KR100319216B1 - 노광장치 - Google Patents

노광장치 Download PDF

Info

Publication number
KR100319216B1
KR100319216B1 KR1019940015475A KR19940015475A KR100319216B1 KR 100319216 B1 KR100319216 B1 KR 100319216B1 KR 1019940015475 A KR1019940015475 A KR 1019940015475A KR 19940015475 A KR19940015475 A KR 19940015475A KR 100319216 B1 KR100319216 B1 KR 100319216B1
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
light
optical system
exposure
area
projection optical
Prior art date
Application number
KR1019940015475A
Other languages
English (en)
Other versions
KR950001393A (ko
Inventor
다나까마사시
구마가와마사토
카토키냐
Original Assignee
시마무라 테루오
가부시키가이샤 니콘
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Priority claimed from JP16158893A external-priority patent/JP3348467B2/ja
Priority claimed from JP34561993A external-priority patent/JP3316710B2/ja
Application filed by 시마무라 테루오, 가부시키가이샤 니콘 filed Critical 시마무라 테루오
Publication of KR950001393A publication Critical patent/KR950001393A/ko
Application granted granted Critical
Publication of KR100319216B1 publication Critical patent/KR100319216B1/ko

Links

Abstract

본 발명은 제 1 물체 및 두번째 물체를 특정한 이동 방향으로 이동하는 동안 제 2 물체위에 제 1 물체의 상의 투영 노광시키기 위한 노광 장치에 관한 것이다. 본 발명의 노광 장치는 제 2 물체위에 제 1 물체의 실제-크기 정립상을 형성시키기 위한, 적어도 영상 측면상에 텔레센트릭한 제 1 투영 광학계, 제 1 물체위에 제 2 물체의 실제-크기 정립상을 형성시키기 위한, 적어도 영상 측면상에 텔레센트릭하며 제 1 투영 광학계 다음에 배치된 제 2 투영 광학계, 상기 제 1 투영 광학계에 의해 상기 제 2 물체위에 형성되는 노광 영역을 특정한 형상내에 한정하기위한 제 1 필드 스톱, 상기 제 2 투영 광학계에 의해 상기 제 2 물체위에 형성되는 노광 영역을 특정한 형상내에 한정하기위한 제 2 필드 스톱으로 이루어짐을 특징으로 한다. 이때에 상기 이동 방향에 따르는 길이, 상기 제 1 필드 스톱에 의해 제한되는 제 1 노광 영역 및 상기 이동 방향에 따르는 길이, 상기 제 2 필드 스톱에 의해 제한되는 제 2 노광 영역의 합은 상기 이동 방향에 수직인 방향에 걸쳐 일정하다.

Description

노광장치
본 발명은 노광장치에 관하고, 더욱 상세하게는 제1물체 및 제2물체가 이동하는 동안 노광을 수행하는 주사 투명 노광장치(scanning projection exposure apparatus)에 관한 것이다.
워드프로세서, 개인용 컴퓨터, 텔레비젼 등을 위한 디스플레이 장치로서 액정 디스플레이 패널이 요즘 종종 이용되고 있다.
액정 디스플레이 패널은 사진 인쇄 기술에 의해 유리 기판상에 목적하는 형상으로 투명 박막 전극을 주조함으로써 제작한다.
석판용 장치로서 거울 투영형 정렬장치(aligner)는 투영광학계를 통해 유리 기판상 내광층 위의 마스크에 형성된 원형을 노광-인쇄하는 데에 사용된다.
제1도 및 제2도는 통상적인 거울 투영형 정렬장치의 구조를 도시하는 도면이다.
제1도는 정렬장치의 전체 구조를 도시하는 투시도이고 제2도는 정렬장치에서 투영광학계의 구조를 도시하는 렌즈 횡단면도이다.
제1도에서 도시되지 많은 조명광학계는 호상 조명필드(illumination field)(72a)에서 마스크(71c)를 조명하지는 않는다.
조명필드(72a)로부터 빛의 광학적 경로는 제2도에 도시된 바와 같이 사다리꼴 거울(73)의 제1반사면(74)에 의해 90° 굴절되어 이 굴절된 빛이 오목거울(74) 및 볼록거울(75)를 통해 진행하여 오목거울(74)에 의해 다시 굴절된다.
오목거울(74)에 의해 굴절된 빛의 광학적 경로는 사다리꼴 거울의 제2굴절면(73b)에 의해 90° 굴절된다.
마스크(71c)의 상 및 조명필드(72b)의 상을 플레이트(76)상에 형성한다.
상기 정렬장치는 소위 주사 노광을 수행함으로써 도면의 X 방향으로 플레이트(76) 및 마스크(71c)를 이동하는 동안에 마스크(71c)상의 회로 패턴이 플레이트(76)상의 선택된 영역위로 전송한다.
최근에는 액정 디스플레이 패널에 크기를 증가시키는 것이 요구되고 있다.
이러한 크기 증가의 요구는 상기 정렬장치 또한 노광 영역을 확대할 것을 요구하는 것이 된다.
노광 영역의 확대에 대한 요구를 충족시키기 위해 상기의 통상적인 노광 장치는 노광부위를 조각으로 나누는 노광방법을 사용하였다.
특이하게는 제1도에 나타내는 바와 같이, 플레이트(76)상의 노광부위를 76a∼76d의 4개의 영역으로 나누고 마스크(71a) 및 영역(76a)를 주사 노광하여 마스크(71a)의 회로패턴을 전송된다.
그 다음에, 마스크(71a)를 또 다른 마스크(71b)로 교환하고 영역(76b)를 투영광학계의 노광 영역과 일치시키기 전에 플레이트(76)을 제1도의 XY면에 단계적으로 이동시킨다.
마스크(71b) 및 영역(76b)의 주사노광에 의해 마스크(71b)의 회로패턴은 영역(76b)상에 전송된다.
그 후에 마스크(71c) 및 (71d) 및 영역(76c) 및 (76d)에 대해 반복함으로써마스크(71c) 및 (71d)의 회로패턴을 상응하는 영역(76c) 및 (76d)상에 전송한다.
이러한 분할된 노광 부위에 의한 노광에 있어서, 단일 노광 영역을 위해 다중 주사 노광 단계가 채택되어야 하며, 이는 시스템효율(단위 시간당 노광된 기판의 양)을 감소시킨다.
또한, 구분 노광의 경우에는 두 개의 인접한 노광 영역 사이에 이음새 또는 스티칭한 부분이 있어서 스티칭의 정확도가 높아져야 한다.
이러한 조건 때문에, 이 방법은 투영광학계의 오차의 증가는 가능한한 0에 근접하도록 감소시켜야 하며, 얼라인먼트 정확도가 크게 개선되어야 하여, 장치의 생산비가 증가되는 단점이 있었다.
한편, 구분 노광 대신에 단일 거대 노광의 전체 주사노광를 위해 투영광학계의 규모를 증가시키는 것이 고려될 수 있다.
그리나, 투영광학계 규모를 증가시키기 위해서는 대규모 광학소자를 고도의 정확성을 가지고 제조하여야 하므로, 생산비 및 장치의 크기가 증가하는 결과를 가져온다.
또한, 투영광학계의 크기의 증가는 수차(aberration)를 증가시키고 영상화 성능의 감소를 가져온다.
본 발명은 상기의 문제점을 해결하고자 이루어진 것으로, 본 발명의 목적은 우수한 영상화 성능을 가지며 시스템 효율을 저하시킴 없이 대형 노광영역의 완전 주사 노광을 인식할 수 있는 노광장치를 제공하는 것이다.
상기 목적 및 다른 목적은 다음의 설명에 의해 보다 명확해진다.
본 발명에 따르면 제2물체위에 제1물체의 실제-크기 정립상을 형성시키기 위한 적어도 영상 측면상에 텔레센트릭한 제1투영광학계; 제1물체위에 제2물체의 실제-크기 정립상을 형성시키기 위한, 적어도 영상측면상에 텔레센트릭하며 제1투영광학계 다음에 배치된 제2투영광학계 ; 상기 제1투영광학계에 의해 상기 제2물체위에 형성되는 노광 영역을 특정한 형상내에서 한정하기 위한 제1필드 스톱(field stop); 상기 제2투영광학계에 의해 상기 제2물체위에 형성되는 노광 영역을 특정한 형상내에서 한정하기 위한 제2필드 스톱으로 이루어지며, 이 때에 상기 이동방향에 따르는 길이, 상기 제1필드 스톱에 의해 제한되는 제1노광 영역 및 상기 이동방향에 따르는 길이, 상기 제2필드 스톱에 의해 제한되는 제2노광 영역의 합은 상기 이동방향에 수직인 방향에 걸쳐 일정함을 특징으로 하여, 제1물체 및 제2물체가 특정한 방향으로 이동하는 동안, 상기 제2물체에 제1물체의 상의 투영 노광시키기 위한 노광장치가 제공된다.
본 발명에 있어서, 주사노광장치는 제1물체로서 마스크상에 형성된 회로 패턴의 실제-크기 정립상(양성 수평 및 수직 측면 배율의 상)은 제2물체로서 플레이트상의 다수의 투영광학계를 통해 전송된다.
각각의 투영광학계를 통해 플레이트상에 형성된 다수의 노광 영역은 배열되어 주사 방향을 따라 길이의 합이 주사 방향에 수직인 방향에 대해 일정한데, 즉, 노광광의 양은 전체 플레이트 표면에 걸쳐 일정하게 된다.
다수의 투영광학계가 배열되어 주사 방향을 따라 노광 영역의 넓이의 합이 주사 방향에 수직인 방향으로 일정하기 때문에, 단일 주사노광은 밀접한 투영광학계로도 전체적으로 넓은 노광 영역 및 그럼으로써 작은 노광 영역을 성취할 수 있다.
또한, 각각의 투영광학계는 밀접하므로, 주사노광은 수차의 발생을 최소화하고 우수한 영상화 성능을 유지하도록 제조될 수 있다.
각각의 투영광학계가 두 개의 부분 광학계로 구성되어 있고, 플레이트상에 형성된 각각의 노광 영역이 마스크 패턴의 중간 영상이 제1부분 광학계를 통해 형성되는 위치에 배치된 필드 스톱에서 개구의 형상에 의해 정해진 경우에는, 바람직한 배치는 개구의 가장자리가 삼각형이고, 주사 방향으로 인접 개구의 삼각형 가장자리와 중첩되는 것이다.
부분 광학계가 다이손 광학계인 경우에는, 그 양 가장자리를 제외한 각 개구의 중심 부분은 바람직하게는 두 개의 직선에 의해 정해진다.
부분광학계가 오프너(offner)광학계인 경우에는 그 중심부분은 바람직하게는 두 개의 호(arc) 및 두 개의 꺽은 선(polygonal line)에 의해 정해진다.
본 발명은 하기 상세한 설명 및 첨부된 도면에 의해 보다 충분히 이해되나, 이들은 예시로서 기재된 것이므로 이들에 의해 본 발명이 제한되는 것은 아니다.
또한, 본 발명의 범위는 이하 주어진 상세한 설명에 의해 명확하게 된다.
그러나, 발명의 상세한 설명 및 특정한 실시예는 본 발명의 바람직한 실시예를 제시하는 것이고 단지 예시하는 것일 뿐, 본 발명의 원리 및 범위내에서 다양한 변형 및 응용은 상세한 설명으로부터 본 기술분야의 기술가에게는 명백한 것으로 이해된다.
(실시예)
본 발명에 따른 실시예는 도면에 의거하여 기재된다.
제3도는 본 발명에 따른 노광장치의 투시도이다.
제3도는 X축을 예정된 회로패턴으로 제공된 마스크(8) 및 저항 피복을 유리 기판상에 부여하는 플레이트의 운송방향(주사 방향)으로 택하고, Y축은 마스크(8) 평면에서 X 방향에 수직인 방향이며, Z축은 마스크(8)에 법선 방향인 좌표계를 사용한다.
제3도에서는 조명광학계(10)으로부터의 노광광이 도면의 XY평면에 마스크(8)를 고르게 조명하고 있다.
적합한 조명광학계(10)은 예를들어 제4도에 도시된 바와 같은 구조를 갖는 것이다.
제4도는 제3도에 도시한 조명광학계(10)의 특이적 구조의 예를 도시한 도면이다.
제4도에서는 타원거울(102) 내부에 예를 들어 g선(435nm) 또는 i선(365nm)의 노광광을 공급하는 수은 등과 같은 광원이 있으며, 광원으로부터의 노광광은 타원거울(102)에 의해 수집되어 광가이드(103)의 입구 말단에서 광원의 상을 형성한다.
광가이드(103)은 그 출구 말단(103a, 103b)에 균일한 광학적 강도의 분산을 하여 제2광원 평면을 형성한다.
균일한 광학적 강도의 분산은 광섬유의 광가이드(103)을 무작위의 다발로 제조함으로써 수득될 수 있다.
광가이드(103)으로부터 나온 빔(beam)은 각 릴레이 렌즈(104a, 104b)를 통과하여 파리눈 렌즈(105a, 105b)에 도달한다.
다수의 제2광원은 파리눈 렌즈(105a, 105b)의 출구 평면상에 형성된다.
다수의 제2광원의 광은 그 정면 촛점이 제2광원이 형성된 위치에 있는 집광렌즈(106a, 106b)를 통과하여 사각형 개구(107a, 107b)를 갖는 필드 스톱(107)을 조명한다.
필드 스톱(107)을 통과한 노광광 빔은 각각 렌즈(108a, 108b)를 통과한 다음, 거울(109a, 109b)에 의해 광 경로가 90° 굴절되어 렌즈(110a, 110b)에 도달한다.
대기에서 렌즈(108a, 110a) 및 렌즈(108b, 110b)는 렌즈(110a, 110b)를 통과하는 노광광이 필드 스톱(107)의 개구(107a, 107b)의 상으로서 조명 영역(111a, 111b)를 형성하기 위하여 마스크(8)과 함께 필드 스톱(107)을 제조하는 릴레이 광학계이다.
필드 스톱(107)의 개구(107a, 107b)의 형상은 사각형으로 제한되지 않는 다는 것을 주목해야 한다.
조명 영역의 형상은 가능한한 투영광학계의 필드의 형상과 유사한 것이 바람직하다.
제4도는 간결하게 예시하기 위해 조명 영역(111c∼111g)를 형성하기 위한 조명광학계의 광학축만을 도시하였다.
제4도에는 나타내지 않았지만 광가이드(103)의 출구 말단은 조명 영역의 수에 상응하도록 조정하고 기재하지 않은 광가이드(103)의 출구 말단으로부터의 노광광을 이들 조명 영역(111c∼111g)에 제공한다.
광원이 제4도에 나타낸 바와 같이 광량면에서 불충분한 경우에는 제 5도에 도시된 바와 같은 배열을 사용할 수 있다.
제5도는 수은 등과 같은 광원(201a∼201c)로부터의 노광광을 타원거울(202a∼202c)에 의해 수집하여 광원 상을 형성하도록 변형된 조명광학계의 주요부를 도식적으로 도시한 도면이다.
광가이드(203)은 광원 상이 형성된 위치에서 입구 말단과 함께 있으며, 광 가이드(203)을 통과한 노광광은 다수의 출구 말단(203a∼203e)에서 균일한 광학 강도 분포의 제2광원 표면을 형성한다.
또한, 이 광가이드(203)은 제4도의 광가이드(103)과 유사하게 무작위 다발로 된 광섬유를 구축한다.
출구 말단(203a∼203e)에서 마스크(8)까지 범위의 광학 경로는 제4도에 도시된 조명 광학계의 것과 동일하며, 따라서 여기에서는 설명을 생략한다.
상기 배열은 저-출력 광원 복합체(201a∼201c)로부터 광을 추가하고, 고-출력의 광원 복합제를 조절할 필요 없도록 하고 조명계를 간단하게 조립할수 있게 함으로써 필요한 광량을 얻을 수 있다.
상기과 같이 다수의 조명 영역(111a∼111g)를 형성하는 다수의 조명광학계 대신에, 또 다른 조명광학계에서는 마스크(8)가 주사 방향(X 방향) 및 이에 수직인 방향(Y 방향)으로 확장된 사각형 영역에 조명되는 배열을 사용할 수 있다.
이러한 광학계의 예는 Y 방향으로 확장된 로드(rod)광원이다.
마스크(8) 하부에는 다수의 투영광학계(2a∼2g)가 있다.
투영광학계(2a∼2g)는 제6도에 의거하여 설명한다.
투영광학계(2a∼2g)는 동일한 구조를 갖고 있으므로, 설명의 간편을 위해 투영광학계(2a)만을 설명한다.
제6도는 투영광학계(2a)가 두 개의 다이손 광학계의 조합 구조를 갖는 경우의 투영광학계(2a)의 렌즈 구조의 도면이다.
제6도에서 투영광학계(2a)는 제1부분 광학계(21∼24), 필드스톱(25) 및 제2부분 광학계(26∼29)로 구성되어 있으며, 이들 제1 및 제2부분 광학계는 다이손 광학계를 변형하였다.
제1부분 광학계는 마스크(8) 표면에 대해 45° 경사의 반사 표면을 갖는 직각프리즘(21), 마스크(8)의 평면 방향을 따르는 광학축 및 직각 프리즘(21)의 반대면을 향하는 볼록 표면을 갖는 평면-볼록 렌즈 성분(22), 평면-볼록 렌즈 성분(22)를 향하는 오목 표면의 반사 표면을 갖는 전체적으로 메니스쿠스 형상을 갖는 렌즈 성분(23), 및 직각 프리즘(21)의 반사 표면에 수직이고 마스크(8) 표면에 45° 경사진 반사 표면을 갖는 직각 프리즘(24)를 갖는다.
조명광학계로부터 마스크(8)을 통하는 빛은 직각프리즘(21)에 의해 광학적 경로로 90° 로 굴절되어 직각프리즘(21)에 결합된 평면-볼록 렌즈 성분(22)에 들어간다.
이 렌즈 성분(22)에 결합된 렌즈 성분(23)은 직각 프리즘(21)로부터의 빛이렌즈 성분(22, 23)간의 결합 표면(22a)에 의해 반사되어 증기-충진된 반사 필름으로 된 반사 표면(23a)에 도달하도록 평면-볼록 렌즈 성분(22)와는 다른 유리 재질로 만들어져 있다.
반사 표면(23a)에 의해 반사된 빛은 결합 표면(22a)에 의해 반사되어 렌즈 성분(22)에 결합된 직각프리즘(24)에 도달한다.
렌즈 성분(22)로부터의 빛은 직각 프리즘(24)에 의해 광학적 경로로 90° 굴절하여 직각 프리즘(24)의 출구 평면측에 마스크(8)의 일차적 상을 형성한다.
여기에서 제1부분 광학계(21∼24)에 의해 형성된 마스크(8)의 일차적 상은 제6도에서 측면 배율이 X 방향으로 양성이고, Y 방향으로는 음성인 실제-크기의 상이다.
일차적 상으로 부터의 빛은 제2부분 광학계(26∼29)를 통과하여 플레이트(9)상에 마스크(8)의 제2상을 형성한다.
제2부분광학계의 구조는 제1부분 광학계와, 동일하므로 설명을 생략한다.
제2부분광학계(26∼29)는 측면 배율이 X 방향으로 양성이고, Y 방향으로는 음성인 실제-크기의 상을 형성한다.
그러므로, 플레이트(9)상에 형성된 제2상은 마스크(8)의 실제-크기의 정립상(수직 및 수평 측면 배율이 양성인 상)이다.
바람직하게는 노광장치는 적어도 상 측면에 텔레센트릭한 광학계인 것이다.
이것은 형성된 상에 대한 웨이퍼가 수직으로 이동하거나(또는 다중 인쇄에서 웨이퍼가 제1노광 위치로부터 수직으로 이동하더라도) 또는 웨이퍼상에 형성된 회로 패턴 사이어 대규모의 단계가 있더라도 웨이퍼상에 실질적으로 노광된 패턴의 치수의 오차가 발생하지 않기 때문이다.
완전 노광형의 스테퍼(stepper)에서는 마스크-설치 테이블이 노광장치에 주요 몸체에 고정되어 있기 때문에 마스크 위치는 항상 변화하지 않는다.
따라서, 노광장치가 마스크 측면(물체 측면)에 텔레센트릭 하지 않더라도 패턴의 크기의 오차는 발생하지 않는다.
주사 노광장치의 경우에는 마스크 및 웨이퍼 모두가 노광되어 이동하도록 배열되어 있어, 마스크와 웨이퍼 사이에 수직방향으로 위치관계의 이동을 유발할 수 있다.
노광장치가 텔레센트릭한 양측면의 광학계로서 구축되지 않는 한, 웨이퍼상에 형성된 회로패턴상의 크기에 있어서 변화가 가능하다.
이 때에 "양측면"이란 상측면 및 물체측면을 의미한다.
따라서, 본 발명에 있어서 주사노광장치는 텔레센트릭한 양 측면의 광학계가 바람직하며, 그러므로 투영광학계(2a)종에서 제1 및 제2부분광학계는 양측 모두 텔레센트릭한 광학계이다.
상기의 제1 및 제2부분 광학계는 반사 표면(23a, 28a)가 동일 방향을 지향하도록 배열한다.
이는 전체 투영광학계의 크기를 감소시킬수 있다.
본 발명의 실시예에서 제1 및 제2부분 광학계는 유리 재질이 평면-볼록렌즈 성분(22, 27)과 반사 표면(23a, 28a) 사이에 광학적 경로를 채우도록 제조한다.
이것은 평면-오목 렌즈 성분(22, 27) 및 반사 표면(23a, 28a) 사이에 오프센(offset)을 일으키지 않는 장점이 있다.
또한, 제1 및 제2부분 광학계는 제7도에 나타낸 바와 같이 각각 공기가 평면-오목 렌즈 성분(22, 27)과 반사 표면(23a, 28a) 사이에 공간을 채우는 소위 다이손 광학계 자체로서 구축될 수 있다.
다이손 광학계는 문헌에 상세히 기제되어 있다[참고 ; J. O. S. A. vol. 49, p713-716(published 1959)].
본 발명에서 필드 스톱(25)는 제 1부분 광학계에 의해 형성된 일차 상의 위치에 있다.
필드 스톱(25)는 제8도에 도시한 바와 같이 사다리꼴 예에 대한 개구(25A)를 갖는다.
필드 스톱(25)는 플레이트(9) 상에서 사다리꼴의 노광 부위로 정의된다.
본 발명의 구체에 있어서, 다이손 광학계에서 렌즈 성분(22, 23, 27, 28)의 횡단면도(YZ 평면)은 원형이기 때문에, 가능한 최대 필드 영역은 제9도에 도시한 바와 같이 반-원형이다.
이 경우에 바람직한 배열은 필드 스톱(25)에 의해 정해지는 사다리꼴 필드 영역(8a)(제3도 참조)은 반원형(최대 필드 영역) 영역의 호 측면에 있는 한쌍의 평행하는 면으로부터 더 짧은 면으로 형성된다.
이 배열은 주사 방향(X 방향)에서 필드 영역의 넓이가 다이손 광학계의 가능한 최대 필드 영역에 따라 최대가 되게 하며, 이것은 주사 속도를 증가시킬 수 있다.
또한, 필드 스톱(25)는 제10도에 도시된 바와 같이 육면체 개구(25b)를 갖도록 배열할 수 있다.
이 경우에 육면체 개구(25B)의 크기는 제11도에 도시된 바와 같이 도변에 점선으로 나타낸 것처럼 최대 필드 영역의 범위내로 떨어진다.
여기에서 제9도 또는 제11도에서의 점선으로 나타낸 최대필드 영역은 최외각 영역을 통과한 선(rays)이 에클립스(eclipse) 없이 제1 및 제2부분 광학계를 통과하는 축외 선으로부터 마스크(8) 상을 통과하는 점에 의해 둘러싸인 영역이다.
제3도로 돌아가서, 투영광학계(2a∼2g)의 레이아웃은 다음과 같다.
제3도에서, 투영광학계(2a∼2g)는 투영광학계에서 필드 스톱에 의해 정해지는 필드 영역(8a∼8g)를 갖는다.
이들 필드 영역(8a∼8g)의 상은 플레이트상의 노광 영역(9a∼9g)위에 실제-크기 정립상으로 형성된다.
그러므로 실제-크기 정립상이 얻어질 때만이 노광 영역(9a∼9g)는 완전히 결합된다.
여기에서 투영광학계(2a∼2g)는 필드 영역(8a∼8d)가 도면에서 Y 방향으로 정렬되도록 배열된다.
또한, 투영광학계(2e∼2g)는 필드 영역(8e∼8g)가 도면에서 X 방향의 필드 영역(8a∼8d)와는 다른 위치에서 Y 방향을 따라서 정렬된다.
투영광학계(2e∼2g)는 Y 방향으로 투영광학계(2a∼2d) 사이에 위치한다.
다시 말하면, 투영광학계는 Y 방향을 따라 2a, 2e, 2b, 2f, 2c, 2g, 2d의 순서로 배열된다.
이 경우에 투영광학계(2a∼2d) 및 투영광학계(2e∼2g)는 투영광학계에 수직 프리즘이 서로 매우 인접하게 위치하도록 배열한다.
투영광화계(2a∼2g)는 필드 영역(8a∼8d)와 필드 영역(8e∼8g) 사이의 공간을 확장시키도록 조정할 수 있지만, 이러한 배열은 주사노광를 위한 주사의 양[마스크(8) 및 플레이트(9)의 이동량]를 증가시켜 시스템 효율을 감소시키므로 바람직하지 않다.
플레이트(9)에서 투영광학계(2a∼2d)는 도면에서 Y 방향을 따라서 정렬된 노광 영역(9a∼9d)를 형성하는 반면, 투영광학계(2e∼2g)는 노광 영역(9a∼9d)와는 Y 방향에서 상이한 위치이나 역시 Y 방향을 따라 정렬된 노광영역(9e∼9g)를 형성한다.
이들 노광 영역(9a∼9g)는 필드 영역(8a∼8g)의 실제-크기 정립상이다.
이 배열에서 마스크(8)은 마스크 단(stage)(80)상에 장착되어 있으며, 플레이트(9)는 플레이트단(60)상에 장착된다.
여기에서 마스크 단 및 플레이트 단은 도면에서 X 방향으로 동시에 이동시킨다.
이렇게 함으로써 조명광학계(10)으로 조명한 마스크(8)의 상이 연속적으로 플레이트(9)상으로 전송되어 소위 주사노광 효과를 얻는다.
마스크(8)의 이동과 함께 필드 영역(8a∼8g)에 의해 마스크(8)의 전체 표면의 주사를 완료한 후에, 마스크(8)의 상은 플레이트(9)상의 전체 표면으로 전송된다.
플레이트 판(60)상에는 Y축을 따라 반사 표면을 갖는 반사원(reflecting member)(61) 및 X축을 따라 반사 표면을 갖는 반사원(62)가 제공된다.
간섭계를 노광장치의 주요 몸체상에 설치한다.
간섭계는 예를 들어 He-Ne(633nm)의 레이저 빔을 제공하기 위한 레이저빔 원(63), 레이저 빔 원(63)으로부터 X-방향 측정을 위한 레이저 빔 및 Y-방향 측정을 위한 레이저 빔으로부터 레이저 빔을 분할시키기 위한 빔 분할장치(splitter)(64), 빔 분할장치(64)로부터 반사원(61)로 레이저 빔을 투영하기 위한 프리즘(65), 및 빔 분할장치(64)로부터 반사원(62)상의 두 지점으로 레이저 빔을 투영하기 위한 프리즘(66, 67)을 포함한다.
이 배열은 단의 XY 평면에서의 X-방향의 위치, Y-방향의 위치 및 회전을 검출할 수 있게 한다.
제3도에서 레이저 빔과 반사원(61, 62)에 의해 반사되는 참고 레이저 빔 사이의 간섭 무늬 검출용 검출계에 대해서는 생략한다.
본 발명의 실시예에서 필드 영역의 레이아웃은 제12도에 따라 하기에 기재한다.
제12도는 투영광학계(2a∼2g)에 의한 필드 영역(8a∼8g)와 마스크(8) 사이의 평면 위치 관계를 도시한 도면이다.
제12도에서 회로패턴(PA)는 마스크(8)상에 형성되며, 광-차폐부분(LSA)는 회로패턴(PA)의 영역을 둘러싸도록 제공된다.
제4도에서 도시된 조명광학계는 균일하게 도면에서 점선으로 둘러싸인 조명 영역(111a∼111g)를 조명한다.
상기 필드 영역(8a∼8g)는 조명 영역(111a∼111g)에 위치한다.
이들 필드 영역(8a∼8g)의 각각은 투영광학계(2a∼2g)중에 필드 스톱에 의해 실질적으로 사다리꼴 형태로 형상화된다.
여기에서, 필드 영역(8a∼8g)의 상부가장자리(평행한 면쌍 중에서 더 짧은 면)은 필드 영역(8e∼8g)의 상부가장자리(평행한 면쌍 중에서 더 짧은면)에 반대로 배열된다.
광차폐부 LSA 외에도 필드 영역들(8a, 8d)의 형상이 형성되어, 광-차폐부 LSA면(한쌍의 평행한 면과는 다른 모서리부)상의 면들은 회로패턴 PA영역의 모서리부와는 일치하지 않는다.
필드 영역(8a, 8d)는 마스크(8)의 광차페부 LSA와 겹쳐지는 형상으로 형성될 수 있다.
본 발명의 실시예에 있어서, 투영광학계들(2a-∼2g)는 텔리센트릭 광학계의 양 면이 되므로, 투영광학계(2a∼2g)에 의해 점유되는 영역은 XY평면상에서 일치되는 필드 영역들(8a∼8g)에 의해 점유되는 영역보다 더 크게 된다.
따라서, 필드 영역들(8a∼8d)의 레이아웃은 각각의 영역들(8a∼8d) 사이의 공간들로 형성되어져야 한다.
이 경우에, 필드 영역(8a∼8d)의 주사노광안으로 마스크(8)상의 필드영역들(8a∼8d) 사이 영역들을 플레이트(9)로 투영-전달시킬 수 없다.
따라서, 본 발명의 실시예는 필드 영역들(8a∼8d) 사이 영역들에 대해 주사노광을 효과적으로 하기 위해 필드 영역들(8e∼8g)가 투영광학계(2e∼2g)에 의해 형성된다.
주사 방향(X 방향)을 따라서 필드 영역(8a∼8g)[혹은 노광 영역(9a∼9g)]의 폭의 합은 Y 방향의 어느 위치에 있어서도 항상 일정하다.
이것은 아래의 제13도에서 설명되어진다.
제13도는 플레이트(9) 상에서 X 방향의 노광 분포를 도시하고 있는 (a) · (b)를 포함하고 있으며, 여기서 수직축은 노광 E를 나타내고, 수평축은 플레이트(9)상에서의 Y 방향 위치를 나타낸다.
제13도의 (a)에 있어서, 각각의 사다리꼴의 노광 영역들(9a∼9g)와 일치되는 노광 분포들(9a∼9g)는 플레이트(9)상에서 얻어진다.
주사노광에 있어서, 노광 영역들은 노광 영역들(9a∼9g)의 X 방향 폭의 합이 일정하도록 정해지므로, 노광은 노광 영역들(9a∼9g) 가운데서 겹쳐진 영역들에 대해서 항상 일정하다.
예를 들면, 노광 영역(9a)에 대응하는 노광 분포(90a)와 노광 영역(9e)에 대응하는 노광 분포(90e) 사이의 중첩 지역에 있어서, 노광 영역(9a)와 노광 영역(9e)의 X 방향 폭의 합은 일정하고, 중첩지역에서의 노광의 합은 하나의 비중첩 지역에서의 노광과 같아진다.
따라서, 하나의 일정한 노광 분포(91)이 제13도의 (b)에서 도시된 바와 같이, 플레이트(9)상의 전체 표면에 걸쳐서 얻어진다.
비록 상기 설명은 사다리꼴의 노광 영역들의 경우에 한정되지만, 하나의 균일한 노광 분포를 얻기 위한 노광 영역들의 조합은 그러한 사다리꼴에 한정되지 않는다.
예를 들면, 다수개의 육각형의 노광 영역들이 제10도에 도시된 바와 같이, 필드 스톱(25)에 의해 형성된 경우에 있어서, 노광 영역들은 노광 영역들의 주사 방향폭이 항상 일정하게 되도록 형성된다.
이에 의해, 하나의 일정한 노광 분포가 플레이트(9)상의 전체 표면에 걸쳐 얻어질 수 있다.
각각의 투영광학계에 대응하는 필드 영역과 노광 영역들은 하나의 일정한 노광 분포가 투영광학계에 있어서, 필드 스톱(25)에 의해 전체 노광된 표면에 걸쳐 얻어질 수 있도록 형성된다.
결과적으로, 필드 영역들은 정확히 정의하기 위한 광학계는 조명광학계(10)내에서 제거될 수 있다.
다른 말로 표현하면, 마스크(8)상의 필드 영역들(8a∼8g)는 연관되어 있는 투영광학계들(2a∼2g)내에서 필드 스톱들의 구명에 의해 정의되므로, 조명광학계(10)은 필드 영역들(8a∼8g)를 정확히 정의하기 위한 다른 어떤 광학계를 필요로 하지 않는다.
본 발명의 실시예에 있어서, 투영광학계의 바람직한 레이아웃에 대해 제14도를 참조하여 설명하기로 한다.
제14도는 마스크(8)면(대상면)에서 보여진 바와 같은 투영광학계들(D1, D2, D3)를 도시하고 있는 투영광학계들의 배열을 도시하고 있는 평면도이다.
제14도에 있어서, 투영광학계(D1)은 한면만 볼록한 렌즈 성분(L1)과 하나의 오목거울(M1)로 이루어지고, 투영광학계(D2)는 한 개의 한면만 볼록한 렌즈 성분(L2)와 오목거울(M2)로 구성된다.
여기서, 투영광학계들(D1, D2, D3)은 동일한 구조를 가진다.
도시를 간결하게 하기 위해, 제14도는 투영광학계들(D1, D2, D3)의 광학 경로들은 대상물로부터 오목거울들(반사거울들)(M1, M2, M3)에 이르는 광학경로들만을 포함하고 있고, Z방향으로의 광화경로들을 편향시키는 직각 프리즘들(right-angle prisms)은 제외되어 있다.
이제 φF1을 투영광학계(D1)에 있어서, 하나의 가능한 최대 필드 영역의 Y 방향 폭이라 하고, φF2를 투영광학계(D2)에 있어서, 하나의 가능한 최대 필드 영역의 Y 방향 폭이라 하고, φF3를 투영광학계(D3)에 있어서 하나의 가능한 최대 필드 영역의 Y 방향 폭이라 하자.
이러한 필드 영역들의 Y 방향 폭들(φF1∼φF3)은 제9도 또는 제11도에서, 점선으로 도시된 바와 같이, 최대 필드 영역의 반경 길이와 일치한다.
다음, K를 Y 방향으로 서로 다음 위치에 배열된 투영광학계(D1, D2)의 광학축들 사이의 거리라 하면, 아래와 같은 식이 만족된다.
φF1/2 + φF2+ φF3/2 > K (1)
여기서, φF1F2F3F4F는 투영광학계들에 있어 하나의 가능한 최대 필드 영역의 Y 방향 폭이다)라 하면, 상기 식(1)은 아래와 같이 다시쓸수 있다.
F>K (2)
이것은 투영광학계들에 있어, 가능한 최대 필드 영역의 Y 방향 폭 φF는 Y 방향으로의 투영광학계의 광학축들 사이의 거리 절반 또는 그 이상이 됨을 의미하고 있다.
만약, 투영광학계의 레이아웃이 상기 식(1) 또는 (2)의 영역을 벗어난다면, 필드 영역들이 Y 방향으로 상호 중첩되지 못하는 바람직하지 못한 경우가 발생하게 된다.
또한, (φL1∼φL3)를 한면이 볼록할 렌즈 성분들(L1∼L3)의 직경(Y 방향길이)이라 하고, (φM1∼φM3)를 오목거울들(M1∼M3)의 직경(Y 방향길이)이라하고, (φD1∼φD3)를 이들 가운데 보다 큰 직경이라 한다(즉, 투영광학계들 D1, D2, D3에 있어서, 외경의 최대값).
투영광학계들 D1, D2, D3는 동일한 구조를 갖고 있으므로, 아래의 관계식을형성한다.
φL1L2L3;
φM1M2M3; (3)
φD1D2D3D
φF를 투영광학계에 있어서, 가능한 최대 필드 영역의 Y 방향 폭이라 하면, 아래의 관계식이 만족된다.
φF> φD/ 2 (4)
만약, 투영광학계들(D1∼D3)이 상기 식(4)를 만족하지 않는다면, 즉, 투영광학계에 있어서 가능한 최대 필드 영역의 Y 방향 폭 φF가 투영광학계의 외경의 최대치 φ0의 절반보다 크지 않다면, Y 방향으로 서로 인접하게 배열된 두 개의 투영광학계 D1, D3는 서로를 방해하는 바람직하지 못한 경우가 발생될 수 있다.
투영광학계의 외경의 최대값이 광학경로들을 90° 로 편향시키는 직각 프리즘들에 의해 결정되는 경우에는, 외경의 최대값 φ0는 직각 프리즘들의 Y 방향 길이로 결정된다.
상기 식(4)에 대한 식(1)의 관계는 다이손 광학계에 한정되지 않고 후에 기술되는 오프너 광학계에 적용될 수 있다.
상기 기술된 실시예는 투영광학계들로서, 두 세트의 광학계를 하나의 조합으로 채택하였으나, 이것 대신에 제15도 또는 제16도에 도시된 바와 같은 투영광학계가 적용될 수 있다.
제15도는 하나의 데크(dach)(루프) 표면을 가진 하나의 아미치(Amici)프리즘(직각 루프 프리즘)(34)이 직각 프리즘 대신에 다이손 광학계에 적용된 예를 보이고 있다.
아미치 프리즘은 빛의 운행방향을 90° 접게 하고, 영상을 좌에서 우로 변환하는 기능을 가진다.
제15도에 있어서, 직각 프리즘(31), 한면이 볼록한 렌즈 성분(32) 그리고 하나의 반사 표면(33a)를 갖는 렌즈 성분(33)은 라이트 앵글 프리즘(21), 한면이 볼록한 렌즈 성분(22), 그리고, 제6도에 도시된 렌즈 성분(23)과 각각 동일한 기능을 가지며, 여기서의 설명은 생략한다.
두 개의 직각 프리즘을 가진 하나의 다이손 광학계는 하나의 영상을 형성하는데, 이 영상에 대하여 측면 배율이 광학축(X 방향)을 따른 방향으로는 양의 특성을 나타내고 측면 배율이 광학축(X 방향)을 따른 방향으로는 양의 특성을 나타내고 측면 배율이 광학축(대상 평면과 영상평면을 따른 방향 측, Y 방향)에 대해 수직인 방향으로는 음의 특성을 나타낸다.
제15도에 도시한 바와 같은 하나의 아미치 프리즘(34)를 가진 다이손 광학계는 물체평면(object plane)과 영상평면내의 광학축(Y 방향)에 수직인 방향으로 영상 오리엔테이션(orientation)을, 자체의 데크(dach) 표면으로 변환한다.
그리하여 하나의 똑바른 영상을 형성할 수 있으며, 이 영상에 대해 측면 배율은 광학축을 따른 방향(X 방향)으로와, 물체 평면과 영상평면내의 광학축에 대해 수직인 방향(Y 방향)으로 정의 특성을 가진다.
제16도는 광학 경로를 굽히기 위한 반사 평면들을 구비한 다이손 광학계의 일예를 나타내는 하나의 렌즈 구조 도면이다.
제16도에 있어서, 마스크(8)로부터 나온 빛은 한면이 볼록한 렌즈 성분(42)로 들어가는 빛의 방향(Z방향)에 대해 45° 경사진 하나의 반 경사평면(41a)에 의해 광학경로상에서 90° 편향된다.
한쪽면이 볼록한 렌즈 성분(42)와 제16도에 도시된 한쪽면이 블록한 렌즈 성분(42)에 결합된 렌즈 성분(43)은 제6도의 한쪽면이 볼록한 렌즈 성분(22)와 렌즈 성분(23)과 각각 동일한 기능을 가진다.
한쪽 면이 볼록한 렌즈 성분(42)에 따르는 빛은 하나의 반사평면(43a)에 의해 반사되어 한쪽 면이 볼록한 렌즈 성분(42)를 통과하며 한쪽면이 볼록한 렌즈 성분(42)에 출구쪽 상부에 위치하는 마스크(8)의 주 영상을 형성한다.
또 다른 반사평면(41b)가 주 영상이 형성되는 위치에 고정된다.
여기서, 반-반사 표면(41a)와 반사 표면(41b)는 반사부재(41)상에 형성된다.
다음에, 반사평면(41b)상의 주 영상으로부터 나온 빛은 동일한 광학경로를 되돌아 가서 한쪽면이 볼록한 렌즈 성분(42)와 렌즈 성분(43)을 통해 나아가고 다음에 반-반사면(41a)를 통과한다.
반-반사면(41a)의 전달면 상에는 광신의 입사방향(전달방향)에 대해 112.5° 경사진 반사면(44a)와 반사면(44a)에 대해 45° 경사진 반사면(44b)를 가진 반사부재(44)가 구비되어 있다.
반사면들(44a, 44b)는 오각 프리즘의 기능을 가지고 있으므로, 반사부재(44)로 투사되는 빛은 반사면들(44a, 44b) 상에서의 반사를 통해 광학경로 상에는 90° 편향된다.
반사면들(44a, 44b)에 의해 반사된 빛은 반사부재(44)의 출구 상에 마스크(8)의 두 번째 영상을 형성한다.
여기서, 두 번째 영상은 실제 크기의 똑바른 상이다.
제16도에 있어서, 마스크(8)로부터 반사면(41b)에 이르는 광학경로 길이는 반사면(41b)로부터 플레이트(9)에 이르는 길이와 같게 배열된다.
제16도에 도시된 투영광학계에 있어서, 반사면(41b)의 형상은 필드 스톱의 형상이다.
예를들면, 도면 평면에 위치한 YZ 평면내의 보다 짧은 가장자리를 가진 사다리꼴 반사면(41b)의 경우에 있어서, 필드 영역과 노광 영역은 도면의 평면과 XY 평면상의 우측에 위치한 짧은 에지를 가진 사다리꼴이 될 것이다.
제16도의 투영광학계어 있어서, 한면이 볼록한 렌즈 성분(42)와 렌즈 성분(43)의 광측 근처로 지나는 광선은 반사면(41b)에 도달하지 못하여 이에따라 상을 형성하는데 기여하지 못한다.
그러나, 반-반사면(41a)로부터 반사면(43a)에 이르는 광학경로와 반사면(41b)로부터 반사면(43a)에 이르는 광학경로의 혼합을 피하기 위해, 한쪽면이 볼록한 렌즈 성분(42)와 렌즈 성분(43)의 광축 근처로 통과하는 광선을 거의 사용하지 않는다.
따라서, 비로 한쪽면이 볼록한 렌즈 성분(2)와 렌즈 성분(43)의 광축 근처로 통과하는 광선이 제16도에 도시된 바와 같이, 차단된다 하더라도 실제적인 문제는 거의 발생하지 않는다.
물론, 제15도 혹은 제16도에 도시된 바와 같은 투영광학계는 대상물측과 상측 사이의 관계로 뒤집어진 배열이 형성될 수 있다.
똑바른 영상을 얻기 위해, 제16도에 도시되어 있으며, 상기 기술한 투영광학계는 오각 프리즘과 동일한 기능을 가진 두 개의 반사면들(44a, 44b)를 갖추고 있지만, 대신에 두 개의 반사 표면들로 구성된 후반으로 향하는 광학경로를 변경하기 위한 반사 표면이 제17도에 도시한 바와 같이 구비될 수 있다.
제17도에 있어서, 배열을 제16도와 투영광학계와는 다르다.
즉, 후방으로 향하는 광학경로를 변경시키기 위한 반사면(41b)는 Y 방향(도면 평면에 대해 수직인 방향)를 따른 리지선(ridge line)를 가지는 하나의 데크면(dach surface)를 구성하는 두 개의 반사면(51b, 51c)로 대치되고, 두 개의 반사면들(44a, 44b)는 플레이트(9)의 면에 대해 45° 기울은 하나의 반사면(54a)로 대치되는 점에서 다르다.
제17도에 있어서, 한쪽면이 볼록한 렌즈 성분(52)와 반사면(53a)를 가진 렌즈 성분(53)은 제16도에 도시된 한쪽면이 볼록한 렌즈 성분(42)와 렌즈성분(43) 각각의 기능들과 동일한 기능들을 가진다.
제17도에 있어서, 마스크(8)로부터 나온 빛은 광학경로 상에서 하나의 반-반사 표면(51a)에 의해 90° 굽어져 한쪽면이 볼록한 렌즈 성분(52)와 렌즈 성분(53)를 통과하여 반사면(51b, 51c)에 도달하여 마스크(8)의 주영상을 형성한다.
주영상은 반사면들(51b, 51c)에 의해 위쪽 아래로 반전되고 다시 한쪽면이 볼록한 렌즈 성분(52)와 렌즈 성분(53)을 지나 반-반사면(51a)를 통과하여 지나간다.
반-반사면(51a)를 관통한 빛은 반사면(54a)에 의해 광학 경로상에서 90° 굽어져 반사부재(54)를 빠져나가 마스크(8)의 제2상을 형성한다.
여기서 두 번째 상은 실제 크기의 직경상이다.
투영광학계가 제15도에 도시한 바와 같이, 중간상(예비상)를 형성하지 않는 경우에 있어서 혹은, 광학계가 필드 스톱이 제17도에 도시된 바와 같이 중간-상-형성 위치에 위치하도록 허용하지 않는 경우에 있어서,
조명광학계에 의한 조명 영역의 형상은 원하는 필드 영역의 형상과 유사하게 배열된다.
예를 들어 제4도의 조명광학계 내의 필드 스톱(107)에 위치한 개구(107a, 107b)가 하나의 사다리꼴 형상인 경우에는 사다리꼴 조명 영역을 얻게 된다.
제15도 내지 제17도의 투영광학계가 필드 스톱을 구비하고 있지 않으므로 마스크(8)상의 필드 영역은 조명광학계(10)에 의해 정확히 정리되어야만 한다.
그러나, 제15도 내지 제17도의 투영광학계 각각이 다이손 광학계로 구성된 경우에는 제6도에 도시한 바와 같이 두 개의 다이손 부분 광학계로 구성된 투영광학계에 비해 광학 수차의 발생이 거의 없는 우수한 영상화 성능을 달성할 수 있다.
상기와 같이, 본 실시예에 따른 다수의 노광장치에 있어서 다수의 투영 광학계는 노광 영역은 투영광학계의 규모를 증가시킬 없이 대규모로 형성될 수 있도록 조사방향에 수직인 방향으로 넓은 폭을 갖는 노광 영역을 형성한다.
본 실시예에서 각 투영광학계는 규모가 압축되어 비율적 증대의 원인이 되는 수차의 증가를 방지하고 우수한 영상화 성능을 갖는 조사 노광시킬수 있게 한다.
본 발명의 또 다른 실시에는 첨부된 도면에 따라 하기에 설명한다.
제18도는 본 발명의 실시예에 따르는 노광장치의 구조를 도시한 투시도이다.
또한, 제19도는 제18도의 노광장치의 투영광학계 구조를 도시한 도면이다.
본 실시예는 투영광학계(302a∼302g)의 구조가 하기와 같이 전기의 실시예의 것과는 다르고, 그로 인하여 필드 영역(308a∼308g) 및 노광 영역(309a∼309g)의 형상이 실질적으로 반-원형 환이 된다는 점에서 제3도에서의 실시예와는 상이하다.
제18도에 도시된 실시예는 위와 같은 점만 제외하고는 제3도에 도시된 실시예와 동일하다.
제19도는 각각의 투영광학계의 구조를 도식적으로 도시한 도면이다.
나타낸 바와 같이 투영광학계는 제1부분광학계(321∼323), 필드 스톱(324), 및 제2부분 광하계(325∼327)로 구성된다.
제1부분 광학계(321∼323) 및 제2부분 광학계(325∼327) 각각은 오프너 광학계이며 동일한 구조로 구축된다.
제1부분 광학계는 마스크(8)로부터 X축 방향으로(도면의 우측) 빛을 굴절시키기 위한 제1반사 표면(321a)를 갖는 등변 사다리꼴 프리즘(321), 등변 사다리꼴프리즘(321)의 제1반사 표면(321a)에 의해 반사된 빛을 도면의 좌측으로 반사시키기 위한 오목거울(322), 및 오목거울(322)의 광학축에 통상적인 축을 갖는 오목거울(322)에 대해 반대로 배치된 볼록 거울(323)으로 구성된다.
상기한 바와 같이 제2부분 광학계는 제1부분 광학계와 완전히 동일한 구조를 갖는다.
제19도에서는 제2부분 광학계의 구성요소를 제1부분 광학계와는 다른 참조번호로 표시하였으나, 제2부분 광학계의 구조에 대해서 추가의 설명은 생략하겠다.
마스크(8)을 통과한 조명광은 도면에서 등변 사다리꼴 프리즘(321)의 제1반사 표면(321a)에 의해 굴절되어 오목거울(322)에 도달한다.
그리고 나서 오목거물(322)에 의해 도면에서 좌측으로 반사된 빛은 볼록거울(323)에 의해 도면에서 다시 우측으로 반사되어 오목거울(322)에 도달한다.
오목거울(322)에 의해 도면에서 다시 좌측으로 반사된 빛은 등변 사다리꼴 프리즘(321)의 제2반사 표면(321b)에 의해 도면에서 아랫쪽으로 굴절되어 제1부분 광학계와 제2부분 광학계 사이에 마스크(8)의 일차적 상을 형성한다.
이렇게 제1부분광학계(321∼323)에 의해 형성된 일차적 상은 측면 배율이 X 방향으로는 양성이고 Y 방향으로는 음성인 마스크(8)의 실제-크기의 상이다.
필드 스톱(324)는 일차적 상이 형성된 위치에 놓인다.
필드 스톱(324)를 통과하는 일차적 상으로부터의 빛은 등변 사다리꼴 프리즘(325)의 제1반사 표면(325a)에 의해 도면에서 우측으로 굴절되어오목거울(326)에 도달한다.
오목거울(326)에 의해 도면에서 좌측으로 반사된 빛은 다시 볼록 거울(327)에 의해 도면에서 우측으로 반사되어 오목거울(326)에 도달한다.
오목거울(326)에 의해 도면에서 다시 좌측으로 반사된 빛은 등변 사다리꼴 프리즘(325)의 제2반사 표면(325b)에 의해 도면에서 아랫쪽으로 굴절되어 플레이트(9)상에 마스크(8)의 패턴의 제2상을 형성한다.
제2부분광학계는 상기한 바와 같이 제1부분 광학계와 동일한 구조를 가져서 제2부분 광학계가 측면 배율이 X 방향으로는 양성이고 Y 방향으로는 음성인 일차적 상의 실제-크기의 상을 형성한다.
따라서, 제1 및 제2부분 광학계를 통해 플레이트(9)에 형성된 제2상은 마스크(8)의 실제-크기의 정립상(X 방향 및 Y 방향에서 양성인 측면 배열을 갖는 상)이다.
제1 및 두 번째 오프너 부분 광학계로 구성된 투영광학계 각각은 양측(물체면 및 상 면) 모두 텔레센트릭한 광학계이다.
제19도에 도시된 투영광학계는 제1부분 광학계의 오목거울(322)와 제2부분 광학계의 오목거울(326)은 공히 도면에서 볼 때 좌측으로 향하는 것으로 도시되어 있고, 투영광학계의 크기는 축소할 수 있으며, 따라서, 노광장치의 크기도 축소할 수 있게 된다.
또한, 투영광학계(320a∼302d)의 광학축과 투영광학계(302e∼302g)의 광학축은 X축과 평행하게 되어 있고 투영광학계(302a∼302d)와 투영광학계(302e∼302g)의등변 사다리꼴의 프리즘은 상호 근접되도록 장치가 구성되어 있는데, 이는 투영광학계(302a∼302d)의 제1그룹은 투영광학계(302e∼302g)의 제2그룹과 대향되어 있음을 의미한다.
제20도 및 제21도는 필드 스톱(324)의 구멍의 형상의 일예를 도시한 도면이다.
제20도는 필드 스톱(324)에 형성된 구멍(324A)를 나타낸 것이며 제21도는 구멍(324A)의 형상과 최대필드 영역과의 관계를 나타낸 것이다.
제21도에 점선으로 도시한 바와 같이, 수차가 가장 작은 구역으로 정의되는 최대 필드 영역은 오프너 광학계의 반 환형 또는 반 고리형이 된다.
따라서, 필드 스톱(324)에 형성되는 개구(324A)의 형태는 전술한 반환형 최대 구역내에 형성된다.
제21도에서, 개구(324A)의 길이는 주사구역에 직각인 방향(도면의 수평 방향과 일치하는 방향)으로 (324M)으로 도시되어 있으며, (324M)내에서 주사구역의 폭(도면의 수직방향과 일치하는 방향)은 길이(324L)내에서 두 개의 호(324c)와 (324d)에 의하며 형성되는 중심 개구부(324a)내에서 일정하게 (324W) 배열된다.
주사속도를 최대로 하기 위하여, 주사 방향으로의 중심개구부(324a)의 폭(324W)는 최대 필드 영역에 대하여 최대 면적을 차지하도록 선택된다.
한편, 길이(324L)을 갖는 중심 개구부(324a)를 제외한 단부 개구부(324b : 도면에서 사선으로 표시된 부분)는 삼각형으로 되어 있어 주사 방향으로의 폭이 단부를 향하여 선형적으로 감소되게 된다.
제22도 및 제23도는 필드 스톱(324)내의 개구의 제2형태를 도시한 도면이다.
제22도는 필드 스톱 내에 형성된 개구(324B)를 도시한 것이고 제23도는 개구(324B)와 최대 필드 영역과의 관계를 나타낸 것이다.
제23도에서, 개구(324B)의 길이는 주사 구역에 직각인 방향(도면의 수평 방향과 일치하는 방향)으로 (324M)으로 도시되어 있으며, (324M)내에서 주사구역의 폭(도면의 수직방향과 일치하는 방향)은 길이(324L)내에서 두 개의 다각형선(324c)와 (324d)에 의하여 형성되는 중심개구부(324a)내에서 일정하게 (324W) 배열된다.
주사속도를 최대로 하기 위하여, 주사 방향으로의 중심개구부(324a)의 폭(324W)는 최대 필드 구역에 대하며 최대 면적을 차지하도록 선택된다.
한편, 길이(324L)을 갖는 중심개구부(324a)를 제외한 단부 개구부(324b : 도면에서 사선으로 표시된 부분)는 삼각형으로 되어 있어 주사 방향으로의 폭이 단부를 향하여 선형적으로 감소되게 된다.
상기한 양 실시예의 가장 기본적인 차이점은 제20도 및 제21도의 중심개구부(324a)는 필드 스톱 내의 두 개의 호에 의하여 형성되고 제22도 및 제23도에 도시된 실시예에서는 중심개구부(324a)가 필드 스톱내의 다각형 라인에 의하여 형성되는 것이다.
제24도는 투영광학계(302a∼302g) 및 마스크(8)에 의하며 형성되는 필드스톱(308a∼308g)의 평면상의 위치관계를 나타내는 마스크상의 필드 스톱의 레이아웃을 나타낸 도면이다.
제24도에서, 장방형 회로 패턴(PA)는 마스크(8)상에 형성되고 광차단부(LSA)는 회로패턴(PA)를 감싸도록 마련된다.
조명광학계(10)은 도면에서 점선으로 감싸여진 조명 영역(313a∼313g)를 거의 균일한 세기로 광을 조사한다.
투영광학계(302a∼302g)와 연관된 필드스톱은 조명영역(313a∼313g)에 의하여 감싸여지는 빗금친 부분으로 도면에 도시된 활형의 필드영역(308a∼308g)를 형성하게 된다.
여기에서, 필드 영역(308a∼308d)의 볼록면은 필드 영역(308e∼308g)의 볼록면과 대향되도록 배열되고, 필드 영역의 상각형 단부들은 X 방향(주사방향)으로 인접한 필드 영역들의 대향된 삼각형 단부들과 중첩된다.
제1필드 영역(308a∼308d)와 제2필드 영역(308e∼308g)를 Y 방향으로 교호로 배치하는 것은 양 측면의 텔레센트릭 계의 각각의 투영광학계(302a∼302g)가 XY평면상에서 차지하는 구역의 면적이 대응된 필드 영역(308a∼308g)의 면적보다 크기 때문이다.
즉, 필드 영역(308a∼308d)를 형성하기 위하여 그들의 필드 스톱에 의하여 선형으로 배열된 광투사 시스템(302a∼302d)를 사용하게 되면, Y 방향으로의 영역들 사이에 간격이 생기게 된다.
따라서, 투영광학계(302a∼302d)만에 의하여는 판(9)상에 연속노광 영역을 Y 방향으로 고정할 수 없게 된다.
이러한 이유로 투영광학계(302e∼302g)를 부가하여 필드 영역(308a∼308d) 사이의 간격을 대응된 필드 영역(308e∼308g)에 의하여 Y 방향으로 보충하도록 함으로써 Y 방향으로의 연속적인 노광이 가능토록 한다.
필드 영역(308a) 및 (308d)는 폭이 일정한 구역의 중심에서 광차단부(LSA) 및 회로패턴(PA) 사이의 경계를 교차하도록 위치한다.
전술한 바와 같이, 오프너 투영광학계를 사용하여도, 마스크(8)상의 필드 영역(308a∼308g)는 다이손 투영광학계를 사용하는 경우와 마찬가지로 주사 방향과 수직인 임의의 방향(Y 방향)에서 주사 방향(X 방향)을 따른 필드 영역의 전체 길이의 합이 일정하게 유지되도록 배열된다.
즉, 필드 영역의 실제 크기의 직립상인 노광 영역(309a∼309g)에서, 주사 방향(X 방향)을 따른 필드 영역의 길이의 합은 주사 방향에 수직인 방향(Y 방향)의 임의의 위서 일정하게 유지된다.
따라서, 주사 노광은 판(9)상의 전체 표면에 걸쳐 균일한 노광 분포를 얻게 된다.
제25도는 다른 투영광학계의 구조를 나타낸 도면이다.
제25도의 투영광학계는 하나의 오프너 광학계를 사용하고 필드 스톱을 사용하지 않는 점에서 두 개의 오프너 부분광학계를 사용하고 필드 스톱으로 구성되는 제19도에 도시한 투영광학계와는 다르게 된다.
나아가서, 제25도에 도시된 투영광학계는 제19도에 도시한 각각의 부분 투영광학계와 그 구조가 동일하나, 등변 사다리꼴의 프리즘의 제1반사면이 루프(roof)면인 것이 다르다.
제25도에 도시된 투영광학계에서, 마스크(8)을 통과하는 광은 등변 사다리꼴의 프리즘(351)의 루프면(351a)에 의해 도면에서 볼 때 우측으로 굴절되어 오목거울(352)에 충돌된다.
오목거울(352)에 의하여 도면에서 볼 때 좌측으로 반사되는 광은 다시 볼록거울(353)에 의해 도면에서 볼 때 우측으로 반사되어 다시 오목거울(352)에 충돌된다.
오목거울(352)에 의하여 도면에서 볼 때 다시 좌측으로 굴곡되는 광은 이등변 사변형의 프리즘(351)의 반사면(351b)에 의하여 도면에서 볼 때 아래로 반사되어 판(9)상에 직립된 실제 크기의 상을 형성하게 된다.
따라서, 루프면(351a)는 상의 방위를 물체면과 상면에서 광학축에 직각인 방향(도면의 면에 수적인 면 또는 Y 방향)에서 역으로 변환시키게 된다.
이에 의해 마스크(8)상의 패턴의 적립상이 플레이트(9)상에 형성되되, 축방향으로의 배율은 물체면 및 상면에서 광학축(X 방향)과 상기 광학축에 직각인 축(Y 방향)의 양방향에서 양의 배율이 되도록 한다.
따라서, 다수의 투영광학계를 갖는 주사노광장치는 마스크(8)의 주사 방향이 판(9)의 주사 방향과 일치되도록 배열될 수 있게 된다.
제26도와 관련하여 설명하는 내용은 상기 실시예의 투영광학계에 적합한 레이아웃에 관한 것이다.
제26도는 XY평면에서의 평면도로서 2세트의 투영광학계와 필드 영역(노광 영역) 사이의 관계를 나타내는 도면이다.
제26도에서, 앞서의 실시예에서와 동일한 기능을 갖는 부분들에 대하여는 앞서와 동일한 참조번호를 부기하였다.
제26도는 물체 평면(실시예에서 마스크 표면)상의 필드 영역(308a)의 상을 형성하기 위한 투영광학계(302a)는 등변사다리꼴 프리즘(321A), 오목거울(322A) 및 볼록거울(323A)로만 예시되어 있으며, 물체 평면상의 필드 영역(308b)의 상을 형성하기 위한 투영광학계(302b)는 등변사다리꼴 프리즘(321b), 오목거울(322B) 및 볼록거울(323B)로만 예시되어 있다.
여기에서 324L을 활형 필드 영역의 내부 Y-방향 길이에 놓고 324M은 필드 영역의 Y-방향의 최대 길이에 놓는다.
그리고 나서 투영광학계(302a)의 광학축(Axa)과 투영광학계(302b)의 광학축(Axb)사이에 Y 방향에서의 거리(d)는 바람직하게는 다음의 관계식에 만족하도록 결정된다.
d = 324D + (324M-324L) / 2 (5)
두 세트의 투영광학계(302a, 302b)가 상기 조건식(5)를 만족시키지 않는 경우에는, 필드 영역은 물체 평면상에서 서로 중첩되지 않거나 필드 영역의 X-방향(주사 방향) 넓이가 일정하지 않아서 바람직하지 않다.
조건식 (5)는 상기 324L 및 324M이 물체 평면상의 필드 영역에서의 길이가 아니라 상 평면(실시예의 플레이트 표면)상의 노광 영역 또는 필드 스톱에서의 길이인 경우에는 만족된다.
또한, 상기 조건식(5)는 3 또는 그 이상의 투영광학계가 배열된 경우 및 투영광학계가 다이손 형인 경우에 적용될 수 있다.
투영광학계가 다이손 형이고, 다이손 광학계의 필드가 사다리꼴인 경우에는 각각 사다리꼴 필드에 평행인 한쌍의 가장자리로부터 더 짧은 길이의 가장자리에는 324L을, 더 긴 길이의 가장자리에는 324M을 배열할 수 있다.
상기 실시예에서, 중력에 의해 발생하는 마스크(8) 및 플레이트(9)의 굴절은 수직 방향으로 Y 방향을 고정함으로써 작아진다.
상기한 바와 같이, 본 발명에 따르는 실시예는 대형 스크린을 스크린에 스티치 없이 단일 노광에 의해 노광시킬수 있고 대형 노광부위를 시스템 효율의 저하없이 우수한 영상화 성능으로 작동시킴으로써 스캔-노광시킬수 있다는 장점이 있다.
또한, 투영광학계는 규모면에서 압축하여 제조할 수 있어, 고-정확도 투영광학계를 쉽게 제조할 수 있다.
그러므로 상기의 본 발명에 대한 기재로부터, 본 발명은 다양한 방법으로 변형시킬수 있음이 분명하다.
이러한 변형은 본 발명의 원리 및 범위를 벗어난 것으로 파악되지 않으며, 이러한 모든 변형은 본 기술분야의 기술자에게는 자명한 것으로서 하기의 특허청구의 범위에 포함되는 것으로 간주된다.
제1도는 통상적인 거울 투영형 정렬장치(aligner)의 전체 구조를 도시한 투시도.
제2도는 통상적인 거울 투영형 정렬장치에서 투영광학계의 구조를 도시한 측면도.
제3도는 본 발명의 실시예에서 노광 장치의 전체 구조를 도시한 투시도.
제4도는 본 발명의 노광장치에 사용된 조명광학계의 예를 도시한 투시도.
제5도는 조명광학계의 또 다른 예를 도시적으로 도시한 투시도.
제6도는 본 발명의 구체예에서 노광장치에 사용되는 투영광학계의 측단면도.
제7도는 투영광학계의 또 다른 예를 도시한 측면도.
제8도는 사다리꼴 개구(aperture)를 갖는 필드 스톱을 도시한 평면도.
제9도는 사다리꼴 개구와 다이손(Dyson)광학계에 의한 최대필드 영역 사이의 평면 위치 관계를 도시한 도면.
제10도는 육면체 개구를 갖는 필드 스톱을 도시한 평면도.
제11도는 육면체 개구와 다이손 광화계에 의한 최대 필드 영역 사이의 평면위치 관계를 도시한 도면.
제12도는 투영광학계에 의한 필드 영역과 마스크(mask) 사이의 평면위치 관계를 도시한 도면.
제13도는 플레이트상에 Y 방향에 대해서 노광의 분배를 도시한 도면.
제14도는 다수의 다이손 투영광학계의 배치를 예시하는 평면도.
제15, 16, 17도는 다이손 투영광학계의 또 다른 예를 도시하는 렌즈 구조 도면.
제18도는 본 발명의 또 다른 실시예에서 노광장치의 전체 구조를 도시한 투시도.
제19도는 제18도의 실시예에서 노광장치에 사용된 투영광학계의 부분 측단면도.
제20도는 호상(arcuate) 윤곽의 개구를 가진 필드 스톱을 도시한 평면도.
제21도는 호상 윤곽의 개구와 오프너 광학계에 의해 최대 필드 영역 사이의 평면 위치를 도시한 도면.
제22도는 다각형 윤곽의 개구를 갖는 필드 스톱을 도시한 평면도.
제23도는 다각형 윤곽의 개구와 오프너 광학계에 의한 최대 필드 영역 사이의 평면 위치 관계를 도시한 도면.
제24도는 오프너 투영광학계에 의한 필드 영역과 마스크 사이의 평면 위치 관계를 도시한 도면.
제25도는 오프너 투영광학계의 또 다른 예를 도시한 측면도.
제26도는 다수의 오프너 투영광학계의 배치를 예시하는 평면도.

Claims (162)

  1. 제2물체위에 제1물체의 실제-크기 정립상을 형성시키기 위한, 적어도 영상 측면상에 텔레센트릭한 제1투영광학계와;
    제1물체위에 제2물체의 실제-크기 정립상을 형성시키기 위한, 적어도 영상 측면상에 텔레센트릭하며 제1투영광학계 다음에 배치된 제2투영광학계와;
    상기 제1투영광학계에 의해 상기 제2물체위에 형성되는 노광 영역을 특정한 형상내에서 한정하기 위한 제1필드 스톱과;
    상기 제2투영광학계에 의해 상기 제2물체위에 형성되는 노광 영역을 특정한 형상내에서 한정하기 위한 제2필드 스톱으로 이루어지며,
    이 때에 상기 이동방향에 따르는 길이, 상기 제1필드 스톱에 의해 제한되는 제1노광 영역 및 상기 이동방향에 따르는 길이, 상기 제2필드 스톱에 의해 제한되는 제2노광 영역의 합은 상기 이동방향에 수직인 방향에 걸쳐 일정함을 특징으로 하여, 제1물체 및 제2물체가 특정한 방향으로 이동하는 동안, 상기 제2물체에 제1물체의 상의 투영 노광시키기 위한 노광장치.
  2. 제1항에 있어서,
    상기 이동방향에 수직인 방향인 제1노광 영역의 위치가 상기 이동방향에 수직인 방향인 제2노광 영역의 위치와 다름을 특징으로 하는 노광장치.
  3. 제1항에 있어서,
    제1 및 제2투영광학계 각각이 다이손 형임을 특징으로 하는 노광장치.
  4. 제1항에 있어서,
    제1 및 제2투영광학계 각각이 오프너 형임을 특징으로 하는 노광장치.
  5. 제1항에 있어서,
    제1 및 제2투영광학계 각각이 제1물체의 중간상을 형성하기 위한 제1부분 광학계 및 상기 제2물체위에 상기 중간상의 재-영상화를 위한 제2부분 광학계 및 제2필드 스톱은 상기 중간상의 위치에 고정됨을 특징으로 하는 노광장치.
  6. 제5항에 있어서,
    제1 및 제2부분 광학계가 동일 구조 및 동일 방향으로 배열됨을 특징으로 하는 노광장치.
  7. 제1항에 있어서,
    제1노광 영역중에서 제2노광영역과 중첩되어 노광되는 부분이 이동방향을 따라 길이가 선상으로 변화되며, 제2노광 영역중에서 제1노광 영역과 중첩되는 부분은 상기 이동방향을 따라 길이가 선상으로 변화되고, 제1노광 영역중에서 단독으로 노광된 부위는 상기 이동방향을 따라 일정한 길이를 가지며, 제2노광 영역중에서단독으로 노광되는 부위는 상기 이동방향을 따라 일정한 길이를 가짐을 특징으로 하는 노광장치.
  8. 제7항에 있어서,
    제1 및 제2투영광학계 각각은 다이손 형이고, 제1 및 제2노광 영역은 사다리꼴임을 특징으로 하는 노광장치.
  9. 제7항에 있어서,
    제1 및 제2투영광학계 각각은 다이손 형이고, 제1 및 제2노광 영역은 육각형임을 특징으로 하는 노광장치.
  10. 제7항에 있어서,
    제1 및 제2투영광학계 각각은 오프너 형이며, 제1 및 제2노광 영역은 반원형임을 특징으로 하는 노광장치.
  11. 제10항에 있어서,
    제1 및 제2노광 영역중에서 단독으로 노광된 부분은 호상의 테두리를 가짐을 특징으로 하는 노광장치.
  12. 제10항에 있어서,
    제1 및 제2노광 영역 사이에 단독으로 노광된 부분은 테두리가 꺽은 선을 가짐을 특징으로 하는 노광장치.
  13. 제1항에 있어서,
    추가로 노광용 광원 및 이 광원으로부터 상기 제1 및 제2투영광학계로 빛을 유도하고, 적어도 몇 개의 무작위로 묶인 광섬유를 가진 광 가이드로 이루어짐을 특징으로 하는 노광장치.
  14. 제1항에 있어서,
    제1필드 스톱이 상기 제1투영광학계에 위치하고, 제2필드 스톱은 상기 제2투영광학계에 위치함을 특징으로 하는 노광장치.
  15. 제1항에 있어서,
    추가로 노광 광으로 제1물체를 제공하는 조명수단을 함유하며, 이 때에 상기 제1 및 제2필드 스톱은 조명수단에 위치함을 특징으로 하는 노광장치.
  16. 단위 배율을 가지며 제2물체의 제1노광 영역위에 제1물체의 정립상을 형성하며, 적어도 영상 측면상에 텔레센트릭한 제1투영광학계와;
    단위 배율을 가지며 제2물체의 제2노광 영역위에 제2물체의 정립상을 형성하며, 적어도 영상 측면상에 텔레센트릭한 제2투영광학계로 이루어지며,
    이 때에 제1노광 영역은 상기 이동방향에서 상기 제2노광 영역과는 분리됨을 특징으로 하는 투영노광장치.
  17. 제 16항에 있어서,
    상기 제1 및 제2투영광학계는 반사굴절형 광학계인 것을 특징으로 하는 투영노광장치.
  18. 제 17항에 있어서,
    상기 반사굴절형 광학계는 렌즈군 및 오목거울을 포함하는 것을 특징으로 하는 투영노광장치.
  19. 제18항에 있어서,
    상기 제1투영광학계의 상기 오목거울과, 상기 제2투영광학계의 상기 오목거울은 상호 오목면을 향하여 맞추어 배치되는 것을 특징으로 하는 투영노광장치.
  20. 제17항에 있어서,
    상기 반사굴절형 광학계는, 상기 제1물체 및 상기 제2물체와 평행하게 위치 결정된 광축을 갖는 것을 특징으로 하는 투영노광장치.
  21. 제16항에 있어서,
    상기 제1투영광학계는, 상기 제1물체의 중간상을 형성하는 제1부분광학계와, 상기 제2물체상에 상기 제1물체의 중간상을 재결상시키는 제2부분광학계를 포함하고,
    상기 제2투영광학계는, 상기 제1물체의 중간상을 형성하는 제3부분광학계와, 상기 제2물체상에 상기 제1물체의 중간상을 재결상시키는 제4부분광학계를 포함하는 것을 특징으로 하는 투영노광장치.
  22. 제21항에 있어서,
    상기 제1투영광학계는 상기 중간상 위치에 배치된 제1시야 조리개를 갖고,
    상기 제2투영광학계는 상기 중간상 위치에 대치된 제2시야 조리개를 갖는 것을 특징으로 하는 투영노광장치.
  23. 제21항에 있어서,
    상기 제1내지 제4부분광학계는, 각각 반사굴절형 광학계인 것을 특징으로 하는 투영노광장치.
  24. 제23항에 있어서,
    상기 제1내지 제4부분광학계는 상기 제1 내지 제2물체의 면과 평행한 광축을 각각 갖는 것을 특징으로 하는 투영노광장치.
  25. 제24항에 있어서,
    상기 제1 내지 제4부분광학계는 렌즈군 및 오목거울을 각각 갖고,
    상기 제1 및 제2부분광학계의 상기 오목거울과, 상기 제3 및 제4부분광학계의 상기 오목거울은 상호 반대측을 향하고 있는 것을 특징으로 하는 투영노광장치.
  26. 제23항에 있어서,
    상기 렌즈군은, 상기 오목거울측에 볼록면을 향한 제1렌즈와, 상기 오목 거울측에 볼록면을 향한 제2렌즈를 포함하는 것을 특징으로 하는 투영노광장치.
  27. 제26항에 있어서,
    상기 제1부분광학계는, 제1절곡거울과, 제1평볼록렌즈와, 제1메니스커스렌즈와, 제1오목거울과, 제2절곡거울을 갖고,
    상기 제2부분광학계는, 제3절곡거울과, 제2평볼록렌즈와, 제2메니스커스렌즈와, 제2오목거울과, 제4절곡거울을 갖고,
    상기 제3부분광학계는, 제5절곡거울과, 제3평볼록렌즈와, 제3메니스커스렌즈와, 제3오목거울과, 제6절곡거울을 갖고,
    상기 제4부분광학계는, 제7절곡거울과, 제4평볼록렌즈와, 제4메니스커스렌즈와, 제4오목거울과, 제8절곡거울을 갖고,
    상기 제1물체로부터 상기 제1투영광학계로 향하는 광은, 상기 제1절곡거울, 상기 제1평볼록렌즈, 상기 제1메니스커스 렌즈, 상기 제1오목거울, 상기 제1메니스커스 렌즈, 상기 제1평볼록렌즈, 및 상기 제2절곡거울의 순으로 경유하여, 상기 중간상을 형성한 후에, 상기 제3절곡거울, 상기 제2평볼록렌즈, 상기 제2메니스커스 렌즈, 상기 제2오목거울, 상기 제2메니스커스렌즈, 상기 제2평볼록렌즈, 및 상기 제4절곡거울의 순으로 경유하여, 상기 제2물체상의 상기 제1노광 영역내에 상기 제1물체의 2차상을 형성하고,
    상기 제1물체로부터 상기 2투영광학계로 향하는 광은, 상기 제5절곡거울, 상기 제3평볼록렌즈, 상기 제3메니스커스 렌즈, 상기 제3오목거울, 상기 제3메니스커스 렌즈, 상기 제3평볼록렌즈, 및 상기 제6절곡거울의 순으로 경유하여, 상기 중간상을 형성한 후에 상기 제7절곡거울, 상기 제4평볼록렌즈, 상기 제4메니스커스 렌즈, 상기 제4오목거울, 상기 제4메니스커스렌즈, 상기 제4평볼록렌즈, 및 상기 제8절곡거울의 순으로 경유하여, 상기 제2물체상의 상기 제2노광 영역내에 상기 제1물체의 2차상을 형성하는 것을 특징으로 하는 투영노광장치.
  28. 제27항에 있어서,
    상기 제2절곡거울과 상기 제3절곡거울 사이에 배치된 제1시야 조리개와, 상기 제6절곡거울과 상기 제7절곡거울 사이에 배치된 제2시야 조리개를 갖는 것을 특징으로 하는 투영노광장치.
  29. 제27항에 있어서,
    상기 제1절곡거울과 상기 제5절곡거울은 상호 반대 방향으로 광을 반사하도록 배치되며,
    상기 제3절곡거울과 상기 제7절곡거울은 상호 반대 방향으로 광을 반사하도록 배치되는 것을 특징으로 하는 노광장치.
  30. 제16항에 있어서,
    상기 제1노광 영역은, 상기 주사방향과 직교하는 방향에 있어서 상기 제 2노광 영역과는 다른 위치에 위치 결정되는 것을 특징으로 하는 투영노광장치.
  31. 제16항에 있어서,
    상기 제2물체상의 제3노광 영역에 상기 제1물체의 정립상을 형성하는 제 3투영광학계를 갖고,
    상기 제3투영광계는 등배이며,
    상기 제3노광 영역은, 상기 주사방향에 있어서 상기 제2노광 영역과 이격되어 위치하는 것을 특징으로 하는 투영노광장치.
  32. 제19항에 있어서,
    상기 제2물체상의 제3노광 영역에 상기 제1물체의 정립상을 형성하는 제3투영광학계를 갖고,
    상기 제3투영광학계는 등배이며, 또한 렌즈군 및 오목거울을 포함하고,
    상기 제3투영광학계의 상기 오목거울과 상기 제2투영광학계의 상기 오목 거울은 상호 오목면을 마주 향하게 배치되는 것을 특징으로 하는 투영노광장치.
  33. 제20항에 있어서,
    상기 제2물체상의 제3노광 영역에 상기 제1물체의 정립상을 형성하는 제 3투영광학계를 갖고,
    상기 제3투영광학계는 등배의 반사굴절광학계이며, 또한 상기 제1물체 및 상기 제2물체와 평행하게 위치 결정된 광축을 갖는 것을 특징으로 하는 투영노광장치.
  34. 제21항에 있어서,
    상기 제2물체상의 제3노광 영역에 상기 제1물체의 등배의 정립상을 형성하는 제3투영광학계를 갖고,
    상기 제3투영광학계는, 상기 제1물체의 중간상을 형성하는 제5부분광학계와, 상기 제2물체상에 상기 제1물체의 중간상을 재결상시키는 제6부분 광학계를 포함하는 투영노광장치.
  35. 제27항에 있어서,
    상기 제2물체상의 제3노광 영역에 상기 제1물체의 등배의 정립상을 형성하는 제3투영광학계를 갖고,
    상기 제3투영광학계는, 상기 제1물체의 중간상을 형성하는 제5부분광학계와,상기 제2물체상에 상기 제1물체의 중간상을 재결상시키는 제6부분광학계를 포함하고,
    상기 제5부분광학계는, 제9절곡거울과, 제5평볼록렌즈와, 제5메니스커스렌즈와, 제5오목거울과, 제10절곡거울을 갖고,
    상기 제6부분광학계는 제11절곡거울과, 제6평볼록렌즈와, 제6메니스커스렌즈와, 제6오목거울과, 제12절곡거울을 갖고,
    상기 제1물체로부터 상기 제3투영광학계로 향하는 광은, 상기 제9절곡거울, 상기 제5평볼록렌즈, 상기 제5메니스커스 렌즈, 상기 제5오목거울, 상기 제5메니스커스, 상기 제5평볼록렌즈, 및 상기 제10절곡거울의 순으로 경유하여, 상기 중간상을 형성한 후에, 상기 제11절곡거울, 상기 제6평볼록렌즈, 상기 제6메니스커스 렌즈, 상기 제6오목거울, 상기 제6메니스커스 렌즈, 상기 제6평볼록렌즈, 및 상기 제12절곡거울 순으로 경유하여, 상기 제2물체상의 상기 제3노광 영역에 상기 제1물체의 2차상을 형성하는 것을 특징으로 하는 투영노광장치.
  36. 제34항 또는 제35항에 있어서,
    상기 제3투영광학계는, 상기 제3투영광학계가 형성하는 상기 중간상 위치에 위치 결정된 제3시야 조리개를 갖는 것을 특징으로 하는 투영노광장치.
  37. 제34항에 있어서,
    상기 제1절곡거울과 상기 제5절곡거울은 상호 반대방향으로 광을 반사하도록배치되며,
    상기 제3절곡거울과 상기 제7절곡거울은 상호 반대방향으로 광을 반사하도록 배치되며,
    상기 제1절곡거울과 상기 제9절곡거울은 상호 거의 평행한 방향으로 광을 반사하도록 배치되며,
    상기 제3절곡거울과 상기 제11절곡거울은 상호 거의 평행한 방향으로 광을 반사하도록 배치되는 것을 특징으로 하는 투영노광장치.
  38. 제30항에 있어서,
    상기 제2물체상의 제3노광 영역에 상기 제1물체의 등배의 정립상을 형성하는 제3투영광학계를 갖고,
    상기 제3노광 영역은, 상기 주사방향과 직교하는 방향에 있어서 상기 제1 및 제2노광 영역과는 다른 위치에 위치결정되며, 또한 상기 주사방향에 있어서 상기 제2노광 영역과는 다른 위치에 위치결정되는 것을 특징으로 하는 투영노광장치.
  39. 제1물체상의 패턴을 제2물체상으로 투영노광하는 방법에 있어서,
    상기 제1물체상에 조명영역을 형성하는 공정과;
    상기 조명영역내의 제1시야 영역으로부터의 광을 제1투영광학계로 유도하는 공정과;
    상기 조명영역내의 제2시야 영역으로부터의 광을 상기 제1투영광학계와는 다른 제2투영광학계로 유도하는 공정과;
    상기 제1투영광학계로 유도된 상기 광에 기초하여, 상기 제2물체상의 제 1노광 영역내에 텔레센트릭 광속으로 상기 제1시야 영역내의 상기 패턴의 정립상을 형성하는 공정; 및,
    상기 제2투영광학계로 유도된 상기 광에 기초하여, 상기 제2물체상의 상기 제1노광 영역과는 다른 제2노광 영역내에 텔레센트릭 광속하에서 상기 제2시야 영역내의 상기 패턴의 정립상을 형성하는 공정을 포함하고,
    상기 제1 및 제2노광 영역은 상기 투영노광을 행하는 사이에 상기 제2물체상을 주사하는 것을 특징으로 하는 투영노광방법.
  40. 제39항에 있어서,
    상기 제1시야 영역내의 상기 패턴의 상기 정립상를 형성하는 공정은, 상기 제1투영광학계로 유도된 상기 광에 기초하여, 상기 제1시야 영역내의 상기 패턴의 제1중간상을 형성하는 보조공정과 ; 상기 제1중간상으로부터의 광에 기초하여 상기 제1노광 영역내에 상기 제1중간상을 재결상시키는 보조 공정을 포함하는 것을 특징으로 하는 투영노광방법.
  41. 제39항 또는 제40항에 있어서,
    상기 제2시야 영역내의 상기 패턴의 상기 정립상를 형성하는 공정은, 상기 제2투영광학계로 유도된 상기 광에 기초하여, 상기 제2시야 영역내의 상기 패턴의제2중간상를 형성하는 보조공정과 ; 상기 제2중간상으로부터의 광에 기초하여 상기 제2노광 영역내에 상기 제2중간상을 재결상시키는 보조 공정을 포함하는 것을 특징으로 하는 투영노광방법.
  42. 제41항에 있어서,
    상기 제1시야 영역내의 상기 패턴의 상기 정립상을 형성하는 공정은, 상기 제1투영광학계중의 제1시야 조리개의 개구부에 광을 통과시키는 보조공정을 포함하고,
    상기 제2시야 영역내의 상기 패턴의 상기 정립상를 형성하는 공정은, 상기 제2투영광학계중의 제2시야 조리개의 개구부에 광을 통과시키는 보조공정을 포함하는 것을 특징으로 하는 투영노광방법.
  43. 제41항에 있어서,
    상기 제1중간상을 형성하는 공정은, 제1오목거울로 광을 반사시키는 보조공정을 포함하고,
    상기 제1중간상를 상기 제1노광 영역내에 재결상시키는 공정은, 제2오목 거울로 광을 반사시키는 보조공정을 포함하고,
    상기 제2중간상을 형성하는 공정은, 제3모목거을로 광을 반사시키는 보조공정을 포함하고,
    상기 제2중간상을 상기 제2노광 영역내에 재결상시키는 공정은, 제4오목 거울로 광을 반사시키는 보조공정을 포함하는 것을 특징으로 하는 투영노광방법.
  44. 제43항에 있어서,
    상기 제1시야영역으로부터의 광을 편향시켜 상기 제1오목거울로 향하는 제 1편향 공정과,
    상기 제1오목거울에서 반사된 광을 편향시키는 제2편향 공정과,
    상기 제2편향 공정을 경유한 광을 상기 제2오목거울로 향하는 제3편향 공정과,
    상기 제2오목거울에서 반사된 광을 편향시켜 상기 제1노광 영역으로 향하는 제4편향 공정과,
    상기 제2시야영역으로부터의 광을 편향시켜 상기 제3오목거울로 향하는 제5편향 공정과,
    상기 제3오목거울에서 반사된 광을 편향시키는 제6편향 공정과,
    상기 제6편향 공정을 경유한 광을 상기 제4오목거울로 향하는 제7편향 공정과,
    상기 제4오목거울에서 반사된 광을 편향시켜 상기 제2노광 영역으로 향하는 제8편향 공정을 포함하는 것을 특징으로 하는 투영노광방법.
  45. 제44항에 있어서,
    상기 제1편향 공정과 상기 제5편향 공정에서는, 상호 반대측으로 상기 광을편향시키고,
    상기 제3편향 공정과 상기 제7편향 공정에서는, 상호 반대측으로 상기 광을 편향시키는 것을 특징으로 하는 투영노광방법.
  46. 제44항에 있어서,
    상기 제1편향 공정과 상기 제1오목거울로 광을 반사시키는 보조공정의 사이, 및 상기 제1오목거울로 광을 반사시키는 보조공정과 상기 제2편향 공정의 사이에는 제1렌즈군에 상기 광을 통과시키는 보조공정이 실행되며,
    상기 제3편향 공정과 상기 제2오목거울로 광을 반사시키는 보조공정의 사이, 및 상기 제2오목거울로 광을 반사시키는 보조공정과 상기 제4편향 공정의 사이에는 제2렌즈군에 상기 광을 통과시키는 보조공정이 실행되며,
    상기 제5편향 공정과 상기 제3오목거울로 광을 반사시키는 보조공정의 사이, 및 상기 제3오목거울로 광을 반사시키는 보조공정과 상기 제6편향 공정의 사이에는 제3렌즈군에 상기 광을 통과시키는 보조공정이 실행되며,
    상기 제7편향 공정과 상기 제4오목거울로 광을 반사시키는 보조공정의 사이, 및 상기 제4오목거울로 광을 반사시키는 보조공정과 상기 제8편향 공정의 사이에는 제4렌즈군에 상기 광을 통과시키는 보조공정이 실행되는 것을 특징으로 하는 투영노광방법.
  47. 제46항에 있어서,
    상기 제1렌즈군은, 제1평볼록렌즈와 제1메니스커스 렌즈를 포함하고,
    상기 제2렌즈군은, 제2평볼록렌즈와 제2메니스커스 렌즈를 포함하며,
    상기 제3렌즈군은, 제3평볼록렌즈와 제3메니스커스 렌즈를 포함하고,
    상기 제4렌즈군은, 제4평볼록렌즈와 제4메니스커스 렌즈를 포함하는 것을 특징으로 하는 투영노광방법.
  48. 제39항에 있어서,
    상기 조명영역은, 상기 제1시야 영역을 포함하는 제1조명영역과, 상기 제2시야 영역을 포함하는 제2조명영역을 갖는 것을 특징으로 하는 투영노광방법.
  49. 제32항에 있어서,
    상기 제1 및 제2노광 영역은, 상기 주사하는 방향에 있어서 상호 다른 위치에 존재하는 것을 특징으로 하는 투영노광방법.
  50. 제39항 또는 제49항에 있어서,
    상기 제1 및 제2노광 영역은, 상기 주사하는 방향과 직교하는 방향에 있어서 상호 다른 위치에 존재하는 것을 특징으로 하는 투영노광방법.
  51. 제39항에 있어서,
    상기 조명영역내의 제3시야 영역으로부터의 광을 상기 제1 및 제2투영광학계와는 다른 제3투영광학계로 유도하는 공정과;
    상기 제3투영광학계로 유도된 상기 광에 기초하여, 상기 제2물체상의 상기 제1 및 제2노광 영역과는 다른 제3노광 영역내에 텔레센트릭 광속하에서 상기 제3투시영역내의 상기 패턴의 정립상을 형성하는 공정을 포함하고,
    상기 제3노광 영역은, 상기 투영노광을 행하는 사이에 상기 제2물체상을 주사하는 것을 특징으로 하는 투영노광방법.
  52. 제39항에 있어서,
    상기 조명영역내의 제3시야 영역으로부터의 광을 상기 제1 및 제2투영광학계와는 다른 제3투영광학계로 유도하는 공정과;
    상기 제3투영광학계로 유도된 상기 광에 기초하여, 상기 제2물체상의 상기 제1 및 제2노광 영역과는 다른 제3노광 영역내에 텔레센트릭 광속하에서 상기 제3시야 영역내의 상기 패턴의 정립상을 형성하는 공정을 포함하고,
    상기 제3노광 영역은 상기 투영노광을 행하는 사이에 상기 제2물체상을 주사하는 것을 특징으로 하는 투영노광방법.
  53. 제51항에 있어서,
    상기 제3시야 영역내의 상기 패턴의 상기 정립상를 형성하는 공정은, 상기 제3투영광학계로 유도된 상기 광에 기초하여, 상기 제1시야영역내의 상기 패턴의 제3중간상을 형성하는 보조공정과 ; 상기 제3중간상으로부터의 광에 기초하여, 상기 제3노광 영역내에 상기 제3중간상을 재결상시키는 보조공정을 포함하는 것을 특징으로 하는 투영노광방법.
  54. 제51항 또는 제53항에 있어서,
    상기 제3시야 영역내의 상기 패턴의 상기 정립상을 형성하는 공정은, 상기 제3투영광학계중의 제3투시 조리개의 개구부에 광을 통과시키는 보조공정을 포함하는 것을 특징으로 하는 노광방법.
  55. 제53항에 있어서,
    상기 제3중간상을 형성하는 공정은 제5오목거울로 광을 반사시키는 보조 공정을 포함하고,
    상기 제3중간상을 상기 제3노광 영역내에 재결상시키는 공정은 제6오목거울로 광을 반사시키는 보조공정을 포함하는 것을 특징으로 하는 노광방법.
  56. 제44항에 있어서,
    상기 조명영역내의 제3시야 영역으로부터의 광을 상기 제1 및 제2투영광학계와는 다른 제3투영광학계로 유도하는 공정과;
    상기 제3투영광학계로 유도된 상기 광에 기초하여, 상기 제2물체상의 상기 제1 및 제2노광 영역과는 다른 제3노광 영역내에 텔레센트릭 광속하에서 상기 제3시야 영역내의 상기 패턴의 정립상을 형성하는 공정을 포함하고,
    상기 제3시야 영역내의 상기 패턴의 상기 정립상을 형성하는 공정은, 상기 제3투영광학계에 유도된 상기 광에 기초하여, 상기 제1시야 영역내의 상기 패턴의 제3중간상을 형성하는 보조공정과; 상기 제3중간상으로부터의 광에 기초하여 상기 제3노광 영역내에 상기 제3중간상을 재결상시키는 보조공정을 포함하고,
    상기 제3중간상를 형성하는 공정은, 제5오목거울로 광을 반사시키는 보조공정을 포함하고,
    상기 제3중간상을 상기 제3노광 영역내에 재결상시키는 공정은 제6오목거울로 광을 반사시키는 보조공정을 포함하고,
    상기 제3시야 영역으로부터의 광을 편향시켜 상기 제5오목거울로 향하는 제9편향 공정과,
    상기 제5오목거울에서 반사된 광을 편향시키는 제10편향 공정과,
    상기 제10편향 공정을 경유한 광을 상기 제6오목거울로 향하는 제11편향 공정과,
    상기 제6오목거울에세 반사된 광을 편향시켜 상기 제3노광 영역으로 향하는 제12편향 공정을 포함하는 것을 특징으로 하는 투영노광방법.
  57. 제56항에 있어서,
    상기 제1편향 공정과 상기 제5편향 공정에서는, 상호 반대측으로 상기 광을 편향시키고,
    상기 제3편향 공정과 상기 제7편향 공정에서는, 상호 반대측으로 상기 광을편향시키며,
    상기 제5편향 공정과 상기 제9편향 공정에서는, 상호 반대측으로 상기 광을 편향시키고,
    상기 제7편향 공정과 상기 제11편향 공정에서는, 상호 반대측으로 상기 광을 편향시키는 것을 특징으로 하는 투영노광방법.
  58. 제39, 40, 48, 51, 53항 또는 55항중 어느 한 항에 있어서,
    상기 제1 및 제2노광 영역은, 상기 주사하는 방향에 있어서 상호 다른 위치에 존재하고,
    상기 제2 및 제3노광 영역은, 상기 주사하는 방향에 있어서 상호 다른 위치에 존재하며,
    상기 제1 및 제2노광 영역은, 상기 주사하는 방향과 직교하는 방향에 있어서 상호 다른 위치에 존재하고,
    상기 제2 및 제3노광 영역은, 상기 주사하는 방향과 직교하는 방향에 있어서 상호 다른 위치에 존재하는 것을 특징으로 하는 투영노광방법.
  59. 제39, 40, 48, 49, 51, 53, 또는 55항 중 어느 한 항에 기재된 노광방법에 의해 상기 패턴이 형성된 제2물체.
  60. 제1물체상의 패턴을 제2물체상으로 투영노광하는 방법에 있어서,
    상기 제1물체상에 조명영역을 형성하는 공정과,
    상기 조명영역내의 제1시야 영역으로부터의 광을 제1투영광학계로 유도하는 공정과;
    상기 조명영역내의 제2시야 영역으로부터의 광을 상기 제1투영광학계와는 다른 제2투영광학계로 유도하는 공정과;
    상기 제1투영광학계로 유도된 상기 광에 기초하여 상기 제2물체상의 제1 노광 영역내에 상기 제1시야영역내의 상기 패턴의 등배의 정립상을 형성하는 공정; 및
    상기 제2투영광학계로 유도된 상기 광에 기초하여 상기 제2물체상의 상기 제1노광 영역과는 다른 제2노광 영역내에 상기 제2시야 영역내의 상기 패턴의 등배의 정립상을 형성하는 공정을 포함하고,
    상기 제1 및 제2노광 영역은, 상기 투영노광을 행하는 사이에 상기 제2 물체상을 주사하는 투영노광방법.
  61. 제60항에 있어서,
    상기 제1노광 영역내에 상기 제1시야영역내의 상기 패턴의 등배의 정립상을 형성하는 공정은 상기 제1시야영역으로부터의 상기 광을 반사시키는 보조공정을 포함하고,
    상기 제2노광 영역내에 상기 제2시야영역내의 상기 패턴의 등배의 정립상을 형성하는 공정은 상기 제2시야영역내로부터의 상기 광을 반사시키는 보조공정을 포함하는 것을 특징으로 하는 투영노광방법.
  62. 제61항에 있어서,
    상기 제1시야영역으로부터의 상기 광을 반사시키는 보조공정에서는 오목거울에 의해 상기 광을 반사시키고,
    상기 제2시야영역으로부터의 상기 광을 반사시키는 보조공정에서는 오목거울과는 다른 오목거울에 의해 상기 광을 반사시키는 것을 특징으로 하는 투영노광방법.
  63. 제61항에 있어서,
    상기 제1시야영역으로부터의 상기 광을 반사시키는 보조공정에서는 상기 광을 상기 제1물체의 면과 거의 평행한 방향으로 향하여 반사시키고,
    상기 제2시야영역으로부터의 상기 광을 반사시키는 보조공정에서는 상기 광을 상기 제1물체의 면과 거의 평행한 방향으로 향하며 반사시키는 것을 특징으로 하는 투영노광방법.
  64. 제60항 내지 제63항중 어느 한 항에 있어서,
    상기 제1노광 영역내에 상기 제1시야영역내의 상기 패턴의 등배의 정립상을 형성하는 공정은, 상기 제1시야 영역내의 상기 패턴의 제1중간상을 형성하는 보조공정과, 상기 제1중간상으로부터의 광에 기초하여 상기 제1노광 영역내에 상기 제1중간상을 재결상시키는 보조공정을 포함하는 것을 특징으로 하는 투영노광방법.
  65. 제64항에 있어서,
    상기 제2노광 영역내에 상기 제2시야영역내의 상기 패턴의 등배의 정립상을 형성하는 공정은, 상기 제1시야영역내의 상기 패턴의 제2중간상을 형성하는 보조공정과, 상기 제2중간상으로부터의 광에 기초하며 상기 제2노광영역내에 상기 제2중간상을 재결상시키는 보조공정을 포함하는 투영노광방법.
  66. 제65항에 있어서,
    상기 제1노광 영역내에 상기 제1시야영역내의 상기 패턴의 등배의 정립상을 형성하는 공정은 상기 제1중간상을 제1시야 조리개의 개구부에 형성하는 보조공정을 포함하고,
    상기 제2노광 영역내에 상기 제2시야영역내의 상기 패턴의 등배의 정립상을 형성하는 공정은 상기 제2중간상을 제2시야조리개의 개구부에 형성하는 보조공정을 포함하는 것을 특징으로 하는 투영노광방법.
  67. 제65항에 있어서,
    상기 제1시야영역내의 상기 패턴의 제1중간상을 형성하는 보조공정은 오목거울에 의해 상기 광을 반사시키는 보조공정을 포함하고,
    상기 제1중간상으로부터의 광에 기초하여 상기 제1노광 영역내에 상기 제1중간상을 재결상시키는 보조공정은, 오목거울에 의해 상기 광을 반사시키는 보조공정을 포함하고,
    상기 제2시야영역내의 상기 패턴의 제2중간상을 형성하는 보조공정은, 오목거울에 의해 상기 광을 반사시키는 보조공정을 포함하고,
    상기 제2중간상으로부터의 광에 기초하여 상기 제2노광 영역내에 상기 제2중간상을 재결합시키는 보조공정은, 오목거울에 의해 상기 광을 반사시키는 보조공정을 포함하는 투영노광방법.
  68. 제60항 내지 제63항중 어느 한 항에 있어서,
    상기 제1 및 제2노광 영역은, 상기 주사하는 방향에 있어서 상호 다른 위치에 존재하는 것을 특징으로 하는 투영노광방법.
  69. 제60항 내지 제63항중 어느 한 항에 있어서,
    상기 제1 및 제2노광 영역은, 상기 주사하는 방향과 직교하는 방향에 있어서 상호 다른 위치에 존재하는 것을 특징으로 하는 투영노광방법.
  70. 제60항 내지 제63항중 어느 한 항에 있어서,
    상기 조명영역내의 제3시야영역으로부터의 광을 상기 제1 및 제2투영광학계와는 다른 제3투영광학계로 유도하는 공정과 ;
    상기 제3투영광학계로 유도된 상기 광에 기초하여 상기 제2물체상의 제3노광영역내에 상기 제3시야영역내의 상기 패턴의 등배의 정립상을 형성하는 공정을 포함하고,
    상기 제3노광 영역은 상기 투영노광을 행하는 사이에 상기 제2물체상을 주사하는 것을 특징으로 하는 투영노광방법.
  71. 제61항에 있어서,
    상기 조명영역내의 제3시야영역으로부터의 광을 상기 제1 및 제2투영광학계와는 다른 제3투영광학계로 유도하는 공정과,
    상기 제3투영광학계로 유도된 상기 광에 기초하여 상기 제2물체상의 제3노광 영역내에 상기 제3시야영역내의 상기 패턴의 등배의 정립상을 형성하는 공정을 포함하고,
    상기 제3노광 영역내에 상기 제3시야영역내의 상기 패턴의 등배의 정립상을 형성하는 공정은 상기 제3시야영역으로부터의 상기 광을 반사시키는 보조공정을 포함하는 것을 특징으로 하는 투영노광방법.
  72. 제71항에 있어서,
    상기 제1시야영역으로부터의 상기 광을 반사시키는 보조공정에서는 제1의 오목거울에 의해 상기 광을 반사시키고,
    상기 제2시야영역으로부터의 상기 광을 반사시키는 보조공정에서는 제2의 오목거울에 의해 상기 광을 반사시키고,
    상기 제3시야영역으로부터의 상기 광을 반사시키는 보조공정에서는 제3의 오목거울에 의해 상기 광을 반사시키는 것을 특징으로 하는 투영노광방법.
  73. 제71항에 있어서,
    상기 제1시야영역으로부터의 상기 광을 반사시키는 보조공정에서는 상기 광을 상기 제1물체의 면과 거의 평행한 방향으로 향하여 반사시키고,
    상기 제2시야영역으로부터의 상기 광을 반사시키는 보조공정에서는 상기 광을 상기 제1물체의 면과 거의 평행한 방향으로 향하여 반사시키며,
    상기 제3시야영역으로부터의 상기 광을 반사시키는 보조공정에서는 상기 광을 상기 제1물체의 면과 거의 평행한 방향으로 향하여 반사시키는 것을 특징으로 하는 투영노광방법.
  74. 제70항에 있어서,
    상기 제1노광 영역내에 상기 제1시야영역내의 상기 패턴의 등배의 정립상을 형성하는 공정에서는, 상기 제1시야영역내의 상기 패턴의 제1중간상을 형성하는 보조공정과, 상기 제1중간상으로부터의 광에 기초하여 상기 제1노광 영역내에 상기 제1중간상을 재결상시키는 보조공정을 포함하고,
    상기 제2노광 영역내에 상기 제1시야영역내의 상기 패턴의 등배의 정립상을 형성하는 공정에서는, 상기 제2시야영역내의 상기 패턴의 제2중간상을 형성하는 보조공정과, 상기 제2중간상으로부터의 광에 기초하여, 상기 제2노광 영역내에 상기제2중간상을 재결상시키는 보조공정을 포함하고,
    상기 제3노광 영역내에 상기 제1시야영역내의 상기 패턴의 등배의 정립상을 형성하는 공정에서는, 상기 제3시야영역내의 상기 패턴의 제3중간상을 형성하는 보조공정과, 상기 제3중간상으로부터의 광에 기초하여 상기 제3노광 영역내에 상기 제3중간상을 재결상시키는 보조공정을 포함하는 것을 특징으로 하는 투영노광방법.
  75. 제70항에 있어서,
    상기 제1 및 제2노광 영역은 상기 주사하는 방향에 있어서 상호 다른 위치에 존재하고,
    상기 제2 및 제3노광 영역은 상기 주사하는 방향에 있어서 상호 다른 위치에 존재하고,
    상기 제1 및 제2노광 영역은 상기 주사하는 방향과 직교하는 방향에 있어서 상호 다른 위치에 존재하고,
    상기 제2 및 제3노광 영역은 상기 주사하는 방향과 직교하는 방향에 있어서 상호 다른 위치에 존재하는 것을 특징으로 하는 투영노광방법.
  76. 제60항 내지 제63항중 어느 한 항 기재의 투영노광방법에 의해 상기 패턴이 형성된 제2물체.
  77. 제1물체의 패턴의 일부를 제2물체의 일부의 영역으로 주사하면서 투영노광을행하는 주사형 투영노광장치에 있어서,
    상기 제1물체를 유지하고, 또한 상기 주사의 방향으로 이동가능하게 설치된 제 1스테이지와;
    상기 제1물체상의 제1시야영역으로부터의 광을 받고, 또한 상기 제1시야 영역내의 상기 패턴을 상기 제2물체상의 제1노광 영역에 전달하는 제1투영광학계와;
    상기 제1물체상의 제2시야영역으로부터의 광을 받고, 또한 상기 제2시야 영역내의 상기 패턴을 상기 제2물체상의 제2노광 영역에 전달하는 제2투영 광학계와,
    상기 제2의 물체를 유지하고, 또한 상기 주사의 방향으로 이동가능하게 설치된 제2스테이지를 갖고,
    상기 제1투영광학계는, 제1의 다이손형 광학계의 조를 갖고,
    상기 제2투영광학계는, 제2의 다이손형 광학계의 조를 갖고,
    상기 제1물체상의 상기 패턴은 상기 제1 및 제2스테이지의 이동에 수반하여 상기 제1 및 제2시야영역에 의해 주사되며,
    상기 제1 및 제2노광 영역은 상기 제1 및 제2스테이지의 이동에 수반하여 상기 제2물체상을 주사하는 것을 특징으로 하는 투영노광장치.
  78. 제77항에 있어서,
    상기 제1의 다이손형 광학계의 조와 상기 제2의 다이손형 광학계의 조의 한쪽의 조는, 다른쪽의 조에 대하여 상호 다르게 배치되며,
    상기 제2물체상에서의 상기 제1노광 영역의 이동 궤적과, 상기 제2물체상에서의 상기 제2노광 영역의 이동궤적은 상기 제2물체상에서 나란히 설치되는 것을 특징으로 하는 투영노광장치.
  79. 제77항에 있어서,
    상기 제1의 다이손형 광학계의 조는,
    상기 제1시야영역으로부터의 광을 받기 위해 배치된 제1의 절곡거울과,
    상기 제1의 절곡거울로부터의 광을 입사영역의 반분의 영역에서 받고, 또한 상기 입사영역의 상기 반분의 영역과는 별개의 반분의 영역으로부터 상기 광을 사출시키는 제1의 다이손형 광학계와;
    상기 제1의 다이손형 광학계로부터 사출된 광을 받기 위해 배치된 제2의 절곡거울과;
    상기 제2의 절곡거울로부터 반사된 광을 받기 위해 배치된 제3의 절곡거울과:
    상기 제3의 절곡거울로부터의 광을 입사영역의 반분의 영역에서 받고, 또한 상기 입사영역의 상기 반분의 영역과는 별개의 반분의 영역으로부터 상기 광을 사출시키는 제2의 다이손형 광학계와;
    상기 제2의 다이손형 광학계로부터 사출된 광을 받기 위해 배치된 제4의 절곡거울을 포함하고,
    상기 제2의 다이손형 광학계의 조는,
    상기 제2시야 영역으로부터의 광을 받기 위해 배치된 제5의 절곡거울과,
    상기 제5의 절곡거울로부터의 광을 입사영역의 반분의 영역에서 받고, 또한 상기 입사영역의 상기 반분의 영역과는 별개의 반분의 영역으로부터 상기 광을 사출시키는 제3의 다이손형 광학계와;
    상기 제3의 다이손형 광학계로부터 사출된 광을 받기 위해 배치된 제6의 절곡거울과;
    상기 제6의 절곡거울로부터 반사된 광을 받기 위해 배치된 제7의 절곡거울과;
    상기 제7의 절곡거울로부터의 광은 입사영역의 반분의 영역에서 받고, 또한 상기 입사영역의 상기 반분의 영역과는 별개의 반분의 영역으로부터 상기 광을 사출시키는 제4의 다이손형 광학계와;
    상기 제4의 다이손형 광학계로부터 사출된 광을 받기 위해 배치된 제8의 절곡거울을 포함하고,
    상기 제2의 절곡거울과 상기 제3의 절곡거울의 사이에는 상기 제1시야 영역내의 상기 패턴의 도립상이 형성되며,
    상기 제6의 절곡거울과 상기 제7의 절곡거울의 사이에는 상기 제2시야영역내의 상기 패턴의 도립상이 형성되는 것을 특징으로 하는 노광장치.
  80. 제79항에 있어서,
    상기 제1의 다이손형 광학계의 조와 상기 제2의 다이손형 광학계의 조는 상호 이격된 방향으로 향하고,
    상기 제1 및 제5의 절곡거울은 상기 제1 및 제2의 시야영역으로부터의 광을 각각 상호 반대방향으로 반사하고,
    상기 제3 및 제7절곡거울은 상기 도립상으로부터의 광을 각각 상호 반대 방향으로 반사하는 것을 특징으로 하는 투영노광장치.
  81. 제79항 또는 제80항에 있어서,
    상기 제1의 다이손형 광학계의 조와 상기 제2의 다이손형 광학계의 조는 각각 제1 및 제2의 광축을 갖고,
    상기 제1시야영역의 상기 주사직교방향의 폭과, 상기 제2의 시야영역의 상기 주사직교방향의 축은 상기 제1 및 제2의 광축간 거리의 반분 이상인 것을 특징으로 하는 투영노광장치.
  82. 제77항 내지 제80항중 어느 한 항에 있어서,
    상기 제1물체상의 제3시야 영역으로부터의 광을 받고, 또한 상기 제3시야영역내의 상기 패턴을 상기 제2물체상의 제3노광 영역에 전달하는 제3투영광학계를 갖고,
    상기 제1 내지 제3노광 영역은 상기 주사의 방향과 직교하는 방향으로 다른 위치에 존재하는 것을 특징으로 하는 투영노광장치.
  83. 제82항에 있어서,
    상기 제1, 제2 및 제3투영광학계는, 각각 제1, 제2 및 제3의 광축을 갖고,
    상기 제1시야 영역의 상기 주사직교방향의 축과 상기 제2시야 영역의 상기 주사직교방향의 축은 상기 제1 및 제2의 광축간 거리의 반분 이상이며,
    상기 제2시야영역의 상기 주사직교방향의 축과 상기 제3시야영역의 상기 주사직교방향의 축은 상기 제2 및 제3의 광축간 거리의 반분 이상인 것을 특징으로 하는 투영노광장치.
  84. 제82항에 있어서,
    상기 제3투영광학계는 제3의 다이손형 광학계의 조를 갖고,
    상기 제3의 다이손 광학계의 조는, 상기 제2의 다이손 광학계의 조에 대하여 반대측이며 또한 상기 제1의 다이손형 광학계의 조와 동일한 측에 배치되는 것을 특징으로 하는 투영노광장치.
  85. 제84항에 있어서,
    상기 제3의 다이손형 광학계의 조는,
    상기 제3시야영역으로부터의 광을 받기 위해 배치된 제9의 절곡거울과;
    상기 제9의 절곡거울로부터의 광을 입사영역의 반분의 영역에서 받고, 또한 상기 입사영역의 상기 반분의 영역과는 별개의 반분의 영역으로부터 상기 광을 사출시키는 제5의 다이손형 광학계와;
    상기 제5의 다이손형 광학계로부터 사출된 광을 받기 위해 배치된 제10의 절곡거울과;
    상기 제10의 절곡거울로부터 반사된 광을 받기 위해 배치된 제11의 절곡거울과;
    상기 제11의 절곡거울로부터의 광을 입사영역의 반분의 영역에서 받고, 또한 상기 입사영역의 상기 반분의 영역과는 별개의 반분의 영역으로부터 상기 광을 사출시키는 제6의 다이손형 광학계와;
    상기 제6의 다이손형 광학계로부터 사출된 광을 받기 위해 배치된 제12의 절곡거울을 포함하고,
    상기 제10의 절곡거울과 상기 제11의 절곡거울의 사이에는 상기 제3시야 영역내의 상기 패턴의 도립상이 형성되는 것을 특징으로 하는 투영노광장치.
  86. 제83항에 있어서,
    상기 제1 내지 제12의 절곡거울은 각각 직각 프리즘을 포함하는 것을 특징으로 하는 투영노광장치.
  87. 제1물체상의 패턴의 일부를 제2물체의 일부의 영역으로 주사하면서 투명노광를 행하는 방법에 있어서,
    상기 제1물체상의 제1시야영역으로부터의 광을 받고, 또한 상기 제1시야 영역내의 상기 패턴을 상기 제2물체상의 제1노광 영역에 전달하는 제1공정과;
    상기 제1물체상의 제2시야영역으로부터의 광을 받고, 또한 상기 제2시야 영역내의 상기 패턴을 상기 제2물체상의 제2노광 영역에 전달하는 제2공정을 포함하고,
    상기 제1공정은, 제1의 다이손형 광학계의 조에 상기 제1물체로부터의 광을 통과시키는 제1보조공정을 포함하고,
    상기 제2공정은, 제2의 다이손형 광학계의 조에 상기 제1물체로부터의 광을 통과시키는 제2보조공정을 포함하고,
    상기 제1물체상의 상기 패턴은 상기 제1 및 제2의 시야영역에 의해 소정의 주사방향에 따라 주사되며,
    상기 제1 및 제2노광 영역은 상기 주사방향에 따라 상기 제2물체상을 주사하는 것을 특징으로 하는 투영노광방법.
  88. 제87항에 있어서,
    상기 제1의 다이손형 광학계의 조와 상기 제2의 다이손형 광학계의 조의 한쪽의 조는, 다른 쪽의 조에 대하여 상호 다르게 배치되며,
    상기 제1노광 영역의 상기 주사에 의해 형성되는 상기 제2물체상에서의 이동 궤적과, 상기 제2의 노광 영역의 상기 주사에 의해 형성되는 상기 제2물체상에서의 이동궤적은 상기 제2물체상에세 나란힌 설치되는 것을 특징으로 하는 투영노광방법.
  89. 제87항에 있어서,
    상기 제 1보조공정은,
    상기 제1시야영역으로부터의 광을 편향시키는 것과;
    상기 편향된 광을 제1의 다이손형 광학계의 입사영역의 반분의 영역으로 입사시키는 것과;
    상기 제1의 다이손형 광학계의 상기 입사영역의 상기 반분의 영역과는 별개의 반분의 영역으로부터 상기 광을 사출시키는 것과;
    상기 제1의 다이손형 광학계로부터 사출된 광을 편향시키는 것과;
    상기 편향된 상기 제1의 다이손형 광학계로부터의 광에 기초하여 상기 제1시야영역내의 상기 패턴의 도립상을 형성하는 것과;
    상기 도립상으로부터의 광을 편향시키는 것과;
    상기 편향된 상기 도립상으로부터의 광을 제2의 다이손형 광학계의 입사 영역의 반분의 영역으로 입사시키는 것과;
    상기 제2의 다이손형 광학계의 상기 입사영역의 상기 반분의 영역과는 별개의 반분의 영역으로부터 상기 광을 사출시키는 것과;
    상기 제2의 다이손형 광학계로부터 사출된 광을 편향시켜 상기 제1노광 영역으로 향하는 것을 포함하고,
    상기 제2의 보조공정은,
    상기 제2시야영역으로부터의 광을 편향시키는 것과;
    상기 편향된 광을 제3의 다이손형 광학계의 입사영역의 반분의 영역으로 입사시키는 것과;
    상기 제3의 다이손형 광학계의 상기 입사영역의 상기 반분의 영역과는 별개의 반분의 영역으로부터 상기 광을 사출시키는 것과;
    상기 제3의 다이손형 광학계로부터 사출된 광을 편향시키는 것과;
    상기 편향된 상기 제3의 다이손형 광학계로부터의 광에 기초하여 상기 제2시야영역내의 상기 패턴의 도립상를 형성하는 것과;
    상기 도립상으로부터의 광을 편향시키는 것과;
    상기 편향된 상기 도립상으로부터의 광을 제4의 다이손형 광학계의 입사 영역의 반분의 영역으로 입사시키는 것과;
    상기 제4의 다이손형 광학계의 상기 입사영역의 상기 반분의 영역과는 별개의 반분의 영역으로부터 상기 광을 사출시키는 것과;
    상기 제4의 다이손형 광학계로부터 사출된 광을 편향시켜 상기 제2노광 영역으로 향하는 것을 포함하는 것을 특징으로 하는 투영노광방법.
  90. 제89항에 있어서,
    상기 제1의 다이손형 광학계의 조와, 상기 제2의 다이손형 광학계의 조는 상호 이격된 방향으로 향하고,
    상기 제1보조공정에 있어서의 상기 제1시야영역으로부터의 광의 편향과 상기 제2보조공정에 있어서의 상기 제2시야영역으로부터의 광의 편향은 각각 상호 반대방향으로 광을 편향시키는 것이며,
    상기 제1보조공정에 있어서의 상기 도립상으로부터의 광의 편향과 상기 제2보조공정에 있어서의 상기 도립상으로부터의 광의 편향은 각각 상호 반대방향으로 광을 편향시키는 것을 특징으로 하는 투영노광방법.
  91. 제89항 또는 90항에 있어서,
    상기 제1의 다이손형 광학계의 조와 상기 제2의 다이손형 광학계의 조는 각각 제1 및 제2의 광축을 갖고,
    상기 제1시야 영역의 상기 주사직교방향의 폭과 상기 제2시야영역의 상기 주사직교방향의 폭은, 상기 제1 및 제2의 광축간 거리의 반분 이상인 것을 특징으로 하는 투영노광방법.
  92. 제87항 내지 제90항중 어느 한 항에 있어서,
    상기 제1물체상의 제3시야영역으로부터의 광을 받고, 또한 제3시야영역내의 상기 패턴을 상기 제2물체상의 제3노광 영역에 전달하는 제3공정을 또한 포함하고,
    상기 제1 내지 제3노광 영역은, 상기 주사의 방향과 직교하는 방향에서 다른 위치에 존재하는 것을 특징으로 하는 투영노광방법.
  93. 제92항에 있어서,
    상기 제1, 제2 및 제3공정에서는, 각각 제1, 제2 및 제3의 광축을 갖는 투영광학계에 광을 통과시키고,
    상기 제1시야영역의 상기 주사직교방향의 폭과 상기 제2시야영역의 상기 주사직교방향의 폭은, 상기 제1 및 제2의 광축간 거리의 반분 이상이며,
    상기 제2시야영역의 상기 주사직교방향의 폭과 상기 제3시야영역의 상기 주사직교방향의 폭은, 상기 제 2 및 제3의 광축간 거리의 반분 이상인 것을 특징으로 하는 투영노광방법.
  94. 제92항에 있어서,
    상기 제3공정은 제3의 다이손형 광학계의 조에 상기 제1물체로부터의 광을 통과시키는 제3보조공정을 포함하고,
    상기 제3의 다이손 광학계의 조는, 상기 제2의 다이손 광학계의 조에 대하여 반대측이며 또한 상기 제1의 다이손형 광학계의 조와 동일한 측에 배치되는 것을 특징으로 하는 투영노광방법.
  95. 제94항에 있어서,
    상기 제3보조공정은,
    상기 제3시야영역으로부터의 광을 편향시키는 것과;
    상기 편향된 광을 제5의 다이손형 광학계의 입사영역의 반분의 영역으로 입사시키는 것과;
    상기 제5의 다이손형 광학계의 상기 입사영역의 상기 반분의 영역과는 별개의 반분의 영역으로부터 상기 광을 사출시키는 것과:
    상기 제5의 다이손형 광학계로부터 사출된 광을 편향시키는 것과;
    상기 편향된 상기 제5의 다이손형 광학계로부터의 광에 기초하여 상기 제3시야영역내의 상기 패턴의 도립상를 형성하는 것과;
    상기 도립상으로부터의 광을 편향시키는 것과;
    상기 편향된 상기 도립상으로부터의 광을 제6의 다이손형 광학계의 입사 영역의 반분의 영역으로 입사시키는 것과;
    상기 제6의 다이손형 광학계의 상기 입사영역의 상기 반분의 영역과는 별개의 반분의 영역으로부터 상기 광을 입사시키는 것과,
    상기 제6의 다이손형 광학계로부터 사출된 광을 편향시켜 상기 제3노광 영역으로 향하는 것을 포함하는 것을 특징으로 하는 투영노광방법.
  96. 제95항에 있어서,
    상기 광의 편향은 직각 프리즘을 이용하여 행해지는 것을 특징으로 하는 투영노광방법.
  97. 제87항 내지 청구항 90항중 어느 한 항의 투영노광방법에 의해 상기 패턴이 형성된 제2물체.
  98. 제1물체의 패턴을 제2물체상으로 투영노광하는 투영노광장치에 설치되는 조명장치에 있어서,
    적어도 1개의 광원과,
    상기 적어도 1개의 광원으로부터의 광을 실질적으로 광량손실이 없이 복수의 광으로 분기하기 위한 수단과,
    상기 분기수단으로부터의 상기 복수의 광의 각각을 상기 제1물체상의 복수의 조명영역으로 유도하기 위한 수단을 포함하는 것을 특징으로 하는 조명장치.
  99. 제98항에 있어서,
    상기 적어도 1개의 광원은, 복수의 광원을 갖는 것을 특징으로 하는 조명장치.
  100. 제98항 또는 제99항에 있어서,
    상기 분기수단은, 입사단이 상기 적어도 1개의 광원으로 향해지며, 사출단이 상기 복수의 조명영역으로 유도하기 위한 수단으로 향해진 라이트 가이드를 갖는 것을 특징으로 하는 조명장치.
  101. 제98항 또는 제99항에 있어서,
    상기 제1물체상의 상기 복수의 조명영역과 공역으로 배치된 복수의 조명시야 조리개를 갖는 것을 특징으로 하는 조명장치.
  102. 제98항 또는 제99항에 있어서,
    상기 복수의 조명영역과 상기 제1물체는 소정의 방향에 따라 상대적으로 이동가능하게 설치되는 것을 특징으로 하는 조명장치.
  103. 제102항에 있어서,
    상기 복수의 조명영역은, 상기 소정의 방향에 있어서 다른 위치에 존재하는 제1 및 제2의 조명영역을 갖는 것을 특징으로 하는 조명장치.
  104. 제102항에 있어서,
    상기 복수의 조명영역은, 상기 소정의 방향과 직교하는 방향에 있어서 다른 위치에 존재하는 제1 및 제2의 조명영역을 갖는 것을 특징으로 하는 조명장치.
  105. 제104항에 있어서,
    상기 제1 및 제2의 조명영역의 상기 이동에 의해 형성되는 영역은 상기 소정의 방향과 직교하는 방향에 있어서 일부 중복하는 것을 특징으로 하는 조명장치.
  106. 제98항 또는 제99항에 있어서,
    상기 복수의 조명영역은 제1의 열에 따라 배열된 소정의 수의 조명영역과, 상기 제1의 열과 평행한 제2의 열에 따라 배열된 상기 소정의 수에 1을 부가한 수의 조명역를 포함하고,
    상기 제1 및 제2의 열은 상기 제1 및 제2의 열의 방향과 직교하는 방향에 있어서 상호 다른 위치에 있는 것을 특징으로 하는 조명장치.
  107. 제1물체의 패턴을 제2물체상으로 투영노광하는 투영노광장치에 설치되는 조명장치에 있어서,
    적어도 1개의 광원과,
    상기 적어도 1개의 광원으로부터의 광을 복수의 광으로 분기하기 위한 수단과 ,
    상기 분기수단으로부터의 상기 복수의 광의 각각을 상기 제1물체상의 복수의 조명영역으로 유도하기 위한 수단을 포함하고,
    상기 복수의 조명영역과 상기 제1물체의 위치관계는 소정의 방향에 있어서 가변이며,
    상기 복수의 조명영역은 상기 소정의 방향과 직교하는 방향에 있어서 다른 위치에 존재하는 제1 및 제2의 조명영역을 갖는 것을 특징으로 하는 조명장치.
  108. 제107항에 있어서,
    상기 복수의 조명영역은 상기 제1 및 제2의 조명영역과는 다른 제3의 조명영역을 갖고,
    상기 제3의 조명영역은, 상기 소정의 방향과 직교하는 방향에 있어서 상기 제1 및 제2의 조명영역과는 다른 위치에 존재하는 것을 특징으로 하는 조명장치.
  109. 제1물체의 패턴을 제2물체상으로 투영노광하는 투영노광장치에 있어서,
    상기 제1물체상에 복수의 조명역역를 형성하는 청구항 97, 98, 106, 107 항 기재의 조명장치와;
    상기 조명장치가 형성하는 상기 복수의 조명영역에 대응하여 배치되고, 상기 조명영역내의 상기 패턴의 상을 상기 제2물체상에 형성하는 복수의 투영광학계를 구비하는 것을 특징으로 하는 투영노광장치.
  110. 제109항에 있어서,
    상기 복수의 투영광학계는 소정 형상의 시야를 갖고,
    상기 복수의 조명영역은 상기 복수의 투영광학계의 상기 소정형상의 시야와 동일한 형상인 것을 특징으로 하는 투영노광장치.
  111. 제1물체의 패턴을 제2물체상으로 투영노광할 때에 상기 제1 물체를 조명하는 조명방법에 있어서,
    적어도 1개의 광원을 준비하는 공정과;
    상기 적어도 1개의 광원으로부터의 광을 실질적으로 광량 손실 없이 복수로 분기하는 공정과;
    상기 분기된 복수의 광의 각각을, 상기 제1물체상의 복수의 조명영역으로 유도하는 공정을 포함하는 것을 특징으로 하는 조명방법.
  112. 제111항에 있어서,
    상기 적어도 1개의 광원을 준비하는 공정에서는 복수의 광원을 준비하는 것을 특징으로 하는 조명방법.
  113. 제111항 또는 제112항에 있어서,
    상기 분기하는 공정에서는, 입사단이 상기 적어도 1개의 광원으로 향해진 라이트 가이드 중에 상기 적어도 1개의 광원으로부터의 광을 통과시켜 복수의 사출단으로부터 사출되는 것을 특징으로 하는 조명방법.
  114. 제111항 또는 제112항에 있어서,
    상기 제1물체상의 상기 복수의 조명영역으로 유도하는 공정에서는 상기 분기된 광의 각각을 복수의 조명시야 조리개로 유도하는 보조공정을 갖는 것을 특징으로 하는 조명방법.
  115. 제111항 또는 제112항에 있어서,
    상기 복수의 조명영역과 상기 제1물체는 소정의 방향에 따라 상대적으로 이동 가능한 것을 특징으로 하는 조명방법.
  116. 제115항에 있어서,
    상기 복수의 조명영역은 상기 소정의 방향과 직교하는 방향에 있어서 다른 위치에 존재하는 제1 및 제2의 조명영역을 갖는 것을 특징으로 하는 조명방법.
  117. 제115항에 있어서,
    상기 복수의 조명영역은 상기 소정의 방향과 직교하는 방향에 있어서 다른 위치에 존재하는 제1 및 제2의 조명영역을 갖는 것을 특징으로 하는 조명방법.
  118. 제117항에 있어서,
    상기 제1 및 제2의 조명영역의 상기 이동에 의해 형성되는 영역은, 상기 소정의 방향과 직교하는 방향에 있어서 일부 중복하는 것을 특징으로 하는 조명방법.
  119. 제111항 또는 제112항에 있어서,
    상기 복수의 조명영역은 제1의 열에 따라 배열된 소정의 수의 조명영역과, 상기 제1의 열과 평행한 제2의 열에 따라 배열된 상기 소정의 수에 1을 부가한 수의 조명영역을 포함하고,
    상기 제1 및 제2의 열은 상기 제1 및 제2의 열의 방향과 직교하는 방향에 있어서 상호 다른 위치인 것을 특징으로 하는 조명방법.
  120. 제1물체의 패턴을 제2물체상으로 투영노광할 때에 상기 제1물체를 조명하는 조명방법에 있어서,
    적어도 1개의 광원을 준비하는 공정과;
    상기 적어도 1개의 광원으로부터의 광을 복수의 광으로 분기하는 공정과;
    상기 분기된 복수의 광의 각각을 상기 제1물체상의 복수의 조명영역으로 유도하는 공정을 포함하고,
    상기 제1물체에 대하여 상기 복수의 조명영역의 위치를 소정의 방향에 따라 변경하면서 상기 제1물체로의 조명을 행하고,
    상기 복수의 조명영역은 상기 소정의 방향과 직교하는 방향에 있어서 다른 위치에 존재하는 제1 및 제2의 조명영역을 갖는 것을 특징으로 하는 조명방법.
  121. 제120항에 있어서,
    상기 복수의 조명영역은 상기 제1 및 제2의 조명영역과는 다른 제3의 조명영역을 갖고,
    상기 제3의 조명영역은 상기 소정의 방향과 직교하는 방향에 있어서 상기 제1 및 제2의 조명영역과는 다른 위치에 존재하는 것을 특징으로 하는 조명방법.
  122. 제1물체상의 패턴을 제2물체상으로 투영노광하는 방법에 있어서,
    제111, 112, 120, 121항 기재의 조명방법을 사용하여 상기 제1물체상에 복수의 조명영역을 형성하는 공정과,
    상기 복수의 조명영역의 각각에 대응하며 배치된 복수의 투영광학계에 의해 상기 복수의 조명영역내의 상기 패턴의 상을 상기 제2물체상의 복수의 노광 영역내에 형성하는 공정을 포함하는 것을 특징으로 하는 투영노광방법.
  123. 제122항에 있어서,
    상기 복수의 투영광학계는 소정형상의 시야를 갖고,
    상기 복수의 조명영역은 상기 복수의 투영광학계의 상기 소정형상의 시야와 동일한 형상인 것을 특징으로 하는 투영노광방법.
  124. 제122항 기재의 투영노광방법에 의해 상기 패턴이 형성된 제2물체.
  125. 제1물체의 패턴을 제2물체상으로 투영노광하는 투영노광장치에 있어서,
    적어도 1개의 광원을 포함하고, 상기 적어도 1개로부터의 광원으로부터의 광에 기초하여, 상기 제1물체상의 복수의 조명영역을 조명하는 조명장치와,
    상기 복수의 조명영역의 각각에 대응하여 배치되며, 상기 조명영역내의 상기 패턴의 상을 상기 제2물체상에 형성하는 복수의 투영광학계를 포함하고,
    그에 있어서, 상기 복수의 조명영역의 수는 상기 광원의 수보다도 많은 것을 특징으로 하는 투영노광장치.
  126. 제125항에 있어서,
    상기 제1물체와 상기 복수의 조명영역의 위치관계는 소정의 방향에 따라 변경 가능한 것을 특징으로 하는 투영노광장치.
  127. 제126항에 있어서,
    상기 복수의 조명영역은 상기 소정의 방향에 있어서 다른 위치에 존재하는 제1 및 제2의 조명영역을 갖는 것을 특징으로 하는 투영노광장치.
  128. 제126항 또는 제127항에 있어서,
    상기 복수의 조명영역은, 상기 소정의 방향과 직교하는 방향에 있어서 다른 위치에 존재하는 제1 및 제2의 조명영역을 갖는 것을 특징으로 하는 투영노광장치.
  129. 제126항에 있어서,
    상기 복수의 조명영역은, 제1의 열에 따라 배열된 소정의 수의 조명영역과, 상기 제1의 열과는 다른 제2의 열에 따라 배열된 복수의 조명영역을 포함하고,
    상기 제1의 열과 상기 제2의 열의 상기 소정의 방향에 있어서의 위치는 상호 다른 것을 특징으로 하는 조명장치.
  130. 제1물체의 패턴을 제2물체상으로 투영노광하는 방법에 있어서,
    적어도 14개의 광원으로부터의 광을 상기 제1물체상의 복수의 조명영역으로 유도하는 공정과,
    상기 복수의 조명영역의 각각에 대응하여 배치된 복수의 투영광학계를 사용하여, 상기 복수의 조명영역내의 상기 패턴의 상을 상기 제2물체상의 노광 영역에 형성하는 공정을 포함하고,
    그에 있어서, 상기 복수의 조명영역의 수는 상기 광원의 수보다도 많은 것을특징으로 하는 투영노광방법.
  131. 제130항에 있어서,
    상기 복수의 조명영역은 소정의 방향에 있어서 상기 제1물체와의 위치관계를 변경하면서 상기 제1물체를 조명하는 것을 특징으로 하는 투영노광방법.
  132. 제131항에 있어서,
    상기 복수의 조명영역은, 상기 소정의 방향에 있어서 다른 위치에 존재하는 제1 및 제2의 조명영역을 갖는 것을 특징으로 하는 투영노광방법.
  133. 제131항 또는 제132항에 있어서,
    상기 복수의 조명영역은, 상기 소정의 방향과 직교하는 방향에 있어서 다른 위치에 존재하는 제1 및 제2의 조명영역을 갖는 것을 특징으로 하는 투영노광방법.
  134. 제131항에 있어서,
    상기 복수의 조명영역은, 제1의 열에 따라 배열된 소정의 수의 조명영역과, 상기 제1의 열과는 다른 제2의 열에 따라 배열된 복수의 조명영역을 포함하고,
    상기 제1의 열과 상기 제2의 열의 상기 소정의 방향에 있어서의 위치는 상호 다른 것을 특징으로 하는 투영노광방법.
  135. 제130 내지 제133항 중 어느 한 항 기재의 투영노광방법에 의해 상기 패턴이 형성된 제2물체.
  136. 투영광학계에 대하여 제1 및 제2물체를 상대적으로 이동시키면서 제1물체의 패턴을 제2물체상으로 투영노광하는 투영노광장치에 있어서,
    상기 투영광학계는 상기 이동의 방향과 직교하는 방향에 따른 제1 및 제2의 열에 따라 배치되는 복수의 투영광학계를 갖고,
    상기 제1의 열에 따라 배치되는 투영광학계는 소정의 수이며,
    상기 제2의 열에 따라 배치되는 투영광학계는 상기 소정의 수에 1을 부가한 수인 것을 특징으로 하는 투영노광장치.
  137. 제136항에 있어서,
    상기 복수의 투영광학계의 각각은 실질적으로 등배이며, 또한 상기 제2의 기판상에 상기 제1물체의 정립정상(正立正像)을 형성하는 것을 특징으로 하는 투영노광장치.
  138. 제137항에 있어서,
    상기 복수의 투영광학계의 각각은 오목거울을 가지고 있는 것을 특징으로 하는 투영노광장치.
  139. 제136항에 있어서,
    상기 제1 및 제2의 열은 상기 이동의 방향에 있어서 다른 위치에 있는 것을 특징으로 하는 투영노광장치.
  140. 제136항에 있어서,
    상기 복수의 투영광학계는 각각 노광 영역을 갖고,
    상기 제1의 열에 따라 배치되는 상기 투영광학계의 상기 노광 영역의 일부와, 상기 제2의 열에 따라 배치되는 상기 투영광학계의 상기 노광 영역의 일부는 상기 상대적인 이동중에 중복하여 상기 제2물체상에 투영되는 것을 특징으로 하는 투영노광장치.
  141. 제136항에 있어서,
    상기 제1의 열에 따라 배치되는 상기 투영광학계의 수는 3인 것을 특징으로 하는 투영노광장치.
  142. 제136항 내지 제141항중 어느 한 항에 있어서,
    상기 복수의 투영광학계의 각각은 사다리꼴 형상 또는 육각 형상의 시야를 갖는 것을 특징으로 하는 투영노광장치.
  143. 투영광학계에 대하여 제1 및 제2물체를 상대적으로 이동시키면서 제1물체의패턴을 제2물체상으로 투영노광하는 방법에 있어서,
    상기 이동의 방향과 직교하는 방향에 따른 제1 및 제2의 열에 따라 배치되는 복수의 투영광학계에 의해 상기 제1물체상의 패턴을 제2물체상으로 투영노광하는 공정을 포함하고,
    상기 제1의 열에 따라 배치되는 투영광학계는 소정의 수이며,
    상기 제2의 열에 따라 배치되는 투영광학계는 상기 소정의 수에 1을 부가한 수인 것을 특징으로 하는 투영노광방법.
  144. 제143항에 있어서,
    상기 복수의 투영광학계에 의해 투영노광하는 공정에서는 상기 제2의 기판상에 상기 제1물체의 등배의 정립정상을 형성하는 투영노광방법.
  145. 제144항에 있어서,
    상기 복수의 투영광학계에 의해 투영노광하는 공정은, 상기 복수의 투영광학계가 각각 갖는 복수의 오목거울에 의해 광을 반사시키는 보조공정을 갖는 것을 특징으로 하는 투영노광방법.
  146. 제143항에 있어서,
    상기 복수의 투영광학계에 의해 투영노광하는 공정은 상기 복수의 투영광학계의 각각에 의해 상기 제2물체상에 복수의 노광 영역을 형성하는 보조 공정을 포함하고,
    상기 제1의 열에 따라 배치되는 상기 투영광학계의 상기 노광 영역의 일부와, 상기 제2의 열에 따라 배치되는 상기 투영광학계의 상기 노광 영역의 일부는 상기 상대적인 이동중에 중복하여 상기 제2물체상예 투영되는 것을 특징으로 하는 투영노광방법.
  147. 제143항에 있어서,
    상기 제1의 열에 따라 배치되는 상기 투영광학계의 수는 3인 것을 특징으로 하는 투영노광방법.
  148. 제143항 내지 제147항중 어느 한 항에 있어서,
    상기 복수의 투영광학계의 각각은 사다리꼴 형상 또는 육각 형상의 시야를 갖는 것을 특징으로 하는 투영노광방법.
  149. 제148항 기재의 투영노광방법에 의해 상기 패턴이 형성된 제2물체.
  150. 제143항 내지 제147항중 어느 한 항 기재의 투영노광방법에 의해 상기 패턴이 형성된 제2물체.
  151. 투영광학계에 대하여 제1 및 제2물체를 상대적으로 이동시키면서 제1물체의패턴을 제2물체상으로 투영노광하는 투영광학장치에 있어서,
    상기 투영광학계는, 상기 제2물체상에 적어도 2개의 사다리꼴 형상의 노광 영역을 거의 동시에 형성하고,
    상기 상대적인 이동에 수반하여 상기 적어도 2개의 사다리꼴 형상의 노광 영역은 상기 제2물체상을 이동하는 것을 특징으로 하는 투영노광장치.
  152. 제151항에 있어서,
    상기 적어도 2개의 사다리꼴 형상의 노광 영역은 상기 사다리꼴 형의 상변 끼리 또는 하변 끼리가 대향하도록 배치되는 것을 특징으로 하는 투영노광장치.
  153. 제151항 또는 제152항에 있어서,
    상기 투영광학계는, 각각 상기 사다리꼴 형상의 노광 영역을 형성하는 적어도 2개의 투영광학계를 포함하는 것을 특징으로 하는 투영노광장치.
  154. 제151항 또는 제152항에 있어서,
    상기 적어도 2개의 사다리꼴 형상의 노광 영역은, 상기 사다리꼴 형의 경사변 끼리가 상기 이동의 방향으로부터 보아 상호 중첩하도록 위치 결정되는 것을 특징으로 하는 투영노광장치.
  155. 제151항에 있어서,
    상기 적어도 2개의 사다리꼴 형상의 노광 영역은, 제1의 열과, 상기 제1의 열과는 다른 제2의 열에 따라 배치되며,
    상기 제1 및 제2의 열은 상기 이동방향에 있어서 다른 위치에 있는 것을 특징으로 하는 투영노광장치.
  156. 투영광학계에 대하여 제1 및 제2물체를 상대적으로 이동시키면서 제1물체의 패턴을 제2물체상으로 투영노광하는 방법에 있어서,
    상기 제2물체상에 적어도 2개의 사다리꼴 형상의 노광 영역을 거의 동시에 형성하는 공정과,
    상기 적어도 2개의 사다리꼴 형상의 노광 영역을 상기 제2물체상으로 이동시키는 공정을 포함하는 것을 특징으로 하는 투영노광방법.
  157. 제156항에 있어서,
    상기 적어도 2개의 사다리꼴 형상의 노광 영역은, 상기 사다리꼴 형의 상변 끼리 또는 하변 끼리가 대향하도록 위치결정되는 것을 특징으로 하는 투영노광방법.
  158. 제 156항 또는 제157항에 있어서,
    상기 노광 영역을 형성하는 공정은, 상기 사다리꼴 형상의 노광 영역을 형성하는 적어도 2개의 투영광학계에 의해 각각 상기 적어도 2개의 사다리꼴 형상의 노광 영역을 형성하는 보조공정을 포함하는 것을 특징으로 하는 투영노광방법.
  159. 제156항 또는 제157항에 있어서,
    상기 적어도 2개의 사다리꼴 형상의 노광 영역이 상기 제2물체상으로 이동되는 것에 의해 형성되는 영역은 각각의 일부분이 상호 중첩하는 것을 특징으로 하는 투영노광방법.
  160. 제156항 또는 제157항에 있어서,
    상기 적어도 2개의 사다리꼴 형상의 노광 영역은, 상기 사다리꼴 형의 경사변 끼리가 상기 이동방향으로부터 보아서 상호 중첩하도록 위치결정되는 것을 특징으로 하는 투영노광방법.
  161. 제156항 또는 제157항 기재의 투영광학방법에 의해 상기 패턴이 형성된 제2물체.
  162. 제143항에 있어서,
    상기 제1 및 제2의 열은, 상기 이동의 방향에 있어서 다른 위치에 있는 것을 특징으로 하는 투영노광방법.
KR1019940015475A 1993-06-30 1994-06-30 노광장치 KR100319216B1 (ko)

Applications Claiming Priority (4)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP16158893A JP3348467B2 (ja) 1993-06-30 1993-06-30 露光装置及び方法
JP161588/1993 1993-06-30
JP345619/1993 1993-12-22
JP34561993A JP3316710B2 (ja) 1993-12-22 1993-12-22 露光装置

Publications (2)

Publication Number Publication Date
KR950001393A KR950001393A (ko) 1995-01-03
KR100319216B1 true KR100319216B1 (ko) 2002-06-28

Family

ID=66689188

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1019940015475A KR100319216B1 (ko) 1993-06-30 1994-06-30 노광장치

Country Status (1)

Country Link
KR (1) KR100319216B1 (ko)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR101445399B1 (ko) 2006-03-20 2014-09-26 가부시키가이샤 니콘 주사형 노광 장치, 마이크로 디바이스의 제조 방법,마스크, 투영 광학 장치 및 마스크의 제조 방법
US9229205B2 (en) 2011-08-24 2016-01-05 Canon Kabushiki Kaisha Projection optical system, exposure apparatus, and method of manufacturing device

Families Citing this family (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2001326171A (ja) * 2000-05-18 2001-11-22 Canon Inc 照明装置

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR101445399B1 (ko) 2006-03-20 2014-09-26 가부시키가이샤 니콘 주사형 노광 장치, 마이크로 디바이스의 제조 방법,마스크, 투영 광학 장치 및 마스크의 제조 방법
US9229205B2 (en) 2011-08-24 2016-01-05 Canon Kabushiki Kaisha Projection optical system, exposure apparatus, and method of manufacturing device

Also Published As

Publication number Publication date
KR950001393A (ko) 1995-01-03

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP3348467B2 (ja) 露光装置及び方法
US7023527B2 (en) Exposure apparatus, optical projection apparatus and a method for adjusting the optical projection apparatus
US20040104359A1 (en) Illumination apparatus, exposure method, exposure apparatus, and device manufacturing method
US5661837A (en) Illumination optical apparatus and scanning exposure apparatus using the same
JP5071382B2 (ja) 走査露光装置及びマイクロデバイスの製造方法
JP4952182B2 (ja) 走査型露光装置、マイクロデバイスの製造方法、走査露光方法、及びマスク
KR20090094436A (ko) 투영 광학 장치, 노광 방법 및 디바이스 제작 방법
KR100319216B1 (ko) 노광장치
US5159483A (en) Projecting and exposing device
JP3348721B2 (ja) 照明装置及び方法
JP3505813B2 (ja) 走査型露光装置及び走査露光方法
JP4110606B2 (ja) 走査型露光装置および露光方法
JPH07326557A (ja) 露光装置
US6885434B2 (en) Diaphragm for an integrator unit
JP3316710B2 (ja) 露光装置
JPH07335525A (ja) 投影光学系及びそれを備えた露光装置並びに その調整方法
JP3341838B2 (ja) 露光装置
JP2001201688A (ja) 露光装置及び方法並びに照明装置及び方法
JP2001356487A (ja) 走査露光方法
JPH07183189A (ja) 照明光学系
JP2002278077A (ja) 投影光学系、投影光学系の製造方法、露光装置及びマイクロデバイスの製造方法
JPH08124823A (ja) 露光装置
JPH0553055A (ja) 反射光学系
JPH07130619A (ja) 照明光学系

Legal Events

Date Code Title Description
A201 Request for examination
E701 Decision to grant or registration of patent right
GRNT Written decision to grant
FPAY Annual fee payment

Payment date: 20121121

Year of fee payment: 12

FPAY Annual fee payment

Payment date: 20131118

Year of fee payment: 13

EXPY Expiration of term