影光学系は、前記非走査方向に沿って所定間隔を置いて複数配置され、
前記第2投影光学系は、前記走査方向に関して前記第1投影光学系とは異なる位置において前記非走査方向に沿って前記所定間隔を置いて複数配置されていることを特徴とする請求項8に記載の走査露光装置。 - 前記第1投影光学系および前記第2投影光学系の倍率は、前記走査方向に関して+1より大きく、前記走査方向に直交する非走査方向に関して−1より小さいことを特徴とする請求項1〜9の何れか一項に記載の走査露光装置。
- 前記反射屈折光学系のうち屈折力を有するすべての光学部材は、該すべての光学部材の光軸が重力方向に対して平行となるように配置されていることを特徴とする請求項1〜10の何れか一項に記載の走査露光装置。
- 前記第2物体は、外径が500mmよりも大きい感光基板であることを特徴とする請求項1〜11の何れか一項に記載の走査露光装置。
- 請求項1〜12の何れか一項に記載の走査露光装置を用いてマスクのパターンを感光基板上に露光する露光工程と、
前記露光工程により露光された前記感光基板を現像する現像工程と、
を含むことを特徴とするマイクロデバイスの製造方法。
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