JPWO2007119292A1 - 反射屈折投影光学系、反射屈折光学装置、走査露光装置、マイクロデバイスの製造方法 - Google Patents

Abstract

本発明の走査露光装置は、第１面に配置される第１物体の像を第２面に配置される第２物体上に投影しつつ前記第１物体の像と前記第２物体との位置関係を走査方向に関して変化させつつ前記第１物体のパターンを前記第２物体上に転写露光する走査露光装置において、前記第１面上で第１視野を有し、該第１視野からの光に基づいて第２面上の第１投影領域に前記第１物体の一部の拡大像を投影する第１投影光学系と、前記第１面上で第２視野を有し、該第２視野からの光に基づいて第２面上の第２投影領域に前記第１物体の一部の拡大像を投影する第２投影光学系と、を備え、前記第１視野と前記第２視野との前記第１面上での前記走査方向に沿った間隔である第１間隔をＤｍとし、前記第１投影領域と前記第２投影領域との前記第２面上での前記走査方向に沿った間隔である第２間隔をＤｐとし、前記第１および第２投影光学系の倍率をβとするとき、Ｄｐ＝β×Ｄｍを満足する。

Description

本発明は、第１の物体（マスク、レチクル等）の像を第２の物体（基板等）上に投影する反射屈折投影光学系及び反射屈折光学装置、第１の物体の像を第２の物体上に投影露光する走査露光装置、該走査露光装置を用いたマイクロデバイスの製造方法に関するものである。

例えば半導体素子又は液晶表示素子等を製造する際に、マスク（レチクル、フォトマスク等）のパターンを投影光学系を介してレジストが塗布されたプレート（ガラスプレート又は半導体ウエハ等）上に投影する投影露光装置が使用されている。従来はステップ・アンド・リピート方式でプレート上の各ショット領域にそれぞれレチクルのパターンを一括露光する投影露光装置（ステッパ）が多用されていた。近年、１つの大きな投影光学系を使用する代わりに、等倍の倍率を有する小さな複数の部分投影光学系を走査方向に沿って所定間隔で複数列に配置し、マスク及びプレートを走査させつつ各部分投影光学系でそれぞれマスクのパターンをプレート上に露光するステップ・アンド・スキャン方式の投影露光装置が提案されている。

近年、プレートが益々大型化し、２ｍ角を越えるプレートが使用されるようになってきている。ここで、上述のステップ・アンド・スキャン方式の露光装置を用いて大型のプレート上に露光を行う場合、部分投影光学系が等倍の倍率を有するため、マスクも大型化する。マスクのコストは、マスク基板の平面性を維持する必要もあり、大型化すればするほど高くなる。また、通常のＴＦＴ部を形成するためには、４〜５層分のマスクが必要とされており多大なコストを要していた。従って、投影光学系の倍率を拡大倍率とすることで、マスクの大きさを小さくした投影露光装置が提案されている（日本国特許出願公開平成１１−２６５８４８号公報）。

上述の投影露光装置においては、複数の投影光学系のマスク上の光軸とプレート上の光軸とは実質的に同一位置に配置されていた。従って、異なる列の投影光学系によってプレート上に走査露光されるパターン同士が互いに繋ぎ合わさらないという問題があった。

また、上述の投影露光装置の投影光学系において、露光領域を大きくするためには、投影光学系を構成するレンズを大型化する必要があるが、レンズが大型化した場合には、レンズを保持することにより光軸非対称な変形が発生し、または重力によってレンズ自体に光軸非対称な変形が生じる虞が大きくなる。

本発明の目的は、複数の投影光学系を用いて走査露光方式でマスクのパターンの拡大像をプレート等の物体上に形成する場合に良好なパターン転写を行うことである。また、本発明の別の目的は、レンズに光軸非対称な変形が生じさせずに良好なパターン転写を行うことである。

この発明の第1の態様に従えば、第１面に配置される第１物体の像を第２面に配置される第２物体上に投影しつつ前記第１物体の像と前記第２物体との位置関係を走査方向に関して変化させつつ前記第１物体のパターンを前記第２物体上に転写露光する走査露光装置において、前記第１面上で第１視野を有し、該第１視野からの光に基づいて第２面上の第１投影領域に前記第１物体の一部の拡大像を投影する第１投影光学系と、前記第１面上で第２視野を有し、該第２視野からの光に基づいて第２面上の第２投影領域に前記第１物体の一部の拡大像を投影する第２投影光学系と、を備え、前記第１投影光学系は、前記第１視野からの光を、前記第１面と前記第２面とを結ぶ軸線方向と交差する第１方向に沿って移送して、前記軸線方向から見て前記第１視野の前記第１方向側に位置する前記第１投影領域へ導く第１光束移送部を備え、前記第２投影光学系は、前記第２視野からの光を前記第１方向とは逆向きの第２方向に沿って移送して、前記軸線方向から見て前記第２視野の前記第２方向側に位置する前記第２投影領域へ導く第２光束移送部を備え、前記第１視野と前記第２視野との前記第１面上での前記走査方向に沿った間隔である第１間隔をＤｍとし、前記第１投影領域と前記第２投影領域との前記第２面上での前記走査方向に沿った間隔である第２間隔をＤｐとし、前記第１および第２投影光学系の倍率をβとするとき、
Ｄｐ＝β×Ｄｍ
を満足することを特徴とする走査露光装置が提供される。

また、この発明の第２の態様に従えば、第１物体の像を第２物体上に投影しつつ前記第１物体の像と前記第２物体との位置関係を走査方向に関して変化させつつ前記第１物体のパターンを前記第２物体上に転写露光する走査露光装置において、前記走査方向を横切る方向である非走査方向に沿った第１列上に視野をそれぞれ有する複数の投影光学系を備えた第１列投影光学系と、前記非走査方向に沿った列であって前記第１列とは異なる第２列上に視野をそれぞれ有する複数の投影光学系を備えた第２列投影光学系と、を備え、前記第１列投影光学系は、前記第１列投影光学系の前記複数の視野と共役な複数の投影領域を前記第２面上の第３列上に形成し、前記第２列投影光学系は、前記第２列投影光学系の前記複数の視野と共役な複数の投影領域を前記第２面上の第４列上に形成し、前記第１列と前記第２列との前記第１面上での前記走査方向に沿った間隔である第１間隔をＤｍとし、前記第３列と前記第４列との前記第２面上での前記走査方向に沿った間隔である第２間隔をＤｐとし、前記第１および第２投影光学系の倍率をβとするとき、
Ｄｐ＝β×Ｄｍ
を満足することを特徴とする走査露光装置が提供される。

この発明の第３の態様に従えば、第１面上に配置される第１物体の像を第２面上に配置される第２物体上に拡大の投影倍率で形成する反射屈折投影光学系において、前記第１面と前記第２面との間の光路中に配置される凹面反射鏡と、前記第１面と前記凹面反射鏡との間の光路中に配置される第１レンズ群と、前記第１レンズ群と前記凹面反射鏡との間の光路中に配置される第２レンズ群と、前記第２レンズ群と前記第２面との間の光路中に配置されて、前記第１レンズ群の光軸を横切るように光を偏向する第１偏向部材と、前記第１偏向部材と前記第２物体との間の光路中に配置される第２偏向部材と、前記第２偏向部材と前記第２面との間の光路中に配置されて、前記第１レンズ群の光軸と略平行な光軸を有する第３レンズ群とを備えることを特徴とする反射屈折投影光学系が提供される。

この発明の第４の態様に従えば、第１面上に配置される第１物体の像を第２面上に配置される第２物体上に拡大の投影倍率で形成する反射屈折投影光学系において、前記第１面と前記第２面との間の光路中に配置される凹面反射鏡と、前記第１面と前記第２面との間の光路中に配置される複数のレンズと、前記反射屈折投影光学系の瞳位置と前記第２面との間に配置される光学特性調整機構と、を備えることを特徴とする反射屈折投影光学系が提供される。

この発明の第５の態様に従えば、前記第１面の中間像を形成する第１結像光学系と、前記中間像と前記第２面とを光学的に共役にする第２結像光学系とを備える反射屈折光学装置であって、前記第１結像光学系と前記第２結像光学系との少なくとも一方は、この発明の反射屈折投影光学系により構成されていることを特徴とする反射屈折光学装置が提供される。

この発明の第６の態様に従えば、第１面の像を第２面上に投影する投影装置と前記第１物体及び前記第２物体との位置関係を走査方向に関して変化させつつ前記第１物体のパターンを前記第２物体上に転写露光する走査露光装置において、前記投影装置は、前記走査方向に関して第１の位置に位置決めされた第１投影光学装置と、前記走査方向に関して前記第１の位置とは異なる第２の位置に位置決めされた第２投影光学装置とを備え、前記第１及び第２投影光学装置は、この発明の反射屈折投影光学系又は反射屈折光学装置を備えることを特徴とする走査露光装置が提供される。

この発明の第７の態様に従えば、この発明の走査露光装置を用いてマスクのパターンを感光基板上に露光する露光工程と、前記露光工程により露光された前記感光基板を現像する現像工程とを含むことを特徴とするマイクロデバイスの製造方法が提供される。

第１の実施の形態にかかる走査露光装置の構成を示す図である。 第１の実施の形態にかかる照明光学系及び投影光学系の構成を示す図である 。 実施の形態にかかる走査露光装置で用いられるマスクを示す図である。 第１の実施の形態にかかる投影光学系の視野及び像野を示す図である。 第２の実施の形態にかかる照明光学系及び投影光学系の構成を示す図である。 第２の実施の形態にかかる投影光学系の視野及び像野を示す図である。 第３の実施の形態にかかる照明光学系及び投影光学系の構成を示す図である。 第４の実施の形態にかかる投影光学系の構成を示す図である。 照明光学系内に円弧形状の開口を有する照明視野絞りを配置した場合の投影光学系の視野及び像野を示す図である。 実施の形態に係るマイクロデバイスの製造方法を説明するためのフローチャートである。 第１の実施例に係る投影光学系の構成を示す図である。 第１の実施例に係る投影光学系の収差図である。 第１の実施例に係る投影光学系の収差図である。 第２の実施例に係る投影光学系の構成を示す図である。 第２の実施例に係る投影光学系の収差図である。 第２の実施例に係る投影光学系の収差図である。

以下、図面を参照して、この発明の第１の実施の形態について説明する。この実施の形態においては、マスク（第１物体）Ｍ１のパターンの一部を感光基板としての外径が５００ｍｍよりも大きいプレート（第２物体）Ｐ１に対して部分的に投影する複数の反射屈折型の投影光学系ＰＬ１〜ＰＬ７からなる投影光学装置ＰＬに対してマスクＭ１とプレートＰ１とを走査方向に同期移動させてマスクＭ１に形成されたパターンの像をプレートＰ１上に走査露光するステップ・アンド・スキャン方式の走査投影露光装置を例に挙げて説明する。ここで外形が、５００ｍｍよりも大きいとは、一辺若しくは対角線が５００ｍｍよりも大きいことをいう。

また、以下の説明においては、図１中に示した直交座標系を設定し、このＸＹＺ直交座標系を参照しつつ各部材の位置関係について説明する。ＸＹＺ直交座標系は、Ｘ軸及びＹ軸がプレートＰ１に対して平行となるように設定され、Ｚ軸がプレートＰ１に対して直交する方向に設定されている。図中のＸＹＺ座標系は、実際にはＸＹ平面が水平面に平行に設定され、Ｚ軸が鉛直方向に設定される。また、この実施形態では、プレートＰ１を移動させる方向（走査方向）をＸ方向に設定している。

図１は、この実施の形態にかかる走査投影露光装置の全体の概略構成を示す斜視図である。この実施の形態にかかる走査投影露光装置は、例えば超高圧水銀ランプ光源からなる光源を備えている。光源より射出した光束は楕円鏡２及びダイクロイックミラー３により反射され、コリメートレンズ４に入射する。即ち、楕円鏡２の反射膜及びダイクロイックミラー３の反射膜によりｇ線（波長４３６ｎｍ）、ｈ線（波長４０５ｎｍ）及びｉ線（波長３６５ｎｍ）の光を含む波長域の光が取り出され、ｇ、ｈ、ｉ線の光を含む波長域の光がコリメートレンズ４に入射する。また、ｇ、ｈ、ｉ線の光を含む波長域の光は、光源が楕円鏡２の第１焦点位置に配置されているため、楕円鏡２の第２焦点位置に光源像を形成する。楕円鏡２の第２焦点位置に形成された光源像からの発散光束は、コリメートレンズ４により平行光となり、所定の露光波長域の光束のみを透過させる波長選択フィルタ５を透過する。

波長選択フィルタ５を通過した光束は、減光フィルタ６を通過し、集光レンズ７によりライトガイドファイバ８の入射口８ａの入射端に集光される。ここで、ライトガイドファイバ８は、例えば多数のファイバ素線をランダムに束ねて構成されたランダムライトガイドファイバであって、入射口８ａと７つの射出口（以下、射出口８ｂ，８ｃ，８ｄ，８ｅ，８ｆ，８ｇ，８ｈという。）を備えている。ライトガイドファイバ８の入射口８ａに入射した光束は、ライトガイドファイバ８の内部を伝播した後、７つの射出口８ｂ〜８ｈより分割されて射出し、マスクＭ１を部分的に照明する７つの部分照明光学系（以下、部分照明光学系ＩＬ１，ＩＬ２，ＩＬ３，ＩＬ４，ＩＬ５，ＩＬ６，ＩＬ７という。）にそれぞれ入射する。各部分照明光学系ＩＬ１〜ＩＬ７を通過した光は、それぞれマスクＭ１をほぼ均一に照明する。

マスクＭ１の照明領域、即ち部分照明光学系ＩＬ１〜ＩＬ７に対応する照明領域からの光は、各照明領域に対応するように配列されマスクＭ１のパターンの一部の像をプレートＰ１上にそれぞれ投影する７つの投影光学系（以下、投影光学系ＰＬ１，ＰＬ２，ＰＬ３，ＰＬ４，ＰＬ５，ＰＬ６，ＰＬ７という。）のそれぞれに入射する。投影光学系ＰＬ１〜ＰＬ７を透過した光は、プレートＰ１上にマスクＭ１のパターン像をそれぞれ結像する。

ここで、マスクＭ１はマスクホルダ（図示せず）にて固定されており、マスクステージ（図示せず）に載置されている。また、マスクステージにはレーザ干渉計（図示せず）が配置されており、マスクステージレーザ干渉計はマスクステージの位置を計測及び制御する。また、プレートＰ１はプレートホルダ（図示せず）にて固定されており、プレートステージ（図示せず）に載置されている。また、プレートステージには移動鏡５０が設けられている。移動鏡５０には、図示していないプレートステージレーザ干渉計から射出されるレーザ光が入反射する。その入反射されたレーザ光の干渉に基づいてプレートステージの位置は計測及び制御されている。

上述の部分照明光学系ＩＬ１、ＩＬ３、ＩＬ５、ＩＬ７は、走査方向と直交する方向に所定間隔をもって第１列として走査方向の後方側（第１方向側）に配置されており、部分照明光学系ＩＬ１、ＩＬ３、ＩＬ５、ＩＬ７に対応して設けられている投影光学系ＰＬ１、ＰＬ３、ＰＬ５、ＰＬ７も同様に走査方向と直交する方向に所定間隔をもって第１列として走査方向の後方側（第１方向側）に配置されている。また、部分照明光学系ＩＬ２、ＩＬ４、ＩＬ６は、走査方向と直交する方向に所定間隔をもって第２列として走査方向の前方側（第２方向側）に配置されており、部分照明光学系ＩＬ２、ＩＬ４、ＩＬ６に対応して設けられている投影光学系ＰＬ２、ＰＬ４、ＰＬ６も同様に走査方向と直交する方向に所定間隔をもって第２列として走査方向の前方側（第２方向側）に配置されている。

ここで、第１列投影光学系ＰＬ１、ＰＬ３、ＰＬ５、ＰＬ７は、それぞれマスクＭ１が配置される第１面上の第１列に沿った視野を持ち、プレートＰ１が配置される第２面上の第３列上に走査直交方向に所定間隔を持った像野（投影領域）に像をそれぞれ形成する。また、第２列投影光学系ＰＬ２、ＰＬ４、ＰＬ６は、それぞれマスクＭ１が配置される第１面上の第２列に沿った視野を持ち、プレートＰ１が配置される第２面上の第４列上に走査直交方向に所定間隔を持った像野（投影領域）に像をそれぞれ形成する。

第１列の投影光学系と第２列の投影光学系との間には、プレートＰ１の位置合わせを行うために、オフアクシスのアライメント系５２や、マスクＭ１やプレートＰ１のフォーカスを合わせるために、オートフォーカス系５４が配置されている。

図２は、部分照明光学系ＩＬ１、ＩＬ２及び投影光学系ＰＬ１、ＰＬ２の構成を示す図である。なお、部分照明光学系ＩＬ３，ＩＬ５，ＩＬ７は、部分照明光学系ＩＬ１と同一の構成を有し、部分照明光学系ＩＬ４，ＩＬ６は、部分照明光学系ＩＬ２と同一の構成を有する。また、投影光学系ＰＬ３，ＰＬ５，ＰＬ７は、投影光学系ＰＬ１と同一の構成を有し、投影光学系ＰＬ４，ＰＬ６は、投影光学系ＰＬ２と同一の構成を有する。

ライトガイドファイバ８の射出口８ｂから射出した光束は、部分照明光学系ＩＬ１に入射し、射出口８ｂの近傍に配置されているコリメートレンズ９ｂにより集光された光束は、オプティカルインテグレータであるフライアイレンズ１０ｂに入射する。フライアイレンズ１０ｂの後側焦点面に形成された多数の二次光源からの光束は、コンデンサーレンズ１１ｂによりマスクＭ１をほぼ均一に照明する。また、射出口８ｃの近傍に配置されているコリメートレンズ９ｃにより集光された光束は、オプティカルインテグレータであるフライアイレンズ１０ｃに入射する。フライアイレンズ１０ｃの後側焦点面に形成された多数の二次光源からの光束は、コンデンサーレンズ１１ｃによりマスクＭ１をほぼ均一に照明する。

投影光学系ＰＬ１は、マスクＭ１上における視野内の拡大像である一次像をプレートＰ１上の像野内に形成する反射屈折投影光学系であり、その走査方向（Ｘ軸方向）における拡大倍率が＋１倍を超え、且つ走査直交方向における拡大倍率は−１を下回る。

投影光学系ＰＬ１は、マスクＭ１とプレートＰ１との間の光路中に配置される凹面反射鏡ＣＣＭｂと、マスクＭ１と凹面反射鏡ＣＣＭｂとの間の光路中に配置される第１レンズ群Ｇ１ｂと、第１レンズ群Ｇ１ｂと凹面反射鏡ＣＣＭｂとの間の光路中に配置される第２レンズ群Ｇ２ｂと、第２レンズ群Ｇ２ｂとプレートＰ１との間の光路中に配置されて、第２レンズ群Ｇ２ｂから−Ｚ軸方向に進行する光を−Ｘ軸方向（第１方向）に第１レンズ群Ｇ１ｂの光軸を横切るように偏向する第１偏向部材ＦＭ１ｂと、第１偏向部材ＦＭ１ｂとプレートＰ１との間の光路中に配置され、第１偏向部材ＦＭ１ｂから−Ｘ軸方向に進行する光を−Ｚ軸方向に偏向する第２偏向部材ＦＭ２ｂと、第２偏向部材ＦＭ２ｂとプレートＰ１との間の光路中に配置されて、第１レンズ群Ｇ１ｂの光軸と略平行な光軸を有する第３レンズ群Ｇ３ｂとを備えている。

ここで、第１偏向部材ＦＭ１ｂと第２偏向部材ＦＭ２ｂとは例えば第２レンズ群Ｇ２ｂから−Ｚ軸方向に進行する光を−Ｘ軸方向（第１方向）に移送した後に−Ｚ軸方向に沿って進行させる第１光束移送部を構成することができる。

ここで、投影光学系ＰＬ１は、マスクＭ１と凹面反射鏡ＣＣＭｂの距離よりもマスクＭ１とプレートＰ１の距離のほうが大きくなるように、凹面反射鏡ＣＣＭｂ、第１レンズ群Ｇ１ｂ、第２レンズ群Ｇ２ｂ、第３レンズ群Ｇ３ｂ、第１偏向部材ＦＭ１ｂ及び第２偏向部材ＦＭ２ｂのそれぞれが配置されている。また、第１レンズ群Ｇ１ｂ、第２レンズ群Ｇ２ｂ及び第３レンズ群Ｇ３ｂを構成する屈折力を有する光学部材は、その光軸が重力方向に対して平行になるように配置されている。また、投影光学系ＰＬ１は、マスクＭ１側の距離よりもプレートＰ１側の距離が大きくなるように、第１レンズ群Ｇ１ｂ、凹面反射鏡ＣＣＭｂ及び第３レンズ群Ｇ３ｂが配置されている。

なお、凹面反射鏡ＣＣＭｂと第２レンズ群Ｇ２ｂとの間の光路中、即ち、凹面反射鏡ＣＣＭｂの反射面の近傍には、投影光学系ＰＬ１のプレートＰ１側の開口数を決定するための開口絞りＡＳｂが備えられており、開口絞りＡＳｂは、マスクＭ１側及びプレートＰ１側が略テレセントリックとなるように位置決めされている。この開口絞りＡＳｂの位置は投影光学系ＰＬ１の瞳面とみなすことができる。

また、投影光学系ＰＬ１は、投影光学系ＰＬ１の第１レンズ群Ｇ１ｂの焦点距離をｆ１、第３レンズ群Ｇ３ｂの焦点距離をｆ３とし、投影光学系ＰＬ１の倍率をβとするとき、
０．８×｜β｜≦ｆ３／ｆ１≦１．２５×｜β｜
｜β｜≧１．８
を満足している。

投影光学系ＰＬ２は、投影光学系ＰＬ１と走査方向に対称に配置された構成を有し、投影光学系ＰＬ１と同様にマスクＭ１上における視野内の拡大像である一次像をプレートＰ１上の像野内に形成する反射屈折投影光学系であり、その走査方向（Ｘ軸方向）における拡大倍率が＋１倍を超え、且つ走査直交方向における拡大倍率は−１を下回る。

投影光学系ＰＬ２は、投影光学系ＰＬ１と同様に、凹面反射鏡ＣＣＭｃ、第１レンズ群Ｇ１ｃ、第２レンズ群Ｇ２ｃ、第３レンズ群Ｇ３ｃ、第１偏向部材ＦＭ１ｃ、第２偏向部材ＦＭ２ｂ及び開口絞りＡＳｂを備えている。

ここで、第２投影光学系ＰＬ２の第１偏向部材ＦＭ１ｃ及び第２偏向部材ＦＭ２ｂは、例えば第２レンズ群Ｇ２ｃから−Ｚ軸方向に進行する光を＋Ｘ軸方向（第２方向）に移送した後に−Ｚ軸方向に沿って進行させる第２光束移送部を構成することができる。また、開口絞りＡＳｃの位置は投影光学系ＰＬ２の瞳面とみなすことができる。

投影光学系ＰＬ１及び投影光学系ＰＬ２は、投影光学系ＰＬ１及び投影光学系ＰＬ２の視野の中心同士の走査方向（Ｘ軸方向）における間隔をＤｍとし、投影光学系ＰＬ１及び第２投影光学系ＰＬ２による像野の中心同士の走査方向（Ｘ軸方向）における間隔をＤｐとし、投影光学系ＰＬ１及び投影光学系ＰＬ２のそれぞれの投影倍率をβとするとき、
Ｄｐ＝Ｄｍ×｜β｜（但し、｜β｜＞１．８）
を満足するように配置されている。

そして、本例では、第１投影光学系ＰＬ１の視野と像野（投影領域）とを結ぶ線分を第１線分（本例では第１光束移送部の光軸に相当）と、第２投影光学系ＰＬ２の視野と像野（投影領域）とを結ぶ線分を第２線分（本例では第２光束移送部の光軸に相当）とはＹ方向からみて互いに重畳していない。

図３は、この実施の形態に係る走査露光装置で用いられるマスクＭ１の構成を示す図である。図３に示すようにマスクＭ１は、非走査方向（Ｙ軸方向）に沿って配置された列パターン部Ｍ１０〜Ｍ１６を備えている。ここで列パターン部Ｍ１０には、投影光学系ＰＬ１の視野が位置決めされ、列パターン部Ｍ１１には、投影光学系ＰＬ２の視野が位置決めされる。同様に、列パターン部Ｍ１２〜Ｍ１６には、投影光学系ＰＬ３〜ＰＬ７の視野がそれぞれ位置決めされる。

図４は、第１列として配置されている投影光学系ＰＬ１、ＰＬ３及び第２列として配置されている投影光学系ＰＬ２の視野及び像野の状態を説明するための図である。投影光学系ＰＬ１は、視野Ｖ１及び像野I１、投影光学系ＰＬ２は、視野Ｖ２及び像野I２、投影光学系ＰＬ３は、視野Ｖ３及び像野I３をそれぞれ有する。即ち、投影光学系ＰＬ１は、マスクＭ１上における視野Ｖ１内の拡大像をプレートＰ１上の像野I１内に形成する。同様に、投影光学系ＰＬ２は、マスクＭ１上における視野Ｖ２内の拡大像をプレートＰ１上の像野I２内に形成し、投影光学系ＰＬ３は、マスクＭ１上における視野Ｖ３内の拡大像をプレートＰ１上の像野I３内に形成する。

投影光学系ＰＬ１の像野I１と投影光学系ＰＬ２の像野I２、投影光学系ＰＬ２の像野I２と投影光学系ＰＬ３の像野I３との間には、それぞれ継部が形成されるが、プレートＰ１上で継部を形成するマスク上のパターンの端部をジグザグに形成する等することにより、プレートＰ１上でパターンを連続的に形成することができる。

この実施の形態では、第１及び第２投影光学系ＰＬ１、ＰＬ２の視野の間隔（第１列と第２列との間隔）Ｄｐと像野（投影領域）の間隔（第３列と第４列との間隔）Ｄｍとが、第１及び第２投影光学系ＰＬ１、ＰＬ２の走査方向に沿った倍率をβとするときに、Ｄｐ＝β×Ｄｍを満足しているため、図３に示すような走査方向において各列パターン部Ｍ１１〜Ｍ１６の端部を揃えて走査方向における大きさを最小化したマスクＭ１を用いたとしても、プレートＰ１上でパターンを連続的に形成することができる。

この実施の形態に係る反射屈折投影光学によれば、屈折力を有する光学部材を備える、第１レンズ群、第２レンズ群及び第３レンズ群を重力に対してその光軸が平行となるように配置しているため、露光領域を大きくするために、投影光学系を構成するレンズ、即ち、第１レンズ群、第２レンズ群及び第３レンズ群を構成するレンズを大型化した場合においても、レンズに光軸に非対称な変形が生じることのない高精度な反射屈折投影光学系を提供することができる。また、実施の形態に係る反射屈折投影光学によれば、中間像を形成することがないため、光学的な構成を簡素化することができる。

また、この発明の走査露光装置によれば、レンズに光軸に非対称な変形が生じることのない高精度な反射屈折投影光学系を備えるため、良好な露光を行うことができる。また、反射屈折投影光学系が拡大倍率を有するため、マスクの大型化を避けることができ、マスクの製造コストの低減を図ることができる。

次に、この発明の第２の実施の形態にかかる走査露光装置に用いられる照明光学系及び投影光学系について説明する。なお、この第２の実施の形態にかかる照明光学系及び投影光学系は、第１の実施の形態にかかる照明光学系及び投影光学系の照明光学系内に、照明視野絞りを配置したものである。その他の点については、第１の実施の形態にかかる照明光学系及び投影光学系と同一の構成を有する。したがって、第２の実施の形態の説明においては、第１の実施の形態にかかる照明光学系及び投影光学系と同一の構成の詳細な説明は省略する。また、この第２の実施の形態にかかる照明光学系及び投影光学系の説明においては、第１の実施の形態にかかる照明光学系及び投影光学系と同一の構成には第１の実施の形態で用いたものと同一の符号を付して説明を行なう。

図５は、第２の実施の形態にかかる照明光学系及び投影光学系の構成を示す図である。なお、図５においては、照明光学系ＩＬ１，ＩＬ２及び投影光学系ＰＬ１，ＰＬ２のみを示しているが、照明光学系ＩＬ１３〜ＩＬ７及び投影光学系ＰＬ３〜ＰＬ７も同一の構成を有する。この実施の形態に係る照明光学系ＩＬ１のコンデンサレンズ１１ｂの射出側のマスクＭ１と光学的に共役な位置には、台形状又は六角形状の開口部を有する照明視野絞り１２ｂが配置されており、照明視野絞り１２ｂとマスクＭ１との間の光路中には、結像光学系１３ｂが配置されている。同様に、照明光学系ＩＬ２のコンデンサレンズ１１ｃの射出側のマスクＭ１と光学的に共役な位置には、照明視野絞り１２ｃが配置されており、照明視野絞り１２ｃとマスクＭ１との間の光路中には、結像光学系１３ｃが配置されている。

図６は、照明光学系に六角形状の開口部を有する照明視野絞りが配置された場合の投影光学系ＰＬ１、ＰＬ３及び投影光学系ＰＬ２の視野及び像野の状態を説明するための図である。投影光学系ＰＬ１は、六角形状の視野Ｖ１及び像野I１、投影光学系ＰＬ２は、六角形状の視野Ｖ２及び像野I２、投影光学系ＰＬ３は、六角形状の視野Ｖ３及び像野I３をそれぞれ有する。即ち、投影光学系ＰＬ１は、照明視野絞りにより形状が規定されたマスクＭ１上における視野Ｖ１内の拡大像をプレートＰ１上の像野I１内に形成する。同様に、投影光学系ＰＬ２は、照明視野絞りにより形状が規定されたマスクＭ１上における視野Ｖ２内の拡大像をプレートＰ１上の像野I２内に形成し、投影光学系ＰＬ３は、マスクＭ１上における視野Ｖ３内の拡大像をプレートＰ１上の像野I３内に形成する。

この実施の形態に係る照明光学系によれば、第１の実施の形態に係る走査露光装置のようにマスクパターンによる画面合成を行うことなく、プレート上においてパターンの非走査方向における合成を良好に行うことができる。

次に、この発明の第３の実施の形態にかかる走査露光装置に用いられる照明光学系及び投影光学系について説明する。なお、この第３の実施の形態にかかる照明光学系及び投影光学系は、第１の実施の形態にかかる照明光学系及び投影光学系の内、投影光学系の構成を変更したものである。その他の点については、第１の実施の形態にかかる照明光学系及び投影光学系と同一の構成を有する。したがって、第３の実施の形態の説明においては、第１の実施の形態にかかる照明光学系及び投影光学系と同一の構成の詳細な説明は省略する。また、この第３の実施の形態にかかる照明光学系及び投影光学系の説明においては、第１の実施の形態にかかる照明光学系及び投影光学系と同一の構成には第１の実施の形態で用いたものと同一の符号を付して説明を行なう。

図７は、第３の実施の形態にかかる照明光学系及び投影光学系の構成を示す図である。なお、図７においては、照明光学系ＩＬ１，ＩＬ２及び投影光学系ＰＬ１，ＰＬ２のみを示しているが、照明光学系ＩＬ１３〜ＩＬ７及び投影光学系ＰＬ３〜ＰＬ７も同一の構成を有する。

この実施の形態に係る投影光学系ＰＬ１、ＰＬ２は、マスクＭ１の中間像を形成する第１結像光学系１４ｂ、１４ｃと、中間像とプレートＰ１とを光学的に共役にする第２結像光学系１６ｂ、１６ｃとを備える投影光学装置により構成される。ここで、これらの投影光学系ＰＬ１、ＰＬ２の拡大倍率は、走査方向における拡大倍率が＋１を超え、且つ走査直交方向における拡大倍率が＋１を超えるように設定されている。つまり、これらの投影光学系ＰＬ１、ＰＬ２は第２面上に第１面の正立正像を拡大倍率のもとで形成する。

また、第１結像光学系１４ｂ、１４ｃと第２結像光学系１６ｂ、１６ｃとの間の光路中の中間像が形成される位置には、視野絞り１５ｂ、１５ｃが配置されている。ここで第２結像光学系１６ｂ、１６ｃは、第1の実施の形態に係る投影光学系ＰＬ１、ＰＬ２と同一の構成を有する。

この実施の形態に係る投影光学系によれば、視野絞りの配置を容易に行うことができ、また、投影光学系の精度で視野絞りをプレート上に投影することができるため、高精度な投影を行うことができる。

次に、この発明の第４の実施の形態にかかる走査露光装置に用いられる投影光学系について説明する。なお、この第４の実施の形態にかかる投影光学系は、第１の実施の形態にかかる投影光学系に光学特性調整機構を設けたものである。その他の点については、第１の実施の形態にかかる投影光学系と同一の構成を有する。したがって、第４の実施の形態の説明においては、第１の実施の形態にかかる投影光学系と同一の構成の詳細な説明は省略する。また、この第４の実施の形態にかかる投影光学系の説明においては、第１の実施の形態にかかる投影光学系と同一の構成には第１の実施の形態で用いたものと同一の符号を付して説明を行なう。

図８は、第４の実施の形態にかかる投影光学系の構成を示す図である。なお、図８においては、投影光学系ＰＬ１，ＰＬ２のみを示しているが投影光学系ＰＬ３〜ＰＬ７も同一の構成を有する。投影光学系ＰＬ１，ＰＬ２は、マスクＭ１と第１レンズ群Ｇ１ｂ，Ｇ１ｃとの間の光路中にクサビ状のペアガラスにより構成される第１光学特性調整機構ＡＤ１ｂ、ＡＤ１ｃを備えている。この第１光学特性調整機構ＡＤ１ｂ、ＡＤ１ｃにおいては、ペアガラスをクサビ角に沿って移動させてガラス厚を変化させることにより、フォーカスや像面傾斜を調整することができる。このように、本実施形態では反射屈折光学系の縮小側（反射屈折光学系の開口絞り位置よりも物体側）の光路に第１光学特性調整機構ＡＤ１ｂ、ＡＤ１ｃを配置しているため、調整機構の移動量に対する光学特性の変化量を大きくすることができる。すなわち調整機構の効きの感度を良くできる。ひいては調整機構の移動量範囲（ストローク）を増やさずに、光学特性の調整範囲を広げることができる。

また、投影光学系ＰＬ１，ＰＬ２は、第２光路偏向面ＦＭ２ｂ、ＦＭ２ｃの回転機構により構成される第２光学特性調整機構ＡＤ２ｂ、ＡＤ２ｃを備えている。この第２光学特性調整機構ＡＤ２ｂ、ＡＤ２ｃは、第２光路偏向面ＦＭ２ｂ、ＦＭ２ｃを備えるプリズムミラーを回転させることにより像の回転を調整することができる。また、同曲率を有する３枚のレンズ群により構成される第３光学特性調整機構ＡＤ３ｂ、ＡＤ３ｃを備えている。この第３光学特性調整機構ＡＤ３ｂ、ＡＤ３ｃは、３枚の同曲率で構成されたレンズ群の中央部のレンズをマスクＭ１とプレートＰ１間の垂直方向（上下方向）に移動させることにより倍率の調整を行うことができる。また、平行平板を備えて構成される第４光学特性調整機構ＡＤ４ｂ、ＡＤ４ｃを備えている。この第４光学特性調整機構ＡＤ４ｂ、ＡＤ４ｃは、平行平板を光軸に対して傾斜させることにより像位置の調整を行うことができる。

この実施の形態では、凹面反射鏡ＣＣＭｂ、ＣＣＭｃと第２面との間の光路中、言い換えると瞳面と第２面との間の光路中に光学特性調整機構ＡＤ２ｂ、ＡＤ２ｃ、ＡＤ３ｂ、ＡＤ３ｃを配置している。この光路は投影光学系での拡大倍率側の光路であるため、これらの光学特性調整機構を配置する空間を確保しやすい利点がある。

なお、上述の第２の実施の形態においては、６角形状の開口部を有する照明視野絞りを照明光学系内に配置したが、これに代えて円弧形状を有する照明視野絞りを照明光学系内に配置するようにしても良い。図９は、照明光学系に円弧形状の開口部を有する照明視野絞りが配置された場合の投影光学系ＰＬ１、ＰＬ３及び投影光学系ＰＬ２の視野及び像野の状態を説明するための図である。投影光学系ＰＬ１は、円弧形状の視野Ｖ１及び像野I１、投影光学系ＰＬ２は、円弧形状の視野Ｖ２及び像野I２、投影光学系ＰＬ３は、円弧形状の視野Ｖ３及び像野I３をそれぞれ有する。即ち、投影光学系ＰＬ１は、照明視野絞りにより形状が規定されたマスクＭ１上における円弧形状の視野Ｖ１内の拡大像をプレートＰ１上の円弧形状の像野I１内に形成する。同様に、投影光学系ＰＬ２は、照明視野絞りにより形状が規定されたマスクＭ１上における円弧形状の視野Ｖ２内の拡大像をプレートＰ１上の円弧形状の像野I２内に形成し、投影光学系ＰＬ３は、マスクＭ１上における円弧形状の視野Ｖ３内の拡大像をプレートＰ１上の円弧形状の像野I３内に形成する。

また、上述の第３の実施の形態においては、第２結像光学系１６ｂ、１６ｃが第1の実施の形態に係る投影光学系ＰＬ１、ＰＬ２と同一の構成を有しているが、第１結像光学系１４ｂ、１４ｃ、または第１結像光学系１４ｂ、１４ｃ及び第２結像光学系１６ｂ、１６ｃが第1の実施の形態に係る投影光学系ＰＬ１、ＰＬ２と同一の構成を有するようにしても良い。

また、上述の実施形態において、投影光学系が形成する像野の形状を、たとえば台形状としても良い。像野を台形状とする場合には、台形の下辺（台形において互いに平行な２辺のうち長い方の辺）を光軸側に向ける配置とすることが好ましい。

また、上述の実施形態では、光源として放電ランプを備え、必要となるｇ線（４３６ｎｍ）の光、ｈ線（４０５ｎｍ）、及びｉ線（３６５ｎｍ）の光を選択するようにしていた。しかしながら、これに限らず、紫外ＬＥＤからの光、ＫｒＦエキシマレーザ（２４８ｎｍ）やＡｒＦエキシマレーザ（１９３ｎｍ）からのレーザ光、固体レーザの高調波、固体光源としての紫外半導体レーザからのレーザ光を用いる場合であっても本発明を適用することが可能である。

また、この実施の形態にかかる走査露光装置では、プレート（ガラス基板）上に所定のパターン（回路パターン、電極パターン等）を形成することによって、マイクロデバイスとしての液晶表示素子を得ることもできる。以下、図１０のフローチャートを参照して、このときの手法の一例につき説明する。図１０において、パターン形成工程４０１では、この実施の形態にかかる走査露光装置を用いてマスクのパターンを感光基板に転写露光する、所謂光リソグラフィ工程が実行される。この光リソグラフィ工程によって、感光基板上には多数の電極等を含む所定パターンが形成される。その後、露光された基板は、現像工程、エッチング工程、レジスト剥離工程等の各工程を経ることによって、基板上に所定のパターンが形成され、次のカラーフィルタ形成工程４０２へ移行する。

次に、カラーフィルタ形成工程４０２では、Ｒ（Red）、Ｇ（Green）、Ｂ（Blue）に対応した３つのドットの組がマトリックス状に多数配列されたり、またはＲ、Ｇ、Ｂの３本のストライプのフィルタの組を複数水平走査線方向に配列されたりしたカラーフィルタを形成する。そして、カラーフィルタ形成工程４０２の後に、セル組み立て工程４０３が実行される。セル組み立て工程４０３では、パターン形成工程４０１にて得られた所定パターンを有する基板、およびカラーフィルタ形成工程４０２にて得られたカラーフィルタ等を用いて液晶パネル（液晶セル）を組み立てる。セル組み立て工程４０３では、例えば、パターン形成工程４０１にて得られた所定パターンを有する基板とカラーフィルタ形成工程４０２にて得られたカラーフィルタとの間に液晶を注入して、液晶パネル（液晶セル）を製造する。

その後、モジュール組み立て工程４０４にて、組み立てられた液晶パネル（液晶セル）の表示動作を行わせる電気回路、バックライト等の各部品を取り付けて液晶表示素子として完成させる。上述の液晶表示素子の製造方法によれば、この実施の形態にかかる走査露光装置を用いるため、低コストで液晶表示素子の製造を行うことができる。

この発明の反射屈折投影光学系及び反射屈折光学装置によれば、屈折力を有する光学部材を備える、第１レンズ群、第２レンズ群及び第３レンズ群を重力に対してその光軸が平行となるように配置しているため、露光領域を大きくする等のために投影光学系を構成するレンズ、即ち、第１レンズ群、第２レンズ群及び第３レンズ群を構成するレンズを大型化した場合においても、レンズに光軸に非対称な変形が生じることのない高精度な反射屈折投影光学系及び反射屈折光学装置を提供することができ、ひいては良好なるパターン転写を行うことができる。

また、この発明の走査露光装置によれば、複数の投影光学系による複数の視野からの光束を光束移相部材によって第１方向に沿って逆方向に移送して複数の投影領域へ導くことができ、このときの第１方向に沿った視野間隔と投影領域間隔とを適切に設定できる。従って、異なる列の投影光学系を用いてもプレート上に良好にパターンを転写することができる。

また、この発明の走査露光装置によれば、レンズに光軸に非対称な変形が生じることのない高精度な反射屈折投影光学系及び反射屈折光学装置を備えるため、良好な露光を行うことができる。また、反射屈折投影光学系及び反射屈折光学装置が拡大倍率を有するため、マスクの大型化を避けることができ、マスクの製造コストの低減を図ることができる。

また、この発明のマイクロデバイスの製造方法によれば、マスクの大型化を避けつつ大型の基板を用いてマイクロデバイスの製造を行うことができるため、低コストでマイクロデバイスの製造を行うことができる。

以下に実施例１及び実施例２について説明する。表１、表２に、実施例１、実施例２にかかる反射屈折光学系ＰＬ１０、ＰＬ２０の光学部材諸元を示す。表１、表２の光学部材諸元においては、第１カラムの面番号は物体側からの光線進行方向に沿った面の順序、第２カラムは各面の曲率半径（ｍｍ）、第３カラムの面間隔は光軸上の面間隔（ｍｍ）、第４カラムは、光学部材の硝材のｇ線に対する屈折率、第５カラムは光学部材の硝材のｈ線に対する屈折率、第６カラムは光学部材の硝材のｉ線に対する屈折率をそれぞれ示している。

（実施例１）
図１１に示すように、反射屈折光学系ＰＬ１０は、凹面反射鏡ＣＣＭ、第１レンズ群Ｇ１、第２レンズ群Ｇ２、第３レンズ群Ｇ３、第１偏向部材ＦＭ１及び第２偏向部材ＦＭ２を備えている。

ここで第１レンズ群Ｇ１は、マスクＭに凹面を向けた正メニスカスレンズＬ１０、マスクＭに凹面を向けた負メニスカスレンズＬ１１、マスクＭに凹面を向けた負メニスカスレンズＬ１２により構成されている。第２レンズ群Ｇ２は、両凸レンズＬ１３、マスクＭに凹面を向けた負メニスカスレンズＬ１４、両凹レンズＬ１５、マスクＭに凹面を向けた正メニスカスレンズＬ１６により構成されている。第３レンズ群Ｇ３、プレートＰに凹面を向けた負メニスカスレンズＬ１７、プレートＰに凹面を向けた正メニスカスレンズＬ１８、両凸レンズＬ１９により構成されている。

実施例１にかかる反射屈折光学系ＰＬ１０の諸元の値を示す。

（諸元）
投影倍率： ２．４倍
像側ＮＡ：０．０５６２５
物体側ＮＡ：０．１３５
像野：φ２２８ｍｍ
視野：φ９５ｍｍ
条件式の対応値：ｆ３／ｆ１＝１４３０／６００＝２．３８
（表１）
（光学部材諸元）

図１２及び図１３に反射屈折光学系ＰＬ１０の収差図を示す。ここで図１２（ａ）は球面収差、（ｂ）は像面湾曲、（ｃ）は、歪曲収差、（ｄ）は倍率色収差を示し、図１３は光線収差を示している。これら図に示すように、反射屈折光学系ＰＬ２０においては、良好に収差が補正されている。

（実施例２）
図１４に示すように、反射屈折光学系ＰＬ２０は、凹面反射鏡ＣＣＭ、第１レンズ群Ｇ１、第２レンズ群Ｇ２、第３レンズ群Ｇ３、第１偏向部材ＦＭ１及び第２偏向部材ＦＭ２を備えている。

ここで第１レンズ群Ｇ１は、マスクＭに凹面を向けた正メニスカスレンズＬ２０、マスクＭに凹面を向けた負メニスカスレンズＬ２１、マスクＭに凹面を向けた負メニスカスレンズＬ２２により構成されている。第２レンズ群Ｇ２は、両凸レンズＬ２３、マスクＭに凹面を向けた負メニスカスレンズＬ２４、両凹レンズＬ２５、マスクＭに凹面を向けた正メニスカスレンズＬ２６により構成されている。第３レンズ群Ｇ３は、プレートＰに凹面を向けた負メニスカスレンズＬ２７、プレートＰに凹面を向けた負メニスカスレンズＬ２８、両凸レンズＬ２９により構成されている。

実施例２にかかる反射屈折光学系ＰＬ２０の諸元の値を示す。

（諸元）
投影倍率： ２．０倍
像側ＮＡ：０．０６９
物体側ＮＡ：０．１３８
像野：φ２４０ｍｍ
視野：φ１２０ｍｍ
条件式の対応値：ｆ３／ｆ１＝１３２１／６４２＝２．０６
（表２）
（光学部材諸元）

図１５及び図１６に反射屈折光学系ＰＬ２０収差図を示す。ここで図１５（ａ）は球面収差、（ｂ）は像面湾曲、（ｃ）は、歪曲収差、（ｄ）は倍率色収差を示し、図１６は光線収差を示している。これら図に示すように、反射屈折光学系ＰＬ２０においては、良好に収差が補正されている。

なお、以上説明した実施の形態は、本発明の理解を容易にするために記載されたものであって、本発明を限定するために記載されたものではない。従って、実施の形態に開示された各要素は、本発明の技術的範囲に属する全ての設計変更や、均等物も含む趣旨である。

また、本開示は、２００６年３月２０日に提出された日本国特許出願２００６−７６０１１号、及び２００７年１月１６日に提出された日本国特許出願２００７−６６５５号に含まれた主題に関連し、その開示の全てはここに参照事項として明白に組み込まれる。

本発明は、マスク、レチクル等の像を基板等上に投影する反射屈折投影光学系及び反射屈折光学装置、第１の物体の像を第２の物体上に投影露光する走査露光装置、該走査露光装置を用いたマイクロデバイスの製造方法に好適に用いることが出来る。

Claims (22)

1. 第１面に配置される第１物体の像を第２面に配置される第２物体上に投影しつつ前記第１物体の像と前記第２物体との位置関係を走査方向に関して変化させつつ前記第１物体のパターンを前記第２物体上に転写露光する走査露光装置において、
   前記第１面上で第１視野を有し、該第１視野からの光に基づいて第２面上の第１投影領域に前記第１物体の一部の拡大像を投影する第１投影光学系と、
   前記第１面上で第２視野を有し、該第２視野からの光に基づいて第２面上の第２投影領域に前記第１物体の一部の拡大像を投影する第２投影光学系と、
   を備え、
   前記第１投影光学系は、前記第１視野からの光を、前記第１面と前記第２面とを結ぶ軸線方向と交差する第１方向に沿って移送して、前記軸線方向から見て前記第１視野の前記第１方向側に位置する前記第１投影領域へ導く第１光束移送部を備え、
   前記第２投影光学系は、前記第２視野からの光を前記第１方向とは逆向きの第２方向に沿って移送して、前記軸線方向から見て前記第２視野の前記第２方向側に位置する前記第２投影領域へ導く第２光束移送部を備え、
   前記第１視野と前記第２視野との前記第１面上での前記走査方向に沿った間隔である第１間隔をＤｍとし、前記第１投影領域と前記第２投影領域との前記第２面上での前記走査方向に沿った間隔である第２間隔をＤｐとし、前記第１および第２投影光学系の倍率をβとするとき、
   Ｄｐ＝β×Ｄｍ
   を満足することを特徴とする走査露光装置。
2. 前記第１投影光学系の前記第１方向における拡大倍率及び前記第２投影光学系の前記第２方向における拡大倍率は＋１を超えることを特徴とする請求項１に記載の走査露光装置。
3. 前記第１方向と直交する第３方向における前記第１投影光学系の拡大倍率及び前記第２方向と直交する第４方向における前記第２投影光学系の拡大倍率は−１を下回ることを特徴とする請求項１に記載の走査露光装置。
4. 前記第１方向に沿って前記第１視野領域と前記第１投影領域とを結ぶ第１線分と、前記第２方向に沿って前記第２視野領域と前記第２投影領域とを結ぶ第２線分とは、前記走査方向と直交する方向からみて互いに重畳していないことを特徴とする請求項１乃至請求項３の何れか一項記載の走査露光装置。
5. 前記第１光束移送部と前記第２光束移送部とは、それぞれの光束移送部に入射する光の進行方向と、それぞれの光束移送部から射出する光の進行方向とを互いに平行にすることを特徴とする請求項１乃至請求項４の何れか一項記載の走査露光装置。
6. 前記第１光束移送部と前記第２光束移送部とは、それぞれ複数の反射面を備えていることを特徴とする請求項１乃至請求項５の何れか一項記載の走査露光装置。
7. 第１物体の像を第２物体上に投影しつつ前記第１物体の像と前記第２物体との位置関係を走査方向に関して変化させつつ前記第１物体のパターンを前記第２物体上に転写露光する走査露光装置において、
   前記走査方向を横切る方向である非走査方向に沿った第１列上に視野をそれぞれ有する複数の投影光学系を備えた第１列投影光学系と、
   前記非走査方向に沿った列であって前記第１列とは異なる第２列上に視野をそれぞれ有する複数の投影光学系を備えた第２列投影光学系と、
   を備え、
   前記第１列投影光学系は、前記第１列投影光学系の前記複数の視野と共役な複数の投影領域を前記第２面上の第３列上に形成し、
   前記第２列投影光学系は、前記第２列投影光学系の前記複数の視野と共役な複数の投影領域を前記第２面上の第４列上に形成し、
   前記第１列と前記第２列との前記第１面上での前記走査方向に沿った間隔である第１間隔をＤｍとし、前記第３列と前記第４列との前記第２面上での前記走査方向に沿った間隔である第２間隔をＤｐとし、前記第１および第２投影光学系の倍率をβとするとき、
   Ｄｐ＝β×Ｄｍ
   を満足することを特徴とする走査露光装置。
8. 前記第１方向は前記走査方向とほぼ平行であることを特徴とする請求項１乃至請求項７の何れか一項に記載の走査露光装置。
9. 第１面上に配置される第１物体の像を第２面上に配置される第２物体上に拡大の投影倍率で形成する反射屈折投影光学系において、
   前記第１面と前記第２面との間の光路中に配置される凹面反射鏡と、
   前記第１面と前記凹面反射鏡との間の光路中に配置される第１レンズ群と、
   前記第１レンズ群と前記凹面反射鏡との間の光路中に配置される第２レンズ群と、
   前記第２レンズ群と前記第２面との間の光路中に配置されて、前記第１レンズ群の光軸を横切るように光を偏向する第１偏向部材と、
   前記第１偏向部材と前記第２面との間の光路中に配置される第２偏向部材と、
   前記第２偏向部材と前記第２面との間の光路中に配置されて、前記第１レンズ群の光軸と略平行な光軸を有する第３レンズ群と、
   を備えることを特徴とする反射屈折投影光学系。
10. 前記第１面と前記凹面反射鏡の距離よりも前記第１面と前記第２面の距離のほうが大きいことを特徴とする請求項９記載の反射屈折投影光学系。
11. 前記第１レンズ群、前記第２レンズ群及び前記第３レンズ群を構成する屈折力を有する光学部材は、その光軸が重力方向に対して平行になるように配置されていることを特徴とする請求項９または請求項１０記載の反射屈折投影光学系。
12. 前記凹面反射鏡と前記第２レンズ群との間の光路中に配置されて、前記反射屈折投影光学系の前記第２面側開口数を決定するための開口絞りをさらに備え、
    該開口絞りは、前記第１面側及び前記第２面側が略テレセントリックとなるように位置決めされていることを特徴とする請求項９乃至請求項１１の何れか一項に記載の反射屈折投影光学系。
13. 前記第１レンズ群の焦点距離をｆ１、前記第３レンズ群の焦点距離をｆ３とし、前記投影光学系の倍率をβとするとき、
    ０．８×｜β｜≦ｆ３／ｆ１≦１．２５×｜β｜
    ｜β｜≧１．８
    を満足することを特徴とする請求項９乃至請求項１２の何れか一項に記載の反射屈折投影光学系。
14. 前記反射屈折投影光学系は、光学特性調整機構を含むことを特徴とする請求項９乃至請求項１３の何れか一項に記載の反射屈折投影光学系。
15. 前記光学特性調整機構は、前記凹面反射鏡と前記第２面との間の光路中に配置されることを特徴とする請求項１４記載の反射屈折投影光学系。
16. 前記反射屈折投影光学系は、前記第２面上に前記第１物体の一次像を形成することを特徴とする請求項９乃至請求項１５の何れか一項に記載の反射屈折投影光学系。
17. 第１面上に配置される第１物体の像を第２面上に配置される第２物体上に拡大の投影倍率で形成する反射屈折投影光学系において、
    前記第１面と前記第２面との間の光路中に配置される凹面反射鏡と、
    前記第１面と前記第２面との間の光路中に配置される複数のレンズと、
    前記反射屈折投影光学系の瞳位置と前記第２面との間に配置される光学特性調整機構と、
    を備えることを特徴とする反射屈折投影光学系。
18. 前記第１面の中間像を形成する第１結像光学系と、前記中間像と前記第２面とを光学的に共役にする第２結像光学系とを備える反射屈折光学装置であって、
    前記第１結像光学系と前記第２結像光学系との少なくとも一方は、請求項９乃至請求項１７の何れか一項に記載の反射屈折投影光学系により構成されていることを特徴とする反射屈折光学装置。
19. 第１面に配置される第１物体の像を第２面に配置される第２物体上に投影する投影装置と前記第１物体及び前記第２物体との位置関係を走査方向に関して変化させつつ前記第１物体のパターンを前記第２物体上に転写露光する走査露光装置において、
    前記投影装置は、前記走査方向に関して第１の位置に位置決めされた第１投影光学装置と、前記走査方向に関して前記第１の位置とは異なる第２の位置に位置決めされた第２投影光学装置とを備え、
    前記第１及び第２投影光学装置は、請求項９乃至請求項１７の何れか一項に記載の反射屈折投影光学系又は請求項１８に記載の反射屈折光学装置を備えることを特徴とする走査露光装置。
20. 前記第１及び第２投影光学装置は、前記第１及び第２投影光学装置の前記第１物体側の間隔よりも前記第２物体側の間隔が大きくなるように配置されていることを特徴とする請求項１９記載の走査露光装置。
21. 前記第２物体は、外径が５００ｍｍよりも大きい感光基板であることを特徴とする請求項１乃至請求項８、請求項１９及び請求項２０の何れか一項記載の走査露光装置。
22. 請求項１乃至請求項８、請求項１９及び請求項２０の何れか一項に記載の走査露光装置を用いてマスクのパターンを感光基板上に露光する露光工程と、
    前記露光工程により露光された前記感光基板を現像する現像工程と、
    を含むことを特徴とするマイクロデバイスの製造方法。

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