JP2001201688A

JP2001201688A - 露光装置及び方法並びに照明装置及び方法

Info

Publication number: JP2001201688A
Application number: JP2000369736A
Authority: JP
Inventors: Masaji Tanaka; 正司田中
Original assignee: Nikon Corp
Current assignee: Nikon Corp
Priority date: 2000-12-05
Filing date: 2000-12-05
Publication date: 2001-07-27

Abstract

(57)【要約】【課題】露光領域が大きな場合でも、スループットを
低下させずに、良好な結像性能のもとで回路パターンを
転写できる露光装置を提供すること。【解決手段】第１の物体と第２の物体とを移動させつ
つ第１の物体の像を第２の物体上へ投影露光する露光装
置は、第１の物体の等倍の正立像を第２の物体上に形成
する第１及び第２の投影光学系を有する。第１及び第２
の投影光学系は、少なくとも像側がテレセントリックで
構成される。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、第１の物体と第２
の物体とを移動させつつ露光を行なう走査型の投影露光
装置に関する。

【０００２】

【従来の技術】近年、ワープロ、パソコン、テレビ等の
表示素子として、液晶表示パネルが多用されるようにな
った。液晶表示パネルは、ガラス基板上に透明薄膜電極
をフォトリソグラフィの手法で所望の形状にパターンニ
ングして作られる。このリソグラフィのための装置とし
て、マスク上に形成された原画パターンを投影光学系を
介してガラス基板上のフォトレジスト層に露光するミラ
ープロジェクションタイプのアライナーが使われてい
る。このようなアライナーとしては、例えば図１４(a),
(b) に示すものが知られている。図１４(a) は、従来の
アライナーの構成を示す斜視図であり、図１４(b) は、
アライナーの投影光学系のレンズ断面図である。

【０００３】図１４(a) において、図示なき照明光学系
によりマスク７１ｃが円弧状の照野７２ａにて照明され
る。この照野７２ａの像７２ｂは、図１４(b) に示す如
く、台形ミラー７３の反射面７３ａにて光路が９０°偏
向され、凹面鏡７４及び凸面鏡７５を介して、再び凹面
鏡７４にて反射される。凹面鏡７４からの光は、台形ミ
ラー７３の反射面７３ｂにて光路が９０°偏向され、プ
レート７６上にマスク７１ｃの像を形成する。そして、
このアライナーにおいては、プレート７６とマスク７１
ｃとを走査露光する、即ち図中Ｘ方向に沿って移動させ
つつ露光を行なうことで、マスク７１ｃ上の回路パター
ンをプレート７６上に転写していた。

【０００４】最近、液晶表示パネルの大型化が望まれて
いる。それに伴い、上述の如きアライナーにおいても、
露光領域の拡大が望まれている。

【０００５】

【発明が解決しようとする課題】上述の如き投影露光装
置において、露光領域を拡大させるためには、露光領域
を分割して露光していた。具体的には、図１４(a) に示
す如く、プレート７６上を領域７６ａ，７６ｂ，７６
ｃ，７６ｄに４分割して、まず、マスク７１ａと領域７
６ａとを走査露光して、領域７６ａ上にマスク７１ａの
回路パターンを転写する。次に、マスク７１ａをマスク
７１ｂに交換すると共に、投影光学系の露光領域と領域
７６ｂとが重なるように、プレート７６を図中ＸＹ平面
内でステップ的に移動させる。そして、マスク７１ｂと
プレート７６とを走査露光して、マスク７１ｂの回路パ
ターンを領域７６ｂ上に転写する。以下同様に、マスク
７１ｃ、７１ｄの回路パターンをそれぞれ領域７６ｃ、
７６ｄに転写していた。

【０００６】このように、分割して露光を行なう場合に
は、多数回の露光を行なうため、スループット（単位時
間当たり露光できる基板の量）の低下を招いていた。さ
らに、分割露光の場合には、隣合う露光領域間の継ぎ精
度を高める必要がある。このため、投影露光装置におい
ては、投影光学系の倍率誤差を０に近づける必要がある
と共に、アライメント精度の大幅な向上が要求され、装
置のコスト高を招くという問題点がある。

【０００７】また、大きな露光領域を一括して転写する
ために、投影光学系の大型化を図ることが考えられる。
しかしながら、投影光学系の大型化を図るためには、大
型な光学素子を非常に高精度に製作する必要があり、製
作コストの増大と装置の大型化とを招く問題点がある。
また、投影光学系の大型化により収差も増大する問題点
がある。

【０００８】そこで、本発明は、露光領域が大きな場合
でも、スループットを低下させずに、良好な結像性能の
もとで回路パターンを転写できる露光装置を提供するこ
とを目的とする。

【０００９】

【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に、本発明の請求項１による露光装置は、以下の構成を
有する。例えば図１に示す如く、第１の物体と第２の物
体とを移動させつつ第１の物体の像を第２の物体上へ投
影露光する露光装置は、第１の物体の等倍の正立像を第
２の物体上に形成する第１及び第２の投影光学系を有す
る。そして、第１及び第２の投影光学系は、少なくとも
像側がテレセントリックで構成される。

【００１０】ここで、本発明において、正立像とは、上
下左右の横倍率が正となる像のことを指す。本発明の請
求項２にかかる発明では、請求項１の構成において、前
記第１及び第２の投影光学系は、光の入射側に凹面を向
けたレンズ面と、同じく光の入射側に凹面を向けた反射
面とを有するダイソン型光学系であることを特徴とす
る。

【００１１】本発明の請求項３にかかる発明では、請求
項１または２の構成において、前記第１及び第２の投影
光学系は、第１部分光学系と第２部分光学系とを有し、
前記第２部分光学系は、前記第１部分光学系が形成する
物体の１次像からの光によって２次像を形成することを
特徴とする。

【００１２】本発明の請求項４にかかる発明では、請求
項３の構成において、前記第１及び第２部分光学系は、
それぞれ光の入射側に凹面を向けた第１及び第２の反射
面を有し、該第１及び第２の反射面は、同一方向に凹面
を向けるように配置されることを特徴とする。

【００１３】本発明の請求項５にかかる発明では、請求
項３または４の構成において、前記第１部分光学系によ
る前記１次像が形成される位置には、視野絞りが配置さ
れることを特徴とする。本発明の請求項６にかかる発明
では、請求項５の構成において、前記視野絞りは、略台
形状の開口部を有し、該開口部によって定まる露光領域
の移動方向における長さの和は、前記移動方向と直交す
る方向において常に等しくなる如く規定されることを特
徴とする。

【００１４】本発明の請求項７にかかる発明では、請求
項１〜６の何れか一項の構成において、前記第１及び第
２の投影光学系は、レンズと、凹面反射面とを有するこ
とを特徴とする。本発明の請求項８にかかる発明では、
請求項７の構成において、前記レンズと前記凹面反射面
との間は空間であることを特徴とする。

【００１５】本発明の請求項９にかかる発明では、請求
項１の構成において、前記第１及び第２の投影光学系は
凹面反射面を有することを特徴とする。本発明の請求項
１０にかかる発明では、請求項９の構成において、前記
第１の投影光学系は第１凹面反射面を有し、前記第２の
投影光学系は第２凹面反射面を有し、前記第１及び第２
凹面反射面は凹面が互いに向かい合うように配置される
ことを特徴とする。

【００１６】本発明の請求項１１にかかる発明では、請
求項１０鋸雨声において、前記第１の投影光学系は第３
凹面反射面を有し、前記第２の投影光学系は第４凹面反
射面を有し、前記第１及び前記第３凹面反射面は同一方
向に凹面を向けるように配置され、前記第２及び第４反
射面は同一方向に凹面を向けるように配置されることを
特徴とする。

【００１７】本発明の請求項１２にかかる発明では、請
求項９の構成において、前記第１及び第２の投影光学系
は、前記第１の物体からの光を偏向させて前記凹面反射
面へ向ける第１偏向部材と、前記凹面反射面で反射され
た光を偏向させる第２偏向部材とを有することを特徴と
する。

【００１８】本発明の請求項１３にかかる発明では、請
求項１２の構成において、前記第１及び第２の投影光学
系は、前記凹面反射面とは異なる別の凹面反射面と、前
記第２偏向部材からの光を偏向させて前記別の凹面反射
面へ向ける第３偏向部材と、前記別の凹面反射面で反射
された光を偏向させる第４偏向部材とを有することを特
徴とする。

【００１９】本発明の請求項１４にかかる発明では、請
求項１３の構成において、前記第１及び第２の投影光学
系は、前記第２偏向部材と前記第３偏向部材との間に前
記第１物体の中間像を形成することを特徴とする。本発
明の請求項１５にかかる発明では、請求項１４の構成に
おいて、前記第１及び第２の投影光学系は、前記第２偏
向部材と前記第３偏向部材との間に配置された視野絞り
を有することを特徴とする。

【００２０】本発明の請求項１６にかかる発明では、請
求項１３〜１５の何れか一項の構成において、前記凹面
反射面と前記別の凹面反射面とは同一方向に凹面を向け
るように配置されることを特徴とする。本発明の請求項
１７にかかる発明では、請求項１の構成において、前記
第１の物体の等倍の正立像を前記第２の物体上に形成す
る第３の投影光学系をさらに有し、前記第３の投影光学
系は、少なくとも像側がテレセントリックで構成される
ことを特徴とする。

【００２１】本発明の請求項１８にかかる発明では、請
求項１７の構成において、前記第３の投影光学系は、第
１部分光学系と第２部分光学系とを有し、前記第２部分
光学系は、前記第１部分光学系が形成する物体の１次像
からの光によって２次像を形成することを特徴とする。

【００２２】本発明の請求項１９にかかる発明では、請
求項１８の構成において、前記第１及び第２部分光学系
は、それぞれ光の入射側に凹面を向けた第１及び第２の
反射面を有し、該第１及び第２の反射面は、同一方向に
凹面を向けるように配置されることを特徴とする。

【００２３】本発明の請求項２０にかかる発明では、請
求項１８または１９鋸雨声において、前記第１部分光学
系による前記１次像が形成される位置には、視野絞りが
配置されることを特徴とする。本発明の請求項２１にか
かる発明では、請求項１７の構成において、前記第１、
第２及び第３の投影光学系は凹面反射面を有することを
特徴とする。

【００２４】本発明の請求項２２にかかる発明では、請
求項２１の構成において、前記第１の投影光学系は第１
凹面反射面を有し、前記第２の投影光学系は第２凹面反
射面を有し、前記第３の投影光学系は第３凹面反射面を
有し、前記第１及び第２凹面反射面は凹面が互いに向か
い合うように配置され、前記第１及び第３凹面反射面は
同一方向に凹面を向けるように配置されることを特徴と
する。

【００２５】本発明の請求項２３にかかる発明では、請
求項２２の構成において、前記第１の投影光学系は第４
凹面反射面を有し、前記第２の投影光学系は第５凹面反
射面を有し、前記第３の投影光学系は第６凹面反射面を
有し、前記第１及び前記第４凹面反射面は同一方向に凹
面を向けるように配置され、前記第２及び第５反射面は
同一方向に凹面を向けるように配置され、前記第３及び
第６反射面は同一方向に凹面を向けるように配置される
ことを特徴とする。

【００２６】本発明の請求項２４にかかる発明では、請
求項２１の構成において、前記第１、第２及び第３の投
影光学系は、前記第１の物体からの光を偏向させて前記
凹面反射面へ向ける第１偏向部材と、前記凹面反射面で
反射された光を偏向させる第２偏向部材とを有すること
を特徴とする。

【００２７】本発明の請求項２５にかかる発明では、請
求項２４の構成において、前記第１、第２及び第３の投
影光学系は、前記凹面反射面とは異なる別の凹面反射面
と、前記第２偏向部材からの光を偏向させて前記別の凹
面反射面へ向ける第３偏向部材と、前記別の凹面反射面
で反射された光を偏向させる第４偏向部材とを有するこ
とを特徴とする。

【００２８】本発明の請求項２６にかかる発明では、請
求項２５の構成において、前記第１、第２及び第３の投
影光学系は、前記第２偏向部材と前記第３偏向部材との
間に前記第１物体の中間像を形成することを特徴とす
る。本発明の請求項２７にかかる発明では、請求項２６
の構成において、前記第１、第２及び第３の投影光学系
は、前記第２偏向部材と前記第３偏向部材との間に配置
された視野絞りを有することを特徴とする。

【００２９】本発明の請求項２８にかかる発明では、請
求項２５〜２７の何れか一項の構成において、前記凹面
反射面と前記別の凹面反射面とは同一方向に凹面を向け
るように配置されることを特徴とする。本発明の請求項
２９にかかる発明では、請求項２８の構成において、前
記第１の投影光学系中の前記凹面反射面と前記第２の投
影光学系中の前記凹面反射面とは凹面が互いに向かい合
うように配置され、前記第１の投影光学系中の前記凹面
反射面と前記第３の投影光学系中の前記凹面反射面とは
同一方向に凹面を向けるように配置されることを特徴と
する。

【００３０】本発明の請求項３０にかかる発明は、第１
の物体と第２の物体とを走査方向に沿って移動させつつ
前記第１の物体の像を第２の物体上へ投影露光する露光
装置であって、前記第１物体からの光に基づいて、前記
第２物体上に第１の露光領域を形成する第１投影光学系
と；前記第１物体からの光に基づいて、前記第２物体上
に前記第１の露光領域とは異なる第２の露光領域を形成
する第２投影光学系と；を有し、前記第１及び第２の投
影光学系は少なくとも像側がテレセントリックで構成さ
れる。

【００３１】本発明の請求項３１にかかる発明では、請
求項３０の構成において、前記第１及び第２の露光領域
は、非走査方向に並んで配置されることを特徴とする。
本発明の請求項３２にかかる発明では、請求項３０の構
成において、前記第１及び第２の露光領域は、非走査方
向において異なる位置に配置されることを特徴とする。

【００３２】本発明の請求項３３にかかる発明では、請
求項３２の構成において、前記第１物体からの光に基づ
いて、前記第２物体上に前記第１及び第２の露光領域と
は異なる第３の露光領域を形成し、少なくとも像側がテ
レセントリックで構成される第３の投影光学系をさらに
有し、前記第３の露光領域は前記第１の露光領域とは前
記走査方向において異なる位置に配置されることを特徴
とする。

【００３３】本発明の請求項３４にかかる発明では、請
求項３３の構成において、前記第１の露光領域と前記第
２の露光領域とは非走査方向において間隔をもって配置
されることを特徴とする。本発明の請求項３５にかかる
発明では、請求項３４の構成において、前記第３の露光
領域は前記第１及び第２の露光領域の前記間隔の間を走
査できるように位置決めされることを特徴とする。

【００３４】本発明の請求項３６にかかる発明では、請
求項３０の構成において、前記第１及び第２の露光領域
は、前記走査方向において異なる位置に配置されること
を特徴とする。本発明の請求項３７にかかる発明では、
請求項３６の構成において、前記第１物体からの光に基
づいて、前記第２物体上に前記第１及び第２の露光領域
とは異なる第３の露光領域を形成し、少なくとも像側が
テレセントリックで構成される第３の投影光学系をさら
に有し、前記第３の露光領域は前記第２の露光領域とは
前記走査方向において異なる位置に配置されることを特
徴とする。

【００３５】本発明の請求項３８にかかる発明では、請
求項３７の構成において、前記第１、第２及び第３の露
光領域は台形形状であり、前記第２の露光領域の前記台
形の短辺は前記第３の露光領域側へ向けられており、前
記第３の露光領域の前記台形の短辺は前記第２の露光領
域側へ向けられていることを特徴とする。

【００３６】本発明の請求項３９にかかる発明では、請
求項３６の構成において、前記第１、第２及び第３の露
光領域は台形形状であり、前記第１の露光領域の前記台
形の短辺は前記第２の露光領域側へ向けられており、前
記第２の露光領域の前記台形の短辺は前記第１の露光領
域側へ向けられていることを特徴とする。

【００３７】本発明の請求項４０にかかる発明では、請
求項３０〜３７の何れか一項の構成において、前記第
１、第２及び第３の露光領域は、台形形状または六角形
形状であることを特徴とする。本発明の請求項４１にか
かる発明は、第１の物体と第２の物体とを走査方向に沿
って移動させつつ前記第１の物体の像を第２の物体上へ
投影露光する露光装置であって、前記第１物体からの光
に基づいて、前記第２物体上に台形形状の第１の露光領
域を形成する第１投影光学系と；前記第１物体からの光
に基づいて、前記第２物体上の前記第１の露光領域とは
異なる位置に台形形状の第２の露光領域を形成する第２
投影光学系と；を有する。

【００３８】本発明の請求項４２にかかる発明では、請
求項４１の構成において、前記第１及び第２の露光領域
は、非走査方向に並んで配置されることを特徴とする。
本発明の請求項４３にかかる発明では、請求項４１の構
成において、前記第１及び第２の露光領域は、非走査方
向において異なる位置に配置されることを特徴とする。

【００３９】本発明の請求項４４にかかる発明では、請
求項４３の構成において、前記第１物体からの光に基づ
いて、前記第２物体上の前記第１及び第２の露光領域と
は異なる位置に台形形状の第３の露光領域を形成する第
３の投影光学系をさらに有し、前記第３の露光領域は前
記第１の露光領域とは前記走査方向において異なる位置
に配置されることを特徴とする。

【００４０】本発明の請求項４５にかかる発明では、請
求項４４の構成において、前記第１の露光領域と前記第
２の露光領域とは非走査方向において間隔をもって配置
されることを特徴とする。本発明の請求項４６にかかる
発明では、請求項４５の構成において、前記第３の露光
領域は前記第１及び第２の露光領域の前記間隔の間を走
査できるように位置決めされることを特徴とする。

【００４１】本発明の請求項４７にかかる発明では、請
求項４１の構成において、前記第１及び第２の露光領域
は、前記走査方向において異なる位置に配置されること
を特徴とする。本発明の請求項４８にかかる発明では、
請求項４７の構成において、前記第１物体からの光に基
づいて、前記第２物体上の前記第１及び第２の露光領域
とは異なる位置に第３の露光領域を形成する第３の投影
光学系をさらに有し、前記第３の露光領域は前記第２の
露光領域とは前記走査方向において異なる位置に配置さ
れることを特徴とする。

【００４２】本発明の請求項４９にかかる発明は、第１
の物体と第２の物体とを走査方向に沿って移動させつつ
前記第１の物体の像を第２の物体上へ投影露光する露光
装置であって、台形形状の第１の視野領域を有する第１
投影光学系と；台形形状の第２の視野領域を有する第２
投影光学系と；を有し、前記第１の視野領域の台形の短
辺は、前記第１投影光学系が有する最大視野領域の円弧
側に向けられており、前記第２の視野領域の台形の短辺
は、前記第２投影光学系が有する最大視野領域の円弧側
に向けられている。

【００４３】本発明の請求項５０にかかる発明では、請
求項４９の露光装置において、前記第１及び第２投影光
学系が有する前記最大視野領域は半円状であることを特
徴とする請求項４９記載の露光装置。本発明の請求項５
１にかかる発明は、第１の物体と第２の物体とを走査方
向に沿って移動させつつ前記第１の物体の像を第２の物
体上へ投影露光する露光装置であって、前記第１物体か
らの光に基づいて、前記第２物体上に第１の露光領域を
形成する第１投影光学系と；前記第１物体からの光に基
づいて、前記第２物体上に前記第１の露光領域とは異な
る第２の露光領域を形成する第２投影光学系と；前記第
１物体からの光に基づいて、前記第２物体上に前記第１
及び第２の露光領域とは異なる第３の露光領域を形成す
る第３投影光学系と；を有し、前記第１、第２及び第３
の投影光学系は少なくとも像側がテレセントリックで構
成される。

【００４４】本発明の請求項５２にかかる発明では、請
求項５１の構成において、前記第１及び第２の露光領域
は、非走査方向において異なる位置に配置されることを
特徴とする。本発明の請求項５３にかかる発明では、請
求項５２の構成において、前記第３の露光領域は、前記
走査方向において前記第１及び第２の露光領域と異なる
位置に配置されることを特徴とする。

【００４５】本発明の請求項５４にかかる発明では、請
求項５２または５３の構成において、前記第１の露光領
域と前記第２の露光領域とは非走査方向において間隔を
もって配置され、前記第３の露光領域は前記第１及び第
２の露光領域の前記間隔の間を走査できるように位置決
めされることを特徴とする。

【００４６】本発明の請求項５５にかかる発明は、第１
の物体と第２の物体とを走査方向に沿って移動させつつ
前記第１の物体の像を第２の物体上へ投影露光する露光
装置であって、前記第１物体からの光に基づいて、前記
第２物体上に第１の露光領域を形成する第１投影光学系
と；前記第１物体からの光に基づいて、前記第２物体上
に前記第１の露光領域とは異なる第２の露光領域を形成
する第２投影光学系と；を有し、前記第１及び第２投影
光学系は少なくとも像側テレセントリックに構成され、
前記第１及び第２の露光領域の前記走査方向における幅
の和は、前記走査方向と直交する走査直交方向において
一定である。

【００４７】本発明の請求項５６にかかる発明は、第１
の物体と第２の物体とを走査方向に沿って移動させつつ
前記第１の物体の像を第２の物体上へ投影露光する露光
装置であって、前記第１物体からの光に基づいて、前記
第２物体上に第１の露光領域を形成する第１投影光学系
と；前記第１物体からの光に基づいて、前記第２物体上
に前記第１の露光領域とは異なる第２の露光領域を形成
する第２投影光学系と；を有し、前記第１及び第２投影
光学系の光軸は、前記第１の物体の面内方向と平行であ
る。

【００４８】本発明の請求項５７にかかる発明では、請
求項５６の構成において、前記第１及び第２投影光学系
は前記第１の物体上の第１及び第２視野領域を有し、前
記第１及び第２投影光学系の取り得る最大の視野領域の
前記走査方向と直交する方向の幅をφ_Fとし、前記第１
及び第２投影光学系の光軸間距離をＫとするとき、２φ_F＞Ｋを満足することを特徴とする。

【００４９】本発明の請求項５８にかかる発明では、請
求項５６または５７の構成において、前記第１及び第２
投影光学系は前記第１の物体上の第１及び第２視野領域
を有し、前記第１及び第２投影光学系の取り得る最大の
視野領域の前記走査方向と直交する方向の幅をφ_Fと
し、前記第１及び第２投影光学系の外径の最大値をφ_D
とするとき、 φ_F＞φ_D／２を満足することを特徴とする。

【００５０】本発明の請求項５９にかかる発明は、第１
の物体と第２の物体とを走査方向に沿って移動させつつ
前記第１の物体の像を第２の物体上へ投影露光する露光
装置であって、前記第１物体からの光に基づいて、前記
第２物体上に第１の露光領域を形成する第１投影光学系
と；前記第１物体からの光に基づいて、前記第２物体上
に前記第１の露光領域とは異なる第２の露光領域を形成
する第２投影光学系と；を有し、前記第１及び第２投影
光学系は前記第１の物体上の第１及び第２視野領域を有
し、前記第１及び第２投影光学系の取り得る最大の視野
領域の前記走査方向と直交する方向の幅をφ_Fとし、前
記第１及び第２投影光学系の外径の最大値をφ_Dとする
とき、 φ_F＞φ_D／２を満足する。

【００５１】本発明の請求項６０にかかる発明は、第１
の物体と第２の物体とを走査方向に沿って移動させつつ
前記第１の物体の像を第２の物体上へ投影露光する露光
装置であって、前記第１物体からの光に基づいて、前記
第２物体上に第１の露光領域を形成する第１投影光学系
と；前記第１物体からの光に基づいて、前記第２物体上
に前記第１の露光領域とは異なる第２の露光領域を形成
する第２投影光学系と；を有し、前記第１及び第２投影
光学系は前記第１の物体上の第１及び第２視野領域を有
し、前記第１及び第２投影光学系の取り得る最大の視野
領域の前記走査方向と直交する方向の幅をφ_Fとし、前
記第１及び第２投影光学系の光軸間距離をＫとすると
き、２φ_F＞Ｋを満足する。

【００５２】本発明の請求項６１にかかる発明では、請
求項５９または６０の構成において、前記第１及び第２
投影光学系は少なくとも像側テレセントリックで構成さ
れることを特徴とする。本発明の請求項６２にかかる発
明は、第１の物体と第２の物体とを走査方向に沿って移
動させつつ前記第１の物体の像を第２の物体上へ投影露
光する露光装置であって、前記第１物体からの光に基づ
いて、前記第２物体上に第１の露光領域を形成する第１
投影光学系と；前記第１物体からの光に基づいて、前記
第２物体上に前記第１の露光領域とは異なる第２の露光
領域を形成する第２投影光学系と；を有し、前記第１及
び第２投影光学系は少なくとも像側テレセントリックで
構成され、かつダハ面を有する。

【００５３】本発明の請求項６３にかかる発明は、マス
クと感光性基板とを走査方向に沿って移動させつつ前記
マスクの像を前記感光性基板上へ投影露光する露光装置
であって、前記マスク上の第１視野領域からの光に基づ
いて、前記感光性基板上に第１の露光領域を形成する第
１の投影光学系と；前記マスク上の第２視野領域からの
光に基づいて、前記感光性基板上に前記第１の露光領域
とは異なる第２の露光領域を形成する第２の投影光学系
と；を備え、前記第１視野領域は前記マスク上の回路パ
ターン領域の縁と一致する辺を有する。

【００５４】本発明の請求項６４にかかる発明は、第１
物体の像を第２物体上へ投影露光する露光方法であっ
て、像側テレセントリックな光束に基づいて前記第１物
体の正立像を第１の露光領域上に形成する第１工程と；
前記像側テレセントリックな光束とは異なる別の像側テ
レセントリックな光束に基づいて前記第１物体の正立像
を前記第１の露光領域とは異なる第２の露光領域上に形
成する第２工程と；前記第１物体と前記第２物体とを走
査方向に沿って移動させる第３工程と；を有する。

【００５５】本発明の請求項６５にかかる発明では、請
求項６４の構成において、前記第１及び第２工程は、凹
面反射鏡で光を反射させる補助工程を有することを特徴
とする。本発明の請求項６６にかかる発明では、請求項
６４の構成において、前記第１及び第２工程は、それぞ
れ前記第１物体の中間像を形成する補助工程を有するこ
とを特徴とする。

【００５６】本発明の請求項６７にかかる発明では、請
求項６６の構成において、前記第１及び第２工程は、そ
れぞれ前記中間像から２次像を形成する補助工程を有す
ることを特徴とする。本発明の請求項６８にかかる発明
では、請求項６７の構成において、前記第１及び第２工
程は、それぞれ凹面反射鏡で光を反射させて前記中間像
へ導く補助工程と、凹面反射鏡で光を反射させて前記２
次像へ導く補助工程とを有することを特徴とする。

【００５７】本発明の請求項６９にかかる発明では、請
求項６７〜６８の何れか一項の構成において、前記第１
及び第２工程は、それぞれ視野絞りに光を通す補助工程
を有することを特徴とする。本発明の請求項７０にかか
る発明では、請求項６５の構成において、前記第１工程
中の前記凹面反射鏡で光を反射させる補助工程と、前記
第２工程中の前記凹面反射鏡で光を反射させる補助工程
とでは、互いに反対側へ光を反射させることを特徴とす
る。

【００５８】本発明の請求項７１にかかる発明では、請
求項６５の構成において、前記第１及び第２工程は、そ
れぞれレンズに光を通過する補助工程を有することを特
徴とする。本発明の請求項７２にかかる発明では、請求
項６５の構成において、前記第１及び第２工程は、第１
凹面反射鏡で光を反射させる第１補助工程と、第１補助
工程の後に前記第１物体の中間像を形成する第２補助工
程と、第２補助工程の後に第２凹面反射鏡で光を反射さ
せる第３補助工程とをそれぞれ有することを特徴とす
る。

【００５９】本発明の請求項７３にかかる発明では、請
求項７２の構成において、前記第１及び第２工程は、前
記第１物体からの光を前記第１凹面反射鏡へ向けて偏向
させる第４補助工程と、前記第１凹面反射鏡からの光を
前記中間像へ向けて偏向させる第５補助工程と、前記中
間像からの光を前記第２凹面反射鏡へ向けて偏向させる
第６補助工程と、前記第２凹面反射鏡からの光を前記第
２物体へ向けて偏向させる第７補助工程とをそれぞれ有
することを特徴とする。

【００６０】本発明の請求項７４にかかる発明では、請
求項７３の構成において、前記第１及び第２工程は、前
記第４補助工程にて偏向された光を第１レンズに導いた
後に前記第１凹面反射鏡へ導く第８補助工程と、前記第
１凹面反射鏡にて反射された光を前記第１レンズに導く
第９補助工程と、前記第６補助工程にて偏向された光を
第２レンズに導いた後に前記第２凹面反射鏡へ導く第１
０補助工程と、前記第２凹面反射鏡にて反射された光を
前記第２レンズに導く第１０補助工程とをさらに有する
ことを特徴とする。

【００６１】本発明の請求項７５にかかる発明では、請
求項７３または７４の構成において、前記第１工程中の
前記第４補助工程での光の偏向する方向と、前記第２工
程中の前記第４補助工程での光の偏向する方向は逆向き
であることを特徴とする。本発明の請求項７６にかかる
発明では、請求項７３〜７５の何れか一項の構成におい
て、前記第１工程中の前記第６補助工程での光の偏向す
る方向と、前記第２工程中の前記第６補助工程での光の
偏向する方向とは逆向きであることを特徴とする。

【００６２】本発明の請求項７７にかかる発明では、請
求項６５の構成において、前記第１及び第２工程は、第
１凹面反射鏡で光を反射させる第１補助工程と、第２凹
面反射鏡で光を反射させる第２補助工程とを有すること
を特徴とする。本発明の請求項７８にかかる発明では、
請求項７７の構成において、前記第１補助工程での光の
反射方向と前記第２補助工程での光の反射方向とは同一
方向であることを特徴とする。

【００６３】本発明の請求項７９にかかる発明では、請
求項７８の構成において、前記第１工程中の前記第１補
助工程での光の反射方向と、前記第２工程中の前記第１
補助工程での光の反射方向とは逆向きであることを特徴
とする。本発明の請求項８０にかかる発明では、請求項
６５の構成において、前記第１及び第２工程は、前記第
１物体からの光を前記凹面反射鏡へ偏向させる偏向補助
工程をさらに有し、前記第１工程中の偏向補助工程での
光の偏向方向と、前記第２工程中の偏向補助工程での光
の偏向方向とは逆向きであることを特徴とする。

【００６４】本発明の請求項８１にかかる発明では、請
求項６４の構成において、前記第１及び第２の露光領域
は、走査方向と直交する方向において一部重複すること
を特徴とする。本発明の請求項８２にかかる発明では、
請求項６４の構成において、像側テレセントリックな光
束に基づいて前記第１物体の正立像を前記第１及び第２
の露光領域とは異なる第３の露光領域上に形成する第４
工程をさらに有することを特徴とする。

【００６５】本発明の請求項８３にかかる発明では、請
求項６４の構成において、前記第１及び第２の露光領域
は、非走査方向に沿って並んで配置されることを特徴と
する。本発明の請求項８４にかかる発明では、請求項６
４の構成において、前記第１及び第２の露光領域は、非
走査方向において異なる位置に配置されることを特徴と
する。

【００６６】本発明の請求項８５にかかる発明では、請
求項８４の構成において、像側テレセントリックな光束
に基づいて前記第１物体の正立像を前記第１及び第２の
露光領域とは異なる第３の露光領域上に形成する第４工
程をさらに有することを特徴とする。

【００６７】本発明の請求項８６にかかる発明では、請
求項８５の構成において、前記第３の露光領域は、前記
走査方向において前記第１の露光領域とは異なる位置に
配置されることを特徴とする。本発明の請求項８７にか
かる発明では、請求項８６の構成において、前記第１及
び第３の露光領域は、前記非走査方向で間隔を持つよう
に配置されることを特徴とする。

【００６８】本発明の請求項８８にかかる発明では、請
求項６４の構成において、前記第１及び第２の露光領域
は、前記走査方向において異なる位置に配置されること
を特徴とする。本発明の請求項８９にかかる発明では、
請求項８８の構成において、像側テレセントリックな光
束に基づいて前記第１物体の正立像を前記第１及び第２
の露光領域とは異なる第３の露光領域上に形成する第４
工程をさらに有することを特徴とする。

【００６９】本発明の請求項９０にかかる発明では、請
求項８９の構成において、前記第３の露光領域は、前記
走査方向において前記第２の露光領域とは異なる位置に
配置されることを特徴とする。本発明の請求項９１にか
かる発明では、請求項６４〜９０の何れか一項の構成に
おいて、前記第１及び第２の露光領域は、台形形状また
は六角形形状であることを特徴とする。

【００７０】本発明の請求項９２にかかる発明は、第１
物体の像を第２物体上へ投影露光する露光方法であっ
て、請求項１〜６３の何れか一項記載の露光装置を用い
て前記第２物体上に前記第１物体の像を形成しつつ前記
第１及び第２物体を移動させる。

【００７１】本発明の請求項９３にかかる発明では、請
求項６４〜９２の何れか一項の構成において、前記第１
物体と前記第２物体とを移動させつつ前記第１物体の像
を一回の露光で第２物体上へ転写することを特徴とす
る。本発明の請求項９４にかかる発明は、第１物体上の
パターンを第２物体へ転写する露光装置に組合せられ
て、前記第１物体を照明する照明装置であって、照明光
を供給する光源と；該光源からの照明光を複数の照明光
に分岐する照明分岐手段と；該照明分岐手段によって分
岐された前記複数の照明光を、前記第１物体上の複数の
照明領域へそれぞれ導く導光手段と；を備える。

【００７２】本発明の請求項９５にかかる発明では、請
求項９４の構成において、前記光源とは異なる別の光源
をさらに備え、該別の光源からの照明光は前記照明分岐
手段へ導かれることを特徴とする。本発明の請求項９６
にかかる発明では、請求項９５の構成において、前記照
明分岐手段は、複数の入射端からの光を複数の射出端へ
導くライトガイドを有することを特徴とする。

【００７３】本発明の請求項９７にかかる発明では、請
求項９４の構成において、前記照明分岐手段は、入射端
からの光を複数の射出端へ導くライトガイドを有するこ
とを特徴とする。本発明の請求項９８にかかる発明で
は、請求項９６または９７の構成において、前記ライト
ガイドは、ランダムに束ねられた光ファイバを有するこ
とを特徴とする。

【００７４】本発明の請求項９９にかかる発明では、請
求項９４〜９８の何れか一項の構成において、前記第１
物体上の前記複数の照明領域は台形形状であることを特
徴とする。本発明の請求項１００にかかる発明では、請
求項９４〜９９の何れか一項の構成において、前記第１
物体と共役に配置された照明視野絞りを有することを特
徴とする。

【００７５】本発明の請求項１０１にかかる発明では、
請求項９４〜１００の何れか一項の構成において、第１
物体と第２物体とを走査方向に沿って移動させつつ前記
第１物体上のパターンを前記第２物体へ転写する露光装
置に組合せられることを特徴とする。

【００７６】本発明の請求項１０２にかかる発明では、
請求項１０１の構成において、前記複数の照明領域は、
第１の照明領域と該第１の照明領域とは異なる第２の照
明領域とを備え、前記第１及び第２の照明領域は前記走
査方向において異なる位置に形成されることを特徴とす
る。

【００７７】本発明の請求項１０３にかかる発明では、
請求項１０２の構成において、前記複数の照明領域は、
前記第１及び第２の照明領域とは異なる第３の照明領域
を備え、該第３の照明領域は前記走査方向において前記
第２の照明領域とは異なる位置に形成されることを特徴
とする。

【００７８】本発明の請求項１０４にかかる発明では、
請求項１０１の構成において、前記複数の照明領域は、
第１の照明領域と該第１の照明領域とは異なる第２の照
明領域とを備え、前記第１及び第２の照明領域は非走査
方向において異なる位置に形成されることを特徴とす
る。

【００７９】本発明の請求項１０５にかかる発明では、
請求項１０４の構成において、前記複数の照明領域は、
前記第１及び第２の照明領域とは異なる第３の照明領域
を備え、該第３の照明領域は前記走査方向において前記
第１及び第２の照明領域とは異なる位置に形成されるこ
とを特徴とする。

【００８０】本発明の請求項１０６にかかる発明では、
請求項９４〜１０５の何れか一項の構成において、前記
第１物体の像を第２物体上に形成する複数の投影光学系
を備える露光装置と組合せられることを特徴とする。本
発明の請求項１０７にかかる発明では、請求項１０６の
構成において、前記複数の投影光学系は前記第１物体上
に複数の視野領域を有し、前記複数の照明領域は前記複
数の視野領域と相似であることを特徴とする。

【００８１】本発明の請求項１０８にかかる発明では、
請求項１０７の構成において、前記複数の投影光学系は
視野絞りを有しないことを特徴とする。本発明の請求項
１０９にかかる発明は、所定のパターンが形成されたマ
スクを照明する照明方法において、光源から照明光を供
給し、該光源からの前記照明光を複数の照明光に分岐
し、該分岐された複数の照明光を前記マスク上の複数の
照明領域へそれぞれ導くことを特徴とする。

【００８２】本発明の請求項１１０にかかる発明では、
請求項１０９の構成において、前記光源とは異なる別の
光源からの照明光を供給し、前記光源及び前記別の光源
からの前記照明光を複数の照明光に分岐することを特徴
とする。本発明の請求項１１１にかかる発明では、請求
項１１０の構成において、前記照明光を前記複数の照明
光に分岐する際に、複数の入射端からの光を複数の射出
端へ導くライトガイドを用いることを特徴とする。

【００８３】本発明の請求項１１２にかかる発明では、
請求項１０９の構成において、前記照明光を前記複数の
照明光に分岐する際に、入射端からの光を複数の射出端
へ導くライトガイドを用いることを特徴とする。本発明
の請求項１１３にかかる発明では、請求項１１１または
１１２の構成において、前記ライトガイドとして、ラン
ダムに束ねられた光ファイバを用いることを特徴とす
る。

【００８４】本発明の請求項１１４にかかる発明では、
請求項１０９〜１１３の何れか一項の構成において、前
記第１物体上に複数の台形形状の照明領域を形成するこ
とを特徴とする。本発明の請求項１１５にかかる発明で
は、請求項１０９〜１１４の何れか一項の構成におい
て、前記第１物体と共役に配置された照明視野絞りに光
を導く工程を有することを特徴とする。

【００８５】本発明の請求項１１６にかかる発明では、
請求項１０９の構成において、前記複数の照明領域は、
前記パターンが形成される前記第１物体上の領域の縁に
一致する辺を有する第１の照明領域を有することを特徴
とする。本発明の請求項１１７にかかる発明では、請求
項１１６の構成において、前記複数の照明領域は、前記
第１の照明領域とは異なる第２の照明領域を有し、前記
第２の照明領域は、台形形状または六角形形状であるこ
とを特徴とする。

【００８６】本発明の請求項１１８にかかる発明は、前
記第１物体上のパターンを前記第２物体へ転写する露光
方法であって、請求項１０９〜１１７の何れか一項記載
の照明方法を用いて前記第１物体上の複数の照明領域内
を照明することを特徴とする。

【００８７】本発明の請求項１１９にかかる発明は、第
１物体と第２物体とを走査方向に沿って移動させつつ前
記第１物体上のパターンを前記第２物体へ転写する露光
方法であって、請求項１０９〜１１７の何れか一項記載
の照明方法を用いて前記第１物体上の複数の照明領域内
を照明することを特徴とする。

【００８８】本発明の請求項１２０にかかる発明では、
請求項１１８または１１９の構成において、前記第１物
体上のパターンの像を前記第２物体上に形成することを
特徴とする。本発明の請求項１２１にかかる発明では、
請求項１１８または１１９の構成において、前記第１物
体上のパターンの像を第２物体上の複数の領域に形成す
ることを特徴とする。

【００８９】本発明の請求項１２２にかかる発明は、所
定のパターンが形成されたマスクを照明する照明方法で
あって、請求項９４〜１０８の何れか一項記載の照明装
置を用いて前記マスク上に前記複数の照明領域を形成す
ることを特徴とする。

【００９０】

【発明の実施の形態】上述の如き本発明による露光装置
においては、複数の投影光学系を組み合わせる構成であ
るため、個々の投影光学系の露光領域を大きくすること
なく、大きな露光領域を得ることができる。従って、投
影光学系が小型化されるため、高精度な投影光学系を容
易に製造することができる。また、投影光学系を構成す
る各光学部材が小型であるため、絶対的な収差量の発生
が減少する。従って、良好な光学性能のもとで走査露光
が実現できる。

【００９１】また、本発明による露光装置では、大きな
露光領域を一回の露光で得ることができるため、スルー
プットが高い利点がある。以下、図面を参照して本発明
による実施例を説明する。図１は、本発明による露光装
置の斜視図である。なお、図１では、所定の回路パター
ンが設けられたマスク８と、ガラス基板上にレジストが
塗布されたプレート９とが搬送される方向（走査方向）
をＸ軸、マスク８の平面内でＸ軸と直交する方向をＹ
軸、マスク８の法線方向をＺ軸とした座標系をとってい
る。

【００９２】図１において、照明光学系１０による露光
光は、図中ＸＹ平面内のマスク８を均一に照明する。こ
の照明光学系１０としては、例えば図２に示す如き構成
のものが好適である。図２は、図１に示す照明光学系１
０の具体的な構成の一例を示す図である。図２におい
て、楕円鏡１０２の内部には、例えばｇ線(435nm) 、あ
るいはｉ線(365nm) の露光光を供給する水銀ランプ等の
光源が設けられており、この光源からの露光光は、楕円
鏡１０２により集光され、ライトガイド１０３の入射端
に光源像を形成する。ライトガイド１０３は、その射出
端１０３ａ、１０３ｂに均一な光強度分布の２次光源面
を形成する。尚、ライトガイド１０３は、ランダムに束
ねられた光ファイバーで構成されることが望ましい。

【００９３】ライトガイド１０３から射出した光束は、
リレーレンズ１０４ａ、１０４ｂをそれぞれ介して、フ
ライアイレンズ１０５ａ、１０５ｂに達する。これらの
フライアイレンズ１０５ａ、１０５ｂの射出面側には、
複数の２次光源が形成される。複数の２次光源からの光
は、２次光源形成位置に前側焦点が位置するように設け
られたコンデンサレンズ１０６ａ、１０６ｂを介して、
矩形状の開口部１０７ａ、１０７ｂを有する視野絞り１
０７を均一に照明する。視野絞り１０７を介した露光光
は、それぞれレンズ１０８ａ、１０８ｂを介して、ミラ
ー１０９ａ、１０９ｂによって光路が９０°偏向され、
レンズ１１０ａ、１１０ｂに達する。ここで、レンズ１
０８ａ、１１０ａとレンズ１０８ｂ、１１０ｂとは、視
野絞り１０７とマスク８とを共役にするリレー光学系で
あり、レンズ１１０ａ、１１０ｂを介した露光光は、視
野絞り１０７の開口部１０７ａ、１０７ｂの像である照
明領域１１１ａ、１１１ｂを形成する。

【００９４】尚、視野絞り１０７の開口部１０７ａ，１
０７ｂの形状は、矩形状に限ることはない。この照明領
域の形状としては、投影光学系の視野の形状に可能な限
り相似であることが望ましい。また、図２においては、
説明を簡単にするために、照明領域１１１ｃ〜１１１ｇ
を形成する照明光学系は、その光軸のみを示している。
なお、図２では図示省略されているが、ライトガイド１
０３の射出端は、照明領域の数に対応して設けられてお
り、これらの照明領域１１１ｃ〜１１１ｇには、図示省
略したライトガイド１０３の射出端からの露光光が供給
される。

【００９５】また、図２に示すように、１つの光源では
光量不足になる場合、図３に示すような構成を適用して
も良い。図３は、照明光学系の変形例の要部を模式的に
示す図であって、水銀ランプ等の光源２０１ａ〜２０１
ｃからの露光光は、楕円鏡２０２ａ〜２０２ｃにより集
光され、光源像を形成する。そして、この光源像形成位
置に入射端が位置するようにライトガイド２０３が設け
られており、ライトガイド２０３を介した露光光は、複
数の射出端２０３ａ〜２０３ｅに均一な光強度分布の２
次光源面を形成する。このライトガイド２０３も図２の
ライトガイド１０３と同じく光ファイバーをランダムに
束ねて構成されることが望ましい。射出端２０３ａ〜２
０３ｅからマスク８に至るまでの光路は、図２に示す照
明光学系と同じであるため、ここでは説明を省略する。

【００９６】なお、上述の如き複数の照明領域１１１ａ
〜１１１ｇを形成する複数の照明光学系の代わりに、走
査方向（Ｘ方向）と直交する方向（Ｙ方向）に延びた一
つの矩形状の領域でマスク８を照明する照明光学系を適
用しても良い。このような光学系としては、Ｙ方向に延
びた棒状の光源を用いたものが考えられる。さて、マス
ク８の下方には、複数の投影光学系２ａ〜２ｇが配置さ
れている。以下、図４を参照して投影光学系２ａ〜２ｇ
について説明する。なお、投影光学系２ａ〜２ｇは、そ
れぞれ同じ構成を有するため、説明を簡単にするために
投影光学系２ａのみについて述べる。

【００９７】図４は、投影光学系２ａのレンズ構成図で
あり、この投影光学系２ａは、２組のダイソン型光学系
を組み合わせた構成である。図４において、投影光学系
２ａは、第１部分光学系２１〜２４と、視野絞り２５
と、第２部分光学系２６〜２９とから構成されており、
これらの第１及び第２部分光学系は、それぞれダイソン
型光学系を変形したものである。

【００９８】第１部分光学系は、マスク８面に対して４
５°の傾斜で配置された反射面を持つ直角プリズム２１
と、マスク８の面内方向に沿った光軸を有し、凸面を直
角プリズム２１の反対側に向けた平凸レンズ成分２２
と、全体としてメニスカス形状であって凹面を平凸レン
ズ成分２２側に向けた反射面を有するレンズ成分２３
と、直角プリズム２１の反射面と直交しかつマスク８面
に対して４５°の傾斜で配置された反射面を持つ直角プ
リズム２４とを有する。

【００９９】そして、マスク８を介した照明光学系から
の光は、直角プリズム２１によって光路が９０°偏向さ
れ、直角プリズム２１に接合された平凸レンズ成分２２
に入射する。このレンズ成分２２には、平凸レンズ成分
２２とは異なる硝材にて構成されたレンズ成分２３が接
合されており、直角プリズム２１からの光は、レンズ成
分２２、２３の接合面２２ａにて屈折し、反射膜が蒸着
された反射面２３ａに達する。反射面２３ａで反射され
た光は、接合面２２ａで屈折され、レンズ成分２２に接
合された直角プリズム２４に達する。レンズ成分２２か
らの光は、直角プリズム２４により光路が９０°偏向さ
れて、この直角プリズム２４の射出面側に、マスク８の
１次像を形成する。ここで、第１部分光学系２１〜２４
が形成するマスク８の１次像は、Ｘ方向（光軸方向）の
横倍率が正であり、かつＹ方向の横倍率が負となる等倍
像である。

【０１００】１次像からの光は、第２部分光学系２６〜
２９を介して、マスク８の２次像をプレート９上に形成
する。なお、第２部分光学系の構成は、第１部分光学系
と同一であるため説明を省略する。この第２部分光学系
２６〜２９は、第１部分光学系と同じく、Ｘ方向が正か
つＹ方向が負となる横倍率の等倍像を形成する。よっ
て、プレート９上に形成される２次像は、マスク８の等
倍の正立像（上下左右方向の横倍率が正となる像）とな
る。ここで、投影光学系２ａ（第１及び第２部分光学
系）は、両側テレセントリック光学系である。

【０１０１】なお、上述の第１及び第２部分光学系は、
反射面２３ａ，２８ａが共に同じ向きとなるように構成
されている。これにより、投影光学系全体の小型化を図
ることができる。本実施例による第１及び第２部分光学
系は、平凸レンズ成分２２，２７と、反射面２３ａ，２
８ａとの間の光路中を硝材で埋める構成となっている。
これにより、平凸レンズ成分２２，２７と反射面２３
ａ，２８ａとの偏心が生じない利点がある。

【０１０２】また、図５に示すように、第１及び第２部
分光学系は、平凸レンズ成分２２，２７と反射面２３
ａ，２８ａとの間を空気とする、いわゆるダイソン型光
学系そのものの構成でも良い。なお、このようなダイソ
ン型光学系に関しては、J.O.S.A.vol.49 (1959年発行)
のP713〜P716に詳述されている。さて、本実施例におい
ては、第１部分光学系が形成する１次像の位置に、視野
絞り２５を配置している。視野絞り２５は、例えば図６
(a) に示す如き台形状の開口部を有する。この視野絞り
２５により、プレート９上の露光領域が台形状に規定さ
れる。ここで、図６(b) に破線で示すように、本実施例
におけるダイソン型光学系において、レンズ成分２２、
２３、２７、２８の断面（ＹＺ平面）形状が円形である
ため、取り得る最大の視野の領域がほぼ半円形状とな
る。このとき、視野絞り２５にて規定される台形状の視
野領域８ａは、一対の平行辺のうちの短辺が半円状の領
域（最大の視野の領域）の円弧側を向くことが好まし
い。これにより、ダイソン型光学系の取り得る最大の視
野領域に対して、視野領域の走査方向（Ｘ方向）の幅を
最大とすることができ、走査速度を向上させることが可
能となる。

【０１０３】また、視野絞り２５としては、図６(c) に
示すように、六角形状の開口部を有する構成であっても
良い。このとき、図６(d) に示す如く、六角形状の開口
部の大きさは、図中破線で示される最大視野領域の範囲
内となる。なお、図６(b) 及び図６(d) に破線にて示す
最大視野領域は、第１及び第２部分光学系をケラれなく
通過する軸外光束のうち、最も外側を通過する光束がマ
スク８上で通過する点を囲む領域である。

【０１０４】図１に戻って、投影光学系２ａ〜２ｇの配
置について説明する。図１においては、投影光学系２ａ
〜２ｇは、投影光学系内の視野絞りによって規定される
視野領域８ａ〜８ｇを有している。これらの視野領域８
ａ〜８ｇの像は、プレート９上の露光領域９ａ〜９ｇ上
に等倍の正立像として形成される。ここで、投影光学系
２ａ〜２ｄは、視野領域８ａ〜８ｄが図中Ｙ方向に沿っ
て配列されるように設けられている。また、投影光学系
２ｅ〜２ｇは、図中Ｘ方向で視野領域８ａ〜８ｄとは異
なる位置に、視野領域８ｅ〜８ｇがＹ方向に沿って配列
されるように設けられている。このとき、投影光学系２
ａ〜２ｄと、投影光学系２ｅ〜２ｇとは、それぞれが有
する直角プリズム同士が極近傍に位置するように設けら
れる。なお、Ｘ方向において、視野領域８ａ〜８ｄと視
野領域８ｅ〜８ｇとの間隔を広げるように投影光学系２
ａ〜２ｇを配置しても構わないが、このときには、走査
露光を行なうための走査量（マスク８とプレート９の移
動量）が増し、スループットの低下を招くため好ましく
ない。

【０１０５】プレート９上には、投影光学系２ａ〜２ｄ
によって、図中Ｙ方向に沿って配列された露光領域９ａ
〜９ｄが形成され、投影光学系２ｅ〜２ｇによって、露
光領域９ａ〜９ｄとは異なる位置にＹ方向に沿って配列
された露光領域９ｅ〜９ｇが形成される。これらの露光
領域９ａ〜９ｇは、視野領域８ａ〜８ｄの等倍の正立像
である。

【０１０６】ここで、マスク８は図示なきマスクステー
ジ上に載置されており、プレート９は、プレートステー
ジ６０上に載置されている。ここで、マスクステージと
プレートステージとは、図中Ｘ方向に同期して移動す
る。これにより、プレート９上には、照明光学系１０に
より照明されたマスク８の像が逐次転写され、所謂走査
露光が行なわれる。マスク８の移動により、視野領域８
ａ〜８ｇによるマスク８の全面の走査が完了すると、プ
レート９上の全面に渡ってマスク８の像が転写される。

【０１０７】プレートステージ６０上には、Ｙ軸に沿っ
た反射面を有する反射部材６１と、Ｘ軸に沿った反射面
を有する反射部材６２とが設けられている。また、露光
装置本体側には、干渉計として、例えばＨｅ−Ｎｅ(633
nm) 等のレーザ光を供給するレーザ光源６３、レーザ光
源６３からのレーザ光をＸ方向測定用のレーザ光とＹ方
向測定用のレーザ光とに分割するビームスプリッタ６
４、ビームスプリッタ６４からのレーザ光を反射部材６
１へ投射するためのプリズム６５及びビームスプリッタ
６４からのレーザ光を反射部材６２上の２点へ投射する
ためのプリズム６６、６７が設けられている。これによ
り、ステージのＸ方向の位置、Ｙ方向の位置及びＸＹ平
面内での回転を検出することができる。なお、図１にお
いては、反射部材６１、６２にて反射されたレーザ光と
参照用レーザ光とを干渉させた後に検出する検出系につ
いて図示省略している。

【０１０８】次に、図７を参照して本実施例による視野
領域の配置について説明する。図７は、投影光学系２ａ
〜２ｇによる視野領域８ａ〜８ｇと、マスク８との平面
的な位置関係を示す図である。図７において、マスク８
上には、回路パターンＰＡが形成されており、この回路
パターンＰＡの領域を囲むように遮光部ＬＳＡが設けら
れている。図２に示される照明光学系は、図中破線にて
囲まれる照明領域１１１ａ〜１１１ｇを均一に照明す
る。この照明領域１１１ａ〜１１１ｇ内には、前述の視
野領域８ａ〜８ｇが配列されている。これらの視野領域
８ａ〜８ｇは、投影光学系２ａ〜２ｇ内の視野絞りによ
り、その形状がほぼ台形状となる。ここで、視野領域８
ａ〜８ｄの上辺（一対の平行な辺のうちの短辺）と、視
野領域８ｅ〜８ｇの上辺（一対の平行な辺のうちの短
辺）とが対向するように配列されている。ここで、遮光
部ＬＳＡに沿った視野領域８ａ及び８ｄの形状は、遮光
部ＬＳＡ側の斜辺（一対の平行な辺以外の辺）が回路パ
ターンＰＡの領域の縁と一致するように規定される。な
お、視野領域８ａ及び８ｄがマスク８の遮光部ＬＳＡと
重なるような形状でも良い。

【０１０９】本実施例においては、投影光学系２ａ〜２
ｇが両側テレセントリック光学系であるため、ＸＹ平面
内において、投影光学系２ａ〜２ｇが占める領域が、そ
れぞれ視野領域８ａ〜８ｇの占める領域よりも大きくな
る。従って、視野領域８ａ〜８ｄの配列は、それぞれの
領域８ａ〜８ｄの間で間隔を持つように構成せざるを得
ない。この場合、視野領域８ａ〜８ｄのみを用いて走査
露光を行なうならば、視野領域８ａ〜８ｄの間のマスク
８上の領域をプレート９上に投影転写することができな
い。そこで、本実施例においては、視野領域８ａ〜８ｄ
の間の領域について走査露光を行なうために、投影光学
系２ｅ〜２ｇによって視野領域８ｅ〜８ｇを設けるよう
に構成している。

【０１１０】このとき、走査方向（Ｘ方向）に沿った視
野領域８ａ〜８ｇ（または露光領域９ａ〜９ｇ）の幅の
総和が、どのＹ方向の位置においても常に一定となるこ
とが望ましい。以下、図８を参照して説明する。図８
(a),(b) は、プレート９上のＹ方向に関する露光量の分
布を示すものであり、縦軸に露光量Ｅ、横軸にプレート
９のＹ方向の位置をとっている。図８(a)において、プ
レート９上には、台形状の露光領域９ａ〜９ｇのそれぞ
れに対応する露光量分布９０ａ〜９０ｇが得られる。こ
こで、走査露光するにあたって、露光領域９ａ〜９ｇの
Ｘ方向の幅の和が一定となるように規定されているた
め、露光領域９ａ〜９ｇの重なる領域に関しては常に同
じ露光量となる。例えば、露光領域９ａに対応する露光
量分布９０ａと、露光領域９ｅに対応する露光量分布９
０ｅとの重なる領域に関しては、露光領域９ａのＸ方向
の幅と露光領域９ｅのＸ方向の幅との和が一定であるた
め、この重なる領域の露光量の和は、重ならない領域の
露光量と同じ露光量となる。従って、プレート９上に
は、全面にわたって均一な露光量分布９１が得られるこ
とになる。なお、上述の説明では、露光領域が台形状で
ある場合について説明しているが、均一な露光量分布を
得るための露光領域の組合せは、台形状に限られない。
例えば、図６(c) に示す如き視野絞り２５によって、六
角形状の露光領域が複数形成される場合、各露光領域の
走査方向の幅が常に一定となるように、各露光領域を規
定する。これにより、プレート９上の全面にわたって均
一な露光量分布を得ることができる。

【０１１１】次に、図９を参照して、本実施例における
投影光学系の望ましき配置関係について説明する。図９
は、投影光学系の配置を説明するための平面図であり、
投影光学系Ｄ1,Ｄ2,Ｄ3 をマスク８側（物体側）から見
た状態を示す。図９において、投影光学系Ｄ1 は、平凸
レンズ成分Ｌ1 と凹面鏡Ｍ1 とから構成され、投影光学
系Ｄ2 は、平凸レンズ成分Ｌ2 と凹面鏡Ｍ2 とから構成
され、投影光学系Ｄ3は、平凸レンズ成分Ｌ3 と凹面鏡
Ｍ3 とから構成される。ここで、各投影光学系Ｄ1,Ｄ2,
Ｄ3 の構成は、共に同じである。なお、図９では、説明
を簡単にするために、各投影光学系Ｄ1,Ｄ2,Ｄ3 の光路
は、物体から凹面鏡（反射鏡）Ｍ1,Ｍ2,Ｍ3 へ向かう光
路のみを示し、光路をＺ方向に偏向させる直角プリズム
は図示省略している。

【０１１２】さて、投影光学系Ｄ1 の取り得る最大の視
野領域のＹ方向の幅をφF1、投影光学系Ｄ2 の取り得る
最大の視野領域のＹ方向の幅をφF2、投影光学系Ｄ3 の
取り得る最大の視野領域のＹ方向の幅をφF3とする。こ
れらの視野領域のＹ方向の幅φF1〜φF3は、それぞれ図
６(b),(d) に破線で示す最大視野領域の半径方向の長さ
に対応する。

【０１１３】このとき、Ｙ方向に隣接して配置された投
影光学系Ｄ1,Ｄ3 の光軸間距離をＫとすると、

【０１１４】

【数１】 φF1／２＋φF2＋φF3／２＞Ｋ …（１）を満足することが望ましい。ここで、φF1＝φF2＝φF3
＝φF （ただし、φF ：各投影光学系の取り得る最大の
視野領域のＹ方向の幅）とすると、上記（１）式は、以
下の如く書換えることができる。

【０１１５】

【数２】２φF ＞Ｋ …（２）すなわち、各投影光学系の取り得る最大の視野領域のＹ
方向の幅は、各投影光学系のＹ方向における光軸間距離
の半分以上であることが望ましい。ここで、各投影光学
系の配置が上記（１）式または（２）式の範囲から外れ
る場合には、各視野領域がＹ方向で重ならない恐れがあ
るため好ましくない。

【０１１６】また、平凸レンズ成分Ｌ1 〜Ｌ3 の直径
（Ｙ方向の長さ）をφL1〜φL3、凹面鏡Ｍ1 〜Ｍ3 の直
径（Ｙ方向の長さ）をφM1〜φM3とし、これらの直径の
なかで大きい方の直径（即ち、投影光学系Ｄ1,Ｄ2,Ｄ3
の外径の最大値）をφD1〜φD3とする。ここで、各投影
光学系Ｄ1,Ｄ2,Ｄ3 の構成が共に同じであるため、

【０１１７】

【数３】 φL1＝φL2＝φL3、 φM1＝φM2＝φM3、 φD1＝φD2＝φD3＝φD 、がそれぞれ成立する。このとき、各投影光学系の取り得
る最大の視野領域のＹ方向の幅をφF とすると、

【０１１８】

【数４】 φF ＞φD ／２ …（４）を満足することが望ましい。ここで、各投影光学系Ｄ1
〜Ｄ3 が上記（４）式を満足しない、即ち、各投影光学
系の取り得る最大の視野領域のＹ方向の幅φF が各投影
光学系の外径の最大値φD の半分以上でない場合には、
Ｙ方向に隣接して配置された投影光学系Ｄ1,Ｄ3 が互い
に干渉する恐れがあるため好ましくない。尚、投影光学
系の外径の最大値が光路を９０°偏向させる直角プリズ
ムにより定まるときには、上記外径の最大値φD を直角
プリズムのＹ方向の長さとすれば良い。また、上記
（１）式〜（４）式の関係は、ダイソン型光学系に限る
ことなく、オフナー型光学系にも適用できる。

【０１１９】さて、上述の実施例では、投影光学系とし
て２組の光学系を組み合わせているが、その代わりに、
図１０及び図１１に示す光学系を適用しても良い。図１
０は、ダイソン型光学系の直角プリズムの代わりに、ダ
ハ面を持つ直角ダハプリズム３４を適用したものであ
る。図１０において、直角プリズム３１、平凸レンズ成
分３２及び反射面３３ａを持つレンズ成分３３は、それ
ぞれ図４に示す直角プリズム２１、平凸レンズ成分２２
及びレンズ成分２３と同一の機能を有するため、ここで
は説明を省略する。２組の直角プリズムを有するダイソ
ン型光学系では、光軸に沿った方向の横倍率が正とな
り、かつ光軸直交方向（物体面及び像面に沿った方向）
の横倍率が負となる像を形成する。図１０の如き直角ダ
ハプリズム３４を有するダイソン型光学系では、ダハ面
によって、物体面及び像面内での光軸直交方向（紙面垂
直方向）の像向きが逆転するため、光軸に沿った方向
（Ｘ方向）及び物体面及び像面内での光軸直交方向（Ｙ
方向）の横倍率が共に正となる正立像を形成できる。

【０１２０】図１１は、光路を折り返すための反射面を
設けたダイソン型光学系の一例のレンズ構成図である。
図１１において、マスク８からの光は、光の入射方向
（Ｚ軸方向）に対して４５°に斜設された半反射面４１
ａによって、光路が９０°偏向されて、平凸レンズ成分
４２に入射する。なお、図１１に示す平凸レンズ成分４
２及び平凸レンズ成分４２に接合されるレンズ成分４３
は、それぞれ図４の平凸レンズ成分２２及びレンズ成分
２３と同一の機能を有する。

【０１２１】そして、平凸レンズ成分４２に入射した光
は、反射面４３ａにて反射され、再び平凸レンズ成分４
２を介して、平凸レンズ成分４２の射出側にマスク８の
１次像を形成する。この１次像形成位置には、反射面４
１ｂが設けられている。ここで、半反射面４１ａと反射
面４１ｂとは、反射部材４１に設けられている。そし
て、反射面４１ｂ上の１次像からの光は、もとの光路を
逆進して、平凸レンズ成分４２及びレンズ成分４３を介
した後、半反射面４１ａを透過する。半反射面４１ａの
透過方向には、光線の入射方向（透過方向）に対して１
１２．５°で斜設された反射面４４ａと、この反射面４
４ａに対して４５°で斜設された反射面４４ｂとを有す
る反射部材４４が設けられている。ここで、反射面４４
ａ，４４ｂがペンタプリズムの機能を有するため、この
反射部材４４に入射した光は、反射面４４ａ，４４ｂで
の反射により、光路が９０°偏向される。

【０１２２】反射面４４ａ，４４ｂで反射された光は、
反射部材４４の射出側にマスク８の２次像を形成する。
ここで、この２次像は、等倍の正立像となる。なお、図
１１においては、マスク８から反射面４１ｂまでの光路
長と、反射面４１ｂからプレート９までの光路長とが等
しくなるように構成している。ここで、図１１に示す投
影光学系においては、反射面４１ｂの形状が視野絞りの
形状となる。例えば、ＹＺ平面内で短辺が紙面上側とな
る台形状の反射面４１ｂである場合には、視野領域及び
露光領域は、ＸＹ平面で紙面右側に短辺が位置する台形
状の領域となる。なお、図１１の投影光学系において、
平凸レンズ成分４２及びレンズ成分４３の光軸近傍を通
過する光束は、反射面４１ｂに達しないため結像に寄与
しない。しかしながら、半反射面４１ａから反射面４３
ａへ向かう光路と反射面４１ｂから反射面４３ａへ向か
う光路とが混じることを避けるため、平凸レンズ成分４
２及びレンズ成分４３の光軸上及びその近傍を通過する
光束を用いることは少ない。従って、図１１のように、
平凸レンズ成分４２及びレンズ成分４３の光軸近傍を通
過する光束が遮光されていても、実用上何ら差し支えは
ない。

【０１２３】なお、図１０及び図１１に示す投影光学系
において、物体側と像側とを逆転させる構成であっても
良いことはいうまでもない。上述の如き図１１に示す投
影光学系では、ペンタプリズムと同様の機能を持つ２つ
の反射面４４ａ，４４ｂを適用していたが、その代わり
に、図１２に示す如く、光路折り返し用の反射面を２枚
の反射面で構成しても良い。図１２において、図１１の
投影光学系と異なる箇所は、Ｙ方向（紙面垂直方向）に
沿った稜線を持つダハ面を構成する２つの反射面５１
ｂ，５１ｃを光路折り返し用の反射面４１ｂの代わりに
設け、プレート９の面に対して４５に斜設された反射面
５４ａを２つの反射面４４ａ，４４ｂの代わりに設けた
点である。なお、図１２において、平凸レンズ成分５２
及び反射面５３ａを持つレンズ成分５３は、それぞれ図
１１の平凸レンズ成分４２及びレンズ成分４３と同一の
機能を有する。

【０１２４】図１２において、マスク８からの光は、半
反射面５１ａにて光路が９０°偏向され、平凸レンズ成
分５２及びレンズ成分５３を介して反射面５１ｂ，５１
ｃに達し、マスク８の１次像を形成する。この１次像
は、反射面５１ｂ，５１ｃによりその上下が逆転され、
再び平凸レンズ成分５２及びレンズ成分５３を介して、
半反射面５１ａを透過する。半反射面５１ａを透過した
光は、反射面５４ａにて光路が９０°偏向され、反射部
材５４から射出し、マスク８の２次像を形成する。ここ
で、この２次像は、等倍の正立像となる。

【０１２５】また、上記実施例では、等倍の正立像を得
る投影光学系として、平凸レンズ成分と凹面鏡とを持つ
ダイソン型光学系を適用しているが、投影光学系として
はダイソン型光学系に限られることはない。例えば、図
１３に示すように、凹面鏡、凸面鏡及び凹面鏡が順に配
列されたオフナー型光学系を適用することもできる。図
１３は、第１及び第２部分光学系として図１４(b) に示
すオフナー型光学系を適用したものであり、説明を簡単
にするために、図１４(b) に示す部材と同一の機能を有
する部材には、同じ符号を付してある。なお、図１３に
おいて、第１部分光学系が形成するマスク８の１次像形
成位置には、円弧形状の開口部を有する視野絞り２５が
設けられている。このような２組のオフナー型光学系に
よっても、両側（物体側及び像側）がテレセントリック
であり、物体の等倍の正立像を形成する投影光学系を得
ることができる。

【０１２６】以上から、等倍の正立像を得る投影光学系
としては、種々の構成を取り得ることが分かる。なお、
図１０に示す如き中間像（１次像）を形成しない投影光
学系や、図１２に示す如き中間像形成位置に視野絞りを
配置できない光学系においては、照明光学系による照明
領域の形状を所望の視野領域の形状と相似となるように
すれば良い。例えば、図２の照明光学系の視野絞り１０
７の開口部１０７ａ，１０７ｂの形状を台形状とすれ
ば、台形状の照明領域を得ることができる。

【０１２７】このように、本実施例による露光装置によ
れば、複数の投影光学系によって、走査方向と直交する
幅が広い露光領域を形成しているため、個々の投影光学
系を大型化することなく、露光領域の大画面化に対応で
きる。ここで、本実施例では、投影光学系の大型化を招
かないため、比例拡大による収差の増大を防止できる利
点がある。

【０１２８】また、本実施例では、画面を継ぐことな
く、一回の露光で大画面の露光が実行できるため、スル
ープットの向上が図れる利点や画面の継ぎ目が無くなる
利点がある。

【０１２９】

【発明の効果】以上のように本発明によれば、露光領域
が大きな場合でも、スループットを低下させずに、回路
パターンを転写できる露光装置が提供できる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の実施例の一例を示す斜視図である。

【図２】本発明による露光装置に適用される照明光学系
の一例を示す斜視図である。

【図３】照明光学系の変形例を模式的に示す図である。

【図４】本発明による露光装置に適用される投影光学系
のレンズ構成図である。

【図５】投影光学系の変形例を示すレンズ構成図であ
る。

【図６】視野絞りの形状の説明するための平面図であ
る。

【図７】投影光学系による視野領域とマスクとの平面的
な位置関係を示す図である。

【図８】プレート上の露光量分布を示す図である。

【図９】複数の投影光学系の配置関係を説明するための
平面図である。

【図１０】投影光学系の変形例を示すレンズ構成図であ
る。

【図１１】投影光学系の変形例を示すレンズ構成図であ
る。

【図１２】投影光学系の変形例を示すレンズ構成図であ
る。

【図１３】投影光学系としてオフナー型光学系を適用し
た場合のレンズ構成図である。

【図１４】従来の露光装置の一例を示す斜視図である。

【符号の説明】

２ａ〜２ｇ…投影光学系、８…マスク、９…プレー
ト、１０…照明光学系、

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】第１の物体と第２の物体とを移動させつ
つ前記第１の物体の像を前記第２の物体上へ投影露光す
る露光装置において、前記第１の物体の等倍の正立像を前記第２の物体上に形
成する第１及び第２の投影光学系を有し、前記第１及び第２の投影光学系は、少なくとも像側がテ
レセントリックで構成されることを特徴とする露光装
置。
【請求項２】前記第１及び第２の投影光学系は、光の
入射側に凹面を向けたレンズ面と、同じく光の入射側に
凹面を向けた反射面とを有するダイソン型光学系である
ことを特徴とする請求項１記載の露光装置。
【請求項３】前記第１及び第２の投影光学系は、第１
部分光学系と第２部分光学系とを有し、前記第２部分光
学系は、前記第１部分光学系が形成する物体の１次像か
らの光によって２次像を形成することを特徴とする請求
項１または２記載の露光装置。
【請求項４】前記第１及び第２部分光学系は、それぞ
れ光の入射側に凹面を向けた第１及び第２の反射面を有
し、該第１及び第２の反射面は、同一方向に凹面を向け
るように配置されることを特徴とする請求項３記載の露
光装置。
【請求項５】前記第１部分光学系による前記１次像が
形成される位置には、視野絞りが配置されることを特徴
とする請求項３または４記載の露光装置。
【請求項６】前記視野絞りは、略台形状の開口部を有
し、該開口部によって定まる露光領域の移動方向におけ
る長さの和は、前記移動方向と直交する方向において常
に等しくなる如く規定されることを特徴とする請求項５
記載の露光装置。
【請求項７】前記第１及び第２の投影光学系は、レン
ズと、凹面反射面とを有することを特徴とする請求項１
〜６の何れか一項記載の露光装置。
【請求項８】前記レンズと前記凹面反射面との間は空
間であることを特徴とする請求項７記載の露光装置。
【請求項９】前記第１及び第２の投影光学系は凹面反
射面を有することを特徴とする請求項１記載の露光装
置。
【請求項１０】前記第１の投影光学系は第１凹面反射
面を有し、前記第２の投影光学系は第２凹面反射面を有
し、前記第１及び第２凹面反射面は凹面が互いに向かい
合うように配置されることを特徴とする請求項９記載の
露光装置。
【請求項１１】前記第１の投影光学系は第３凹面反射
面を有し、前記第２の投影光学系は第４凹面反射面を有
し、前記第１及び前記第３凹面反射面は同一方向に凹面
を向けるように配置され、前記第２及び第４反射面は同
一方向に凹面を向けるように配置されることを特徴とす
る請求項１０記載の露光装置。
【請求項１２】前記第１及び第２の投影光学系は、前
記第１の物体からの光を偏向させて前記凹面反射面へ向
ける第１偏向部材と、前記凹面反射面で反射された光を
偏向させる第２偏向部材とを有することを特徴とする請
求項９記載の露光装置。
【請求項１３】前記第１及び第２の投影光学系は、前
記凹面反射面とは異なる別の凹面反射面と、前記第２偏
向部材からの光を偏向させて前記別の凹面反射面へ向け
る第３偏向部材と、前記別の凹面反射面で反射された光
を偏向させる第４偏向部材とを有することを特徴とする
請求項１２記載の露光装置。
【請求項１４】前記第１及び第２の投影光学系は、前
記第２偏向部材と前記第３偏向部材との間に前記第１物
体の中間像を形成することを特徴とする請求項１３記載
の露光装置。
【請求項１５】前記第１及び第２の投影光学系は、前
記第２偏向部材と前記第３偏向部材との間に配置された
視野絞りを有することを特徴とする請求項１４記載の露
光装置。
【請求項１６】前記凹面反射面と前記別の凹面反射面
とは同一方向に凹面を向けるように配置されることを特
徴とする請求項１３〜１５の何れか一項に記載の露光装
置。
【請求項１７】前記第１の物体の等倍の正立像を前記
第２の物体上に形成する第３の投影光学系をさらに有
し、前記第３の投影光学系は、少なくとも像側がテレセント
リックで構成されることを特徴とする請求項１記載の露
光装置。
【請求項１８】前記第３の投影光学系は、第１部分光
学系と第２部分光学系とを有し、前記第２部分光学系
は、前記第１部分光学系が形成する物体の１次像からの
光によって２次像を形成することを特徴とする請求項１
７記載の露光装置。
【請求項１９】前記第１及び第２部分光学系は、それ
ぞれ光の入射側に凹面を向けた第１及び第２の反射面を
有し、該第１及び第２の反射面は、同一方向に凹面を向
けるように配置されることを特徴とする請求項１８記載
の露光装置。
【請求項２０】前記第１部分光学系による前記１次像
が形成される位置には、視野絞りが配置されることを特
徴とする請求項１８または１９記載の露光装置。
【請求項２１】前記第１、第２及び第３の投影光学系
は凹面反射面を有することを特徴とする請求項１７記載
の露光装置。
【請求項２２】前記第１の投影光学系は第１凹面反射
面を有し、前記第２の投影光学系は第２凹面反射面を有
し、前記第３の投影光学系は第３凹面反射面を有し、前記第１及び第２凹面反射面は凹面が互いに向かい合う
ように配置され、前記第１及び第３凹面反射面は同一方向に凹面を向ける
ように配置されることを特徴とする請求項２１記載の露
光装置。
【請求項２３】前記第１の投影光学系は第４凹面反射
面を有し、前記第２の投影光学系は第５凹面反射面を有
し、前記第３の投影光学系は第６凹面反射面を有し、前記第１及び前記第４凹面反射面は同一方向に凹面を向
けるように配置され、前記第２及び第５反射面は同一方
向に凹面を向けるように配置され、前記第３及び第６反
射面は同一方向に凹面を向けるように配置されることを
特徴とする請求項２２記載の露光装置。
【請求項２４】前記第１、第２及び第３の投影光学系
は、前記第１の物体からの光を偏向させて前記凹面反射
面へ向ける第１偏向部材と、前記凹面反射面で反射され
た光を偏向させる第２偏向部材とを有することを特徴と
する請求項２１記載の露光装置。
【請求項２５】前記第１、第２及び第３の投影光学系
は、前記凹面反射面とは異なる別の凹面反射面と、前記
第２偏向部材からの光を偏向させて前記別の凹面反射面
へ向ける第３偏向部材と、前記別の凹面反射面で反射さ
れた光を偏向させる第４偏向部材とを有することを特徴
とする請求項２４記載の露光装置。
【請求項２６】前記第１、第２及び第３の投影光学系
は、前記第２偏向部材と前記第３偏向部材との間に前記
第１物体の中間像を形成することを特徴とする請求項２
５記載の露光装置。
【請求項２７】前記第１、第２及び第３の投影光学系
は、前記第２偏向部材と前記第３偏向部材との間に配置
された視野絞りを有することを特徴とする請求項２６記
載の露光装置。
【請求項２８】前記凹面反射面と前記別の凹面反射面
とは同一方向に凹面を向けるように配置されることを特
徴とする請求項２５〜２７の何れか一項に記載の露光装
置。
【請求項２９】前記第１の投影光学系中の前記凹面反
射面と前記第２の投影光学系中の前記凹面反射面とは凹
面が互いに向かい合うように配置され、前記第１の投影
光学系中の前記凹面反射面と前記第３の投影光学系中の
前記凹面反射面とは同一方向に凹面を向けるように配置
されることを特徴とする請求項２８記載の露光装置。
【請求項３０】第１の物体と第２の物体とを走査方向
に沿って移動させつつ前記第１の物体の像を第２の物体
上へ投影露光する露光装置において、前記第１物体からの光に基づいて、前記第２物体上に第
１の露光領域を形成する第１投影光学系と；前記第１物
体からの光に基づいて、前記第２物体上に前記第１の露
光領域とは異なる第２の露光領域を形成する第２投影光
学系と；を有し、前記第１及び第２の投影光学系は少なくとも像側がテレ
セントリックで構成されることを特徴とする露光装置。
【請求項３１】前記第１及び第２の露光領域は、非走
査方向に並んで配置されることを特徴とする請求項３０
記載の露光装置。
【請求項３２】前記第１及び第２の露光領域は、非走
査方向において異なる位置に配置されることを特徴とす
る請求項３０記載の露光装置。
【請求項３３】前記第１物体からの光に基づいて、前
記第２物体上に前記第１及び第２の露光領域とは異なる
第３の露光領域を形成し、少なくとも像側がテレセント
リックで構成される第３の投影光学系をさらに有し、前記第３の露光領域は前記第１の露光領域とは前記走査
方向において異なる位置に配置されることを特徴とする
請求項３２記載の露光装置。
【請求項３４】前記第１の露光領域と前記第２の露光
領域とは非走査方向において間隔をもって配置されるこ
とを特徴とする請求項３３記載の露光装置。
【請求項３５】前記第３の露光領域は前記第１及び第
２の露光領域の前記間隔の間を走査できるように位置決
めされることを特徴とする請求項３４記載の露光装置。
【請求項３６】前記第１及び第２の露光領域は、前記
走査方向において異なる位置に配置されることを特徴と
する請求項３０記載の露光装置。
【請求項３７】前記第１物体からの光に基づいて、前
記第２物体上に前記第１及び第２の露光領域とは異なる
第３の露光領域を形成し、少なくとも像側がテレセント
リックで構成される第３の投影光学系をさらに有し、前記第３の露光領域は前記第２の露光領域とは前記走査
方向において異なる位置に配置されることを特徴とする
請求項３６記載の露光装置。
【請求項３８】前記第１、第２及び第３の露光領域は
台形形状であり、前記第２の露光領域の前記台形の短辺
は前記第３の露光領域側へ向けられており、前記第３の
露光領域の前記台形の短辺は前記第２の露光領域側へ向
けられていることを特徴とする請求項３７記載の露光装
置。
【請求項３９】前記第１、第２及び第３の露光領域は
台形形状であり、前記第１の露光領域の前記台形の短辺
は前記第２の露光領域側へ向けられており、前記第２の
露光領域の前記台形の短辺は前記第１の露光領域側へ向
けられていることを特徴とする請求項３６記載の露光装
置。
【請求項４０】前記第１、第２及び第３の露光領域
は、台形形状または六角形形状であることを特徴とする
請求項３０〜３７の何れか一項記載の露光装置。
【請求項４１】第１の物体と第２の物体とを走査方向
に沿って移動させつつ前記第１の物体の像を第２の物体
上へ投影露光する露光装置において、前記第１物体からの光に基づいて、前記第２物体上に台
形形状の第１の露光領域を形成する第１投影光学系と；
前記第１物体からの光に基づいて、前記第２物体上の前
記第１の露光領域とは異なる位置に台形形状の第２の露
光領域を形成する第２投影光学系と；を有することを特
徴とする露光装置。
【請求項４２】前記第１及び第２の露光領域は、非走
査方向に並んで配置されることを特徴とする請求項４１
記載の露光装置。
【請求項４３】前記第１及び第２の露光領域は、非走
査方向において異なる位置に配置されることを特徴とす
る請求項４１記載の露光装置。
【請求項４４】前記第１物体からの光に基づいて、前
記第２物体上の前記第１及び第２の露光領域とは異なる
位置に台形形状の第３の露光領域を形成する第３の投影
光学系をさらに有し、前記第３の露光領域は前記第１の露光領域とは前記走査
方向において異なる位置に配置されることを特徴とする
請求項４３記載の露光装置。
【請求項４５】前記第１の露光領域と前記第２の露光
領域とは非走査方向において間隔をもって配置されるこ
とを特徴とする請求項４４記載の露光装置。
【請求項４６】前記第３の露光領域は前記第１及び第
２の露光領域の前記間隔の間を走査できるように位置決
めされることを特徴とする請求項４５記載の露光装置。
【請求項４７】前記第１及び第２の露光領域は、前記
走査方向において異なる位置に配置されることを特徴と
する請求項４１記載の露光装置。
【請求項４８】前記第１物体からの光に基づいて、前
記第２物体上の前記第１及び第２の露光領域とは異なる
位置に第３の露光領域を形成する第３の投影光学系をさ
らに有し、前記第３の露光領域は前記第２の露光領域とは前記走査
方向において異なる位置に配置されることを特徴とする
請求項４７記載の露光装置。
【請求項４９】第１の物体と第２の物体とを走査方向
に沿って移動させつつ前記第１の物体の像を第２の物体
上へ投影露光する露光装置において、台形形状の第１の視野領域を有する第１投影光学系と；
台形形状の第２の視野領域を有する第２投影光学系と；
を有し、前記第１の視野領域の台形の短辺は、前記第１投影光学
系が有する最大視野領域の円弧側に向けられており、前記第２の視野領域の台形の短辺は、前記第２投影光学
系が有する最大視野領域の円弧側に向けられていること
を特徴とする露光装置。
【請求項５０】前記第１及び第２投影光学系が有する
前記最大視野領域は半円状であることを特徴とする請求
項４９記載の露光装置。
【請求項５１】第１の物体と第２の物体とを走査方向
に沿って移動させつつ前記第１の物体の像を第２の物体
上へ投影露光する露光装置において、前記第１物体からの光に基づいて、前記第２物体上に第
１の露光領域を形成する第１投影光学系と；前記第１物
体からの光に基づいて、前記第２物体上に前記第１の露
光領域とは異なる第２の露光領域を形成する第２投影光
学系と；前記第１物体からの光に基づいて、前記第２物
体上に前記第１及び第２の露光領域とは異なる第３の露
光領域を形成する第３投影光学系と；を有し、前記第１、第２及び第３の投影光学系は少なくとも像側
がテレセントリックで構成されることを特徴とする露光
装置。
【請求項５２】前記第１及び第２の露光領域は、非走
査方向において異なる位置に配置されることを特徴とす
る請求項５１記載の露光装置。
【請求項５３】前記第３の露光領域は、前記走査方向
において前記第１及び第２の露光領域と異なる位置に配
置されることを特徴とする請求項５２記載の露光装置。
【請求項５４】前記第１の露光領域と前記第２の露光
領域とは非走査方向において間隔をもって配置され、前記第３の露光領域は前記第１及び第２の露光領域の前
記間隔の間を走査できるように位置決めされることを特
徴とする請求項５２または５３記載の露光装置。
【請求項５５】第１の物体と第２の物体とを走査方向
に沿って移動させつつ前記第１の物体の像を第２の物体
上へ投影露光する露光装置において、前記第１物体からの光に基づいて、前記第２物体上に第
１の露光領域を形成する第１投影光学系と；前記第１物
体からの光に基づいて、前記第２物体上に前記第１の露
光領域とは異なる第２の露光領域を形成する第２投影光
学系と；を有し、前記第１及び第２投影光学系は少なくとも像側テレセン
トリックに構成され、前記第１及び第２の露光領域の前記走査方向における幅
の和は、前記走査方向と直交する走査直交方向において
一定であることを特徴とする露光装置。
【請求項５６】第１の物体と第２の物体とを走査方向
に沿って移動させつつ前記第１の物体の像を第２の物体
上へ投影露光する露光装置において、前記第１物体からの光に基づいて、前記第２物体上に第
１の露光領域を形成する第１投影光学系と；前記第１物
体からの光に基づいて、前記第２物体上に前記第１の露
光領域とは異なる第２の露光領域を形成する第２投影光
学系と；を有し、前記第１及び第２投影光学系の光軸は、前記第１の物体
の面内方向と平行であることを特徴とする露光装置。
【請求項５７】前記第１及び第２投影光学系は前記第
１の物体上の第１及び第２視野領域を有し、前記第１及び第２投影光学系の取り得る最大の視野領域
の前記走査方向と直交する方向の幅をφ_Fとし、前記第
１及び第２投影光学系の光軸間距離をＫとするとき、２φ_F＞Ｋを満足することを特徴とする請求項５６記載の露光装
置。
【請求項５８】前記第１及び第２投影光学系は前記第
１の物体上の第１及び第２視野領域を有し、前記第１及び第２投影光学系の取り得る最大の視野領域
の前記走査方向と直交する方向の幅をφ_Fとし、前記第
１及び第２投影光学系の外径の最大値をφ_Dとすると
き、 φ_F＞φ_D／２を満足することを特徴とする請求項５６または５７記載
の露光装置。
【請求項５９】第１の物体と第２の物体とを走査方向
に沿って移動させつつ前記第１の物体の像を第２の物体
上へ投影露光する露光装置において、前記第１物体からの光に基づいて、前記第２物体上に第
１の露光領域を形成する第１投影光学系と；前記第１物
体からの光に基づいて、前記第２物体上に前記第１の露
光領域とは異なる第２の露光領域を形成する第２投影光
学系と；を有し、前記第１及び第２投影光学系は前記第１の物体上の第１
及び第２視野領域を有し、前記第１及び第２投影光学系
の取り得る最大の視野領域の前記走査方向と直交する方
向の幅をφ_Fとし、前記第１及び第２投影光学系の外径
の最大値をφ_Dとするとき、 φ_F＞φ_D／２を満足することを特徴とする露光装置。
【請求項６０】第１の物体と第２の物体とを走査方向
に沿って移動させつつ前記第１の物体の像を第２の物体
上へ投影露光する露光装置において、前記第１物体からの光に基づいて、前記第２物体上に第
１の露光領域を形成する第１投影光学系と；前記第１物
体からの光に基づいて、前記第２物体上に前記第１の露
光領域とは異なる第２の露光領域を形成する第２投影光
学系と；を有し、前記第１及び第２投影光学系は前記第１の物体上の第１
及び第２視野領域を有し、前記第１及び第２投影光学系
の取り得る最大の視野領域の前記走査方向と直交する方
向の幅をφ_Fとし、前記第１及び第２投影光学系の光軸
間距離をＫとするとき、２φ_F＞Ｋを満足することを特徴とする露光装置。
【請求項６１】前記第１及び第２投影光学系は少なく
とも像側テレセントリックで構成されることを特徴とす
る請求項５９または６０記載の露光装置。
【請求項６２】第１の物体と第２の物体とを走査方向
に沿って移動させつつ前記第１の物体の像を第２の物体
上へ投影露光する露光装置において、前記第１物体からの光に基づいて、前記第２物体上に第
１の露光領域を形成する第１投影光学系と；前記第１物
体からの光に基づいて、前記第２物体上に前記第１の露
光領域とは異なる第２の露光領域を形成する第２投影光
学系と；を有し、前記第１及び第２投影光学系は少なくとも像側テレセン
トリックで構成され、かつダハ面を有することを特徴と
する露光装置。
【請求項６３】マスクと感光性基板とを走査方向に沿
って移動させつつ前記マスクの像を前記感光性基板上へ
投影露光する露光装置において、前記マスク上の第１視野領域からの光に基づいて、前記
感光性基板上に第１の露光領域を形成する第１の投影光
学系と；前記マスク上の第２視野領域からの光に基づい
て、前記感光性基板上に前記第１の露光領域とは異なる
第２の露光領域を形成する第２の投影光学系と；を備
え、前記第１視野領域は前記マスク上の回路パターン領域の
縁と一致する辺を有することを特徴とする露光装置。
【請求項６４】第１物体の像を第２物体上へ投影露光
する露光方法において、像側テレセントリックな光束に基づいて前記第１物体の
正立像を第１の露光領域上に形成する第１工程と；前記
像側テレセントリックな光束とは異なる別の像側テレセ
ントリックな光束に基づいて前記第１物体の正立像を前
記第１の露光領域とは異なる第２の露光領域上に形成す
る第２工程と；前記第１物体と前記第２物体とを走査方
向に沿って移動させる第３工程と；を有することを特徴
とする露光方法。
【請求項６５】前記第１及び第２工程は、凹面反射鏡
で光を反射させる補助工程を有することを特徴とする請
求項６４記載の露光方法。
【請求項６６】前記第１及び第２工程は、それぞれ前
記第１物体の中間像を形成する補助工程を有することを
特徴とする請求項６４記載の露光方法。
【請求項６７】前記第１及び第２工程は、それぞれ前
記中間像から２次像を形成する補助工程を有することを
特徴とする請求項６６記載の露光方法。
【請求項６８】前記第１及び第２工程は、それぞれ凹
面反射鏡で光を反射させて前記中間像へ導く補助工程
と、凹面反射鏡で光を反射させて前記２次像へ導く補助
工程とを有することを特徴とする請求項６７記載の露光
方法。
【請求項６９】前記第１及び第２工程は、それぞれ視
野絞りに光を通す補助工程を有することを特徴とする請
求項６７〜６８の何れか一項に記載の露光方法。
【請求項７０】前記第１工程中の前記凹面反射鏡で光
を反射させる補助工程と、前記第２工程中の前記凹面反
射鏡で光を反射させる補助工程とでは、互いに反対側へ
光を反射させることを特徴とする請求項６５記載の露光
方法。
【請求項７１】前記第１及び第２工程は、それぞれレ
ンズに光を通過する補助工程を有することを特徴とする
請求項６５記載の露光方法。
【請求項７２】前記第１及び第２工程は、第１凹面反
射鏡で光を反射させる第１補助工程と、第１補助工程の
後に前記第１物体の中間像を形成する第２補助工程と、
第２補助工程の後に第２凹面反射鏡で光を反射させる第
３補助工程とをそれぞれ有することを特徴とする請求項
６５記載の露光方法。
【請求項７３】前記第１及び第２工程は、前記第１物
体からの光を前記第１凹面反射鏡へ向けて偏向させる第
４補助工程と、前記第１凹面反射鏡からの光を前記中間
像へ向けて偏向させる第５補助工程と、前記中間像から
の光を前記第２凹面反射鏡へ向けて偏向させる第６補助
工程と、前記第２凹面反射鏡からの光を前記第２物体へ
向けて偏向させる第７補助工程とをそれぞれ有すること
を特徴とする請求項７２記載の露光方法。
【請求項７４】前記第１及び第２工程は、前記第４補
助工程にて偏向された光を第１レンズに導いた後に前記
第１凹面反射鏡へ導く第８補助工程と、前記第１凹面反
射鏡にて反射された光を前記第１レンズに導く第９補助
工程と、前記第６補助工程にて偏向された光を第２レン
ズに導いた後に前記第２凹面反射鏡へ導く第１０補助工
程と、前記第２凹面反射鏡にて反射された光を前記第２
レンズに導く第１０補助工程とをさらに有することを特
徴とする請求項７３記載の露光方法。
【請求項７５】前記第１工程中の前記第４補助工程で
の光の偏向する方向と、前記第２工程中の前記第４補助
工程での光の偏向する方向は逆向きであることを特徴と
する請求項７３または７４記載の露光方法。
【請求項７６】前記第１工程中の前記第６補助工程で
の光の偏向する方向と、前記第２工程中の前記第６補助
工程での光の偏向する方向とは逆向きであることを特徴
とする請求項７３〜７５の何れか一項記載の露光方法。
【請求項７７】前記第１及び第２工程は、第１凹面反
射鏡で光を反射させる第１補助工程と、第２凹面反射鏡
で光を反射させる第２補助工程とを有することを特徴と
する請求項６５記載の露光方法。
【請求項７８】前記第１補助工程での光の反射方向と
前記第２補助工程での光の反射方向とは同一方向である
ことを特徴とする請求項７７記載の露光方法。
【請求項７９】前記第１工程中の前記第１補助工程で
の光の反射方向と、前記第２工程中の前記第１補助工程
での光の反射方向とは逆向きであることを特徴とする請
求項７８記載の露光方法。
【請求項８０】前記第１及び第２工程は、前記第１物
体からの光を前記凹面反射鏡へ偏向させる偏向補助工程
をさらに有し、前記第１工程中の偏向補助工程での光の偏向方向と、前
記第２工程中の偏向補助工程での光の偏向方向とは逆向
きであることを特徴とする請求項６５記載の露光方法。
【請求項８１】前記第１及び第２の露光領域は、走査
方向と直交する方向において一部重複することを特徴と
する請求項６４記載の露光方法。
【請求項８２】像側テレセントリックな光束に基づい
て前記第１物体の正立像を前記第１及び第２の露光領域
とは異なる第３の露光領域上に形成する第４工程をさら
に有することを特徴とする請求項６４記載の露光方法。
【請求項８３】前記第１及び第２の露光領域は、非走
査方向に沿って並んで配置されることを特徴とする請求
項６４記載の露光方法。
【請求項８４】前記第１及び第２の露光領域は、非走
査方向において異なる位置に配置されることを特徴とす
る請求項６４記載の露光方法。
【請求項８５】像側テレセントリックな光束に基づい
て前記第１物体の正立像を前記第１及び第２の露光領域
とは異なる第３の露光領域上に形成する第４工程をさら
に有することを特徴とする請求項８４記載の露光方法。
【請求項８６】前記第３の露光領域は、前記走査方向
において前記第１の露光領域とは異なる位置に配置され
ることを特徴とする請求項８５記載の露光方法。
【請求項８７】前記第１及び第３の露光領域は、前記
非走査方向で間隔を持つように配置されることを特徴と
する請求項８６記載の露光方法。
【請求項８８】前記第１及び第２の露光領域は、前記
走査方向において異なる位置に配置されることを特徴と
する請求項６４記載の露光方法。
【請求項８９】像側テレセントリックな光束に基づい
て前記第１物体の正立像を前記第１及び第２の露光領域
とは異なる第３の露光領域上に形成する第４工程をさら
に有することを特徴とする請求項８８記載の露光方法。
【請求項９０】前記第３の露光領域は、前記走査方向
において前記第２の露光領域とは異なる位置に配置され
ることを特徴とする請求項８９記載の露光方法。
【請求項９１】前記第１及び第２の露光領域は、台形
形状または六角形形状であることを特徴とする請求項６
４〜９０の何れか一項に記載の露光方法。
【請求項９２】第１物体の像を第２物体上へ投影露光
する露光方法において、請求項１〜６３の何れか一項記載の露光装置を用いて前
記第２物体上に前記第１物体の像を形成しつつ前記第１
及び第２物体を移動させることを特徴とする露光方法。
【請求項９３】前記第１物体と前記第２物体とを移動
させつつ前記第１物体の像を一回の露光で第２物体上へ
転写することを特徴とする請求項６４〜９２の何れか一
項記載の露光方法。
【請求項９４】第１物体上のパターンを第２物体へ転
写する露光装置に組合せられて、前記第１物体を照明す
る照明装置において、照明光を供給する光源と；該光源からの照明光を複数の
照明光に分岐する照明分岐手段と；該照明分岐手段によ
って分岐された前記複数の照明光を、前記第１物体上の
複数の照明領域へそれぞれ導く導光手段と；を備えるこ
とを特徴とする照明装置。
【請求項９５】前記光源とは異なる別の光源をさらに
備え、該別の光源からの照明光は前記照明分岐手段へ導かれる
ことを特徴とする請求項９４記載の照明装置。
【請求項９６】前記照明分岐手段は、複数の入射端か
らの光を複数の射出端へ導くライトガイドを有すること
を特徴とする請求項９５記載の照明装置。
【請求項９７】前記照明分岐手段は、入射端からの光
を複数の射出端へ導くライトガイドを有することを特徴
とする請求項９４記載の照明装置。
【請求項９８】前記ライトガイドは、ランダムに束ね
られた光ファイバを有することを特徴とする請求項９６
または９７記載の照明装置。
【請求項９９】前記第１物体上の前記複数の照明領域
は台形形状であることを特徴とする請求項９４〜９８の
何れか一項記載の照明装置。
【請求項１００】前記第１物体と共役に配置された照
明視野絞りを有することを特徴とする請求項９４〜９９
の何れか一項記載の照明装置。
【請求項１０１】第１物体と第２物体とを走査方向に
沿って移動させつつ前記第１物体上のパターンを前記第
２物体へ転写する露光装置に組合せられることを特徴と
する請求項９４〜１００の何れか一項記載の照明装置。
【請求項１０２】前記複数の照明領域は、第１の照明
領域と該第１の照明領域とは異なる第２の照明領域とを
備え、前記第１及び第２の照明領域は前記走査方向において異
なる位置に形成されることを特徴とする請求項１０１記
載の照明装置。
【請求項１０３】前記複数の照明領域は、前記第１及
び第２の照明領域とは異なる第３の照明領域を備え、該第３の照明領域は前記走査方向において前記第２の照
明領域とは異なる位置に形成されることを特徴とする請
求項１０２記載の照明装置。
【請求項１０４】前記複数の照明領域は、第１の照明
領域と該第１の照明領域とは異なる第２の照明領域とを
備え、前記第１及び第２の照明領域は非走査方向において異な
る位置に形成されることを特徴とする請求項１０１記載
の照明装置。
【請求項１０５】前記複数の照明領域は、前記第１及
び第２の照明領域とは異なる第３の照明領域を備え、該第３の照明領域は前記走査方向において前記第１及び
第２の照明領域とは異なる位置に形成されることを特徴
とする請求項１０４記載の照明装置。
【請求項１０６】前記第１物体の像を第２物体上に形
成する複数の投影光学系を備える露光装置と組合せられ
ることを特徴とする請求項９４〜１０５の何れか一項記
載の照明装置。
【請求項１０７】前記複数の投影光学系は前記第１物
体上に複数の視野領域を有し、前記複数の照明領域は前記複数の視野領域と相似である
ことを特徴とする請求項１０６記載の照明装置。
【請求項１０８】前記複数の投影光学系は視野絞りを
有しないことを特徴とする請求項１０７記載の照明装
置。
【請求項１０９】所定のパターンが形成されたマスク
を照明する照明方法において、光源から照明光を供給し、該光源からの前記照明光を複数の照明光に分岐し、該分岐された複数の照明光を前記マスク上の複数の照明
領域へそれぞれ導くことを特徴とする照明方法。
【請求項１１０】前記光源とは異なる別の光源からの
照明光を供給し、前記光源及び前記別の光源からの前記照明光を複数の照
明光に分岐することを特徴とする請求項１０９記載の照
明方法。
【請求項１１１】前記照明光を前記複数の照明光に分
岐する際に、複数の入射端からの光を複数の射出端へ導
くライトガイドを用いることを特徴とする請求項１１０
記載の照明方法。
【請求項１１２】前記照明光を前記複数の照明光に分
岐する際に、入射端からの光を複数の射出端へ導くライ
トガイドを用いることを特徴とする請求項１０９記載の
照明方法。
【請求項１１３】前記ライトガイドとして、ランダム
に束ねられた光ファイバを用いることを特徴とする請求
項１１１または１１２記載の照明方法。
【請求項１１４】前記第１物体上に複数の台形形状の
照明領域を形成することを特徴とする請求項１０９〜１
１３の何れか一項記載の照明方法。
【請求項１１５】前記第１物体と共役に配置された照
明視野絞りに光を導く工程を有することを特徴とする請
求項１０９〜１１４の何れか一項記載の照明方法。
【請求項１１６】前記複数の照明領域は、前記パター
ンが形成される前記第１物体上の領域の縁に一致する辺
を有する第１の照明領域を有することを特徴とする請求
項１０９記載の照明方法。
【請求項１１７】前記複数の照明領域は、前記第１の
照明領域とは異なる第２の照明領域を有し、前記第２の照明領域は、台形形状または六角形形状であ
ることを特徴とする請求項１１６記載の照明方法。
【請求項１１８】前記第１物体上のパターンを前記第
２物体へ転写する露光方法において、請求項１０９〜１
１７の何れか一項記載の照明方法を用いて前記第１物体
上の複数の照明領域内を照明することを特徴とする露光
方法。
【請求項１１９】第１物体と第２物体とを走査方向に
沿って移動させつつ前記第１物体上のパターンを前記第
２物体へ転写する露光方法において、請求項１０９〜１
１７の何れか一項記載の照明方法を用いて前記第１物体
上の複数の照明領域内を照明することを特徴とする露光
方法。
【請求項１２０】前記第１物体上のパターンの像を前
記第２物体上に形成することを特徴とする請求項１１８
または１１９記載の露光方法。
【請求項１２１】前記第１物体上のパターンの像を第
２物体上の複数の領域に形成することを特徴とする請求
項１１８または１１９記載の露光方法。
【請求項１２２】所定のパターンが形成されたマスク
を照明する照明方法において、請求項９４〜１０８の何れか一項記載の照明装置を用い
て前記マスク上に前記複数の照明領域を形成することを
特徴とする照明方法。