TWI443378B - 反射折射投影光學系統、反射折射光學裝置、掃描曝光裝置以及微元件的製造方法 - Google Patents

Description

反射折射投影光學系統、反射折射光學裝置、掃描曝光裝置以及微元件的製造方法

本發明關於一種反射折射投影光學系統、反射折射光學裝置、掃描曝光裝置、以及使用該掃描曝光裝置的微元件的製造方法，上述反射折射投影光學系統將第1物體(光罩(mask)、標線片(reticle)等)的像投影至第2物體(基板等)上，上述掃描曝光裝置將第1物體的像投影曝光於第2物體上。

製造例如半導體元件或液晶顯示元件等時，使用投影曝光裝置，該投影曝光裝置利用投影光學系統，將光罩(reticle、photomask等)的圖案投影至塗敷著光阻(resist)的板(玻璃板(glass plate)或半導體晶圓等)上。先前多使用投影曝光裝置(步進式曝光機(stepper))，上述投影曝光裝置以分步重複(step and repeat)方式，將各個光罩的圖案一併曝光於板上的各曝光照射(shot)區域。近年來提出了步進掃描(Step and scan)方式的投影曝光裝置，上述步進掃描方式的投影曝光裝置代替使用1個大的投影光學系統，沿著掃描方向並以規定間隔，將具有相等倍率的小的多個部分投影光學系統配置為多列，且一邊對光罩及板進行掃描，一邊利用各部分投影光學系統將各個光罩的圖案曝光於板上。

近年來，板日益大型化，使用超過2m見方的板。此處，使用上述步進掃描方式的曝光裝置，於大型板上進行 曝光時，部分投影光學系統具有相等的倍率，因此，光罩亦大型化。亦必須維持光罩基板的平面性，從而光罩越大型化則其成本越高。又，為了形成通常的薄膜電晶體(thin film transistor，TFT)部，必須4~5層的光罩，因此須要巨大的成本。因此，提出了一種投影曝光裝置，其藉由將投影光學系統的倍率設為放大倍率，而減小光罩的大小(日本專利申請案公開平成11-265848號公報)。

上述投影曝光裝置中，多個投影光學系統的光罩上的光軸與板上的光軸實質上配置於相同位置。因此，存在如下問題：藉由不同列的投影光學系統而掃描曝光於板上的圖案彼此不相互連接。

又，為了於上述投影曝光裝置的投影光學系統中，增大曝光區域，必須使構成投影光學系統的透鏡大型化，但使透鏡大型化時，因保持透鏡而產生光軸非對稱的變形，或因重力而導致透鏡本身產生光軸非對稱的變形。

本發明的目的在於，使用多個投影光學系統，以掃描曝光方式，將光罩圖案的放大像形成於板等物體上時，進行良好的圖案轉印。又，本發明的其他目的在於，不會使透鏡中產生光軸非對稱的變形而進行良好的圖案轉印。

根據本發明的第1態樣，提供一種掃描曝光裝置，其一邊將配置於第1面上的第1物體的像投影至配置於第2面上的第2物體上，一邊使上述第1物體的像與上述第2物體的位置關係於掃描方向上變化，一邊將上述第1物體 的圖案轉印曝光於上述第2物體上，上述掃描曝光裝置的特徵在於包括第1投影光學系統以及第2投影光學系統，上述第1投影光學系統於上述第1面上具有第1視場，根據來自該第1視場的光，將上述第1物體的一部分放大像投影至第2面上的第1投影區域內，上述第2投影光學系統於上述第1面上具有第2視場，根據來自該第2視場的光，將上述第1物體的一部分放大像投影至第2面上的第2投影區域內，且上述第1投影光學系統包括第1光束傳送部，上述第1光束傳送部沿著與連接上述第1面與上述第2面的軸線方向交叉的第1方向，傳送來自上述第1視場的光，自上述軸線方向觀察，上述光導向位於上述第1視場的上述第1方向側的上述第1投影區域，上述第2投影光學系統包括第2光束傳送部，上述第2光束傳送部，沿著與上述第1方向相反方向的第2方向，傳送來自上述第2視場的光，自上述軸線方向觀察，上述光導向位於上述第2視場的上述第2方向側的上述第2投影區域，當將第1間隔設為Dm、將第2間隔設為Dp、將上述第1及第2投影光學系統的倍率設為β時，滿足Dp=β×Dm，其中第1間隔是沿著上述第1視場與上述第2視場的上述第1面上的上述掃描方向的間隔，第2間隔是沿著上述第1投影區域與上述第2投影區域的上述第2面上的上述掃描方向的間隔。

又，根據本發明的第2態樣，提供一種掃描曝光裝置，其一邊將第1物體的像投影至第2物體上，一邊使上述第 1物體的像與上述第2物體的位置關係於掃描方向上變化，一邊將上述第1物體的圖案轉印曝光於上述第2物體上，上述掃描曝光裝置的特徵在於包括第1列投影光學系統以及第2列投影光學系統，上述第1列投影光學系統包括於第1列上分別具有視場的多個投影光學系統，上述第1列沿著橫切上述掃描方向的方向，即，非掃描方向，上述第2列投影光學系統包括於與上述第1列不同的第2列上分別具有視場的多個投影光學系統，上述第2列是沿著上述非掃描方向的列；且上述第1列投影光學系統於上述第2面上的第3列上，形成與上述第1列投影光學系統的上述多個視場共軛的多個投影區域，上述第2列投影光學系統於上述第2面上的第4列上，形成與上述第2列投影光學系統的上述多個視場共軛的多個投影區域，當將第1間隔設為Dm、將第2間隔設為Dp、將上述第1及第2投影光學系統的倍率設為β時，滿足Dp=β×Dm，其中上述第1間隔是沿著上述第1列與上述第2列的上述第1面上的上述掃描方向的間隔，上述第2間隔是沿著上述第3列與上述第4列的上述第2面上的上述掃描方向的間隔。

根據本發明的第3態樣，提供一種反射折射投影光學系統，以放大的投影倍率，將配置於第1面上的第1物體的像形成於配置於第2面上的第2物體上，上述反射折射投影光學系統的特徵在於包括：凹面反射鏡，配置於上述第1面與上述第2面之間的光路中；第1透鏡群，配置於上述第1面與上述凹面反射鏡之間的光路中；第2透鏡群， 配置於上述第1透鏡群與上述凹面反射鏡之間的光路中；第1偏向構件，配置於上述第2透鏡群與上述第2面之間的光路中，且使光偏向，以橫切上述第1透鏡群的光軸；第2偏向構件，配置於上述第1偏向構件與上述第2物體之間的光路中；以及第3透鏡群，配置於上述第2偏向構件與上述第2面之間的光路中，且具有與上述第1透鏡群的光軸大致平行的光軸。

根據本發明的第4態樣，提供一種反射折射投影光學系統，以放大的投影倍率，將配置於第1面上的第1物體的像形成於配置於第2面上的第2物體上，上述反射折射投影光學系統的特徵在於包括：凹面反射鏡，配置於上述第1面與上述第2面之間的光路中；多個透鏡，配置於上述第1面與上述第2面之間的光路中；以及光學特性調整機構，配置於上述反射折射投影光學系統的光瞳位置與上述第2面之間。

根據本發明的第5態樣，提供一種反射折射光學裝置，包括形成上述第1面的中間像的第1成像光學系統、以及使上述中間像與上述第2面成光學共軛的第2成像光學系統，上述反射折射光學裝置的特徵在於：上述第1成像光學系統與上述第2成像光學系統的至少一個，藉由本發明的反射折射投影光學系統而構成。

根據本發明的第6態樣，提供一種掃描曝光裝置，其一邊使將第1面上的像投影至第2面上的投影裝置、與上述第1物體及上述第2物體的位置關係於掃描方向上變 化，一邊將上述第1物體的圖案轉印曝光於上述第2物體上，上述掃描曝光裝置的特徵在於：上述投影裝置包括第1投影光學裝置以及第2投影光學裝置，上述第1投影光學裝置於上述掃描方向上，定位於第1位置，上述第2投影光學裝置於上述掃描方向上，定位於與上述第1位置不同的第2位置，且上述第1及第2投影光學裝置包括本發明的反射折射投影光學系統或反射折射光學裝置。

根據本發明的第7態樣，提供一種微元件的製造方法，其特徵在於包括：曝光步驟，使用本發明的掃描曝光裝置，將光罩圖案曝光於感光基板上；以及顯影步驟，使經上述曝光步驟而曝光的上述感光基板顯影。

以下，參照圖式，說明本發明的第1實施形態。本實施形態中，列舉步進掃描方式的掃描投影曝光裝置為例加以說明，上述步進掃描方式的掃描投影曝光裝置相對於包含多個反射折射型投影光學系統PL1~PL7的投影光學裝置PL，使光罩M1與板P1於掃描方向上同步移動，從而將形成於光罩M1上的圖案的像掃描曝光於板P1上，上述多個反射折射型投影光學系統PL1~PL7將光罩(第1物體)M1的圖案的一部分，部分地投影至作為感光基板的外徑大於500mm的板(第2物體)P1上。此處，所謂外形大於500mm，是指一邊或對角線大於500mm。

又，以下的說明中，設定圖1中所示的正交座標系，一邊參照該XYZ正交座標系，一邊說明各構件的位置關 係。XYZ正交座標系以X軸及Y軸相對於板P1成平行的方式而設定，Z軸設定於相對於板P1正交的方向上。對於圖中的XYZ座標系而言，實際上XY平面以與水平面平行的方式而設定，Z軸設定於垂直方向。又，本實施形態中，將使板P1移動的方向(掃描方向)設定為X方向。

圖1是表示本實施形態的掃描投影曝光裝置的整體的概略構成的立體圖。本實施形態的掃描投影曝光裝置具備包含例如超高壓水銀燈(mercury lamp)光源構成的光源。自光源射出的光束由橢圓鏡(elliptical mirror)2及分光鏡(dichroic mirror)3反射後，射入準直透鏡(Collimate lens)4。亦即，藉由橢圓鏡2的反射膜及分光鏡3的反射膜，取出包含g線(波長436nm)、h線(波長405nm)及i線(波長365nm)的光的波長帶(wavelength band)的光，包含g、h、i線的光的波長帶的光射入準直透鏡4。又，光源配置於橢圓鏡2的第1焦點位置，因此包含g、h、i線的光的波長帶的光於橢圓鏡2的第2焦點位置形成光源像。來自形成於橢圓鏡2的第2焦點位置的光源像的發散光束藉由準直透鏡4而變為平行光，且透過僅使規定的曝光波長帶的光束透過的波長選擇濾光片5。

通過波長選擇濾光片5的光束通過中性密度濾光片(neutral density filter)6，並藉由聚光透鏡7而於光纖(lightguide fiber)8的射入口8a的射入端聚集。此處，光纖8是例如隨機地結合多條光纖心線而構成的隨機光纖，具有射入口8a與7個射出口(以下，稱為射出口8b、8c、 8d、8e、8f、8g、8h)。射入光纖8的射入口8a的光束於光纖8的內部傳播後，藉由7個射出口8b~8h分割而射出，分別射入部分地對光罩M1照明的7個部分照明光學系統(以下，稱為部分照明光學系統IL1、IL2、IL3、IL4、IL5、IL6、IL7)。通過各部分照明光學系統IL1~IL7的光分別大致均一地對光罩M1照明。

來自光罩M1的照明區域、亦即與部分照明光學系統IL1~IL7對應的照明區域的光，分別射入7個投影光學系統(以下，稱為投影光學系統PL1、PL2、PL3、PL4、PL5、PL6、PL7)，上述7個投影光學系統以與各照明區域對應的方式而排列，且分別將光罩M1的圖案的一部分的像投影至板P1上。透過投影光學系統PL1~PL7的光分別使光罩M1的圖案像成像於板P1上。

此處，光罩M1藉由光罩固持器(mask holder)(未圖示)而固定，且載置於光罩載物台(mask stage)(未圖示)上。又，於光罩載物臺上配置著雷射干涉儀(laser interferometer)(未圖示)，光罩載物台雷射干涉儀用來測量及控制光罩載物台的位置。又，板P1藉由板固持器(未圖示)而固定，且載置於板載物台(未圖示)上。又，於板載物臺上設置著移動鏡50。自未圖示的板載物台雷射干涉儀射出的雷射光射入移動鏡50，或由移動鏡50反射。根據該經射入/反射的雷射光的干涉，以測量及控制板載物台的位置。

上述部分照明光學系統IL1、IL3、IL5、IL7於與掃描 方向正交的方向上具有規定間隔，且作為第1列而配置於掃描方向的後方側(第1方向側)，與部分照明光學系統IL1、IL3、IL5、IL7相對應而設置的投影光學系統PL1、PL3、PL5、PL7亦同樣於與掃描方向正交的方向上，具有規定間隔，且作為第1列而配置於掃描方向的後方側(第1方向側)。又，部分照明光學系統IL2、IL4、IL6於與掃描方向正交的方向上，具有規定間隔，且作為第2列而配置於掃描方向的前方側(第2方向側)，與部分照明光學系統IL2、IL4、IL6相對應而設置的投影光學系統PL2、PL4、PL6亦同樣於與掃描方向正交的方向上，具有規定間隔，且作為第2列而配置於掃描方向的前方側(第2方向側)。

此處，第1列投影光學系統PL1、PL3、PL5、PL7分別具有沿著配置著光罩M1的第1面上的第1列的視場，且於配置著板P1的第2面上的第3列上，於掃描正交方向上具有規定間隔的像場(投影區域)中分別形成像。又，第2列投影光學系統PL2、PL4、PL6分別具有沿著配置著光罩M1的第1面上的第2列的視場，且於配置著板P1的第2面上的第4列上，於掃描正交方向上具有規定間隔的像場(投影區域)中分別形成像。

為了於第1列的投影光學系統與第2列的投影光學系統之間，進行板P1的位置對準，配置著偏向軸(off-axis)的對準(alignment)系統52，或為了使光罩M1及板P1的焦點(focus)對準，配置著自動對焦系統54。

圖2是表示部分照明光學系統IL1、IL2及投影光學系 統PL1、PL2的構成的圖。再者，部分照明光學系統IL3、IL5、IL7具有與部分照明光學系統IL1相同的構成，部分照明光學系統IL4、IL6具有與部分照明光學系統IL2相同的構成。又，投影光學系統PL3、PL5、PL7具有與投影光學系統PL1相同的構成，投影光學系統PL4、PL6具有與投影光學系統PL2相同的構成。

自光纖8的射出口8b射出的光束射入部分照明光學系統IL1，藉由配置於射出口8b附近的準直透鏡9b而聚集的光束射入作為光學積分器(optical integrator)的複眼透鏡(fly eye lens)10b。來自形成於複眼透鏡10b的後側焦點面上的多個二次光源的光束，藉由聚光透鏡(condenser lens)11b而大致均一地對光罩M1照明。又，藉由配置於射出口8c附近的準直透鏡9c而聚集的光束，射入作為光學積分器的複眼透鏡10c。來自形成於複眼透鏡10c的後側焦點面上的多個二次光源的光束，藉由聚光透鏡11c而大致均一地對光罩M1照明。

投影光學系統PL1是如下的反射折射投影光學系統，即，將作為光罩M1上的視場內的放大像的一次像形成於板P1上的像場內，上述投影光學系統PL1的掃描方向(X軸方向)上的放大倍率超過+1倍，且掃描正交方向上的放大倍率低於-1。

投影光學系統PL1包括：凹面反射鏡CCMb，配置於光罩M1與板P1之間的光路中；第1透鏡群G1b，配置於光罩M1與凹面反射鏡CCMb之間的光路中；第2透鏡群 G2b，配置於第1透鏡群G1b與凹面反射鏡CCMb之間的光路中；第1偏向構件FM1b，配置於第2透鏡群G2b與板P1之間的光路中，且使自第2透鏡群G2b向+Z軸方向前進的光偏向-X軸方向(第1方向)，以橫切第1透鏡群G1b的光軸；第2偏向構件FM2b，配置於第1偏向構件FM1b與板P1之間的光路中，且使自第1偏向構件FM1b向-X軸方向前進的光偏向-Z軸方向；以及第3透鏡群G3b，配置於第2偏向構件FM2b與板P1之間的光路中，且具有與第1透鏡群G1b的光軸大致平行的光軸。

此處，第1偏向構件FM1b與第2偏向構件FM2b可構成第1光束傳送部，上述第1光束傳送部將例如自第2透鏡群G2b向+Z軸方向前進的光傳送至-X軸方向(第1方向)後，使上述光沿著-Z軸方向前進。

此處，投影光學系統PL1中，以光罩M1與板P1的距離大於光罩M1與凹面反射鏡CCMb的距離的方式，分別配置著凹面反射鏡CCMb、第1透鏡群G1b、第2透鏡群G2b、第3透鏡群G3b、第1偏向構件FM1b、以及第2偏向構件FM2b。又，具有構成第1透鏡群G1b、第2透鏡群G2b、以及第3透鏡群G3b的折射能力的光學構件，以其光軸與重力方向平行的方式而配置著。又，投影光學系統PL1中，以板P1側的距離大於光罩M1側的距離的方式，配置著第1透鏡群G1b、凹面反射鏡CCMb、以及第3透鏡群G3b。

再者，於凹面反射鏡CCMb與第2透鏡群G2b之間的 光路中，亦即，凹面反射鏡CCMb的反射面附近，具有用以規定投影光學系統PL1的板P1側的數值孔徑(numerical aperature)的孔徑光圈(aperture stop)Asb，孔徑光圈ASb以光罩M1側及板P1側為大致是遠心(telecentric)的方式而定位著。該孔徑光圈ASb的位置可看作投影光學系統PL1的光瞳面。

又，投影光學系統PL1於將投影光學系統PL1的第1透鏡群G1b的焦點距離設為f1、將第3透鏡群G3b的焦點距離設為f3、將投影光學系統PL1的倍率設為β時，滿足0.8×|β|≦f3/f1≦1.25×|β| |β|≧1.8。

投影光學系統PL2具有於掃描方向上與投影光學系統PL1對稱地配置的構成，與投影光學系統PL1同樣，也是如下所述的反射折射投影光學系統，即，將作為光罩M1上的視場內的放大像的一次像形成於板P1上的像場內，上述投影光學系統PL2的掃描方向(X軸方向)上的放大倍率超過+1倍，且掃描正交方向上的放大倍率低於-1。

投影光學系統PL2與投影光學系統PL1相同，具有凹面反射鏡CCMc、第1透鏡群G1c、第2透鏡群G2c、第3透鏡群G3c、第1偏向構件FM1c、第2偏向構件FM2c、以及孔徑光圈ASc。

此處，第2投影光學系統PL2的第1偏向構件FM1c及第2偏向構件FM2c可以構成第2光束傳送部，上述第2光束傳送部將例如自第2透鏡群G2c向+Z軸方向前進的 光傳送至+X軸方向(第2方向)後，使上述光沿著-Z軸方向前進。又，孔徑光圈ASc的位置可以看作投影光學系統PL2的光瞳面。

投影光學系統PL1及投影光學系統PL2以如下方式而配置著，即，當將投影光學系統PL1及投影光學系統PL2的視場的中心彼此的掃描方向(X軸方向)上的間隔設為Dm、將投影光學系統PL1及第2投影光學系統PL2的像場的中心彼此的掃描方向(X軸方向)上的間隔設為Dp、將投影光學系統PL1及投影光學系統PL2的各投影倍率設為β時，滿足Dp=Dm×|β|(其中，|β|>1.8)。

並且，本例中，自Y方向觀察，第1線(本例中相當於第1光束傳送部的光軸)與第2線(本例中相當於第2光束傳送部的光軸)彼此未重疊，上述第1線是連接第1投影光學系統PL1的視場與像場(投影區域)的線，上述第2線是連接第2投影光學系統PL2的視場與像場(投影區域)的線。

圖3是表示本實施形態的掃描曝光裝置中所使用的光罩M1的構成的圖。如圖3所示，光罩M1具有沿著非掃描方向(Y軸方向)而配置的列圖案部M10~M16。此處，列圖案部M10中，定位著投影光學系統PL1的視場，列圖案部M11中，定位著投影光學系統PL2的視場。同樣，列圖案部M12~M16中，分別定位著投影光學系統PL3~PL7的視場。

圖4是用以說明作為第1列而配置的投影光學系統PL1、PL3及作為第2列而配置的投影光學系統PL2的視場及像場的狀態的圖。投影光學系統PL1分別具有視場V1及像場I1，投影光學系統PL2分別具有視場V2及像場I2，投影光學系統PL3分別具有視場V3及像場I3。亦即，投影光學系統PL1將光罩M1上的視場V1內的放大像形成於板P1上的像場I1內。同樣，投影光學系統PL2將光罩M1上的視場V2內的放大像形成於板P1上的像場I2內，投影光學系統PL3將光罩M1上的視場V3內的放大像形成於板P1上的像場I3內。

於投影光學系統PL1的像場I1與投影光學系統PL2的像場I2之間、投影光學系統PL2的像場I2與投影光學系統PL3的像場I3之間，分別形成著連接部，但於板P1上藉由將形成連接部的光罩上的圖案的端部形成為鋸齒形等，可以於板P1上連續地形成圖案。

本實施形態中，當將沿著第1及第2投影光學系統PL1、PL2的掃描方向的倍率設為β時，第1及第2投影光學系統PL1、PL2的視場的間隔(第1列與第2列的間隔)Dp與像場(投影區域)的間隔(第3列與第4列的間隔)Dm滿足Dp=β×Dm，因此，即使使用光罩M1，亦可以於板P1上連續地形成圖案，上述光罩M1於圖3所示的掃描方向上，使各列圖案部M11~M16的端部對齊而使掃描方向上的大小最小化。

根據本實施形態的反射折射投影光學系統，以使具備 具有折射能力的光學構件的第1透鏡群、第2透鏡群、以及第3透鏡群的光軸與重力方向平行的方式而配置著，因此，即使於為了增大曝光區域，而使構成投影光學系統的透鏡，亦即，構成第1透鏡群、第2透鏡群、以及第3透鏡群的透鏡大型化時，亦可以提供不會使透鏡產生與光軸非對稱的變形的高精度的反射折射投影光學系統。又，根據實施形態的反射折射投影光學系統，不會形成中間像，因此，可以簡化光學的構成。

又，根據本發明的掃描曝光裝置，具有不會使透鏡產生與光軸非對稱的變形的高精度的反射折射投影光學系統，因此，可以進行良好的曝光。又，反射折射投影光學系統具有放大倍率，因此，可以避免光罩的大型化，且可以實現光罩的製造成本的降低。

其次，說明本發明的第2實施形態的掃描曝光裝置中所使用的照明光學系統及投影光學系統。再者，該第2實施形態的照明光學系統及投影光學系統，於第1實施形態的照明光學系統及投影光學系統的照明光學系統內配置著照明視場光圈。關於其他處，具有與第1實施形態的照明光學系統及投影光學系統相同的構成。因此，第2實施形態的說明中，省略與第1實施形態的照明光學系統及投影光學系統相同的構成的詳細說明。又，該第2實施形態的照明光學系統及投影光學系統的說明中，對與第1實施形態的照明光學系統及投影光學系統相同的構成，附加與第1實施形態中所使用的符號相同的符號來進行說明。

圖5是表示第2實施形態的照明光學系統及投影光學系統的構成的圖。再者，圖5中，僅表示照明光學系統IL1、IL2及投影光學系統PL1、PL2，但照明光學系統IL3~IL7及投影光學系統PL3~PL7亦具有相同構成。於與本實施形態的照明光學系統IL1的聚光透鏡11b的射出側的光罩M1成光學共軛的位置，配置著具有梯形或六邊形孔徑部的照明視場光圈12b，且於照明視場光圈12b與光罩M1之間的光路中，配置著成像光學系統13b。同樣，於與照明光學系統IL2的聚光透鏡11c的射出側的光罩M1成光學共軛的位置，配置著照明視場光圈12c，且於照明視場光圈12c與光罩M1之間的光路中，配置著成像光學系統13c。

圖6是用以說明於照明光學系統中配置著具有六邊形孔徑部的照明視場光圈時的投影光學系統PL1、PL3及投影光學系統PL2的視場及像場的狀態的圖。投影光學系統PL1分別具有六邊形視場V1及像場I1，投影光學系統PL2分別具有六邊形視場V2及像場I2，投影光學系統PL3分別具有六邊形視場V3及像場I3。亦即，投影光學系統PL1將藉由照明視場光圈而規定了形狀的光罩M1上的視場V1內的放大像形成於板P1上的像場I1內。同樣，投影光學系統PL2將藉由照明視場光圈而規定了形狀的光罩M1上的視場V2內的放大像形成於板P1上的像場I2內，投影光學系統PL3將光罩M1上的視場V3內的放大像形成於板P1上的像場I3內。

根據本實施形態的照明光學系統，無須如第1實施形態的掃描曝光裝置般進行光罩圖案的畫面合成，即可以於板上良好地進行圖案的非掃描方向上的合成。

其次，說明本發明的第3實施形態的掃描曝光裝置中所使用的照明光學系統及投影光學系統。再者，該第3實施形態的照明光學系統及投影光學系統是於第1實施形態的照明光學系統及投影光學系統內，變更投影光學系統的構成。關於其他處，具有與第1實施形態的照明光學系統及投影光學系統相同的構成。因此，第3實施形態的說明中，省略與第1實施形態的照明光學系統及投影光學系統相同的構成的詳細說明。又，該第3實施形態的照明光學系統及投影光學系統的說明中，對與第1實施形態的照明光學系統及投影光學系統相同的構成，附加與第1實施形態中所使用的符號相同的符號來進行說明。

圖7是表示第3實施形態的照明光學系統及投影光學系統的構成的圖。再者，圖7中，僅表示照明光學系統IL1、IL2及投影光學系統PL1、PL2，但照明光學系統IL13~IL7及投影光學系統PL3~PL7亦具有相同構成。

本實施形態的投影光學系統PL1、PL2藉由投影光學裝置而構成，上述投影光學裝置具備形成光罩M1的中間像的第1成像光學系統14b、14c，以及使中間像與板P1成光學共軛的第2成像光學系統16b、16c。此處，上述各投影光學系統PL1、PL2的放大倍率以掃描方向上的放大倍率超過+1，且掃描正交方向上的放大倍率超過+1的方式 而設定。即，上述各投影光學系統PL1、PL2根據放大倍率，於第2面上形成第1面的正像(erected image)。

又，於第1成像光學系統14b、14c與第2成像光學系統16b、16c之間的光路中形成著中間像的位置上，配置著視場光圈15b、15c。此處，第2成像光學系統16b、16c具有與第1實施形態的投影光學系統PL1、PL2相同的構成。

根據本實施形態的投影光學系統，可以容易地進行視場光圈的配置，又，以投影光學系統的精度將視場光圈投影至板上，因此，可以進行高精度的投影。

其次，說明本發明的第4實施形態的掃描曝光裝置中所使用的投影光學系統。再者，該第4實施形態的投影光學系統是於第1實施形態的投影光學系統中設置著光學特性調整機構。關於其他處，具有與第1實施形態的投影光學系統相同的構成。因此，第4實施形態的說明中，省略與第1實施形態的投影光學系統相同的構成的詳細說明。又，該第4實施形態的投影光學系統的說明中，對與第1實施形態的投影光學系統相同的構成，附加與第1實施形態中所使用的符號相同的符號來進行說明。

圖8是表示第4實施形態的投影光學系統的構成的圖。再者，圖8中，僅表示投影光學系統PL1、PL2，但投影光學系統PL3~PL7亦具有相同構成。投影光學系統PL1、PL2於光罩M1與第1透鏡群G1b、G1c之間的光路中，具有藉由楔狀雙層玻璃而構成的第1光學特性調整機 構AD1b、AD1c。該第1光學特性調整機構AD1b、AD1c中，使雙層玻璃沿著楔形角而移動，從而使玻璃厚度變化，藉此，可以調整焦點或像面傾斜。如此，本實施形態中，將第1光學特性調整機構AD1b、AD1c配置於反射折射光學系統的縮小側(偏反射折射光學系統的孔徑光圈位置的物體側)的光路，因此，可以增大光學特性相對於調整機構的移動量的變化量。亦即，可以使調整機構的作用的靈敏度良好。而且，可以不增加調整機構的移動量範圍(行程(stroke))，而擴大光學特性的調整範圍。

又，投影光學系統PL1、PL2具備藉由第2光路偏向面S_FM2b、S_FM2c的旋轉機構而構成的第2光學特性調整機構AD2b、AD2c。該第2光學特性調整機構AD2b、AD2c可以藉由使具有第2光路偏向面S_FM2b、S_FM2c的稜鏡(prism mirror)旋轉，來調整像的旋轉。又，具備第3光學特性調整機構AD3b、AD3c，其由具有相同曲率的3個透鏡群而構成。該第3光學特性調整機構AD3b、AD3c可以藉由使3個以相同曲率而構成的透鏡群的中央部的透鏡，於光罩M1與板P1間的垂直方向(上下方向)上移動，來調整倍率。又，具有由平行平板而構成的第4光學特性調整機構AD4b、AD4c。該第4光學特性調整機構AD4b、AD4c可以藉由使平行平板相對於光軸傾斜，來調整像位置。

本實施形態中，於凹面反射鏡CCMb、CCMc與第2面之間的光路中，換言之，即光瞳面與第2面之間的光路中，配置著光學特性調整機構AD2b、AD2c、AD3b、AD3c。 該光路是投影光學系統中的放大倍率側的光路，因此，具有如下優點：易於確保配置上述各光學特性調整機構的空間。

再者，上述第2實施形態中，將具有6邊形孔徑部的照明視場光圈配置於照明光學系統內，但代替上述情形，亦可以將具有圓弧狀的照明視場光圈配置於照明光學系統內。圖9是用以說明於照明光學系統中配置著具有圓弧狀孔徑部的照明視場光圈時，投影光學系統PL1、PL3及投影光學系統PL2的視場及像場的狀態的圖。投影光學系統PL1分別具有圓弧狀視場V1及像場I1，投影光學系統PL2分別具有圓弧狀視場V2及像場I2，投影光學系統PL3分別具有圓弧狀視場V3及像場I3。亦即，投影光學系統PL1將藉由照明視場光圈而規定了形狀的光罩M1上的圓弧狀視場V1內的放大像，形成於板P1上的圓弧狀像場I1內。同樣，投影光學系統PL2將藉由照明視場光圈而規定了形狀的光罩M1上的圓弧狀視場V2內的放大像形成於板P1上的圓弧狀像場I2內，投影光學系統PL3將光罩M1上的圓弧狀視場V3內的放大像形成於板P1上的圓弧狀像場I3內。

又，上述第3實施形態中，第2成像光學系統16b、16c具有與第1實施形態的投影光學系統PL1、PL2相同的構成，但第1成像光學系統14b、14c，或第1成像光學系統14b、14c及第2成像光學系統16b、16c亦可以具有與第1實施形態的投影光學系統PL1、PL2相同的構成。

又，上述實施形態中，投影光學系統形成的像場的形狀亦可以為例如梯形。像場為梯形時，較好的是，使梯形的下邊(梯形中彼此平行的2邊中較長的邊)朝向光軸側而配置。

又，上述實施形態中，具備放電燈作為光源，選擇必要的g線(436nm)的光、h線(405nm)及i線(365nm)的光。然而，不限於此，使用如下各光時亦可以適用本發明，上述各光即，來自紫外線發光二極體(light-emitting diode，LED)的光，來自KrF準分子雷射(excimer laser)(248nm)或ArF準分子雷射(193nm)的雷射光，固體雷射的高頻諧波(higher harmonic)，來自作為固體光源的紫外線半導體雷射的雷射光。

又，本實施形態的掃描曝光裝置中，可以於板(玻璃基板)上藉由形成規定的圖案(電路圖案、電極圖案等),來獲得作為微元件的液晶顯示元件。以下，參照圖10的流程圖，說明此時的方法的一例。圖10中，圖案形成步驟S401中，執行所謂光微影步驟，即，使用本實施形態的掃描曝光裝置，將光罩的圖案轉印曝光於感光基板上。藉由該光微影步驟，於感光基板上形成包含多個電極等的規定圖案。之後，已被曝光的基板藉由經過顯影步驟、蝕刻步驟、光阻剝離步驟等各步驟，而於基板上形成規定圖案，並進入下一個彩色濾光片形成步驟S402。

其次，於彩色濾光片形成步驟S402中形成彩色濾光片，上述彩色濾光片中，矩陣(matrix)狀地排列著多個 與R(Red，紅色)、G(Green，綠色)、B(Blue，藍色)相對應的3個點(dot)的組，或於水平掃描線方向上排列多個R、G、B的3根條紋(stripe)的濾光片的組。並且，於彩色濾光片形成步驟S402後，執行單元(cell)組裝步驟S403。單元組裝步驟S403中，使用具有於圖案形成步驟S401而獲得的規定圖案的基板、以及於彩色濾光片形成步驟S402而獲得的彩色濾光片等，以組裝液晶面板(液晶單元(liquid crystal cell))。單元組裝步驟S403中，例如，於具有於圖案形成步驟S401而獲得的規定圖案的基板、與於彩色濾光片形成步驟S402而獲得的彩色濾光片之間，注入液晶，以製造液晶面板(液晶單元)。

之後，於模組組裝步驟S404中，安裝電路、背光源(back light)等各零件後，完成液晶顯示元件，上述電路進行已組裝的液晶面板(液晶單元)的顯示動作。根據上述液晶顯示元件的製造方法，使用本實施形態的掃描曝光裝置，因此，可以低成本地製造液晶顯示元件。

根據本發明的反射折射投影光學系統及反射折射光學裝置，以具有折射能力的光學構件的第1透鏡群、第2透鏡群、以及第3透鏡群的光軸與重力方向平行的方式而配置著，因此，即使為了增大曝光區域等，而使構成投影光學系統的透鏡，亦即，構成第1透鏡群、第2透鏡群、以及第3透鏡群的透鏡大型化時，亦可提供不會使透鏡產生與光軸非對稱的變形的高精度的反射折射投影光學系統及反射折射光學裝置，而且，可以進行良好的圖案轉印。

又，根據本發明的掃描曝光裝置，可以藉由光束移向構件，使來自多個投影光學系統的多個視場的光束沿著第1方向，傳送至相反方向，並導向多個投影區域，且可以適當地設定沿著此時的第1方向的視場間隔與投影區域間隔。因此，即使使用不同列的投影光學系統，亦可將圖案良好地轉印於板上。

又，根據本發明的掃描曝光裝置，具備不會使透鏡產生與光軸非對稱的變形的高精度的反射折射投影光學系統及反射折射光學裝置，因此，可以進行良好的曝光。又，反射折射投影光學系統及反射折射光學裝置具有放大倍率，因此，可以避免光罩的大型化，且可以實現光罩的製造成本的降低。

又，根據本發明的微元件的製造方法，可以避免光罩的大型化的同時，使用大型基板來製造微元件，因此，可以低成本地製造微元件。

[實施例]

以下說明實施例1及實施例2。表1、表2表示實施例1、實施例2的反射折射光學系統PL10、PL20的光學構件的各種要素。表1、表2的光學構件各種要素中，分別表示為：第1欄位(column)的面編號是沿著來自物體側的光線前進方向的面的順序，第2欄位是各面的曲率半徑(mm)，第3欄位的面間隔是光軸上的面間隔(mm)，第4欄位是對光學構件的硝材的g線的折射率，第5欄位是對光學構件的硝材的h線的折射率，第6欄位是對光學構 件的硝材的i線的折射率。

(實施例1)

如圖11所示，反射折射光學系統PL10具備凹面反射鏡CCM、第1透鏡群G1、第2透鏡群G2、第3透鏡群G3、第1偏向構件FM1、以及第2偏向構件FM2。

此處第1透鏡群G1包括凹面朝向光罩M的正彎月透鏡(positive meniscus lens)L10、凹面朝向光罩M的負彎月透鏡(negative meniscus lens)L11、以及凹面朝向光罩M的負彎月透鏡L12。第2透鏡群G2包括雙凸透鏡(biconvex lens)L13、凹面朝向光罩M的負彎月透鏡L14、雙凹透鏡(biconcave lens)L15、以及凹面朝向光罩M的正彎月透鏡L16。第3透鏡群G3包括凹面朝向板P的負彎月透鏡L17、凹面朝向板P的正彎月透鏡L18、以及雙凸透鏡L19而構成。

表示實施例1的反射折射光學系統PL10的各種要素的值如下。

(各種要素)

投影倍率：2.4倍

像側NA：0.05625

物體側NA：0.135

像場：φ228mm

視場：φ95mm

條件式的對應值：f3/f1=1430/600=2.38

圖12及圖13表示反射折射光學系統PL10的像差圖。此處，圖12(a)表示球面像差，(b)表示像面彎曲，(c)表示畸變(distortion)像差，(d)表示倍率色差，圖13表示光線像差。如該等圖所示，反射折射光學系統PL10中，可以良好地修正像差。

(實施例2)

如圖14所示，反射折射光學系統PL20具備凹面反射鏡CCM、第1透鏡群G1、第2透鏡群G2、第3透鏡群G3、第1偏向構件FM1、以及第2偏向構件FM2。

此處，第1透鏡群G1包括凹面朝向光罩M的正彎月透鏡L20、凹面朝向光罩M的負彎月透鏡L21、以及凹面朝向光罩M的負彎月透鏡L22。第2透鏡群G2包括雙凸透鏡L23、凹面朝向光罩M的負彎月透鏡L24、雙凹透鏡L25、以及凹面朝向光罩M的正彎月透鏡L26。第3透鏡群G3包括凹面朝向板P的負彎月透鏡L27、凹面朝向板P的負彎月透鏡L28、以及雙凸透鏡L29。

表示實施例2的反射折射光學系統PL20的各種要素的值如下。

(各種要素)

投影倍率：2.0倍

像側NA：0.069

物體側NA：0.138

像場：φ240mm

視場：φ120mm

條件式的對應值：f3/f1=1321/642=2.06

圖15及圖16表示反射折射光學系統PL20的像差圖。此處，圖15(a)表示球面像差，(b)表示像面彎曲，(c)表示畸變像差，(d)表示倍率色差，圖16表示光線像差。如該等圖所示，反射折射光學系統PL20中，可以良好地修正像差。

再者，以上所說明的實施形態是為了易於理解本發明 而揭示，而非是為了限定本發明而揭示的內容。因此，實施形態中所揭示的各要素是亦包含屬於本發明的技術範圍的所有設計變更、或均等物的意旨。

又，本揭示與於2006年3月20日提出的日本專利申請案2006-76011號、及於2007年1月16日提出的日本專利申請案2007-6655號中所包含的主題相關聯，此處，該揭示的所有內容作為參照事項而明白地編入。

[產業上的可利用性]

本發明可以較佳地用於反射折射投影光學系統、反射折射光學裝置、掃描曝光裝置、以及使用該掃描曝光裝置的微元件的製造方法，上述反射折射投影光學系統及反射折射光學裝置將光罩(mask、reticle)等的像投影至基板等上，上述掃描曝光裝置將第1物體的像投影曝光於第2物體上。

2‧‧‧橢圓鏡

3‧‧‧分光鏡

4、9b、9c‧‧‧準直透鏡

5‧‧‧波長選擇濾光片

6‧‧‧中性密度濾光片

7、11b、11c‧‧‧聚光透鏡

8‧‧‧光纖

8a‧‧‧射入口

8b~8h‧‧‧射出口

10b、10c‧‧‧複眼透鏡

12b、12c‧‧‧照明視場光圈

13b、13c‧‧‧成像光學系統

14b、14c‧‧‧第1成像光學系統

15b、15c‧‧‧視場光圈

16b、16c‧‧‧第2成像光學系統

50‧‧‧移動鏡

52‧‧‧對準系統

54‧‧‧自動對焦系統

AD1b、AD1c‧‧‧第1光學特性調整機構

AD2b、AD2c‧‧‧第2光學特性調整機構

AD3b、AD3c‧‧‧第3光學特性調整機構

AD4b、AD4c‧‧‧第4光學特性調整機構

ASb‧‧‧孔徑光圈

CCM、CCMb、CCMc‧‧‧凹面反射鏡

Dm、Dp‧‧‧間隔

FM1、FM1b、FM1c‧‧‧第1偏向構件

FM2、FM2b、FM2c‧‧‧第2偏向構件

S_FM2b、S_FM2c‧‧‧第2光路偏向面

G1、G1b、G1c‧‧‧第1透鏡群

G2、G2b、G2c‧‧‧第2透鏡群

G3、G3b、G3c‧‧‧第3透鏡群

I1、I2、I3‧‧‧像場

IL1~IL7‧‧‧部分照明光學系統

IL3~IL7‧‧‧照明光學系統

L10、L16、L18、L20、L26‧‧‧正彎月透鏡

L11、L12、L17、L21、L22、L24、L27、L28‧‧‧負彎月透鏡

L13、L19、L23、L29‧‧‧雙凸透鏡

L15、L25‧‧‧雙凹透鏡

M1‧‧‧光罩

M10~M16‧‧‧列圖案部

P1‧‧‧板

PL‧‧‧投影光學裝置

PL1~PL7‧‧‧投影光學系統

PL10、PL20‧‧‧反射折射光學系統

V1、V2、V3‧‧‧視場

β‧‧‧投影倍率

S401、S402、S403、S404‧‧‧步驟

圖1是表示第1實施形態的掃描曝光裝置的構成的圖。

圖2是表示第1實施形態的照明光學系統及投影光學系統的構成的圖。

圖3是表示實施形態的掃描曝光裝置中所使用的光罩的圖。

圖4是表示第1實施形態的投影光學系統的視場及像場的圖。

圖5是表示第2實施形態的照明光學系統及投影光學系統的構成的圖。

圖6是表示第2實施形態的投影光學系統的視場及像場的圖。

圖7是表示第3實施形態的照明光學系統及投影光學系統的構成的圖。

圖8是表示第4實施形態的投影光學系統的構成的圖。

圖9是表示配置了照明視場光圈時的投影光學系統的視場及像場的圖，上述照明視場光圈於照明光學系統內具有圓弧狀孔徑。

圖10是用以說明實施形態的微元件的製造方法的流程圖。

圖11是表示第1實施例的投影光學系統的構成的圖。

圖12是第1實施例的投影光學系統的像差圖。

圖13是第1實施例的投影光學系統的像差圖。

圖14是表示第2實施例的投影光學系統的構成的圖。

圖15是第2實施例的投影光學系統的像差圖。

圖16是第2實施例的投影光學系統的像差圖。

2‧‧‧橢圓鏡

3‧‧‧分光鏡

4‧‧‧準直透鏡

5‧‧‧波長選擇濾光片

6‧‧‧中性密度濾光片

7‧‧‧聚光透鏡

8‧‧‧光纖

8a‧‧‧射入口

8b~8h‧‧‧射出口

50‧‧‧移動鏡

52‧‧‧對準系統

54‧‧‧自動對焦系統

IL1~IL7‧‧‧部分照明光學系統

M1‧‧‧光罩

P1‧‧‧板

PL‧‧‧投影光學裝置

PL1~PL7‧‧‧投影光學系統

Claims (44)

1. 一種掃描曝光裝置，使配置於第1面上的第1物體與配置於第2面上的第2物體在掃描方向上同步移動，將該第1物體的像投影曝光於該第2物體上，其特徵在於，上述掃描曝光裝置包括：第1投影光學系統，把該第1面的第1視場的放大像，形成至該第2面上的第1投影區域內；以及第2投影光學系統，把與該第1面的該第1視場不同的第2視場的放大像，形成至與該第2面上的該第1投影區域不同的第2投影區域，其中該第1投影光學系統包括第1光束傳送部，把從該第1視場發出的沿與該第1面正交的方向行進的光，傳送到該掃描方向的一側，並使已傳送到該一側的光沿著與該第1面正交的方向行進，並引導往該第1投影區域，且該第2投影光學系統包括第2光束傳送部，把從該第2視場發出的沿與該第1面正交的方向行進的光，傳送到該掃描方向的另一側，並使已傳送到該另一側的光沿著與該第1面正交的方向行進，並引導往該第2投影區域。
2. 如申請專利範圍第1項所述之掃描曝光裝置，其中該第1光束傳送部包括：第1偏向構件，把沿著與該第1面正交的方向行進的光偏向到該掃描方向的一側；第2偏向構件，把從該第1偏向構件而來的往該掃描方向的一側行進的光，沿著與該第1面正交的方向行進並 引導往該第1投影區域，且其中該第2光束傳送部包括：第3偏向構件，把沿著與該第1面正交的方向行進的光偏向到該掃描方向的另一側；第4偏向構件，把從該第3偏向構件而來的往該掃描方向的另一側行進的光，沿著與該第1面正交的方向行進並引導往該第2投影區域。
3. 如申請專利範圍第2項所述之掃描曝光裝置，其特徵在於該第1投影光學系統包括：凹面反射鏡，配置於上述第1面與上述第2面之間的光路中；第1透鏡群，配置於上述第1面與上述凹面反射鏡之間的光路中；第2透鏡群，配置於上述第1透鏡群與上述凹面反射鏡之間的光路中；以及第3透鏡群，配置於該第2偏向構件與該第2面之間的光路，且具有與該第1透鏡群略平行的光軸，其中該第1偏向構件，配置於上述第2透鏡群與上述第2面之間的光路中，以使從該第2透鏡群而來的沿著與該第1面正交的方向往該第1面側行進的光，偏向到掃描方向的一側，且其中該第2偏向構件，配置於上述第1偏向構件與上述第2面之間的光路中，以使從該第1偏向構件而來的在該掃描方向的一側行進的光，沿著與該第1面正交的方向 偏向到該第2面側。
4. 如申請專利範圍第3項所述之掃描曝光裝置，其中該第1偏向構件，把沿著與該第1面正交的方向行進的光，以橫切上述第1透鏡群的光軸的方式進行偏向。
5. 如申請專利範圍第3項所述之掃描曝光裝置，其中分別構成該第1透鏡群、該第2透鏡群、以及該第3透鏡群的具有折射能力的光學構件，是以其光軸與重力方向平行的方式而配置著。
6. 如申請專利範圍第1項所述之掃描曝光裝置，其中該第2投影光學系統包括在該掃描方向與該第1投影光學系統呈對稱配置的構成。
7. 如申請專利範圍第1項所述之掃描曝光裝置，其中該第1投影區域所形成的該第1視場的放大像是該第1視場的一次像，且該2投影區域所形成的該第2視場的放大像是該第2視場的一次像。
8. 如申請專利範圍第1項所述之掃描曝光裝置，其中當將該掃描方向的該第1視場與該第2視場的間隔設為Dm、將該掃描方向的該第1投影區域與該第2投影區域的間隔設為Dp、將該第1投影光學系統及該第2投影光學系統的各個倍率設為β時，滿足Dp=| β |×Dm。
9. 如申請專利範圍第3項所述之掃描曝光裝置，包括孔徑光圈，配置於上述凹面反射鏡的反射面附近。
10. 如申請專利範圍第9項所述之掃描曝光裝置，其中 該孔徑光圈以與該第1投影光學系統的上述第1面側及上述第2面側大致是遠心的方式而定位著。
11. 如申請專利範圍第3項所述之掃描曝光裝置，其中當將上述第1透鏡群的焦點距離設為f1、將上述第3透鏡群的焦點距離設為f3、將上述第1投影光學系統的倍率設為β時，滿足0.8×|β|≦f3/f1≦1.25×|β| |β|≧1.8。
12. 如申請專利範圍第1項所述之掃描曝光裝置，其中該第1投影區域、與該第2投影區域，是在與該掃描方向正交的掃描正交方向上連續。
13. 如申請專利範圍第1項所述之掃描曝光裝置，其中該第1投影光學系統，在與該掃描方向正交的掃描正交方向以規定間隔而設有多個，且該第2投影光學系統，相對於該第1投影光學系統，在該掃描方向的另一側，在該掃描正交方向以規定間隔而設有多個。
14. 如申請專利範圍第13項所述之掃描曝光裝置，其中：該多個第1投影光學系統的該多個第1視場，是配置在沿著該掃描正交方向的第1列；該多個第2投影光學系統的該多個第2視場，是配置在沿著該掃描正交方向的第2列；該多個第1投影光學系統的該多個第1投影區域，是 配置在沿著該掃描正交方向的第3列；該多個第2投影光學系統的該多個第2投影區域，是配置在沿著該掃描正交方向的第4列。
15. 一種掃描曝光裝置，一邊將配置於第1面上的第1物體的像投影至配置於第2面上的第2物體上，一邊使上述第1物體的像與上述第2物體的位置關係於掃描方向上變化，一邊將上述第1物體的圖案轉印曝光於上述第2物體上，上述掃描曝光裝置的特徵在於包括：第1投影光學系統，於上述第1面上具有第1視場，根據來自該第1視場的光，將上述第1物體的一部分放大像投影至該第2面上的第1投影區域內；以及第2投影光學系統，於上述第1面上具有第2視場，根據來自該第2視場的光，將上述第1物體的一部分放大像投影至該第2面上的第2投影區域內，其中上述第1投影光學系統包括第1光束傳送部，上述第1光束傳送部沿著與連接上述第1面與上述第2面的軸線方向交叉的第1方向，傳送來自上述第1視場的光，並導向從上述軸線方向觀察位於上述第1視場的上述第1方向側的上述第1投影區域，且上述第2投影光學系統包括第2光束傳送部，上述第2光束傳送部，沿著與上述第1方向相反的第2方向，傳送來自上述第2視場的光，並導向從上述軸線方向觀察位於上述第2視場的上述第2方向側的上述第2投影區域。
16. 如申請專利範圍第15項所述之掃描曝光裝置，其中當將該第1視場與該第2視場於該第1面的沿著該掃描方向的間隔作為第1間隔而設為Dm、將該第1投影區域與該第2投影區域於該第2面的沿著該掃描方向的間隔作為第2間隔而設為Dp、將上述第1及第2投影光學系統的倍率設為β時，滿足Dp=| β |×Dm。
17. 如申請專利範圍第15項所述之掃描曝光裝置，其中：上述第1投影光學系統的上述第1方向上的放大倍率、以及上述第2投影光學系統的上述第2方向上的放大倍率超過+1。
18. 如申請專利範圍第15項所述之掃描曝光裝置，其中：與上述第1方向正交的第3方向上的上述第1投影光學系統的放大倍率、以及與上述第2方向正交的第4方向上的上述第2投影光學系統的放大倍率低於-1。
19. 如申請專利範圍第15項所述之掃描曝光裝置，其中沿著上述第1方向連接上述第1視場區域與上述第1投影區域的第1線段、與沿著上述第2方向連接上述第2視場區域與上述第2投影區域的第2線段，自與上述掃描方向正交的方向觀察彼此未重疊。
20. 如申請專利範圍第15項所述之掃描曝光裝置，其中上述第1光束傳送部與上述第2光束傳送部使射入至各個光束傳送部的光的前進方向、與自各個光束傳送部射出的光的前進方向彼此平行。
21. 如申請專利範圍第15項所述之掃描曝光裝置，其中上述第1光束傳送部與上述第2光束傳送部分別包括多個反射面。
22. 一種掃描曝光裝置，一邊將配置於第1面的第1物體的像投影至配置於第2面的第2物體上，一邊使上述第1物體的像與上述第2物體的位置關係於掃描方向上變化，一邊將上述第1物體的圖案轉印曝光於上述第2物體上，上述掃描曝光裝置的特徵在於包括：第1列投影光學系統，包括於第1列上分別具有第1視場的多個第1投影光學系統，上述第1列是沿著橫切上述掃描方向的非掃描方向；以及第2列投影光學系統，包括於與上述第1列不同的第2列上分別具有第2視場的多個第2投影光學系統，上述第2列是沿著上述非掃描方向的列，且上述第1列投影光學系統於上述第2面上的第3列上，形成與上述第1列投影光學系統的上述多個第1視場共軛的多個第1投影區域，上述第2列投影光學系統於上述第2面上的第4列上，形成與上述第2列投影光學系統的上述多個第2視場 共軛的多個第2投影區域，上述第1投影光學系統包括第1光束傳送部，沿著與連接上述第1面與上述第2面的軸線方向交叉的第1方向，傳送來自上述第1視場的光，並導向從上述軸線方向觀察位於上述第1視場的上述第1方向側的上述第1投影區域，上述第2投影光學系統包括第2光束傳送部，上述第2光束傳送部，沿著與上述第1方向相反的第2方向，傳送來自上述第2視場的光，並導向從上述軸線方向觀察位於上述第2視場的上述第2方向側的上述第2投影區域。
23. 如申請專利範圍第22項所述之掃描曝光裝置，其中當將第1間隔設為Dm、將第2間隔設為Dp、將上述第1及第2投影光學系統的倍率設為β時，滿足Dp=| β |×Dm，其中上述第1間隔是沿著上述第1列與上述第2列於上述第1面上的上述掃描方向的間隔，上述第2間隔是沿著上述第3列與上述第4列於上述第2面上的上述掃描方向的間隔。
24. 如申請專利範圍第22項所述之掃描曝光裝置，其中上述第1方向與上述掃描方向大致平行。
25. 一種反射折射投影光學系統，把配置於第1面的第1物體的放大像形成在配置於第2面的第2物體上，該反射折射投影光學系統的特徵在於包括： 光束傳送部，從該第1面發出並沿著與該第1面正交的方向的光，是在沿著該第1面的第1方向傳送，並使在該第1方向已傳送的光沿著與該第1面正交的方向行進，並引導往該第2面。
26. 如申請專利範圍第25項所述的反射折射投影光學系統，其中該光束傳送部包括：第1偏向構件，把沿著與該第1面正交的方向行進的光，偏向到該第1方向；第2偏向構件，使從該第1偏向構件而來往該第1方向行進的光，沿與該第1面正交的方向行進，並引導往該第2面。
27. 如申請專利範圍第26項所述之反射折射投影光學系統，包括：凹面反射鏡，配置於上述第1面與上述第2面之間的光路中；第1透鏡群，配置於上述第1面與上述凹面反射鏡之間的光路中；第2透鏡群，配置於上述第1透鏡群與上述凹面反射鏡之間的光路中；以及第3透鏡群，配置於上述第2偏向構件與上述第2面之間的光路中，且具有與上述第1透鏡群的光軸大致平行的光軸，其中該第1偏向構件配置在該第2透鏡群與該第2面之間的光路中，使從該第2透鏡群而來沿著與該第1面正 交的方向而往該第1面側的光，偏向到該第1方向，且該第2偏向構件配置在該第1偏向構件與該第2面之間的光路中，使從該第1偏向構件而來沿著該第1方向行進的光，沿與該第1面正交的方向偏向到該第2面側。
28. 如申請專利範圍第27項所述之反射折射投影光學系統，其中：上述第1面與上述第2面的距離大於上述第1面與上述凹面反射鏡的距離。
29. 如申請專利範圍第27項所述之反射折射投影光學系統，其中構成上述第1透鏡群、上述第2透鏡群、以及上述第3透鏡群，且具有折射能力的光學構件，是以其光軸與重力方向平行的方式而配置著。
30. 如申請專利範圍第27項所述之反射折射投影光學系統，更包括孔徑光圈，上述孔徑光圈配置於上述凹面反射鏡與上述第2透鏡群之間的光路中，用以規定上述反射折射投影光學系統的上述第2面側數值孔徑，且該孔徑光圈以上述第1面側及上述第2面側大致是遠心的方式而定位著。
31. 如申請專利範圍第27項所述之反射折射投影光學系統，其中當將上述第1透鏡群的焦點距離設為f1、將上述第3透鏡群的焦點距離設為f3、將上述投影光學系統的倍率設為β時，滿足0.8×|β|≦f3/f1≦1.25×|β| |β|≧1.8。
32. 如申請專利範圍第27項所述之反射折射投影光學系統，其中上述反射折射投影光學系統包括調整該反射折射投影光學系統的光學特性的光學特性調整機構。
33. 如申請專利範圍第32項所述之反射折射投影光學系統，其中上述光學特性調整機構配置於上述凹面反射鏡與上述第2面之間的光路中。
34. 如申請專利範圍第25項所述之反射折射投影光學系統，其中形成於該第2面的該第1物體的放大像，是上述第1物體的一次像。
35. 如申請專利範圍第27項所述的反射折射投影光學系統，其中該第1偏向構件，使沿著與該第1面正交的方向行進的光，以橫切該第1透鏡群的光軸的方式被偏向。
36. 一種反射折射光學裝置，包括形成第1面的中間像的第1成像光學系統、以及使已形成上述中間像的面與上述第2面呈光學共軛的第2成像光學系統，上述反射折射光學裝置的特徵在於：上述第1成像光學系統與上述第2成像光學系統的至少一個，藉由申請專利範圍第25項至第35項中任一項所述之反射折射投影光學系統而構成。
37. 一種掃描曝光裝置，使配置於第1面的第1物體、與配置於第2面的第2物體，在掃描方向上同步移動，而使上述第1物體的像投影曝光至上述第2物體上，上述掃描曝光裝置的特徵在於包括：第1投影光學裝 置以及第2投影光學裝置，上述第1投影光學裝置於上述掃描方向上，定位於第1位置，上述第2投影光學裝置於上述掃描方向上，定位於與上述第1位置不同的第2位置，且上述第1及第2投影光學裝置包括申請專利範圍第25項至第35項中任一項所述之反射折射投影光學系統、或申請專利範圍第36項所述之反射折射光學裝置。
38. 如申請專利範圍第37項所述之掃描曝光裝置，其中：上述第1及第2投影光學裝置以上述第1及第2投影光學裝置的上述第2面側的間隔大於上述第1面側的間隔的方式而配置著。
39. 如申請專利範圍第1項至第24項、第37項及第38項中任一項所述之掃描曝光裝置，其中上述第2物體是外徑大於500mm的感光基板。
40. 一種微元件的製造方法，其特徵在於包括：曝光步驟，使用如申請專利範圍第1項至第24項、第37項及第38項中任一項所述之掃描曝光裝置，將光罩圖案曝光於感光基板上；以及加工步驟，對上述圖案已曝光的上述感光基板進行加工。
41. 一種掃描曝光方法，使配置於第1面上的第1物體與配置於第2面上的第2物體在掃描方向上同步移動，其特徵在於，上述掃描曝光方法包括： 把該第1面的第1視場的放大像，形成至該第2面上的第1投影區域；以及把與該第1面的該第1視場不同的第2視場的放大像，形成至與該第2面的該第1投影區域不同的第2投影區域，其中把該第1視場的放大像形成於該第1投影區域的步驟包括：把從該第1視場發出的沿著與該第1面正交的方向行進的光，傳送到該掃描方向的一側，並使已傳送到該一側的光沿著與該第1面正交的方向行進，並引導往該第1投影區域，且其中把該第2視場的放大像形成於該第2投影區域的步驟包括：把從該第2視場發出的沿著與該第1面正交的方向行進的光，傳送到該掃描方向的另一側，並使已傳送到該另一側的光沿著與該第1面正交的方向行進，並引導往該第2投影區域。
42. 如申請專利範圍第41項所述之掃描曝光方法，其中當將該掃描方向的該第1視場與該第2視場的間隔設為Dm、將該掃描方向的該第1投影區域與該第2投影區域的間隔設為Dp、將該第1投影光學系統及該第2投影光學系統的各個倍率設為β時，滿足Dp=| β |×Dm。
43. 如申請專利範圍第41項所述的掃描曝光方法，其中該第1投影區域、與該第2投影區域，是在與該掃描方 向正交的掃描正交方向上連續。
44. 一種微元件的製造方法，其特徵在於包括：曝光步驟，使用如申請專利範圍第41項至第43項中任一項所述之掃描曝光方法，將光罩圖案曝光於感光基板上；以及加工步驟，對上述圖案已曝光的上述感光基板進行加工。