WO2007119292A1

WO2007119292A1 - 反射屈折投影光学系、反射屈折光学装置、走査露光装置、マイクロデバイスの製造方法

Info

Publication number: WO2007119292A1
Application number: PCT/JP2007/053382
Authority: WO
Inventors: Masaki Kato
Original assignee: Nikon Corporation
Priority date: 2006-03-20
Filing date: 2007-02-23
Publication date: 2007-10-25
Also published as: CN102253477A; EP2003506A9; CN101405659B; US20090009735A1; HK1163822A1; JPWO2007119292A1; KR101387834B1; HK1128049A1; TWI443378B; EP2003506A2; TW200736662A; CN101405659A; JP5071382B2; KR20080103506A; CN102253477B; US8274638B2

Description

反射屈折投影光学系、反射屈折光学装置、走査露光装置、マイクロデバイスの製造方法

技術分野

[0001] 本発明は、第 1の物体 (マスク、レチクル等)の像を第 2の物体 (基板等)上に投影する反射屈折投影光学系及び反射屈折光学装置、第 1の物体の像を第 2の物体上に投影露光する走査露光装置、該走査露光装置を用いたマイクロデバイスの製造方法に関するものである。

背景技術

[0002] 例えば半導体素子又は液晶表示素子等を製造する際に、マスク（レチクル、フォトマスク等）のパターンを投影光学系を介してレジストが塗布されたプレート (ガラスプレート又は半導体ウェハ等)上に投影する投影露光装置が使用されている。従来はステツプ ·アンド'リピート方式でプレート上の各ショット領域にそれぞれレチクルのパターンを一括露光する投影露光装置 (ステツパ）が多用されていた。近年、 1つの大きな投影光学系を使用する代わりに、等倍の倍率を有する小さな複数の部分投影光学系を走査方向に沿って所定間隔で複数列に配置し、マスク及びプレートを走査させつつ各部分投影光学系でそれぞれマスクのパターンをプレート上に露光するステツプ ·アンド'スキャン方式の投影露光装置が提案されて！、る。

[0003] 近年、プレートが益々大型化し、 2m角を越えるプレートが使用されるようになってきている。ここで、上述のステップ ·アンド'スキャン方式の露光装置を用いて大型のプレート上に露光を行う場合、部分投影光学系が等倍の倍率を有するため、マスクも大型化する。マスクのコストは、マスク基板の平面性を維持する必要もあり、大型化すればするほど高くなる。また、通常の TFT部を形成するためには、 4〜5層分のマスクが必要とされており多大なコストを要していた。従って、投影光学系の倍率を拡大倍率とすることで、マスクの大きさを小さくした投影露光装置が提案されている（日本国特許出願公開平成 11 - 265848号公報)。

発明の開示 [0004] 上述の投影露光装置においては、複数の投影光学系のマスク上の光軸とプレート上の光軸とは実質的に同一位置に配置されていた。従って、異なる列の投影光学系によってプレート上に走査露光されるパターン同士が互いに繋ぎ合わさらな、と!/、う問題があった。

[0005] また、上述の投影露光装置の投影光学系にお、て、露光領域を大きくするためには、投影光学系を構成するレンズを大型化する必要があるが、レンズが大型化した場合には、レンズを保持することにより光軸非対称な変形が発生し、または重力によつてレンズ自体に光軸非対称な変形が生じる虞が大きくなる。

[0006] 本発明の目的は、複数の投影光学系を用いて走査露光方式でマスクのパターンの拡大像をプレート等の物体上に形成する場合に良好なパターン転写を行うことである。また、本発明の別の目的は、レンズに光軸非対称な変形が生じさせずに良好なパターン転写を行うことである。

[0007] この発明の第 1の態様に従えば、第 1面に配置される第 1物体の像を第 2面に配置される第 2物体上に投影しつつ前記第 1物体の像と前記第 2物体との位置関係を走查方向に関して変化させつつ前記第 1物体のパターンを前記第 2物体上に転写露光する走査露光装置において、前記第 1面上で第 1視野を有し、該第 1視野からの光に基づいて第 2面上の第 1投影領域に前記第 1物体の一部の拡大像を投影する第 1投影光学系と、前記第 1面上で第 2視野を有し、該第 2視野からの光に基づいて第 2面上の第 2投影領域に前記第 1物体の一部の拡大像を投影する第 2投影光学系と、を備え、前記第 1投影光学系は、前記第 1視野からの光を、前記第 1面と前記第 2 面とを結ぶ軸線方向と交差する第 1方向に沿って移送して、前記軸線方向から見て前記第 1視野の前記第 1方向側に位置する前記第 1投影領域へ導く第 1光束移送部を備え、前記第 2投影光学系は、前記第 2視野からの光を前記第 1方向とは逆向きの第 2方向に沿って移送して、前記軸線方向から見て前記第 2視野の前記第 2方向側に位置する前記第 2投影領域へ導く第 2光束移送部を備え、前記第 1視野と前記第 2視野との前記第 1面上での前記走査方向に沿った間隔である第 1間隔を Dmとし、前記第 1投影領域と前記第 2投影領域との前記第 2面上での前記走査方向に沿った間隔である第 2間隔を Dpとし、前記第 1および第 2投影光学系の倍率を j8とするとき Dp= β X Dm

を満足することを特徴とする走査露光装置が提供される。

[0008] また、この発明の第 2の態様に従えば、第 1物体の像を第 2物体上に投影しつつ前記第 1物体の像と前記第 2物体との位置関係を走査方向に関して変化させつつ前記第 1物体のパターンを前記第 2物体上に転写露光する走査露光装置において、前記走査方向を横切る方向である非走査方向に沿った第 1列上に視野をそれぞれ有する複数の投影光学系を備えた第 1列投影光学系と、前記非走査方向に沿った列であつて前記第 1列とは異なる第 2列上に視野をそれぞれ有する複数の投影光学系を備えた第 2列投影光学系と、を備え、前記第 1列投影光学系は、前記第 1列投影光学系の前記複数の視野と共役な複数の投影領域を前記第 2面上の第 3列上に形成し、前記第 2列投影光学系は、前記第 2列投影光学系の前記複数の視野と共役な複数の投影領域を前記第 2面上の第 4列上に形成し、前記第 1列と前記第 2列との前記第 1面上での前記走査方向に沿った間隔である第 1間隔を Dmとし、前記第 3列と前記第 4列との前記第 2面上での前記走査方向に沿った間隔である第 2間隔を Dpとし、前記第 1および第 2投影光学系の倍率を j8とするとき、

Dp= β X Dm

を満足することを特徴とする走査露光装置が提供される。

[0009] この発明の第 3の態様に従えば、第 1面上に配置される第 1物体の像を第 2面上に配置される第 2物体上に拡大の投影倍率で形成する反射屈折投影光学系にお、て、前記第 1面と前記第 2面との間の光路中に配置される凹面反射鏡と、前記第 1面と前記凹面反射鏡との間の光路中に配置される第 1レンズ群と、前記第 1レンズ群と前記凹面反射鏡との間の光路中に配置される第 2レンズ群と、前記第 2レンズ群と前記第 2面との間の光路中に配置されて、前記第 1レンズ群の光軸を横切るように光を偏向する第 1偏向部材と、前記第 1偏向部材と前記第 2物体との間の光路中に配置される第 2偏向部材と、前記第 2偏向部材と前記第 2面との間の光路中に配置されて、前記第 1レンズ群の光軸と略平行な光軸を有する第 3レンズ群とを備えることを特徴とする反射屈折投影光学系が提供される。 [0010] この発明の第 4の態様に従えば、第 1面上に配置される第 1物体の像を第 2面上に配置される第 2物体上に拡大の投影倍率で形成する反射屈折投影光学系にお、て、前記第 1面と前記第 2面との間の光路中に配置される凹面反射鏡と、前記第 1面と前記第 2面との間の光路中に配置される複数のレンズと、前記反射屈折投影光学系の瞳位置と前記第 2面との間に配置される光学特性調整機構と、を備えることを特徴とする反射屈折投影光学系が提供される。

[0011] この発明の第 5の態様に従えば、前記第 1面の中間像を形成する第 1結像光学系と、前記中間像と前記第 2面とを光学的に共役にする第 2結像光学系とを備える反射屈折光学装置であって、前記第 1結像光学系と前記第 2結像光学系との少なくとも一方は、この発明の反射屈折投影光学系により構成されていることを特徴とする反射屈折光学装置が提供される。

[0012] この発明の第 6の態様に従えば、第 1面の像を第 2面上に投影する投影装置と前記第 1物体及び前記第 2物体との位置関係を走査方向に関して変化させつつ前記第 1 物体のパターンを前記第 2物体上に転写露光する走査露光装置にお、て、前記投影装置は、前記走査方向に関して第 1の位置に位置決めされた第 1投影光学装置と、前記走査方向に関して前記第 1の位置とは異なる第 2の位置に位置決めされた第 2投影光学装置とを備え、前記第 1及び第 2投影光学装置は、この発明の反射屈折投影光学系又は反射屈折光学装置を備えることを特徴とする走査露光装置が提供される。

[0013] この発明の第 7の態様に従えば、この発明の走査露光装置を用いてマスクのバターンを感光基板上に露光する露光工程と、前記露光工程により露光された前記感光基板を現像する現像工程とを含むことを特徴とするマイクロデバイスの製造方法が提供される。

図面の簡単な説明

[0014] [図 1]第 1の実施の形態に力かる走査露光装置の構成を示す図である。

[図 2]第 1の実施の形態に力かる照明光学系及び投影光学系の構成を示す図である

[図 3]実施の形態に力かる走査露光装置で用いられるマスクを示す図である [図 4]第 1の実施の形態にカゝかる投影光学系の視野及び像野を示す図である。

[図 5]第 2の実施の形態に力かる照明光学系及び投影光学系の構成を示す図である

[図 6]第 2の実施の形態に力かる投影光学系の視野及び像野を示す図である。

[図 7]第 3の実施の形態に力かる照明光学系及び投影光学系の構成を示す図である

[図 8]第 4の実施の形態に力かる投影光学系の構成を示す図である。

[図 9]照明光学系内に円弧形状の開口を有する照明視野絞りを配置した場合の投影光学系の視野及び像野を示す図である。

[図 10]実施の形態に係るマイクロデバイスの製造方法を説明するためのフローチヤ一トである。

[図 11]第 1の実施例に係る投影光学系の構成を示す図である。

[図 12]第 1の実施例に係る投影光学系の収差図である。

[図 13]第 1の実施例に係る投影光学系の収差図である。

[図 14]第 2の実施例に係る投影光学系の構成を示す図である。

[図 15]第 2の実施例に係る投影光学系の収差図である。

[図 16]第 2の実施例に係る投影光学系の収差図である。

発明を実施するための最良の形態

[0015] 以下、図面を参照して、この発明の第 1の実施の形態について説明する。この実施の形態においては、マスク（第 1物体) Mlのパターンの一部を感光基板としての外径力 OOmmよりも大き、プレート (第 2物体) P1に対して部分的に投影する複数の反射屈折型の投影光学系 PL1〜PL7からなる投影光学装置 PLに対してマスク Mlとプレート P1とを走査方向に同期移動させてマスク Mlに形成されたパターンの像をプレート P 1上に走査露光するステップ 'アンド'スキャン方式の走査投影露光装置を例に挙げて説明する。ここで外形が、 500mmよりも大きいとは、一辺若しくは対角線が 500mmよりもさ!、ことを！、う。

[0016] また、以下の説明においては、図 1中に示した直交座標系を設定し、この XYZ直交座標系を参照しつつ各部材の位置関係について説明する。 XYZ直交座標系は、 X 軸及び Y軸がプレート PIに対して平行となるように設定され、 Z軸がプレート P1に対して直交する方向に設定されている。図中の XYZ座標系は、実際には XY平面が水平面に平行に設定され、 Z軸が鉛直方向に設定される。また、この実施形態では、プレート P1を移動させる方向（走査方向）を X方向に設定して、る。

[0017] 図 1は、この実施の形態にかかる走査投影露光装置の全体の概略構成を示す斜視図である。この実施の形態にかかる走査投影露光装置は、例えば超高圧水銀ランプ光源カゝらなる光源を備えている。光源より射出した光束は楕円鏡 2及びダイクロイツクミラー 3により反射され、コリメートレンズ 4に入射する。即ち、楕円鏡 2の反射膜及びダイクロイツクミラー 3の反射膜により g線 (波長 436nm)、 h線 (波長 405nm)及び i線 (波長 365nm)の光を含む波長域の光が取り出され、 g、 h、 i線の光を含む波長域の光がコリメートレンズ 4に入射する。また、 g、 h、 i線の光を含む波長域の光は、光源が楕円鏡 2の第 1焦点位置に配置されているため、楕円鏡 2の第 2焦点位置に光源像を形成する。楕円鏡 2の第 2焦点位置に形成された光源像からの発散光束は、コリメ一トレンズ 4により平行光となり、所定の露光波長域の光束のみを透過させる波長選択フィルタ 5を透過する。

[0018] 波長選択フィルタ 5を通過した光束は、減光フィルタ 6を通過し、集光レンズ 7によりライトガイドファイノく 8の入射口 8aの入射端に集光される。ここで、ライトガイドファイバ 8は、例えば多数のファイバ素線をランダムに束ねて構成されたランダムライトガイドファイバであって、入射口 8aと 7つの射出口（以下、射出口 8b, 8c, 8d, 8e, 8f, 8g , 8hという。）を備えている。ライトガイドファイバ 8の入射口 8aに入射した光束は、ライトガイドファイバ 8の内部を伝播した後、 7つの射出口 8b〜8hより分割されて射出し、マスク Mlを部分的に照明する 7つの部分照明光学系（以下、部分照明光学系 IL1, IL2, IL3, IL4, IL5, IL6, IL7という。）にそれぞれ入射する。各部分照明光学系 I L1〜IL7を通過した光は、それぞれマスク Mlをほぼ均一に照明する。

[0019] マスク Mlの照明領域、即ち部分照明光学系 IL1〜IL7に対応する照明領域からの光は、各照明領域に対応するように配列されマスク Mlのパターンの一部の像をプレート P1上にそれぞれ投影する 7つの投影光学系（以下、投影光学系 PL1, PL2, PL3, PL4, PL5, PL6, PL7という。）のそれぞれに入射する。投景光学系 PL1〜P L7を透過した光は、プレート P 1上にマスク M 1のパターン像をそれぞれ結像する。

[0020] ここで、マスク Mlはマスクホルダ（図示せず）にて固定されており、マスクステージ（図示せず）に載置されている。また、マスクステージにはレーザ干渉計（図示せず）が配置されており、マスクステージレーザ干渉計はマスクステージの位置を計測及び制御する。また、プレート P1はプレートホルダ（図示せず）にて固定されており、プレートステージ（図示せず）に載置されている。また、プレートステージには移動鏡 50が設けられている。移動鏡 50には、図示していないプレートステージレーザ干渉計力射出されるレーザ光が入反射する。その入反射されたレーザ光の干渉に基づ、てプレートステージの位置は計測及び制御されている。

[0021] 上述の部分照明光学系 IL1、 IL3、 IL5、 IL7は、走査方向と直交する方向に所定間隔をもって第 1列として走査方向の後方側 (第 1方向側）に配置されており、部分照明光学系 IL1、 IL3、 IL5、 IL7に対応して設けられている投影光学系 PL1、 PL3、 P L5、PL7も同様に走査方向と直交する方向に所定間隔をもって第 1列として走査方向の後方側 (第 1方向側）に配置されている。また、部分照明光学系 IL2、 IL4、 IL6 は、走査方向と直交する方向に所定間隔をもって第 2列として走査方向の前方側 (第 2方向側）に配置されており、部分照明光学系 IL2、 IL4、 IL6に対応して設けられている投影光学系 PL2、 PL4、 PL6も同様に走査方向と直交する方向に所定間隔をもつて第 2列として走査方向の前方側 (第 2方向側）に配置されている。

[0022] ここで、第 1列投影光学系 PL1、 PL3、 PL5、 PL7は、それぞれマスク Mlが配置される第 1面上の第 1列に沿った視野を持ち、プレート P1が配置される第 2面上の第 3 列上に走査直交方向に所定間隔を持った像野 (投影領域)に像をそれぞれ形成する。また、第 2列投影光学系 PL2、 PL4、 PL6は、それぞれマスク Mlが配置される第 1 面上の第 2列に沿った視野を持ち、プレート P1が配置される第 2面上の第 4列上に走査直交方向に所定間隔を持った像野 (投影領域)に像をそれぞれ形成する。

[0023] 第 1列の投影光学系と第 2列の投影光学系との間には、プレート P1の位置合わせを行うために、オファクシスのァライメント系 52や、マスク Mlやプレート P1のフォー力スを合わせるために、オートフォーカス系 54が配置されて!、る。

[0024] 図 2は、部分照明光学系 IL1、 IL2及び投影光学系 PL1、 PL2の構成を示す図である。なお、部分照明光学系 IL3, IL5, IL7は、部分照明光学系 IL1と同一の構成を有し、部分照明光学系 IL4, IL6は、部分照明光学系 IL2と同一の構成を有する。また、投影光学系 PL3, PL5, PL7は、投影光学系 PL1と同一の構成を有し、投影光学系 PL4, PL6は、投影光学系 PL2と同一の構成を有する。

[0025] ライトガイドファイバ 8の射出口 8bから射出した光束は、部分照明光学系 IL1に入射し、射出口 8bの近傍に配置されているコリメートレンズ 9bにより集光された光束は、オプティカルインテグレータであるフライアイレンズ 10bに入射する。フライアイレンズ 10bの後側焦点面に形成された多数の二次光源力ゝらの光束は、コンデンサーレンズ l ibによりマスク Mlをほぼ均一に照明する。また、射出口 8cの近傍に配置されているコリメートレンズ 9cにより集光された光束は、オプティカルインテグレータであるフラィアイレンズ 10cに入射する。フライアイレンズ 10cの後側焦点面に形成された多数の二次光源からの光束は、コンデンサーレンズ 11cによりマスク Mlをほぼ均一に照明する。

[0026] 投影光学系 PL1は、マスク Ml上における視野内の拡大像である一次像をプレート P1上の像野内に形成する反射屈折投影光学系であり、その走査方向（X軸方向）における拡大倍率が + 1倍を超え、且つ走査直交方向における拡大倍率は 1を下回る。

[0027] 投影光学系 PL1は、マスク Mlとプレート P1との間の光路中に配置される凹面反射鏡 CCMbと、マスク Mlと凹面反射鏡 CCMbとの間の光路中に配置される第 1レンズ群 Gibと、第 1レンズ群 Gibと凹面反射鏡 CCMbとの間の光路中に配置される第 2レンズ群 G2bと、第 2レンズ群 G2bとプレート P1との間の光路中に配置されて、第 2レンズ群 G2bから Z軸方向に進行する光を X軸方向（第 1方向）に第 1レンズ群 Gib の光軸を横切るように偏向する第 1偏向部材 FMlbと、第 1偏向部材 FMlbとプレート P1との間の光路中に配置され、第 1偏向部材 FMlbから X軸方向に進行する光を— Z軸方向に偏向する第 2偏向部材 FM2bと、第 2偏向部材 FM2bとプレート P1との間の光路中に配置されて、第 1レンズ群 Gibの光軸と略平行な光軸を有する第 3 レンズ群 G3bとを備えて!/、る。

[0028] ここで、第 1偏向部材 FMlbと第 2偏向部材 FM2bとは例えば第 2レンズ群 G2bからー Z軸方向に進行する光を X軸方向（第 1方向）に移送した後に Z軸方向に沿つて進行させる第 1光束移送部を構成することができる。

[0029] ここで、投影光学系 PL1は、マスク Mlと凹面反射鏡 CCMbの距離よりもマスク Ml とプレート PIの距離のほうが大きくなるように、凹面反射鏡 CCMb、第 1レンズ群 Gib 、第 2レンズ群 G2b、第 3レンズ群 G3b、第 1偏向部材 FMlb及び第 2偏向部材 FM2 bのそれぞれが配置されている。また、第 1レンズ群 Glb、第 2レンズ群 G2b及び第 3 レンズ群 G3bを構成する屈折力を有する光学部材は、その光軸が重力方向に対して平行になるように配置されている。また、投影光学系 PL1は、マスク Ml側の距離よりもプレート P1側の距離が大きくなるように、第 1レンズ群 Glb、凹面反射鏡 CCMb 及び第 3レンズ群 G3bが配置されて、る。

[0030] なお、凹面反射鏡 CCMbと第 2レンズ群 G2bとの間の光路中、即ち、凹面反射鏡 C CMbの反射面の近傍には、投影光学系 PL1のプレート P1側の開口数を決定するための開口絞り ASbが備えられており、開口絞り ASbは、マスク Ml側及びプレート P1 側が略テレセントリックとなるように位置決めされている。この開口絞り ASbの位置は投影光学系 PL1の瞳面とみなすことができる。

[0031] また、投影光学系 PL1は、投影光学系 PL1の第 1レンズ群 Gibの焦点距離を fl、第 3レンズ群 G3bの焦点距離を f 3とし、投影光学系 PL1の倍率をとするとき、 0. 8 X I j8 I ≤f3/fl≤l. 25 X I j8 I

I β I ≥i. 8

を満足している。

[0032] 投影光学系 PL2は、投影光学系 PL1と走査方向に対称に配置された構成を有し、投影光学系 PL1と同様にマスク Ml上における視野内の拡大像である一次像をプレート P1上の像野内に形成する反射屈折投影光学系であり、その走査方向 (X軸方向 )における拡大倍率が + 1倍を超え、且つ走査直交方向における拡大倍率は 1を下回る。

[0033] 投影光学系 PL2は、投影光学系 PL1と同様に、凹面反射鏡 CCMc、第 1レンズ群 Glc、第 2レンズ群 G2c、第 3レンズ群 G3c、第 1偏向部材 FMlc、第 2偏向部材 FM 2b及び開口絞り ASbを備えてヽる。 [0034] ここで、第 2投影光学系 PL2の第 1偏向部材 FMlc及び第 2偏向部材 FM2bは、例えば第 2レンズ群 G2cから Z軸方向に進行する光を +X軸方向（第 2方向）に移送した後に—Z軸方向に沿って進行させる第 2光束移送部を構成することができる。また、開口絞り AScの位置は投影光学系 PL2の瞳面とみなすことができる。

[0035] 投影光学系 PL1及び投影光学系 PL2は、投影光学系 PL1及び投影光学系 PL2 の視野の中心同士の走査方向（X軸方向）における間隔を Dmとし、投影光学系 PL1 及び第 2投影光学系 PL2による像野の中心同士の走査方向（X軸方向）における間隔を Dpとし、投影光学系 PL1及び投影光学系 PL2のそれぞれの投影倍率を |8とするとさ、

Dp = Dm X I β I (但し、 I β I > 1. 8)

を満足するように配置されて、る。

[0036] そして、本例では、第 1投影光学系 PL1の視野と像野 (投影領域)とを結ぶ線分を第 1線分 (本例では第 1光束移送部の光軸に相当）と、第 2投影光学系 PL2の視野と像野 (投影領域)とを結ぶ線分を第 2線分 (本例では第 2光束移送部の光軸に相当）とは Υ方向からみて互いに重畳してヽな、。

[0037] 図 3は、この実施の形態に係る走査露光装置で用いられるマスク Mlの構成を示す図である。図 3に示すようにマスク Mlは、非走査方向（Y軸方向）に沿って配置された列パターン部 M10〜M16を備えている。ここで列パターン部 M10には、投影光学系 PL1の視野が位置決めされ、列パターン部 Mi lには、投影光学系 PL2の視野が位置決めされる。同様に、列パターン部 M12〜M16には、投影光学系 PL3〜PL 7の視野がそれぞ; tl^立置決めされる。

[0038] 図 4は、第 1列として配置されている投影光学系 PL1、 PL3及び第 2列として配置されている投影光学系 PL2の視野及び像野の状態を説明するための図である。投影光学系 PL1は、視野 VI及び像野 II、投影光学系 PL2は、視野 V2及び像野 12、投影光学系 PL3は、視野 V3及び像野 13をそれぞれ有する。即ち、投影光学系 PL1は、マスク M 1上における視野 V 1内の拡大像をプレート P 1上の像野 11内に形成する。同様に、投影光学系 PL2は、マスク Ml上における視野 V2内の拡大像をプレート P1 上の像野 12内に形成し、投影光学系 PL3は、マスク Ml上における視野 V3内の拡大像をプレート PI上の像野 13内に形成する。

[0039] 投影光学系 PL1の像野 IIと投影光学系 PL2の像野 12、投影光学系 PL2の像野 12 と投影光学系 PL3の像野 13との間には、それぞれ継部が形成される力プレート P1 上で継部を形成するマスク上のパターンの端部をジグザグに形成する等することにより、プレート P1上でパターンを連続的に形成することができる。

[0040] この実施の形態では、第 1及び第 2投影光学系 PL1、 PL2の視野の間隔 (第 1列と第 2列との間隔) Dpと像野 (投影領域)の間隔 (第 3列と第 4列との間隔) Dmとが、第 1及び第 2投影光学系 PL1、 PL2の走査方向に沿った倍率を |8とするときに、 Dp = β X Dmを満足しているため、図 3に示すような走査方向において各列パターン部 M 11〜M 16の端部を揃えて走査方向における大きさを最小化したマスク M 1を用ヽたとしても、プレート P1上でパターンを連続的に形成することができる。

[0041] この実施の形態に係る反射屈折投影光学によれば、屈折力を有する光学部材を備える、第 1レンズ群、第 2レンズ群及び第 3レンズ群を重力に対してその光軸が平行となるように配置しているため、露光領域を大きくするために、投影光学系を構成するレンズ、即ち、第 1レンズ群、第 2レンズ群及び第 3レンズ群を構成するレンズを大型化した場合においても、レンズに光軸に非対称な変形が生じることのない高精度な反射屈折投影光学系を提供することができる。また、実施の形態に係る反射屈折投影光学によれば、中間像を形成することがないため、光学的な構成を簡素化することができる。

[0042] また、この発明の走査露光装置によれば、レンズに光軸に非対称な変形が生じることのない高精度な反射屈折投影光学系を備えるため、良好な露光を行うことができる。また、反射屈折投影光学系が拡大倍率を有するため、マスクの大型化を避けることができ、マスクの製造コストの低減を図ることができる。

[0043] 次に、この発明の第 2の実施の形態にかかる走査露光装置に用いられる照明光学系及び投影光学系について説明する。なお、この第 2の実施の形態にかかる照明光学系及び投影光学系は、第 1の実施の形態にかかる照明光学系及び投影光学系の照明光学系内に、照明視野絞りを配置したものである。その他の点については、第 1 の実施の形態に力かる照明光学系及び投影光学系と同一の構成を有する。したがつて、第 2の実施の形態の説明においては、第 1の実施の形態にかかる照明光学系及び投影光学系と同一の構成の詳細な説明は省略する。また、この第 2の実施の形態に力かる照明光学系及び投影光学系の説明においては、第 1の実施の形態にか力る照明光学系及び投影光学系と同一の構成には第 1の実施の形態で用いたものと同一の符号を付して説明を行なう。

[0044] 図 5は、第 2の実施の形態に力かる照明光学系及び投影光学系の構成を示す図である。なお、図 5においては、照明光学系 IL1, IL2及び投影光学系 PL1, PL2のみを示している力照明光学系 IL13〜IL7及び投影光学系 PL3〜PL7も同一の構成を有する。この実施の形態に係る照明光学系 IL1のコンデンサレンズ l ibの射出側のマスク Mlと光学的に共役な位置には、台形状又は六角形状の開口部を有する照明視野絞り 12bが配置されており、照明視野絞り 12bとマスク M 1との間の光路中には、結像光学系 13bが配置されている。同様に、照明光学系 IL2のコンデンサレンズ 11cの射出側のマスク Mlと光学的に共役な位置には、照明視野絞り 12cが配置されており、照明視野絞り 12cとマスク Mlとの間の光路中には、結像光学系 13cが配置されている。

[0045] 図 6は、照明光学系に六角形状の開口部を有する照明視野絞りが配置された場合の投影光学系 PL1、PL3及び投影光学系 PL2の視野及び像野の状態を説明するための図である。投影光学系 PL1は、六角形状の視野 VI及び像野 II、投影光学系 PL2は、六角形状の視野 V2及び像野 12、投影光学系 PL3は、六角形状の視野 V3 及び像野 13をそれぞれ有する。即ち、投影光学系 PL1は、照明視野絞りにより形状が規定されたマスク M 1上における視野 VI内の拡大像をプレート P 1上の像野 11内に形成する。同様に、投影光学系 PL2は、照明視野絞りにより形状が規定されたマスク M 1上における視野 V2内の拡大像をプレート P 1上の像野 12内に形成し、投影光学系 PL3は、マスク Ml上における視野 V3内の拡大像をプレート P1上の像野 13内に形成する。

[0046] この実施の形態に係る照明光学系によれば、第 1の実施の形態に係る走査露光装置のようにマスクパターンによる画面合成を行うことなぐプレート上においてパターンの非走査方向における合成を良好に行うことができる。 [0047] 次に、この発明の第 3の実施の形態にかかる走査露光装置に用いられる照明光学系及び投影光学系について説明する。なお、この第 3の実施の形態にかかる照明光学系及び投影光学系は、第 1の実施の形態にかかる照明光学系及び投影光学系の内、投影光学系の構成を変更したものである。その他の点については、第 1の実施の形態にかかる照明光学系及び投影光学系と同一の構成を有する。したがって、第 3 の実施の形態の説明においては、第 1の実施の形態に力かる照明光学系及び投影光学系と同一の構成の詳細な説明は省略する。また、この第 3の実施の形態にかかる照明光学系及び投影光学系の説明においては、第 1の実施の形態に力かる照明光学系及び投影光学系と同一の構成には第 1の実施の形態で用いたものと同一の符号を付して説明を行なう。

[0048] 図 7は、第 3の実施の形態に力かる照明光学系及び投影光学系の構成を示す図である。なお、図 7においては、照明光学系 IL1, IL2及び投影光学系 PL1, PL2のみを示している力照明光学系 IL13〜IL7及び投影光学系 PL3〜PL7も同一の構成を有する。

[0049] この実施の形態に係る投影光学系 PL1、 PL2は、マスク Mlの中間像を形成する第 1結像光学系 14b、 14cと、中間像とプレート PIとを光学的に共役にする第 2結像光学系 16b、 16cとを備える投影光学装置により構成される。ここで、これらの投影光学系 PL1、 PL2の拡大倍率は、走査方向における拡大倍率が + 1を超え、且つ走査直交方向における拡大倍率が + 1を超えるように設定されている。つまり、これらの投影光学系 PL 1、 PL2は第 2面上に第 1面の正立正像を拡大倍率のもとで形成する。

[0050] また、第 1結像光学系 14b、 14cと第 2結像光学系 16b、 16cとの間の光路中の中間像が形成される位置には、視野絞り 15b、 15cが配置されている。ここで第 2結像光学系 16b、 16cは、第 1の実施の形態に係る投影光学系 PL1、 PL2と同一の構成を有する。

[0051] この実施の形態に係る投影光学系によれば、視野絞りの配置を容易に行うことができ、また、投影光学系の精度で視野絞りをプレート上に投影することができるため、高精度な投影を行うことができる。

[0052] 次に、この発明の第 4の実施の形態にかかる走査露光装置に用いられる投影光学系について説明する。なお、この第 4の実施の形態に力かる投影光学系は、第 1の実施の形態にかかる投影光学系に光学特性調整機構を設けたものである。その他の点については、第 1の実施の形態に力かる投影光学系と同一の構成を有する。したがって、第 4の実施の形態の説明においては、第 1の実施の形態に力かる投影光学系と同一の構成の詳細な説明は省略する。また、この第 4の実施の形態に力かる投影光学系の説明においては、第 1の実施の形態に力かる投影光学系と同一の構成には第 1の実施の形態で用いたものと同一の符号を付して説明を行なう。

[0053] 図 8は、第 4の実施の形態に力かる投影光学系の構成を示す図である。なお、図 8 においては、投影光学系 PL1, PL2のみを示しているが投影光学系 PL3〜PL7も同一の構成を有する。投影光学系 PL1, PL2は、マスク Mlと第 1レンズ群 Gib, Glcとの間の光路中にクサビ状のペアガラスにより構成される第 1光学特性調整機構 AD1 b、 ADlcを備えている。この第 1光学特性調整機構 ADlb、 ADlcにおいては、ぺァガラスをクサビ角に沿って移動させてガラス厚を変化させることにより、フォーカスや像面傾斜を調整することができる。このように、本実施形態では反射屈折光学系の縮小側 (反射屈折光学系の開口絞り位置よりも物体側)の光路に第 1光学特性調整機構 ADlb、 ADlcを配置しているため、調整機構の移動量に対する光学特性の変化量を大きくすることができる。すなわち調整機構の効きの感度を良くできる。ひいては調整機構の移動量範囲 (ストローク)を増やさずに、光学特性の調整範囲を広げることがでさる。

[0054] また、投影光学系 PL1, PL2は、第 2光路偏向面 FM2b、 FM2cの回転機構により構成される第 2光学特性調整機構 AD2b、 AD2cを備えている。この第 2光学特性調整機構 AD2b、 AD2cは、第 2光路偏向面 FM2b、 FM2cを備えるプリズムミラーを回転させることにより像の回転を調整することができる。また、同曲率を有する 3枚のレンズ群により構成される第 3光学特性調整機構 AD3b、 AD3cを備えている。この第 3光学特性調整機構 AD3b、 AD3cは、 3枚の同曲率で構成されたレンズ群の中央部のレンズをマスク Mlとプレート P1間の垂直方向（上下方向）に移動させることにより倍率の調整を行うことができる。また、平行平板を備えて構成される第 4光学特性調整機構 AD4b、 AD4cを備えている。この第 4光学特性調整機構 AD4b、 AD4cは、平行平板を光軸に対して傾斜させることにより像位置の調整を行うことができる。

[0055] この実施の形態では、凹面反射鏡 CCMb、 CCMcと第 2面との間の光路中、言い換えると瞳面と第 2面との間の光路中に光学特性調整機構 AD2b、 AD2c、 AD3b、 AD3cを配置して、る。この光路は投影光学系での拡大倍率側の光路であるため、これらの光学特性調整機構を配置する空間を確保しやすい利点がある。

[0056] なお、上述の第 2の実施の形態においては、 6角形状の開口部を有する照明視野絞りを照明光学系内に配置したが、これに代えて円弧形状を有する照明視野絞りを照明光学系内に配置するようにしても良い。図 9は、照明光学系に円弧形状の開口部を有する照明視野絞りが配置された場合の投影光学系 PL1、PL3及び投影光学系 PL2の視野及び像野の状態を説明するための図である。投影光学系 PL1は、円弧形状の視野 VI及び像野 II、投影光学系 PL2は、円弧形状の視野 V2及び像野 12 、投影光学系 PL3は、円弧形状の視野 V3及び像野 13をそれぞれ有する。即ち、投影光学系 PL1は、照明視野絞りにより形状が規定されたマスク Ml上における円弧形状の視野 VI内の拡大像をプレート P1上の円弧形状の像野 II内に形成する。同様に、投影光学系 PL2は、照明視野絞りにより形状が規定されたマスク Ml上における円弧形状の視野 V2内の拡大像をプレート P 1上の円弧形状の像野 12内に形成し、投影光学系 PL3は、マスク Ml上における円弧形状の視野 V3内の拡大像をプレート P 1上の円弧形状の像野 13内に形成する。

[0057] また、上述の第 3の実施の形態においては、第 2結像光学系 16b、 16cが第 1の実施の形態に係る投影光学系 PL1、 PL2と同一の構成を有しているが、第 1結像光学系 14b、 14c、または第 1結像光学系 14b、 14c及び第 2結像光学系 16b、 16cが第 1 の実施の形態に係る投影光学系 PL1、PL2と同一の構成を有するようにしても良い。

[0058] また、上述の実施形態において、投影光学系が形成する像野の形状を、たとえば台形状としても良い。像野を台形状とする場合には、台形の下辺（台形において互いに平行な 2辺のうち長い方の辺）を光軸側に向ける配置とすることが好ましい。

[0059] また、上述の実施形態では、光源として放電ランプを備え、必要となる g線 (436nm )の光、 h線 (405nm)、及び i線（365nm)の光を選択するようにしていた。しかしながら、これに限らず、紫外 LEDからの光、 KrFエキシマレーザ（248nm)や ArFエキシマレーザ（193nm)からのレーザ光、固体レーザの高調波、固体光源としての紫外半導体レーザ力のレーザ光を用いる場合であっても本発明を適用することが可能である。

[0060] また、この実施の形態にかかる走査露光装置では、プレート (ガラス基板)上に所定のパターン（回路パターン、電極パターン等）を形成することによって、マイクロデバイスとしての液晶表示素子を得ることもできる。以下、図 10のフローチャートを参照して、このときの手法の一例につき説明する。図 10において、パターン形成工程 401では、この実施の形態に力かる走査露光装置を用いてマスクのパターンを感光基板に転写露光する、所謂光リソグラフイエ程が実行される。この光リソグラフイエ程によって、感光基板上には多数の電極等を含む所定パターンが形成される。その後、露光された基板は、現像工程、エッチング工程、レジスト剥離工程等の各工程を経ること〖こよって、基板上に所定のパターンが形成され、次のカラーフィルタ形成工程 402へ移行する。

[0061] 次に、カラーフィルタ形成工程 402では、 R (Red)、 G (Green)、 B (Blue)に対応した 3つのドットの組がマトリックス状に多数配列されたり、または R、 G、 Bの 3本のストライプのフィルタの組を複数水平走査線方向に配列されたりしたカラーフィルタを形成する。そして、カラーフィルタ形成工程 402の後に、セル組み立て工程 403が実行される。セル組み立て工程 403では、パターン形成工程 401にて得られた所定パターンを有する基板、およびカラーフィルタ形成工程 402にて得られたカラーフィルタ等を用いて液晶パネル (液晶セル）を組み立てる。セル組み立て工程 403では、例えば、ノターン形成工程 401にて得られた所定パターンを有する基板とカラーフィルタ形成工程 402にて得られたカラーフィルタとの間に液晶を注入して、液晶パネル (液晶セル)を製造する。

[0062] その後、モジュール組み立て工程 404にて、組み立てられた液晶パネル（液晶セル )の表示動作を行わせる電気回路、バックライト等の各部品を取り付けて液晶表示素子として完成させる。上述の液晶表示素子の製造方法によれば、この実施の形態に力かる走査露光装置を用いるため、低コストで液晶表示素子の製造を行うことができる。 [0063] この発明の反射屈折投影光学系及び反射屈折光学装置によれば、屈折力を有する光学部材を備える、第 1レンズ群、第 2レンズ群及び第 3レンズ群を重力に対してその光軸が平行となるように配置しているため、露光領域を大きくする等のために投影光学系を構成するレンズ、即ち、第 1レンズ群、第 2レンズ群及び第 3レンズ群を構成するレンズを大型化した場合においても、レンズに光軸に非対称な変形が生じることのない高精度な反射屈折投影光学系及び反射屈折光学装置を提供することができ、ひいては良好なるパターン転写を行うことができる。

[0064] また、この発明の走査露光装置によれば、複数の投影光学系による複数の視野からの光束を光束移相部材によって第 1方向に沿って逆方向に移送して複数の投影領域へ導くことができ、このときの第 1方向に沿った視野間隔と投影領域間隔とを適切に設定できる。従って、異なる列の投影光学系を用いてもプレート上に良好にバターンを転写することができる。

[0065] また、この発明の走査露光装置によれば、レンズに光軸に非対称な変形が生じることのない高精度な反射屈折投影光学系及び反射屈折光学装置を備えるため、良好な露光を行うことができる。また、反射屈折投影光学系及び反射屈折光学装置が拡大倍率を有するため、マスクの大型化を避けることができ、マスクの製造コストの低減を図ることができる。

[0066] また、この発明のマイクロデバイスの製造方法によれば、マスクの大型化を避けつつ大型の基板を用いてマイクロデバイスの製造を行うことができるため、低コストでマイク口デバイスの製造を行うことができる。実施例

[0067] 以下に実施例 1及び実施例 2について説明する。表 1、表 2に、実施例実施例 2 にかかる反射屈折光学系 PL10、 PL20の光学部材諸元を示す。表 1、表 2の光学部材諸元においては、第 1カラムの面番号は物体側力の光線進行方向に沿った面の順序、第 2カラムは各面の曲率半径 (mm)、第 3カラムの面間隔は光軸上の面間隔（ mm)、第 4カラムは、光学部材の硝材の g線に対する屈折率、第 5カラムは光学部材の硝材の h線に対する屈折率、第 6カラムは光学部材の硝材の i線に対する屈折率をそれぞれ示している。 [0068] (実施例 1)

図 11に示すように、反射屈折光学系 PL10は、凹面反射鏡 CCM、第 1レンズ群 G1 、第 2レンズ群 G2、第 3レンズ群 G3、第 1偏向部材 FM1及び第 2偏向部材 FM2を備えている。

[0069] ここで第 1レンズ群 G1は、マスク Mに凹面を向けた正メ-スカスレンズ L10、マスク Mに凹面を向けた負メ-スカスレンズ Ll l、マスク Mに凹面を向けた負メニスカスレンズ L12により構成されている。第 2レンズ群 G2は、両凸レンズ L13、マスク Mに凹面を向けた負メ-スカスレンズ L14、両凹レンズ L15、マスク Mに凹面を向けた正メ-スカスレンズ L16により構成されている。第 3レンズ群 G3、プレート Pに凹面を向けた負メニスカスレンズ L17、プレート Pに凹面を向けた正メニスカスレンズ L18、両凸レンズ L19により構成されている。

[0070] 実施例 1にかかる反射屈折光学系 PL10の諸元の値を示す。

[0071] (諸元）

投影倍率： 2. 4倍

像側 NA: 0. 05625

物体側 NA: 0. 135

像野： 228mm

視野： φ 95mm

条件式の対応値： f3Zfl = 1430Z600 = 2. 38

(表 1)

(光学部材諸元）

[表 1] men

8677 1279 8677 8677 7456 7456 8677 8677 7456 7456 8677 1279 1279 8677

[0072] 図 12及び図 13に反射屈折光学系 PL10の収差図を示す。ここで図 12 (a)は球面収差、（b)は像面湾曲、（c)は、歪曲収差、（d)は倍率色収差を示し、図 13は光線収差を示している。これら図に示すように、反射屈折光学系 PL20においては、良好に収差が補正されている。

[0073] (実施例 2)

図 14に示すように、反射屈折光学系 PL20は、凹面反射鏡 CCM、第 1レンズ群 G1 、第 2レンズ群 G2、第 3レンズ群 G3、第 1偏向部材 FM1及び第 2偏向部材 FM2を備えている。

[0074] ここで第 1レンズ群 G1は、マスク Mに凹面を向けた正メ-スカスレンズ L20、マスク Mに凹面を向けた負メ-スカスレンズ L21、マスク Mに凹面を向けた負メニスカスレンズ L22により構成されている。第 2レンズ群 G2は、両凸レンズ L23、マスク Mに凹面を向けた負メ-スカスレンズ L24、両凹レンズ L25、マスク Mに凹面を向けた正メ-スカスレンズ L26により構成されている。第 3レンズ群 G3は、プレート Pに凹面を向けた負メ-スカスレンズ L27、プレート Pに凹面を向けた負メ-スカスレンズ L28、両凸レンズ L29により構成されている。

[0075] 実施例 2にかかる反射屈折光学系 PL20の諸元の値を示す。

[0076] (諸元）

投影倍率： 2. 0倍

像側 NA: 0. 069

物体側 NA: 0. 138

像野： φ 240mm

視野： φ 120mm

条件式の対応値： f3Zfl = 132lZ642 = 2. 06

(表 2)

(光学部材諸元）

[表 2]

men l(g) n(h) n(i)

0) 33.20 1

1 ) -4051.57 21.75 1.48032 1.48273 1.48677 2) -175.17 2.28 1 I

3) -174.54 29.84 1.59415 1.60086 1.61279 4) -240.70 4.50 1

5) -191.97 55.18 1 .48032 1.48273 1.48677

1.48273 1.48677

1.46964 1.47456

1.48273 1.48677

-1.48273 -1.48677

-1.46964 -1.47456

22) -551.98 -35.13 .48032 -1.48273 -1.48677 23) 417.42 -270.00 -1

24) 290.00 1 I

25) -204.04 -1

26) -854.96 -30.05 .59415 -1.60086 -1.61279 27) -535.59 -82.36 _1

I

28) -332.43 -70.04 .59415 -1.60086 -1.61279 29) -321.50 -18.77 I

30) -440.56 -36.04 .48032 -1.48273 -1.48677 31 ) 8692.01 -85.64

[0077] 図 15及び図 16に反射屈折光学系 PL20収差図を示す。ここで図 15 (a)は球面収差、（b)は像面湾曲、（c)は、歪曲収差、（d)は倍率色収差を示し、図 16は光線収差を示している。これら図に示すように、反射屈折光学系 PL20においては、良好に収差が補正されている。

[0078] なお、以上説明した実施の形態は、本発明の理解を容易にするために記載されたものであって、本発明を限定するために記載されたものではない。従って、実施の形態に開示された各要素は、本発明の技術的範囲に属する全ての設計変更や、均等物も含む趣旨である。

[0079] また、本開示は、 2006年 3月 20日に提出された日本国特許出願 2006— 76011 号、及び 2007年 1月 16日に提出された日本国特許出願 2007— 6655号に含まれた主題に関連し、その開示の全てはここに参照事項として明白に組み込まれる。産業上の利用可能性

本発明は、マスク、レチクル等の像を基板等上に投影する反射屈折投影光学系及び反射屈折光学装置、第 1の物体の像を第 2の物体上に投影露光する走査露光装置、該走査露光装置を用いたマイクロデバイスの製造方法に好適に用いることが出来る。

Claims

請求の範囲

[1] 第 1面に配置される第 1物体の像を第 2面に配置される第 2物体上に投影しつつ前記第 1物体の像と前記第 2物体との位置関係を走査方向に関して変化させつつ前記第 1物体のパターンを前記第 2物体上に転写露光する走査露光装置において、前記第 1面上で第 1視野を有し、該第 1視野からの光に基づいて第 2面上の第 1投影領域に前記第 1物体の一部の拡大像を投影する第 1投影光学系と、

前記第 1面上で第 2視野を有し、該第 2視野からの光に基づいて第 2面上の第 2投影領域に前記第 1物体の一部の拡大像を投影する第 2投影光学系と、

を備え、

前記第 1投影光学系は、前記第 1視野からの光を、前記第 1面と前記第 2面とを結ぶ軸線方向と交差する第 1方向に沿って移送して、前記軸線方向から見て前記第 1 視野の前記第 1方向側に位置する前記第 1投影領域へ導く第 1光束移送部を備え、前記第 2投影光学系は、前記第 2視野からの光を前記第 1方向とは逆向きの第 2方向に沿って移送して、前記軸線方向から見て前記第 2視野の前記第 2方向側に位置する前記第 2投影領域へ導く第 2光束移送部を備え、

前記第 1視野と前記第 2視野との前記第 1面上での前記走査方向に沿った間隔である第 1間隔を Dmとし、前記第 1投影領域と前記第 2投影領域との前記第 2面上での前記走査方向に沿った間隔である第 2間隔を Dpとし、前記第 1および第 2投影光学系の倍率を j8とするとき、

Dp= β X Dm

を満足することを特徴とする走査露光装置。

[2] 前記第 1投影光学系の前記第 1方向における拡大倍率及び前記第 2投影光学系の前記第 2方向における拡大倍率は + 1を超えることを特徴とする請求項 1に記載の走査露光装置。

[3] 前記第 1方向と直交する第 3方向における前記第 1投影光学系の拡大倍率及び前記第 2方向と直交する第 4方向における前記第 2投影光学系の拡大倍率は 1を下回ることを特徴とする請求項 1に記載の走査露光装置。

[4] 前記第 1方向に沿って前記第 1視野領域と前記第 1投影領域とを結ぶ第 1線分と、前記第 2方向に沿って前記第 2視野領域と前記第 2投影領域とを結ぶ第 2線分とは、前記走査方向と直交する方向からみて互!ヽに重畳して!/ヽな!ヽことを特徴とする請求項 1乃至請求項 3の何れか一項記載の走査露光装置。

[5] 前記第 1光束移送部と前記第 2光束移送部とは、それぞれの光束移送部に入射する光の進行方向と、それぞれの光束移送部力射出する光の進行方向とを互いに平行にすることを特徴とする請求項 1乃至請求項 4の何れか一項記載の走査露光装置

[6] 前記第 1光束移送部と前記第 2光束移送部とは、それぞれ複数の反射面を備えていることを特徴とする請求項 1乃至請求項 5の何れか一項記載の走査露光装置。

[7] 第 1物体の像を第 2物体上に投影しつつ前記第 1物体の像と前記第 2物体との位置関係を走査方向に関して変化させつつ前記第 1物体のパターンを前記第 2物体上に転写露光する走査露光装置にぉ、て、

前記走査方向を横切る方向である非走査方向に沿った第 1列上に視野をそれぞれ有する複数の投影光学系を備えた第 1列投影光学系と、

前記非走査方向に沿った列であって前記第 1列とは異なる第 2列上に視野をそれぞれ有する複数の投影光学系を備えた第 2列投影光学系と、

を備え、

前記第 1列投影光学系は、前記第 1列投影光学系の前記複数の視野と共役な複数の投影領域を前記第 2面上の第 3列上に形成し、

前記第 2列投影光学系は、前記第 2列投影光学系の前記複数の視野と共役な複数の投影領域を前記第 2面上の第 4列上に形成し、

前記第 1列と前記第 2列との前記第 1面上での前記走査方向に沿った間隔である第 1間隔を Dmとし、前記第 3列と前記第 4列との前記第 2面上での前記走査方向に沿った間隔である第 2間隔を Dpとし、前記第 1および第 2投影光学系の倍率を j8とするとさ、

Dp= β X Dm

を満足することを特徴とする走査露光装置。

[8] 前記第 1方向は前記走査方向とほぼ平行であることを特徴とする請求項 1乃至請求項 7の何れか一項に記載の走査露光装置。

[9] 第 1面上に配置される第 1物体の像を第 2面上に配置される第 2物体上に拡大の投影倍率で形成する反射屈折投影光学系にお、て、

前記第 1面と前記第 2面との間の光路中に配置される凹面反射鏡と、

前記第 1面と前記凹面反射鏡との間の光路中に配置される第 1レンズ群と、前記第 1レンズ群と前記凹面反射鏡との間の光路中に配置される第 2レンズ群と、前記第 2レンズ群と前記第 2面との間の光路中に配置されて、前記第 1レンズ群の光軸を横切るように光を偏向する第 1偏向部材と、

前記第 1偏向部材と前記第 2面との間の光路中に配置される第 2偏向部材と、前記第 2偏向部材と前記第 2面との間の光路中に配置されて、前記第 1レンズ群の光軸と略平行な光軸を有する第 3レンズ群と、

を備えることを特徴とする反射屈折投影光学系。

[10] 前記第 1面と前記凹面反射鏡の距離よりも前記第 1面と前記第 2面の距離のほうが大きいことを特徴とする請求項 9記載の反射屈折投影光学系。

[11] 前記第 1レンズ群、前記第 2レンズ群及び前記第 3レンズ群を構成する屈折力を有する光学部材は、その光軸が重力方向に対して平行になるように配置されて、ることを特徴とする請求項 9または請求項 10記載の反射屈折投影光学系。

[12] 前記凹面反射鏡と前記第 2レンズ群との間の光路中に配置されて、前記反射屈折投影光学系の前記第 2面側開口数を決定するための開口絞りをさらに備え、該開口絞りは、前記第 1面側及び前記第 2面側が略テレセントリックとなるように位置決めされていることを特徴とする請求項 9乃至請求項 1 1の何れか一項に記載の反射屈折投影光学系。

[13] 前記第 1レンズ群の焦点距離を fl、前記第 3レンズ群の焦点距離を f3とし、前記投影光学系の倍率を ISとするとき、

0. 8 X I j8 I ≤f3/fl≤l . 25 X I j8 I

I β I ≥i . 8

を満足することを特徴とする請求項 9乃至請求項 12の何れか一項に記載の反射屈折投影光学系。

[14] 前記反射屈折投影光学系は、光学特性調整機構を含むことを特徴とする請求項 9 乃至請求項 13の何れか一項に記載の反射屈折投影光学系。

[15] 前記光学特性調整機構は、前記凹面反射鏡と前記第 2面との間の光路中に配置されることを特徴とする請求項 14記載の反射屈折投影光学系。

[16] 前記反射屈折投影光学系は、前記第 2面上に前記第 1物体の一次像を形成することを特徴とする請求項 9乃至請求項 15の何れか一項に記載の反射屈折投影光学系

[17] 第 1面上に配置される第 1物体の像を第 2面上に配置される第 2物体上に拡大の投影倍率で形成する反射屈折投影光学系にお、て、

前記第 1面と前記第 2面との間の光路中に配置される複数のレンズと、前記反射屈折投影光学系の瞳位置と前記第 2面との間に配置される光学特性調整機構と、

を備えることを特徴とする反射屈折投影光学系。

[18] 前記第 1面の中間像を形成する第 1結像光学系と、前記中間像と前記第 2面とを光学的に共役にする第 2結像光学系とを備える反射屈折光学装置であって、

前記第 1結像光学系と前記第 2結像光学系との少なくとも一方は、請求項 9乃至請求項 17の何れか一項に記載の反射屈折投影光学系により構成されていることを特徴とする反射屈折光学装置。

[19] 第 1面に配置される第 1物体の像を第 2面に配置される第 2物体上に投影する投影装置と前記第 1物体及び前記第 2物体との位置関係を走査方向に関して変化させつつ前記第 1物体のパターンを前記第 2物体上に転写露光する走査露光装置において、

前記投影装置は、前記走査方向に関して第 1の位置に位置決めされた第 1投影光学装置と、前記走査方向に関して前記第 1の位置とは異なる第 2の位置に位置決めされた第 2投影光学装置とを備え、

前記第 1及び第 2投影光学装置は、請求項 9乃至請求項 17の何れか一項に記載の反射屈折投影光学系又は請求項 18に記載の反射屈折光学装置を備えることを特徴とする走査露光装置。

[20] 前記第 1及び第 2投影光学装置は、前記第 1及び第 2投影光学装置の前記第 1物体側の間隔よりも前記第 2物体側の間隔が大きくなるように配置されていることを特徴とする請求項 19記載の走査露光装置。

[21] 前記第 2物体は、外径が 500mmよりも大きい感光基板であることを特徴とする請求項 1乃至請求項 8、請求項 19及び請求項 20の何れか一項記載の走査露光装置。

[22] 請求項 1乃至請求項 8、請求項 19及び請求項 20の何れか一項に記載の走査露光装置を用いてマスクのパターンを感光基板上に露光する露光工程と、

前記露光工程により露光された前記感光基板を現像する現像工程と、を含むことを特徴とするマイクロデバイスの製造方法。