CN101405659B - 投影光学系统、扫描曝光装置以及微元件的制造方法 - Google Patents

Abstract

本发明是有关于一种扫描曝光装置，其包括第1投影光学系统以及第2投影光学系统，第1投影光学系统于第1面上具有第1视场，根据来自该第1视场的光，将第1物体的一部分放大像投影至第2面上的第1投影区域，第2投影光学系统于第1面上具有第2视场，根据来自该第2视场的光，将第1物体的一部分放大像投影至第2面上的第2投影区域；当将第1间隔设为Dm、将第2间隔设为Dp、将第1及第2投影光学系统的倍率设为β时，则满足Dp＝β×Dm，其中第1间隔是沿着第1视场与第2视场的第1面上的扫描方向的间隔，第2间隔是沿着第1投影区域与第2投影区域的第2面上的扫描方向的间隔。

Description

投影光学系统、扫描曝光装置以及微元件的制造方法

技术领域

本发明关于一种反射折射投影光学系统、反射折射光学装置、扫描曝光装置、以及使用该扫描曝光装置的微元件的制造方法，上述反射折射投影光学系统将第1物体(光罩(mask)、标线片(reticle)等)的像投影至第2物体(基板等)上，上述扫描曝光装置将第1物体的像投影曝光于第2物体上。

背景技术

制造例如半导体元件或液晶显示元件等时，使用投影曝光装置，该投影曝光装置利用投影光学系统，将光罩(reticle、photomask等)的图案投影至涂敷着光阻(resist)的板(玻璃板(glass plate)或半导体晶圆等)上。先前多使用投影曝光装置(步进式曝光机(stepper))，上述投影曝光装置以分步重复(step and repeat)方式，将各个光罩的图案一并曝光于板上的各曝光照射(shot)区域。近年来提出了步进扫描(Step and scan)方式的投影曝光装置，上述步进扫描方式的投影曝光装置代替使用1个大的投影光学系统，沿着扫描方向并以规定间隔，将具有相等倍率的小的多个部分投影光学系统配置为多行，且一边对光罩及板进行扫描，一边利用各部分投影光学系统将各个光罩的图案曝光于板上。

近年来，板日益大型化，使用超过2平方米的方形板。此处，使用上述步进扫描方式的曝光装置，于大型板上进行曝光时，部分投影光学系统具有相等的倍率，因此，光罩亦大型化。亦必须维持光罩基板的平面性，从而光罩越大型化则其成本越高。又，为了形成通常的薄膜晶体管(thin filmtransistor，TFT)部，必须4～5层的光罩，需要巨大的成本。因此，提出了一种投影曝光装置，其藉由将投影光学系统的倍率设为放大倍率，而减小光罩的大小(日本专利申请案公开平成11-265848号公报)。

上述投影曝光装置中，多个投影光学系统的光罩上的光轴与板上的光轴实质上配置于相同位置。因此，存在如下问题：藉由不同行的投影光学系统而扫描曝光于板上的图案彼此不相互连接。

又，为了于上述投影曝光装置的投影光学系统中，增大曝光区域，必须使构成投影光学系统的透镜大型化，但使透镜大型化时，因保持透镜而产生光轴非对称的变形，或因重力而导致透镜本身产生光轴非对称的变形。

发明内容

本发明的目的在于，使用多个投影光学系统，以扫描曝光方式，将光罩图案的放大像形成于板等物体上时，进行良好的图案转印。本发明的另一目的在于，不会使透镜中产生光轴非对称的变形而进行良好的图案转印。

根据本发明的第1态样，提供一种扫描曝光装置，其将配置于第1面上的第1物体与配置于第2面上的第2物体在扫描方向中同步移动，且使上述第1物体的像扫描曝光于上述第2物体上，其特征在于其包括：第1投影光学系统，将上述第1面的第1视场的放大像形成至上述第2面上的第1投影区域内；以及第2投影光学系统，将上述第1面的与上述第1视场不同的第2视场的放大像形成至上述第2面上的与上述第1投影区域不同的第2投影区域内，且上述第1投影光学系统包括第1偏向构件，使与上述第1面正交的方向中进行的光偏向上述扫描方向的一侧；以及第2偏向构件，使由上述第1偏向构件而来之在上述扫描方向的一侧进行的光偏向上述正交的方向且导向上述第1投影区域，上述第2投影光学系统包括第3偏向构件，使在上述正交的方向中进行的光偏向上述扫描方向的另一侧；以及第4偏向构件，使由上述第3偏向构件而来之在上述扫描方向的另一侧进行的光偏向上述正交的方向且导向上述第2投影区域，当将上述扫描方向中的上述第1视场和上述第2视场的间隔设为Dm、将上述扫描方向中的上述第1投影区域和上述第2投影区域的间隔设为Dp、将上述第1及第2投影光学系统的倍率设为β时，满足Dp＝|β|×Dm的关系。

根据本发明的第2态样，提供一种扫描曝光装置，其一边将配置于第1面上的第1物体的像投影至配置于第2面上的第2物体上，一边使上述第1物体的像与上述第2物体的位置关系在扫描方向上变化，一边将上述第1物体的图案转印曝光于上述第2物体上，上述扫描曝光装置的特征在于包括第1投影光学系统以及第2投影光学系统，上述第1投影光学系统于上述第1面上具有第1视场，根据来自该第1视场的光，将上述第1物体的一部分放大像投影至第2面上的第1投影区域内，上述第2投影光学系统于上述第1面上具有第2视场，根据来自该第2视场的光，将上述第1物体的一部分放大像投影至第2面上的第2投影区域内，且上述第1投影光学系统包括第1光束传送部，上述第1光束传送部沿着与连接上述第1面与上述第2面的轴线方向正交的第1方向，传送来自上述第1视场的光，自上述轴线方向观察，上述光导向位于上述第1视场的上述第1方向侧的上述第1投影区域，上述第2投影光学系统包括第2光束传送部，上述第2光束传送部，沿着与上述第1方向相反方向的第2方向，传送来自上述第2视场的光，自上述轴线方向观察，上述光导向位于上述第2视场的上述第2方向侧的上述第2投影区域，当将第1间隔设为Dm、将第2间隔设为Dp、将上述第1及第2投影光学系统的倍率设为β时，满足Dp＝|β|×Dm，其中第1间隔是沿着上述第1视场与上述第2视场的上述第1面上的上述扫描方向的间隔，第2间隔是沿着上述第1投影区域与上述第2投影区域的 上述第2面上的上述扫描方向的间隔。

又，根据本发明的第3态样，提供一种扫描曝光装置，其一边将配置在第1面上的第1物体的像投影至配置在第2面上的第2物体上，一边使上述第1物体的像与上述第2物体的位置关系在扫描方向上变化，一边将上述第1物体的图案转印曝光于上述第2物体上，上述扫描曝光装置的特征在于包括第1行投影光学系统以及第2行投影光学系统，上述第1行投影光学系统包括于第1行上分别具有视场的多个投影光学系统，上述第1行沿着横切上述扫描方向的方向，即，非扫描方向，上述第2行投影光学系统包括于与上述第1行不同的第2行上分别具有视场的多个投影光学系统，上述第2行是沿着上述非扫描方向的行；且上述第1行投影光学系统于上述第2面的第3行上，形成与上述第1行投影光学系统的上述多个视场共轭的多个投影区域，上述第2行投影光学系统于上述第2面的第4行上，形成与上述第2行投影光学系统的上述多个视场共轭的多个投影区域，当将第1间隔设为Dm、将第2间隔设为Dp、将上述第1及第2投影光学系统的倍率设为β时，满足Dp＝|β|×Dm，其中上述第1间隔是沿着上述第1行与上述第2行的上述第1面上的上述扫描方向的间隔，上述第2间隔是沿着上述第3行与上述第4行的上述第2面上的上述扫描方向的间隔。

根据本发明的第4态样，提供一种微元件的制造方法，其特征在于包括：曝光步骤，使用本发明的扫描曝光装置，将光罩图案曝光于感光基板上；以及显影步骤，对已曝光有上述图案的上述感光基板进行显影。

上述说明仅是本发明技术方案的概述，为了能够更清楚了解本发明的技术手段，而可依照说明书的内容予以实施，并且为了让本发明的上述和其他目的、特征和优点能够更明显易懂，以下特举较佳实施例，并配合附图，详细说明如下。

图1是表示第1实施形态的扫描曝光装置的构成图。

图2是表示第1实施形态的照明光学系统及投影光学系统的构成图。

图3是表示实施形态的扫描曝光装置中所使用的光罩图。

图4是表示第1实施形态的投影光学系统的视场及像场图。

图5是表示第2实施形态的照明光学系统及投影光学系统的构成图。

图6是表示第2实施形态的投影光学系统的视场及像场图。

图7是表示第3实施形态的照明光学系统及投影光学系统的构成图。

图8是表示第4实施形态的投影光学系统的构成图。

图9是表示配置了照明视场光圈时的投影光学系统的视场及像场图，上述照明视场光圈于照明光学系统内具有圆弧状孔径。

图10是用以说明实施形态的微元件的制造方法的流程图。

图11是表示第1实施例的投影光学系统的构成图。

图12是第1实施例的投影光学系统的像差图。

图13是第1实施例的投影光学系统的像差图。

图14是表示第2实施例的投影光学系统的构成图。

图15是第2实施例的投影光学系统的像差图。

图16是第2实施例的投影光学系统的像差图。

2：          椭圆镜                3：           分光镜

4、9b、9c：  准直透镜              5：           波长选择滤光片

6：          中性密度滤光片        7、11b、11c： 聚光透镜

8：          光纤                  8a：          射入口

8b～8h：     射出口                10b、10c：    复眼透镜

12b、12c：   照明视场光圈          13b、13c：    成像光学系统

14b、14c：   第1成像光学系统       15b、15c：    视场光圈

16b、16c：   第2成像光学系统       50：          移动镜

52：         对准系统              54：          自动对焦系统

AD1b、AD1c： 第1光学特性调整机构

AD2b、AD2c： 第2光学特性调整机构

AD3b、AD3c： 第3光学特性调整机构

AD4b、AD4c： 第4光学特性调整机构

ASb：        孔径光圈               Dm、Dp：      间隔

CCM、CCMb、CCMc：                                 凹面反射镜

FM1、FM1b、FM1c：                                 第1偏向构件

FM2、FM2b、FM2c：                                 第2偏向构件

FM2b、FM2c：                        第2光路偏向面

G1、G1b、G1c：                                    第1透镜群

G2、G2b、G2c：                                    第2透镜群

G3、G3b、G3c：                                    第3透镜群

I1、I2、I3：  像场               IL1～IL7：       部分照明光学系统

IL3～IL7：    照明光学系统

L10、L16、L18、L20、L26：                         正弯月透镜

L11、L12、L14、L17、L21、L22、L24、L27、L28：     负弯月透镜

L13、L19、L23、L29：                              双凸透镜

L15、L25：    双凹透镜               M1：         光罩

M10～M16：    行图案部               P1：         板

PL：          投影光学装置           PL1～PL7：   投影光学系统

PL10、PL20：  反射折射光学系统       V1、V2、V3： 视场

β：          投影倍率

以下，参照图式，说明本发明的第1实施形态。本实施形态中，列举步进 扫描方式的扫描投影曝光装置为例加以说明，上述步进扫描方式的扫描投影曝光装置相对于包含多个反射折射型投影光学系统PL1～PL7的投影光学装置PL，使光罩M1与板P1于扫描方向上同步移动，从而将形成于光罩M1上的图案的像扫描曝光于板P1上，上述多个反射折射型投影光学系统PL1～PL7将光罩(第1物体)M1的图案的一部分，部分地投影至作为感光基板的外径大于500mm的板(第2物体)P1上。此处，所谓外形大于500mm，是指一边或对角线大于500mm。

又，以下的说明中，设定图1中所示的正交坐标系，一边参照该XYZ正交坐标系，一边说明各构件的位置关系。XYZ正交坐标系以X轴及Y轴相对于板P1成平行的方式而设定，Z轴设定于相对于板P1正交的方向上。对于图中的XYZ坐标系而言，实际上XY平面以与水平面平行的方式而设定，Z轴设定于垂直方向。又，本实施形态中，将使板P1移动的方向(扫描方向)设定为X方向。

具体实施方式

图1是表示本实施形态的扫描投影曝光装置的整体的概略构成的立体图。本实施形态的扫描投影曝光装置具备包含例如超高压水银灯(mercurylamp)光源构成的光源。自光源射出的光束由椭圆镜(elliptical mirror)2及分光镜(dichroic mirror)3反射后，射入准直透镜(Collimate lens)4。亦即，藉由椭圆镜2的反射膜及分光镜3的反射膜，取出包含g线(波长436nm)、h线(波长405nm)及i线(波长365nm)的光的波长带(wavelength band)的光，包含g、h、i线的光的波长带的光射入准直透镜4。又，光源配置于椭圆镜2的第1焦点位置，因此包含g、h、i线的光的波长带的光于椭圆镜2的第2焦点位置形成光源像。来自形成于椭圆镜2的第2焦点位置的光源像的发散光束藉由准直透镜4而变为平行光，且通过仅使规定的曝光波长带的光束通过的波长选择滤光片5。

通过波长选择滤光片5的光束通过中性密度滤光片(neutral densityfilter)6，并藉由聚光透镜7而于光纤(lightguide fiber)8的射入口8a的射入端聚集。此处，光纤8是例如随机地结合多条光纤心线而构成的随机光纤，具有射入口8a与7个射出口(以下，称为射出口8b、8c、8d、8e、8f、8g、8h)。射入光纤8的射入口8a的光束于光纤8的内部传播后，藉由7个射出口8b～8h分割而射出，分别射入部分地对光罩M1照明的7个部分照明光学系统(以下，称为部分照明光学系统IL1、IL2、IL3、IL4、IL5、IL6、IL7)。通过各部分照明光学系统IL1～IL7的光分别大致均一地对光罩M1照明。

来自光罩M1的照明区域、亦即与部分照明光学系统IL1～IL7对应的照明区域的光，分别射入7个投影光学系统(以下，称为投影光学系统PL1、PL2、PL3、PL4、PL5、PL6、PL7)，上述7个投影光学系统以与各照明区域对 应的方式而排列，且分别将光罩M1的图案的一部分的像投影至板P1上。通过投影光学系统PL1～PL7的光分别使光罩M1的图案像成像于板P1上。

此处，光罩M1藉由光罩固持器(mask holder)(未图示)而固定，且载置于光罩载物台(mask stage)(未图示)上。又，于光罩载物台上配置着激光干涉仪(laser interferometer)(未图示)，光罩载物台激光干涉仪用来测量及控制光罩载物台的位置。又，板P1藉由板固持器(未图示)而固定，且载置于板载物台(未图示)上。又，于板载物台上设置着移动镜50。自未图标的板载物台激光干涉仪射出的激光射入移动镜50，或由移动镜50反射。根据该经射入/反射的激光的干涉，以测量及控制板载物台的位置。

上述部分照明光学系统IL1、IL3、IL5、IL7于与扫描方向正交的方向上具有规定间隔，且作为第1行而配置于扫描方向的后方侧(第1方向侧)，与部分照明光学系统IL1、IL3、IL5、IL7相对应而设置的投影光学系统PL1、PL3、PL5、PL7亦同样于与扫描方向正交的方向上，具有规定间隔，且作为第1行而配置于扫描方向的后方侧(第1方向侧)。又，部分照明光学系统IL2、IL4、IL6于与扫描方向正交的方向上，具有规定间隔，且作为第2行而配置于扫描方向的前方侧(第2方向侧)，与部分照明光学系统IL2、IL4、IL6相对应而设置的投影光学系统PL2、PL4、PL6亦同样于与扫描方向正交的方向上，具有规定间隔，且作为第2行而配置于扫描方向的前方侧(第2方向侧)。

此处，第1行投影光学系统PL1、PL3、PL5、PL7分别具有沿着配置着光罩M1的第1面上的第1行的视场，且于配置着板P1的第2面上的第3行上，于扫描正交方向上具有规定间隔的像场(投影区域)中分别形成像。又，第2行投影光学系统PL2、PL4、PL6分别具有沿着配置着光罩M1的第1面上的第2行的视场，且于配置着板P1的第2面上的第4行上，于扫描正交方向上具有规定间隔的像场(投影区域)中分别形成像。

为了于第1行的投影光学系统与第2行的投影光学系统之间，进行板P1的位置对准，配置着偏向轴(off-axis)的对准(alignment)系统52，或为了使光罩M1及板P1的焦点(focus)对准，配置着自动对焦系统54。

图2是表示部分照明光学系统IL1、IL2及投影光学系统PL1、PL2的构成图。再者，部分照明光学系统IL3、IL5、IL7具有与部分照明光学系统IL1相同的构成，部分照明光学系统IL4、IL6具有与部分照明光学系统IL2相同的构成。又，投影光学系统PL3、PL5、PL7具有与投影光学系统PL1相同的构成，投影光学系统PL4、PL6具有与投影光学系统PL2相同的构成。

自光纤8的射出口8b射出的光束射入部分照明光学系统IL1，藉由配 置于射出口8b附近的准直透镜9b而聚集的光束射入作为光学积分器(optical integrator)的复眼透镜(fly eye lens)10b。来自形成于复眼透镜10b的后侧焦点面上的多个二次光源的光束，藉由聚光透镜(condenserlens)11b而大致均一地对光罩M1照明。又，藉由配置于射出口8c附近的准直透镜9c而聚集的光束，射入作为光学积分器的复眼透镜10c。来自形成于复眼透镜10c的后侧焦点面上的多个二次光源的光束，藉由聚光透镜11c而大致均一地对光罩M1照明。

投影光学系统PL1是如下的反射折射投影光学系统，即，将作为光罩M1上的视场内的放大像的一次像形成于板P1上的像场内，上述投影光学系统PL1的扫描方向(X轴方向)上的放大倍率超过+1倍，且扫描正交方向上的放大倍率低于-1。

投影光学系统PL1包括：凹面反射镜CCMb，配置于光罩M1与板P1之间的光路中；第1透镜群G1b，配置于光罩M1与凹面反射镜CCMb之间的光路中；第2透镜群G2b，配置于第1透镜群G1b与凹面反射镜CCMb之间的光路中；第1偏向构件FM1b，配置于第2透镜群G2b与板P1之间的光路中，且使自第2透镜群G2b向Z轴负方向前进的光偏向X轴负方向(第1方向)，以横切第1透镜群G1b的光轴；第2偏向构件FM2b，配置于第1偏向构件FM1b与板P1之间的光路中，且使自第1偏向构件FM1b向X轴负方向前进的光偏向Z轴负方向；以及第3透镜群G3b，配置于第2偏向构件FM2b与板P1之间的光路中，且具有与第1透镜群G1b的光轴大致平行的光轴。

此处，第1偏向构件FM1b与第2偏向构件FM2b可构成第1光束传送部，上述第1光束传送部将例如自第2透镜群G2b向Z轴正方向前进的光传送至X轴负方向(第1方向)后，使上述光沿着Z轴负方向前进。

此处，投影光学系统PL1中，以光罩M1与板P1的距离大于光罩M1与凹面反射镜CCMb的距离的方式，分别配置着凹面反射镜CCMb、第1透镜群G1b、第2透镜群G2b、第3透镜群G3b、第1偏向构件FM1b、以及第2偏向构件FM2b。又，具有构成第1透镜群G1b、第2透镜群G2b、以及第3透镜群G3b的折射能力的光学构件，以其光轴与重力方向平行的方式而配置着。又，投影光学系统PL1中，以板P1侧的距离大于光罩M1侧的距离的方式，配置着第1透镜群G1b、凹面反射镜CCMb、以及第3透镜群G3b。

再者，于凹面反射镜CCMb与第2透镜群G2b之间的光路中，亦即，凹面反射镜CCMb的反射面附近，具有用以规定投影光学系统PL1的板P1侧的孔径数的孔径光圈(aperture stop)ASb，孔径光圈ASb以光罩M1侧及板P1侧为大致是远心(telecentric)的方式而定位着。该孔径光圈ASb的位置可看作投影光学系统PL1的光瞳面。

又，投影光学系统PL1于将投影光学系统PL1的第1透镜群G1b的焦 点距离设为f1、将第3透镜群G3b的焦点距离设为f3、将投影光学系统PL1的倍率设为β时，满足

0.8×|β|≤f 3/f1≤1.25×|β|

|β|≥1.8。

投影光学系统PL2具有于扫描方向上与投影光学系统PL1对称地配置的构成，与投影光学系统PL1同样，也是如下所述的反射折射投影光学系统，即，将作为光罩M1上的视场内的放大像的一次像形成于板P1上的像场内，上述投影光学系统PL2的扫描方向(X轴方向)上的放大倍率超过+1倍，且扫描正交方向上的放大倍率低于-1。

投影光学系统PL2与投影光学系统PL1相同，具有凹面反射镜CCMc、第1透镜群G1c、第2透镜群G2c、第3透镜群G3c、第1偏向构件FM1c、第2偏向构件FM2c、以及孔径光圈ASb。

此处，第2投影光学系统PL2的第1偏向构件FM1c及第2偏向构件FM2c可以构成第2光束传送部，上述第2光束传送部将例如自第2透镜群G2c向Z轴正方向前进的光传送至X轴正方向(第2方向)后，使上述光沿着Z轴负方向前进。又，孔径光圈ASc的位置可以看作投影光学系统PL2的光瞳面。

投影光学系统PL1及投影光学系统PL2以如下方式而配置着，即，当将投影光学系统PL1及投影光学系统PL2的视场的中心彼此的扫描方向(X轴方向)上的间隔设为Dm、将投影光学系统PL1及第2投影光学系统PL2的像场的中心彼此的扫描方向(X轴方向)上的间隔设为Dp、将投影光学系统PL1及投影光学系统PL2的各投影倍率设为β时，满足

Dp＝Dm×|β|(其中，|β|＞1.8)。

并且，本例中，自Y方向观察，第1线(本例中相当于第1光束传送部的光轴)与第2线(本例中相当于第2光束传送部的光轴)彼此未重叠，上述第1线是连接第1投影光学系统PL1的视场与像场(投影区域)的线，上述第2线是连接第2投影光学系统PL2的视场与像场(投影区域)的线。

图3是表示本实施形态的扫描曝光装置中所使用的光罩M1的构成图。如图3所示，光罩M1具有沿着非扫描方向(Y轴方向)而配置的行图案部M10～M16。此处，行图案部M10中，定位着投影光学系统PL1的视场，行图案部M11中，定位着投影光学系统PL2的视场。同样，行图案部M12～M16中，分别定位着投影光学系统PL3～PL7的视场。

图4是用以说明作为第1行而配置的投影光学系统PL1、PL3及作为第2行而配置的投影光学系统PL2的视场及像场的状态图。投影光学系统PL1分别具有视场V1及像场I1，投影光学系统PL2分别具有视场V2及像场I2，投影光学系统PL3分别具有视场V3及像场I3。亦即，投影光学系统PL1 将光罩M1上的视场V1内的放大像形成于板P1上的像场I1内。同样，投影光学系统PL2将光罩M1上的视场V2内的放大像形成于板P1上的像场I2内，投影光学系统PL3将光罩M1上的视场V3内的放大像形成于板P1上的像场I3内。

于投影光学系统PL1的像场I1与投影光学系统PL2的像场I2之间、投影光学系统PL2的像场I2与投影光学系统PL3的像场I3之间，分别形成着连接部，但于板P1上藉由将形成连接部的光罩上的图案的端部形成为锯齿形等，可以于板P1上连续地形成图案。

本实施形态中，当将沿着第1及第2投影光学系统PL1、PL2的扫描方向的倍率设为β时，第1及第2投影光学系统PL1、PL2的视场的间隔(第1行与第2行的间隔)Dp与像场(投影区域)的间隔(第3行与第4行的间隔)Dm满足Dp＝|β|×Dm，因此，即使使用光罩M1，亦可以于板P1上连续地形成图案，上述光罩M1于图3所示的扫描方向上，使各行图案部M11～M16的端部对齐而使扫描方向上的大小最小化。

根据本实施形态的反射折射投影光学系统，以使具备具有折射能力的光学构件的第1透镜群、第2透镜群、以及第3透镜群的光轴与重力方向平行的方式而配置着，因此，即使于为了增大曝光区域，而使构成投影光学系统的透镜，亦即，构成第1透镜群、第2透镜群、以及第3透镜群的透镜大型化时，亦可以提供不会使透镜产生与光轴非对称的变形的高精度的反射折射投影光学系统。又，根据实施形态的反射折射投影光学系统，不会形成中间像，因此，可以简化光学的构成。

又，根据本发明的扫描曝光装置，具有不会使透镜产生与光轴非对称的变形的高精度的反射折射投影光学系统，因此，可以进行良好的曝光。又，反射折射投影光学系统具有放大倍率，因此，可以避免光罩的大型化，且可以实现光罩的制造成本的降低。

其次，说明本发明的第2实施形态的扫描曝光装置中所使用的照明光学系统及投影光学系统。再者，该第2实施形态的照明光学系统及投影光学系统，于第1实施形态的照明光学系统及投影光学系统的照明光学系统内配置着照明视场光圈。关于其它处，具有与第1实施形态的照明光学系统及投影光学系统相同的构成。因此，第2实施形态的说明中，省略与第1实施形态的照明光学系统及投影光学系统相同的构成的详细说明。又，该第2实施形态的照明光学系统及投影光学系统的说明中，对与第1实施形态的照明光学系统及投影光学系统相同的构成，附加与第1实施形态中所使用的符号相同的符号来进行说明。

图5是表示第2实施形态的照明光学系统及投影光学系统的构成图。再者，图5中，仅表示照明光学系统IL1、IL2及投影光学系统PL1、PL2，但照 明光学系统IL3～IL7及投影光学系统PL3～PL7亦具有相同构成。于与本实施形态的照明光学系统IL1的聚光透镜11b的射出侧的光罩M1成光学共轭的位置，配置着具有梯形或六边形孔径部的照明视场光圈12b，且于照明视场光圈12b与光罩M1之间的光路中，配置着成像光学系统13b。同样，于与照明光学系统IL2的聚光透镜11c的射出侧的光罩M1成光学共轭的位置，配置着照明视场光圈12c，且于照明视场光圈12c与光罩M1之间的光路中，配置着成像光学系统13c。

图6是用以说明于照明光学系统中配置着具有六边形孔径部的照明视场光圈时的投影光学系统PL1、PL3及投影光学系统PL2的视场及像场的状态的图。投影光学系统PL1分别具有六边形视场V1及像场I1，投影光学系统PL2分别具有六边形视场V2及像场I2，投影光学系统PL3分别具有六边形视场V3及像场I3。亦即，投影光学系统PL1将藉由照明视场光圈而规定了形状的光罩M1上的视场V1内的放大像形成于板P1上的像场I1内。同样，投影光学系统PL2将藉由照明视场光圈而规定了形状的光罩M1上的视场V2内的放大像形成于板P1上的像场I2内，投影光学系统PL3将光罩M1上的视场V3内的放大像形成于板P1上的像场I3内。

根据本实施形态的照明光学系统，无须如第1实施形态的扫描曝光装置般进行光罩图案的画面合成，即可以于板上良好地进行图案的非扫描方向上的合成。

其次，说明本发明的第3实施形态的扫描曝光装置中所使用的照明光学系统及投影光学系统。再者，该第3实施形态的照明光学系统及投影光学系统是于第1实施形态的照明光学系统及投影光学系统内，变更投影光学系统的构成。关于其它处，具有与第1实施形态的照明光学系统及投影光学系统相同的构成。因此，第3实施形态的说明中，省略与第1实施形态的照明光学系统及投影光学系统相同的构成的详细说明。又，该第3实施形态的照明光学系统及投影光学系统的说明中，对与第1实施形态的照明光学系统及投影光学系统相同的构成，附加与第1实施形态中所使用的符号相同的符号来进行说明。

图7是表示第3实施形态的照明光学系统及投影光学系统的构成的图。再者，图7中，仅表示照明光学系统IL1、IL2及投影光学系统PL1、PL2，但照明光学系统IL13～IL7及投影光学系统PL3～PL7亦具有相同构成。

本实施形态的投影光学系统PL1、PL2藉由投影光学装置而构成，上述投影光学装置具备形成光罩M1的中间像的第1成像光学系统14b、14c，以及使中间像与板P1成光学共轭的第2成像光学系统16b、16c。此处，上述各投影光学系统PL1、PL2的放大倍率以扫描方向上的放大倍率超过+1，且扫描正交方向上的放大倍率超过+1的方式而设定。即，上述各投影光学系 统PL1、PL2根据放大倍率，于第2面上形成第1面的正像(erected image)。

又，于第1成像光学系统14b、14c与第2成像光学系统16b、16c之间的光路中形成着中间像的位置上，配置着视场光圈15b、15c。此处，第2成像光学系统16b、16c具有与第1实施形态的投影光学系统PL1、PL2相同的构成。

根据本实施形态的投影光学系统，可以容易地进行视场光圈的配置，又，以投影光学系统的精度将视场光圈投影至板上，因此，可以进行高精度的投影。

其次，说明本发明的第4实施形态的扫描曝光装置中所使用的投影光学系统。再者，该第4实施形态的投影光学系统是于第1实施形态的投影光学系统中设置着光学特性调整机构。关于其它处，具有与第1实施形态的投影光学系统相同的构成。因此，第4实施形态的说明中，省略与第1实施形态的投影光学系统相同的构成的详细说明。又，该第4实施形态的投影光学系统的说明中，对与第1实施形态的投影光学系统相同的构成，附加与第1实施形态中所使用的符号相同的符号来进行说明。

图8是表示第4实施形态的投影光学系统的构成图。再者，图8中，仅表示投影光学系统PL1、PL2，但投影光学系统PL3～PL7亦具有相同构成。投影光学系统PL1、PL2于光罩M1与第1透镜群G1b、G1c之间的光路中，具有藉由楔状双层玻璃而构成的第1光学特性调整机构AD1b、AD1c。该第1光学特性调整机构AD1b、AD1c中，使双层玻璃沿着楔形角而移动，从而使玻璃厚度变化，藉此，可以调整焦点或像面倾斜。如此，本实施形态中，将第1光学特性调整机构AD1b、AD1c配置于反射折射光学系统的缩小侧(偏反射折射光学系统的孔径光圈位置的物体侧)的光路，因此，可以增大光学特性相对于调整机构的移动量的变化量。亦即，可以使调整机构的作用的灵敏度良好。而且，可以不增加调整机构的移动量范围(stroke，行程)，而扩大光学特性的调整范围。

又，投影光学系统PL1、PL2具备藉由第2光路偏向构件FM2b、FM2c的旋转机构而构成的第2光学特性调整机构AD2b、AD2c。该第2光学特性调整机构AD2b、AD2c可以藉由使具有第2光路偏向构件FM2b、FM2c的棱镜(prism mirror)旋转，来调整像的旋转。又，具备第3光学特性调整机构AD3b、AD3c，其由具有相同曲率的3个透镜群而构成。该第3光学特性调整机构AD3b、AD3c可以藉由使3个以相同曲率而构成的透镜群的中央部的透镜，于光罩M1与板P1间的垂直方向(上下方向)上移动，来调整倍率。又，具有由平行平板而构成的第4光学特性调整机构AD4b、AD4c。该第4光学特性调整机构AD4b、AD4c可以藉由使平行平板相对于光轴倾斜，来调整像位置。

本实施形态中，于凹面反射镜CCMb、CCMc与第2面之间的光路中，换言 之，即光瞳面与第2面之间的光路中，配置着光学特性调整机构AD2b、AD2c、AD3b、AD3c。该光路是投影光学系统中的放大倍率侧的光路，因此，具有如下优点：易于确保配置上述各光学特性调整机构的空间。

再者，上述第2实施形态中，将具有6边形孔径部的照明视场光圈配置于照明光学系统内，但代替上述情形，亦可以将具有圆弧状的照明视场光圈配置于照明光学系统内。图9是用以说明于照明光学系统中配置着具有圆弧状孔径部的照明视场光圈时，投影光学系统PL1、PL3及投影光学系统PL2的视场及像场的状态的图。投影光学系统PL1分别具有圆弧状视场V1及像场I1，投影光学系统PL2分别具有圆弧状视场V2及像场I 2，投影光学系统PL3分别具有圆弧状视场V3及像场I 3。亦即，投影光学系统PL1将藉由照明视场光圈而规定了形状的光罩M1上的圆弧状视场V1内的放大像，形成于板P1上的圆弧状像场I 1内。同样，投影光学系统PL2将藉由照明视场光圈而规定了形状的光罩M1上的圆弧状视场V2内的放大像形成于板P1上的圆弧状像场I2内，投影光学系统PL3将光罩M1上的圆弧状视场V3内的放大像形成于板P1上的圆弧状像场I3内。

又，上述第3实施形态中，第2成像光学系统16b、16c具有与第1实施形态的投影光学系统PL1、PL2相同的构成，但第1成像光学系统14b、14c，或第1成像光学系统14b、14c及第2成像光学系统16b、16c亦可以具有与第1实施形态的投影光学系统PL1、PL2相同的构成。

又，上述实施形态中，投影光学系统形成的像场的形状亦可以为例如梯形。像场为梯形时，较好的是，使梯形的下边(梯形中彼此平行的2边中较长的边)朝向光轴侧而配置。

又，上述实施形态中，具备放电灯作为光源，选择必要的g线(436nm)的光、h线(405nm)及i线(365nm)的光。然而，不限于此，使用如下各光时亦可以适用本发明，上述各光即，来自紫外线发光二极管(light-emitting diode，LED)的光，来自KrF准分子激光(excimerlaser)(248nm)或ArF准分子激光(193nm)的激光，固体激光的高频谐波(higher harmonic)，来自作为固体光源的紫外线半导体激光的激光。

又，本实施形态的扫描曝光装置中，可以于板(玻璃基板)上藉由形成规定的图案(电路图案、电极图案等)，来获得作为微元件的液晶显示元件。以下，参照图10的流程图，说明此时的方法的一例。图10中，图案形成步骤S401中，执行所谓光微影步骤，即，使用本实施形态的扫描曝光装置，将光罩的图案转印曝光于感光基板上。藉由该光微影步骤，于感光基板上形成包含多个电极等的规定图案。之后，已被曝光的基板藉由经过显影步骤、蚀刻步骤、光阻剥离步骤等各步骤，而于基板上形成规定图案，并进入下一个彩色滤光片形成步骤S402。

其次，于彩色滤光片形成步骤S402中形成彩色滤光片，上述彩色滤光片中，矩阵(matrix)状地排列着多个与R(Red，红色)、G(Green，绿色)、B(Blue，蓝色)相对应的3个点(dot)的组，或于水平扫描线方向上排列多个R、G、B的3根条纹(stripe)的滤光片的组。并且，于彩色滤光片形成步骤S402后，执行单元(cell)组装步骤S403。单元组装步骤S403中，使用具有于图案形成步骤S401而获得的规定图案的基板、以及于彩色滤光片形成步骤S402而获得的彩色滤光片等，以组装液晶面板(液晶单元(liquidcrystal cell))。单元组装步骤S403中，例如，于具有于图案形成步骤S401而获得的规定图案的基板、与于彩色滤光片形成步骤S402而获得的彩色滤光片之间，注入液晶，以制造液晶面板(液晶单元)。

之后，于模块组装步骤S404中，安装电路、背光源(back light)等各零件后，完成液晶显示元件，上述电路进行已组装的液晶面板(液晶单元)的显示动作。根据上述液晶显示元件的制造方法，使用本实施形态的扫描曝光装置，因此，可以低成本地制造液晶显示元件。

根据本发明的反射折射投影光学系统及反射折射光学装置，以具有折射能力的光学构件的第1透镜群、第2透镜群、以及第3透镜群的光轴与重力方向平行的方式而配置着，因此，即使为了增大曝光区域等，而使构成投影光学系统的透镜，亦即，构成第1透镜群、第2透镜群、以及第3透镜群的透镜大型化时，亦可提供不会使透镜产生与光轴非对称的变形的高精度的反射折射投影光学系统及反射折射光学装置，而且，可以进行良好的图案转印。

又，根据本发明的扫描曝光装置，可以藉由光束移相构件，使来自多个投影光学系统的多个视场的光束沿着第1方向，传送至相反方向，并导向多个投影区域，且可以适当地设定沿着此时的第1方向的视场间隔与投影区域间隔。因此，即使使用不同行的投影光学系统，亦可将图案良好地转印于板上。

又，根据本发明的扫描曝光装置，具备不会使透镜产生与光轴非对称的变形的高精度的反射折射投影光学系统及反射折射光学装置，因此，可以进行良好的曝光。又，反射折射投影光学系统及反射折射光学装置具有放大倍率，因此，可以避免光罩的大型化，且可以实现光罩的制造成本的降低。

又，根据本发明的微元件的制造方法，可以避免光罩的大型化的同时，使用大型基板来制造微元件，因此，可以低成本地制造微元件。

[实施例]

以下说明实施例1及实施例2。表1、表2表示实施例1、实施例2的反射折射光学系统PL10、PL20的光学构件的各种要素。表1、表2的光学 构件各种要素中，分别表示为：第1行(column)的面编号是沿着来自物体侧的光线前进方向的面的顺序，第2行是各面的曲率半径(mm)，第3行的面间隔是光轴上的面间隔(mm)，第4行是对光学构件的硝材的g线的折射率，第5行是对光学构件的硝材的h线的折射率，第6行是对光学构件的硝材的i线的折射率。

(实施例1)

如图11所示，反射折射光学系统PL10具备凹面反射镜CCM、第1透镜群G1、第2透镜群G2、第3透镜群G3、第1偏向构件FM1、以及第2偏向构件FM2。

此处第1透镜群G1包括凹面朝向光罩M 的正弯月透镜(positivemeniscus lens)L10、凹面朝向光罩M的负弯月透镜(negative meniscuslens)L11、以及凹面朝向光罩M的负弯月透镜L12。第2透镜群G2包括双凸透镜(biconvex lens)L13、凹面朝向光罩M的负弯月透镜L14、双凹透镜(biconcave lens)L15、以及凹面朝向光罩M的正弯月透镜L16。第3透镜群G3包括凹面朝向板P的负弯月透镜L17、凹面朝向板P的正弯月透镜L18、以及双凸透镜L19而构成。

表示实施例1的反射折射光学系统PL10的各种要素的值如下。

(各种要素)

投影倍率：2.4倍

像侧NA：0.05625

物体侧NA：0.135

像场：φ228mm

视场：φ95mm

条件式的对应值：f3/f1＝1430/600＝2.38

(表1)

(光学构件各种要素)

[表1]

men        r           d            n(g)         n(h)        n(i)

0)                32.96            1

1)    -1081.46    26.42      1.48032      1.48273      1.48677

2)    -120.73      3.71            1

3)    -132.13     17.85      1.59415      1.60086      1.61279

4)    -173.30      4.40            1

5)    -128.74     26.88      1.48032      1.48273      1.48677

6)    -149.88    180.44            1

7)     308.91     40.61      1.48032      1.48273      1.48677

8)    -347.21      2.97            1

9)    -324.77     10.83      1.46671      1.46964      1.47456

10)    -706.41    100.05            1

11)    -603.37      9.44      1.46671      1.46964      1.47456

12)     290.56     20.72            1

13)    -244.53     23.14      1.48032      1.48273      1.48677

14)    -183.91      2.27            1

15)    -819.71     -2.27           -1

16)    -183.91    -23.14     -1.48032     -1.48273     -1.48677

17)    -244.53    -20.72           -1

18)     290.56     -9.44     -1.46671     -1.46964     -1.47456

19)    -603.37   -100.05           -1

20)    -706.41    -10.83     -1.46671     -1.46964     -1.47456

21)    -324.77     -2.97           -1

22)    -347.21    -40.61     -1.48032     -1.48273     -1.48677

23)     308.91   -166.40           -1

24)         ∞    228.00            1

25)         ∞   -306.33           -1

26)    -478.14    -18.14     -1.59415     -1.60086     -1.61279

27)    -264.60    -49.69           -1

28)    -269.33    -53.60     -1.59415     -1.60086     -1.61279

29)    -351.63    -11.78           -1

30)    -607.19    -34.98     -1.48032     -1.48273     -1.48677

31)     1050.05   -95.25           -1

图12及图13表示反射折射光学系统PL10的像差图。此处，图12a表示球面像差，12b表示像面弯曲，12c表示畸变(distortion)像差，12d表示倍率色差，图13表示光线像差。如该多个图所示，反射折射光学系统PL20中，可以良好地修正像差。

(实施例2)

如图14所示，反射折射光学系统PL20具备凹面反射镜CCM、第1透镜群G1、第2透镜群G2、第3透镜群G3、第1偏向构件FM1、以及第2偏向构件FM2。

此处，第1透镜群G1包括凹面朝向光罩M的正弯月透镜L20、凹面朝向光罩M的负弯月透镜L21、以及凹面朝向光罩M的负弯月透镜L22。第2透镜群G2包括双凸透镜L23、凹面朝向光罩M的负弯月透镜L24、双凹透镜L25、以及凹面朝向光罩M的正弯月透镜L26。第3透镜群G3包括凹面朝向板P的负弯月透镜L27、凹面朝向板P的负弯月透镜L28、以及双凸透镜L29。

表示实施例2的反射折射光学系统PL20的各种要素的值如下。

(各种要素)

投影倍率：2.0倍

像侧NA：0.069

物体侧NA：0.138

像场：φ240mm

视场：φ120mm

条件式的对应值：f3/f1＝1321/642＝2.06

(表2)

(光学构件各种要素)

[表2]

men      r            d       n(g)            n(h)        n(i)

0)               33.20           1

1)   -4051.57    21.75     1.48032       1.48273      1.48677

2)    -175.17     2.28           1

3)    -174.54    29.84     1.59415       1.60086      1.61279

4)    -240.70     4.50           1

5)    -191.97    55.18     1.48032       1.48273      1.48677

6)    -212.24   281.83           1

7)     417.42    35.13     1.48032       1.48273      1.48677

8)    -551.98     4.15           1

9)    -483.59    13.52     1.46671       1.46964      1.47456

10)    -828.34   133.62           1

11)    -777.77     9.27     1.46671       1.46964      1.47456

12)     399.46    40.42           1

13)    -331.21    25.93     1.48032       1.48273      1.48677

14)    -250.69     5.80           1

15)   -1052.13    -5.80          -1

16)    -250.69   -25.93    -1.48032      -1.48273     -1.48677

17)    -331.21   -40.42          -1

18)     399.46    -9.27    -1.46671      -1.46964     -1.47456

19)    -777.77  -133.62          -1

20)    -828.34   -13.52    -1.46671      -1.46964     -1.47456

21)    -483.59    -4.15          -1

22)    -551.98   -35.13    -1.48032      -1.48273     -1.48677

23)     417.42  -270.00          -1

24)         ∞   290.00           1

25)         ∞  -204.04          -1

26)    -854.96   -30.05    -1.59415      -1.60086     -1.61279

27)    -535.59   -82.36          -1

28)    -332.43   -70.04    -1.59415      -1.60086     -1.61279

29)    -321.50   -18.77          -1

30)    -440.56   -36.04    -1.48032      -1.48273     -1.48677

31)    8692.01   -85.64          -1

图15及图16表示反射折射光学系统PL20的像差图。此处，图15a表示球面像差，15b表示像面弯曲，15c表示畸变像差，15d表示倍率色差，图16表示光线像差。如该多个图所示，反射折射光学系统PL20中，可以良好地修正像差。

再者，以上所说明的实施形态是为了易于理解本发明而揭示，而非是 为了限定本发明而揭示的内容。因此，实施形态中所揭示的各要素是亦包含属于本发明的技术范围的所有设计变更、或均等物的意旨。

又，本揭示与于2006年3月20日提出的日本专利申请案2006-76011号、及于2007年1月16日提出的日本专利申请案2007-6655号中所包含的主题相关联，此处，该揭示的所有内容作为参照事项而明白地编入。

本发明可以较佳地用于反射折射投影光学系统、反射折射光学装置、扫描曝光装置、以及使用该扫描曝光装置的微元件的制造方法，上述反射折射投影光学系统及反射折射光学装置将光罩(mask、reticle)等的像投影至基板等上，上述扫描曝光装置将第1物体的像投影曝光于第2物体上。

以上所述，仅是本发明的较佳实施例而已，并非对本发明作任何形式上的限制，虽然本发明已以较佳实施例揭露如上，然而并非用以限定本发明，任何熟悉本专业的技术人员，在不脱离本发明技术方案范围内，当可利用上述揭示的方法及技术内容作出些许的更动或修饰为等同变化的等效实施例，但是凡是未脱离本发明技术方案的内容，依据本发明的技术实质对以上实施例所作的任何简单修改、等同变化与修饰，均仍属于本发明技术方案的范围内。

Claims (20)

1.一种扫描曝光装置，其将配置于第1面上的第1物体与配置于第2面上的第2物体在扫描方向中同步移动，且使上述第1物体的像扫描曝光于上述第2物体上，其特征在于其包括：

第1投影光学系统，将上述第1面的第1视场的放大像形成至上述第2面上的第1投影区域内；以及

第2投影光学系统，将上述第1面的与上述第1视场不同的第2视场的放大像形成至上述第2面上的与上述第1投影区域不同的第2投影区域内，且

上述第1投影光学系统包括第1偏向构件，使与上述第1面正交的方向中进行的光偏向上述扫描方向的一侧；以及第2偏向构件，使由上述第1偏向构件而来之在上述扫描方向的一侧进行的光偏向上述正交的方向且导向上述第1投影区域，

上述第2投影光学系统包括第3偏向构件，使在上述正交的方向中进行的光偏向上述扫描方向的另一侧；以及第4偏向构件，使由上述第3偏向构件而来之在上述扫描方向的另一侧进行的光偏向上述正交的方向且导向上述第2投影区域，

当将上述扫描方向中的上述第1视场和上述第2视场的间隔设为Dm、将上述扫描方向中的上述第1投影区域和上述第2投影区域的间隔设为Dp、将上述第1及第2投影光学系统的倍率设为β时，满足

Dp＝|β|×Dm的关系。

2.根据权利要求1所述的扫描曝光装置，其特征在于所述的第1投影光学系统具备：

凹面反射镜，配置于上述第1面与上述第2面之间的光路中；

第1透镜群，配置于上述第1面与上述凹面反射镜之间的光路中；

第2透镜群，配置于上述第1透镜群与上述凹面反射镜之间的光路中；以及

第3透镜群，配置于上述第2偏向构件与上述第2面之间的光路中，且具有与上述第1透镜群的光轴大致平行的光轴，

上述第1偏向构件配置于上述第2透镜群与上述第2面之间的光路中，且使由上述第2透镜群而来之在上述正交的方向中进行的光偏向上述扫描方向的一侧；

上述第2投影光学系统具有与上述第1投影光学系统在上述扫描方向中对称配置的构成。

3.根据权利要求2所述的扫描曝光装置，其特征在于所述第1偏向构件使在上述正交的方向中进行的光偏向，以横切上述第1透镜群的光轴。

4.根据权利要求2所述的扫描曝光装置，其特征在于构成上述第1透镜群、上述第2透镜群、以及上述第3透镜群且具有折射能力的光学构件以其光轴与重力方向平行的方式而配置着。

5.根据权利要求2所述的扫描曝光装置，其特征在于上述第1投影光学系统在上述凹面反射镜的反射面的近旁具有孔径光圈。

6.根据权利要求5所述的扫描曝光装置，其特征在于上述孔径光圈以上述第1投影光学系统的上述第1面侧及上述第2面侧大致是远心的方式而定位着。

7.根据权利要求2所述的扫描曝光装置，其特征在于当将上述第1透镜群的焦点距离设为f1、将上述第3透镜群的焦点距离设为f3、将上述投影光学系统的倍率设为β时，满足

0.8×|β|≤f3/f1≤1.25×|β|

|β|≥1.8。

8.根据权利要求1所述的扫描曝光装置，其特征在于上述第1视场的放大像是该第1视场的一次像，且上述第2视场的放大像是该第2视场的一次像。

9.根据权利要求1所述的扫描曝光装置，其特征在于：

上述第1投影光学系统在与上述扫描方向正交的方向中以规定间隔而配置多个，且

上述第2投影光学系统在对上述第1投影光学系统而言为上述扫描方向的另一侧处、在上述正交的方向中以规定间隔而配置多个。

10.根据权利要求9所述的扫描曝光装置，其特征在于：

多个上述第1投影光学系统的多个上述第1视场配置在沿着与上述扫描方向正交的方向的第1行中，

多个上述第2投影光学系统的多个上述第2视场配置在沿着与上述扫描方向正交的方向的第2行中，

多个上述第1投影光学系统的多个上述第1投影区域配置在沿着与上述扫描方向正交的方向的第3行中，

多个上述第2投影光学系统的多个上述第2投影区域配置在沿着与上述扫描方向正交的方向的第4行中。

11.一种扫描曝光装置，其一边将配置于第1面上的第1物体的像投影至配置于第2面上的第2物体上，一边使上述第1物体的像与上述第2物体的位置关系在扫描方向上变化，一边将上述第1物体的图案转印曝光于上述第2物体上，其特征在于其包括：

第1投影光学系统，于上述第1面上具有第1视场，根据来自该第1视场的光，将上述第1物体的一部分放大像投影至第2面上的第1投影区域内；以及

第2投影光学系统，于上述第1面上具有第2视场，根据来自该第2视场的光，将上述第1物体的一部分放大像投影至第2面上的第2投影区域内，且

上述第1投影光学系统包括第1光束传送部，上述第1光束传送部沿着与连接上述第1面与上述第2面的轴线方向正交的第1方向，传送来自上述第1视场的光，自上述轴线方向观察，上述光导向位于上述第1视场的上述第1方向侧的上述第1投影区域，

上述第2投影光学系统包括第2光束传送部，上述第2光束传送部，沿着与上述第1方向相反方向的第2方向，传送来自上述第2视场的光，自上述轴线方向观察，上述光导向位于上述第2视场的上述第2方向侧的上述第2投影区域，

当将第1间隔设为Dm、将第2间隔设为Dp、将上述第1及第2投影光学系统的倍率设为β时，满足

Dp＝|β|×Dm

，其中第1间隔是沿着上述第1视场与上述第2视场的上述第1面上的上述扫描方向的间隔，第2间隔是沿着上述第1投影区域与上述第2投影区域的上述第2面上的上述扫描方向的间隔。

12.根据权利要求11所述的扫描曝光装置，其特征在于所述的第1投影光学系统的上述第1方向上的放大倍率以及上述第2投影光学系统的上述第2方向上的放大倍率超过+1。

13.根据权利要求11所述的扫描曝光装置，其特征在于与所述第1方向正交的第3方向上的上述第1投影光学系统的放大倍率以及与上述第2方向正交的第4方向上的上述第2投影光学系统的放大倍率低于-1。

14.根据权利要求11所述的扫描曝光装置，其特征在于从与所述扫描方向正交的方向观察，沿着上述第1方向连接上述第1视场区域与上述第1投影区域的第1线段、与沿着上述第2方向连接上述第2视场区域与上述第2投影区域的第2线段彼此未重叠。

15.根据权利要求11所述的扫描曝光装置，其特征在于所述第1光束传送部与上述第2光束传送部使射入至各个光束传送部的光的前进方向、与自各个光束传送部射出的光的前进方向彼此平行。

16.根据权利要求11所述的扫描曝光装置，其特征在于所述第1光束传送部与上述第2光束传送部分别包括多个反射面。

17.一种扫描曝光装置，其一边将配置在第1面上的第1物体的像投影至配置在第2面上的第2物体上，一边使上述第1物体的像与上述第2物体的位置关系在扫描方向上变化，一边将上述第1物体的图案转印曝光于上述第2物体上，

其特征在于其包括：

第1行投影光学系统，包括于第1行上分别具有视场的多个投影光学系统，上述第1行沿着横切上述扫描方向的方向，即，非扫描方向；以及

第2行投影光学系统，包括于与上述第1行不同的第2行上分别具有视场的多个投影光学系统，上述第2行是沿着上述非扫描方向的行，且

上述第1行投影光学系统于上述第2面的第3行上，形成与上述第1行投影光学系统的上述多个视场共轭的多个投影区域，

上述第2行投影光学系统于上述第2面的第4行上，形成与上述第2行投影光学系统的上述多个视场共轭的多个投影区域，

当将第1间隔设为Dm、将第2间隔设为Dp、将上述第1及第2投影光学系统的倍率设为β时，满足

Dp＝|β|×Dm    

，其中上述第1间隔是沿着上述第1行与上述第2行的上述第1面上的上述扫描方向的间隔，上述第2间隔是沿着上述第3行与上述第4行的上述第2面上的上述扫描方向的间隔。

18.根据权利要求11所述的扫描曝光装置，其特征在于所述第1方向与上述扫描方向大致平行。

19.根据权利要求1、11或17所述的扫描曝光装置，其中上述第2物体是外径大于500mm的感光基板。

20.一种微元件的制造方法，其特征在于包括：

曝光步骤，使用权利要求第1～19项中任一项所述的扫描曝光装置，将光罩图案曝光于感光基板上；以及

显影步骤，对已曝光有上述图案的上述感光基板进行显影。

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