JP2001168003A

JP2001168003A - 露光装置

Info

Publication number: JP2001168003A
Application number: JP34675399A
Authority: JP
Inventors: Hidetoshi Yamada; 秀俊山田; Susumu Kikuchi; 奨菊地; Toshihiro Kitahara; 俊弘北原; Hironari Fukuyama; 宏也福山; Tatsuo Nagasaki; 達夫長崎
Original assignee: Olympus Optical Co Ltd
Current assignee: Olympus Corp
Priority date: 1999-12-06
Filing date: 1999-12-06
Publication date: 2001-06-22

Abstract

(57)【要約】【課題】解像度を劣化させずに広い表示領域を確保した
画像表示手段を用い解像度の高い回路パターン像を基板
上に形成させながら安価でかつ確実な露光動作を確保し
た露光装置を提供する。【解決手段】一回路パターンを基板６上のレジスト面に
投影して露光する露光装置１において、一回路パターン
を複数の領域に分割する際に隣接する領域間で一部の領
域が互いに重複するように分割する処理手段８と、複数
の分割領域の一分割領域を基板上のレジスト面に投影す
る複数の光学系３ａを備えた露光手段２と、隣接する領
域の互いの重複領域を基板上のレジスト面上で重ね合わ
せるように、露光手段により一度に複数の分割領域をレ
ジスト面に投影させることで一回路パターンの像を基板
上のレジスト面に形成させる制御手段８とを具備する。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】この発明は、露光装置、詳し
くは半導体装置や液晶表示装置等の回路パターンを所定
の基板等に露光する露光装置に関するものである。

【０００２】

【従来の技術】従来より、半導体装置や液晶表示装置等
の回路パターンを露光するための露光装置、いわゆるス
テッパーは、一般的に実用化されている。

【０００３】通常の露光装置は、例えばガラス基板（ガ
ラスマスク）上に回路パターンを形成した原版となるい
わゆるレチクルを作成し、このレチクルに対して照明光
を照射し、この光束を投影光学系に透過させることで縮
小又は拡大させた回路パターン像を形成させ、この回路
パターン像をフォトレジストを塗布したウエハーやガラ
ス板等の基板に露光させるという構成のものが一般的で
ある。しかし、このような露光装置において、ガラス基
板等を用いて原版となるレチクルを低価格で作成するに
は困難である。

【０００４】そこで、近年においては、従来のレチクル
としてのガラス基板に代えて液晶表示素子（Ｌiquid Ｃ
rystal Ｄevice；ＬＣＤ）等の表示素子等を利用して回
路パターンを表示させ、これを原版として用いるように
したものが、例えば特開平９−１７７１９号公報、特開
平１１−４５８５１号公報等によって、種々提案されて
いる。

【０００５】上記特開平９−１７７１９号公報、上記特
開平１１−４５８５１号公報等に開示されている手段
は、回路パターンを形成したガラス基板等のレチクルに
代えて液晶表示素子（ＬＣＤ）等の表示素子等からなる
単一の液晶パネルの表示部に設計データ等の回路パター
ン等を表示させ、これを投影光学系によって縮小又は拡
大した回路パターン像を基板上に投影することで所望の
回路パターンを露光させるようにしたものである。

【０００６】

【発明が解決しようとする課題】ところが、上記特開平
９−１７７１９号公報、上記特開平１１−４５８５１号
公報等に開示されている手段では、いずれも単一の液晶
パネルを用いるようにしている。しかし、より鮮明な回
路パターン像を投影するためには、液晶パネルの高解像
度化が必要になるが、液晶パネルの解像度は、これを形
成する表示素子の単位面積あたりの画素数に依存してい
るため、多画素化するのにも限界がある。

【０００７】即ち、単一の液晶パネルを用いる場合、液
晶パネルの解像度を劣化させずに表示領域をより広く確
保しようとする場合、その製造コストは多大なものにな
る傾向がある。また、個々の表示素子の表示面積を小型
化するのにも限界がある。

【０００８】したがって、例えばＩＣ・ＬＳＩ等の微細
な回路パターン像を基板上に投影する場合、単一の液晶
パネル等による表示手段を用いるものでは、従来のガラ
ス基板等をレチクルとして使用する場合に比べて充分な
解像力を確保することは、高コスト化につながり、安価
にかつ容易に実現することは非常に困難であるという問
題点がある。

【０００９】本発明は、上述した点に鑑みてなされたも
のであって、その目的とするところは、一般的な表示サ
イズを有する液晶パネル等を複数用いることで解像度を
劣化させずにより広い領域の表示面積を確保した画像表
示手段を利用して、微細な回路パターンでも充分な解像
度の像を基板上に形成し、安価でかつ確実な露光動作を
確保することのできる露光装置を提供することである。

【００１０】

【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に、第１の発明による露光装置は、一回路パターンを基
板上のレジスト面に投影して露光する露光装置におい
て、一回路パターンを複数の領域に分割する際に隣接す
る領域間で一部の領域が互いに重複するように分割する
処理手段と、複数の分割領域の一分割領域を上記基板上
のレジスト面に投影する光学系を複数備えた露光手段
と、隣接する領域の互いの重複領域を上記基板上のレジ
スト面上で重ね合わせながら上記露光手段により一度に
複数の分割領域を上記レジスト面に投影させることで、
一回路パターンの像を上記基板上のレジスト面に形成さ
せる制御手段とを具備したことを特徴とする。

【００１１】また、第２の発明は、上記第１の発明によ
る露光装置において、上記露光手段は、分割された複数
の領域を表示し得る複数の画像表示手段と、これらの複
数の画像表示手段によって表示される各分割領域画像の
それぞれを上記基板上のレジスト面に拡大して結像させ
る複数の拡大投影光学系と、を有して構成されているこ
とを特徴とする。

【００１２】そして、第３の発明は、上記第１の発明に
よる露光装置において、各分割領域毎に二次元的にフー
リエ変換を施す手段を、さらに具備し、上記光学系は、
コヒーレントな光束を出射するコヒーレント光源と、上
記フーリエ変換を施す手段により変換された各分割領域
に対応する各フーリエ変換像を表示しその表示面に入射
されるコヒーレントな光束の強度と位相とを変調する画
像表示手段と、この画像表示手段により変調を受けたコ
ヒーレント光を逆フーリエ変換して対応する分割領域の
像を上記基板上のレジスト面に形成する逆フーリエ変換
光学系と、を有して構成されていることを特徴とする。

【００１３】第４の発明は、上記第２の発明による露光
装置において、上記画像表示手段は、液晶表示素子と、
この液晶表示素子に光を照射する光源とからなることを
特徴とする。

【００１４】第５の発明は、上記第２の発明による露光
装置において、上記画像表示手段は、複数の可動な微小
反射面が行列状に配列されこの微小反射面の角度を個々
に制御可能な光学制御素子と、この光学制御素子に光を
照射する光源とからなることを特徴とする。

【００１５】第６の発明は、上記第３の発明による露光
装置において、上記画像表示手段は、液晶表示素子から
なることを特徴とする。

【００１６】第７の発明は、上記第３の発明による露光
装置において、上記画像表示手段は、複数の可動な微小
反射面が行列状に配列されこの微小反射面の角度及び配
列面と直交する方向の変位を個々に制御可能な光学制御
素子とからなることを特徴とする。

【００１７】第８の発明は、上記第７の発明による露光
装置において、上記光学制御素子は、その微小反射面が
配列されている面が上記拡大投影光学系の光軸に対して
直交するように配置されていることを特徴とする。

【００１８】第９の発明は、上記第７の発明による露光
装置において、上記光学制御素子の微小反射面が配列さ
れている面に入射する照明光の入射方向が上記拡大投影
光学系の光軸に対して所定の角度を有するように設定さ
れていることを特徴とする。

【００１９】第１０の発明は、上記第２の発明又は上記
第３・第４・第５・第６・第７・第８・第９の発明によ
る露光装置において、上記露光手段は、一回の露光動作
で上記基板全体に相当する領域に一回路パターンを露光
し得る複数の上記光学系を備えていることを特徴とす
る。

【００２０】第１１の発明は、上記第２の発明又は上記
第３・第４・第５・第６・第７・第８・第９の発明によ
る露光装置において、上記制御手段は、上記拡大投影光
学系又は上記逆フーリエ変換光学系を上記基板及び上記
画像表示手段に対して相対的にかつ二次元的に移動させ
得る光学系移動手段と、この光学系移動手段による相対
移動によって生じる分割領域間の上記基板上における像
の位置ずれを補正する補正手段とをさらに具備し、上記
制御手段は、上記補正手段による位置ずれの補正及び上
記光学系移動手段による上記基板上の露光位置の移動を
行ないながら複数回の露光動作を行なうことにより一回
路パターンを上記基板上に形成させることを特徴とす
る。

【００２１】第１２の発明は、上記第２の発明又は上記
第３・第４・第５・第６・第７・第８・第９の発明によ
る露光装置において、上記制御手段は、上記露光手段を
上記基板に対して相対的にかつ二次元的に移動させ得る
露光ユニット移動手段と、この露光ユニット移動手段に
よる相対移動によって生じる分割領域間の上記基板上に
おける像の位置ずれを補正する補正手段とをさらに具備
し、上記制御手段は、上記補正手段による位置ずれの補
正及び上記露光ユニット移動手段による上記基板上の露
光位置の移動を行ないながら複数回の露光動作を行なう
ことにより一回路パターンを上記基板上に形成させるこ
とを特徴とする。

【００２２】第１３の発明は、上記第１０の発明又は上
記第１１の発明又は上記第１２の発明による露光装置に
おいて、上記基板上の画像を計測する画像計測手段を、
さらに有し、この画像計測手段による計測結果は、上記
画像表示手段へと伝送され、この画像表示手段による表
示画像に反映されるように構成されていることを特徴と
する。

【００２３】第１４の発明は、上記第１３の発明による
露光装置において、上記画像計測手段は、上記画像表示
手段と上記基板との間の空間に配置されていることを特
徴とする。

【００２４】第１５の発明は、上記第１４の発明による
露光装置において、上記画像計測手段は、画像計測用の
光学系を有してなり、この画像計測用の光学系は、露光
用に設けられる上記拡大投影光学系を兼ねていることを
特徴とする。

【００２５】第１６の発明は、上記第１３の発明による
露光装置において、上記画像計測手段は、上記画像表示
手段に対向する位置であって、基板を介した位置に配置
されることを特徴とする。

【００２６】第１７の発明は、上記第１４の発明又は上
記第１５の発明又は上記第１６の発明による露光装置に
おいて、上記画像計測手段は、基板上に投影される一回
路パターン像又は位置調整用の所定の像を計測し得るよ
うになされていることを特徴とする。

【００２７】第１８の発明は、上記第１４の発明又は上
記第１５の発明又は上記第１６の発明による露光装置に
おいて、上記画像計測手段は、直前の処理において基板
上に作成された一回路パターン又は位置調整用の所定の
マークを計測し得るようになされていることを特徴とす
る。

【００２８】第１９の発明は、上記第１７の発明又は上
記第１８の発明による露光装置において、上記画像計測
手段による画像計測動作時に照射される照明光の積算量
は、フォトレジスト露光の制御に影響を及ぼさない照射
量となるように設定されていることを特徴とする。

【００２９】第２０の発明は、上記第１７の発明又は上
記第１８の発明による露光装置において、上記画像計測
手段による画像計測動作時に照射される照明光は、フォ
トレジストを露光しない波長となるように設定されてい
ることを特徴とする。

【００３０】第２１の発明は、上記第１の発明による露
光装置において、上記一回路パターンは、電子データと
して上記処理手段に供給されることを特徴とする。

【００３１】第２２の発明は、上記第２１の発明による
露光装置において、外部からの信号を受信する受信手段
をさらに有し、上記電子データは、上記受信手段を介し
て上記処理手段に供給されることを特徴とする。

【００３２】第２１の発明は、上記第１の発明による露
光装置において、上記一回路パターンを電子データとし
て記憶する記憶手段をさらに有し、上記一回路パターン
の電子データは、上記記憶手段から読み出され上記処理
手段に供給されることを特徴とする。

【００３３】

【発明の実施の形態】以下、図示の実施の形態によって
本発明を説明する。図１・図２は、本発明の第１の実施
形態の露光装置を示し、図１はこの露光装置の構成を概
略的に示す概略構成図であり、図２はこの露光装置を図
１の矢印符号Ａの方向から見た際の図であって、複数の
照明手段及び表示手段の配列を示している。

【００３４】本実施形態の露光装置では、原版としての
レチクルを従来より用いられているガラス基板に代えて
液晶表示素子等の表示素子等からなる表示手段、例えば
液晶表示パネル等からなる液晶表示装置としたものであ
る。

【００３５】即ち、図１に示すように本実施形態の露光
装置１は、設計データ等の回路パターンが所定の形態で
データ化された回路パターンデータを記憶する記憶手段
である回路パターン記憶装置７と、この回路パターン記
憶装置７から単一の回路パターンを表わす回路パターン
データを読み出して複数の領域データとなるように分割
信号処理を行なうデータ処理手段であるデータ処理装置
８と、このデータ処理装置８により分割信号処理がなさ
れた複数の領域データを画像としてそれぞれ表示する制
御手段であり、複数の液晶表示パネル（表示素子）等か
らなる画像表示手段であって液晶表示装置（以下、単に
ＬＣＤという）である画像表示装置４と、この画像表示
装置４の表示領域を照明する照明手段である照明装置３
と、この照明装置３により照明された画像表示装置４に
よる表示画像を拡大して所定の位置に配置されている基
板６の露光面に投影し、回路パターンデータにより表わ
される単一の回路パターン像を形成する拡大投影光学系
５等によって構成されている。

【００３６】なお、これらの構成に加えて、例えばデー
タ処理装置８に対して所定の回路パターンデータを他の
外部機器（図示せず）から受信する受信手段を設けるこ
とにより、回路パターン記憶装置７以外からの所定のデ
ータを露光装置１に対して供給することもできる。

【００３７】照明装置３は、複数の照明器によって形成
されており、本実施形態の露光装置１では、９個の照明
器３ａ・３ｂ・３ｃ・３ｄ・３ｅ・３ｆ・３ｇ・３ｈ・
３ｉを図２に示すように配置している。

【００３８】画像表示装置４は、複数の液晶表示パネル
（表示素子）によって形成されており、本実施形態の露
光装置１では、９個の液晶表示パネル４ａ・４ｂ・４ｃ
・４ｄ・４ｅ・４ｆ・４ｇ・４ｈ・４ｉを図２に示すよ
うに配置している。

【００３９】また、拡大投影光学系５は、複数のレンズ
構成からなる複数の光学系によって形成されており、本
実施形態の露光装置１では、９個のレンズ５ａ・５ｂ・
５ｃ・…・５ｉ（図１では一部のみを図示。図２では図
示せず）を配置している。

【００４０】そして、これら９個の照明器３ａ・…・３
ｉ及び９個の液晶表示パネル４ａ・…・４ｉは、それぞ
れが９個のレンズ５ａ・…・５ｉのそれぞれの光軸と同
軸となるようにそれぞれが所定の位置に対応するよう並
べて配置されている。以下の説明においては、主に照明
装置３・画像表示装置４及び拡大投影光学系５等からな
るユニットを露光手段というものとし、符号２によって
示している。

【００４１】一方、図１・図２において、基板６は、露
光される側、即ちこの露光装置１によって所望の回路パ
ターン像を露光することで製造される基板であって、例
えばフォトレジストを塗布したウエハーやガラス板等か
らなるものである。

【００４２】また、データ処理装置８は、上述したよう
に回路パターン記憶装置７から読み出された回路パター
ンデータに基づいて複数の領域データに分割する信号処
理を行なうものである。ここで、領域データとは、任意
の回路パターンデータによって表わされる単一の回路パ
ターン像の全領域を複数の領域に分割した場合における
それぞれの分割領域に対応する個々のデータを差すもの
である。

【００４３】本実施形態の露光装置１におけるデータ処
理装置８によって行なわれる分割信号処理について例を
挙げて説明すると、次のようになる。図３・図４・図５
・図６は、データ処理装置８による分割信号処理を説明
する図であって、図３は回路パターンデータにより表わ
される元画像の例を示し、図４は図３の元画像を所定の
分割位置において複数の領域に分割した場合の個々の分
割領域を並べて示す図である。また、図５は画像表示装
置（ＬＣＤ）の表示領域に表示させる反転画像を示す図
であり、図６は図４の反転画像に基づいて基板上に投影
される回路パターン像を示す拡大画像である。

【００４４】データ処理装置８は、回路パターン記憶装
置７に記憶されている複数の回路パターンデータのうち
任意の回路パターンデータを読み出す。この読み出され
た回路パターンデータは、例えば図３に示すような単一
の回路パターンを所定の手段によりデータ化したもので
ある。

【００４５】データ処理装置８は、この回路パターンデ
ータに対して例えば図３の点線で示す所定の分割位置に
おいて複数の領域、即ちこの例では９つの領域となるよ
うな分割信号処理を施す。この分割信号処理が施される
場合においては、隣接する分割領域の一部が互いに重複
する領域を有するように分割位置が規定されている。そ
して、このようにして分割された各分割領域は、図３・
図４等に示すように縦横＝ｘ＊ｙによって規定される範
囲の領域となる。

【００４６】したがって、図３に示す元画像の各分割領
域のそれぞれを符号ａ・ｂ・ｃ・ｄ・ｅ・ｆ・ｇ・ｈ・
ｉで示すとすると、これに対応する複数の分割領域は、
ａ１・ｂ１・ｃ１・ｄ１・ｅ１・ｆ１・ｇ１・ｈ１・ｉ
１である。

【００４７】ところで、本実施形態の露光装置１では、
上述したように照明装置３によって照明された画像表示
装置４の表示領域を拡大投影光学系５を用いて拡大し、
その拡大画像を基板６の露光面に投影するようにしてい
る。したがって、拡大投影光学系５を介して投影される
画像は、それぞれが上下左右に反転した状態の、いわゆ
る反転画像となる。このことを考慮して本実施形態にお
いては、画像表示装置４の表示領域に表示させる画像を
予め図５に示すような反転画像としている。したがっ
て、この図５に示す反転画像を拡大投影光学系５を介し
て投影することになるので、これにより基板６の露光面
に投影される画像は、元画像（図３）と同様に正立正像
の形態となるようにしている（図６）。

【００４８】即ち、画像表示装置４の各液晶表示パネル
４ａ・…・４ｉには、分割領域に応じた各画像がそれぞ
れ反転画像として表示され、このときの画像表示装置４
の各液晶表示パネル４ａ・…・４ｉにそれぞれ表示され
る複数の反転画像は、図５に示す通りである。

【００４９】したがって、図２の液晶表示パネル４ａ・
…・４ｉのそれぞれには、図５の符号ａ２・ｂ２・ｃ２
・ｄ２・ｅ２・ｆ２・ｇ２・ｈ２・ｉ２の各反転画像が
表示されるのである。

【００５０】そして、この図５に示す各表示画像は、拡
大投影光学系５の各レンズ５ａ・…・５ｉによって拡大
され、これが基板６の露光面上に投影されることにな
る。この場合において投影される画像は、複数のレンズ
５ａ・…・５ｉを介して基板６の露光面へと到達し、こ
こに、図６に示すような所定の単一の回路パターンの画
像が表示されるのである。

【００５１】つまり、各液晶表示パネル４ａ・…・４ｉ
には、図５の符号ａ２・…・ｉ２で示される各反転画像
が表示され、これらの各表示画像を表わす光束が複数の
レンズ５ａ・…・５ｉを介して基板６に到達すると、図
６に示す符号ａ３・ｂ３・ｃ３・ｄ３・ｅ３・ｆ３・ｇ
３・ｈ３・ｉ３の各領域にそれぞれの分割領域画像が表
示される。

【００５２】なお、図６に示すように基板６の露光面上
に最終的に投影される画像は、図３の元画像を拡大した
形態となっている。また本実施形態においては、上述し
たように隣接する分割領域画像の間には、一部が互いに
重複する領域（図１・図６において符号Ｄで示される部
分）を有するように分割領域が規定されている。

【００５３】ところで、このように複数の表示画像が重
複する領域では、例えば重複しない領域に比べて画像の
輝度等が異なってしまう場合がある。したがって、全体
の表示画像の画質を劣化させる等の原因になってしま
う。

【００５４】そこで本実施形態の露光装置においては、
重複する領域の画像に関しては、例えば先に本出願人が
特開平９−３２６９８１号公報において提案しているい
わゆる画像貼り合わせ技術を用いることによって上述の
問題を解決している。

【００５５】そして、本実施形態では、露光手段２と基
板６とは、露光動作時には、相対的に固定された状態で
所定の動作が行なわれるようになっている。つまり、本
実施形態の露光手段２では、基板６に対して露光すべき
領域全体が一度の露光動作によって露光され得ることに
なる。

【００５６】以上説明したように上記第１の実施形態に
よれば、被加工体である基板６の露光面に露光すべき回
路パターンを表わす原版としてのレチクルを、従来のガ
ラス基板等に代えて表示素子（液晶表示パネル）からな
る液晶表示装置４を用いるようにすると共に、この液晶
表示装置４を一般的な表示サイズを有する複数の液晶表
示パネル４ａ・…・４ｉを用いるように構成している。

【００５７】これに応じて露光すべき単一の回路パター
ンを複数の領域に分割し、これら複数の分割領域を各液
晶表示パネル４ａ・…・４ｉによってそれぞれ表示させ
るようにし、これを拡大投影光学系５の各レンズ５ａ・
…・５ｉによってそれぞれ拡大した形態で基板上６に投
影するようにしている。

【００５８】そして、各分割領域の画像は、隣接する画
像の一部を互いに重複するよう設定し、これを画像貼り
合わせ技術を用いて正確に連続した単一の回路パターン
を表わす画像として基板６の露光面上に投影するように
している。

【００５９】したがって、これにより従来のガラス基板
等のレチクルに代えて液晶表示装置４を用いても解像度
を劣化させずに、より広い領域の表示面積を確保するこ
とができ、よって微細な回路パターンでも充分な解像度
の像を基板６の露光面上に形成することができる。

【００６０】この場合において、表示素子としての液晶
表示装置４を構成する複数の液晶表示パネル４ａ・…・
４ｉは、一般的に普及している安価なものを用いるよう
にしているので、高解像度を確保しながら極めて安価に
露光装置を構成することが容易である。これにより、露
光装置の製造コストの低減化にも寄与することができ
る。

【００６１】次に、本発明の第２の実施形態の露光装置
について、図７の概略構成図を用いて、以下に説明す
る。本実施形態の構成は、上述の第１の実施形態と略同
様の構成からなるものである。したがって、上述の第１
の実施形態と同様の構成からなる部材については同じ符
号を付して、その詳細な説明は省略する。

【００６２】本実施形態の露光装置１Ａは、記憶手段で
ある回路パターン記憶装置７と、データ処理手段である
データ処理装置８と、このデータ処理装置８により分割
信号処理が施されて出力される各領域データに対して電
気的なフーリエ変換処理を二次元的にそれぞれ施すこと
によって各領域データによって表わされる二次元的な分
割領域像のフーリエ変換像を算出し、これを画像表示装
置４へと出力する複数のフーリエ変換器（９ａ・９ｂ・
９ｃ…）からなるフーリエ変換手段であるフーリエ変換
装置９と、このフーリエ変換器（９ａ・９ｂ・９ｃ…）
の出力をそれぞれ受けて露光すべき各分割領域像に対応
するフーリエ変換像をそれぞれ表示させ得る画像表示手
段であって複数の液晶表示パネル（４ａ・４ｂ・４ｃ
…）からなる液晶表示装置（ＬＣＤ）４と、この画像表
示装置４を構成する複数の液晶表示パネル（４ａ・４ｂ
・４ｃ…）をそれぞれ照明する照明手段であって、例え
ばレーザー光線等のコヒーレントな光源を出射する複数
のコヒーレント照明器（３Ａａ・３Ａｂ・３Ａｃ…）か
らなるコヒーレント光源３Ａと、このコヒーレント光源
３Ａを構成する複数のコヒーレント照明器（３Ａａ・３
Ａｂ・３Ａｃ…）のそれぞれから出射されるコヒーレン
ト光を拡大してかつ平行光に変換するビームエキスパン
ダー（１０a・１０ｂ・１０ｃ）と、各液晶表示パネル
（４ａ・４ｂ・４ｃ…）の表示画像を透過したコヒーレ
ント光に対して光学的な逆フーリエ変換を行なう逆フー
リエ変換光学系４１を構成する複数の逆フーリエ変換レ
ンズ（４１ａ・４１ｂ・４１ｃ）等によって構成されて
いる。

【００６３】そして、本実施形態の露光装置１Ａにおい
ては、コヒーレント光源３Ａ及びビームエキスパンダー
１０・逆フーリエ変換光学系４１・画像表示装置４等か
らなるユニットによって露光手段２Ａが構成されてい
る。

【００６４】なお、図７における符号ｆは、逆フーリエ
変換光学系４１の各レンズ（４１ａ・４１ｂ・４１ｃ）
の焦点距離を示すものである。つまり、基板６の露光面
は、逆フーリエ変換光学系４１の各レンズ４１ａ・４１
ｂ・４１ｃの主点位置から距離ｆの位置に配置されるこ
とになる。

【００６５】また図７では、フーリエ変換装置９のフー
リエ変換器９ａ・９ｂ・９ｃと、コヒーレント光源３Ａ
のコヒーレント照明器３Ａａ・３Ａｂ・３Ａｃと、逆フ
ーリエ変換光学系４１の逆フーリエ変換レンズ４１ａ・
４１ｂ・４１ｃと、液晶表示装置（ＬＣＤ）４の液晶表
示パネル４ａ・４ｂ・４ｃとを、それぞれ３個ずつ図示
しているのみであるが、各構成部材の配置は、上述の第
１の実施形態と同様に、例えば縦横＝３行＊３列の行列
状に配置されるように構成されている。

【００６６】そして、各コヒーレント照明器３Ａａ・３
Ａｂ・３Ａｃ…及び各ビームエキスパンダー１０ａ・１
０ｂ・１０ｃ…と、各液晶表示パネル４ａ・４ｂ・４ｃ
…とは、それぞれが逆フーリエ変換光学系４１の各レン
ズ４１ａ・４１ｂ・４１ｃ…の光軸と同軸に並べて配置
されている。

【００６７】ここで、データ処理装置８による分割処理
及びフーリエ変換装置９による電気的なフーリエ変換処
理の流れを図８によって、以下に簡単に説明する。図８
は、画像データの処理の流れを説明する図であって、
（ａ）は回路パターン記憶装置７に記憶されている回路
パターンデータに基づく元画像、（ｂ）は分割処理後の
分割領域画像、（ｃ）はフーリエ変換処理後のフーリエ
変換像（パワースペクトル）、（ｄ）は基板上に投影さ
れる投影像のそれぞれを簡単に表わす図である。なお、
図８では説明を簡略化するために、一次元方向（ｘ方
向）のみを例に挙げて図示している。

【００６８】回路パターン記憶装置７に記憶されている
回路パターンデータはデジタルデータであるので、元画
像は図８（ａ）に示すように明暗の二値化データとして
表わすことができる。

【００６９】つまり、通常の原版（レチクル）は、ガラ
ス等の基板上に金属膜等により光束を透過させる部分と
遮光する部分とからなる明暗の二値化画像によって回路
パターンが形成されている。したがって、このような元
画像をデータ化するに際しては、明暗の二値化データを
表わすデジタルデータとして扱うことが容易である。

【００７０】ここで、図８（ａ）に示す元画像データに
対して隣接する所定の領域が互いに重複するようにして
複数の領域ｘに分割するものとする。図８では、三つの
領域ｘ１・ｘ２・ｘ３のそれぞれ分割する場合を示して
いる。そして、分割した後の分割領域画像をそれぞれ示
すと、図８（ｂ）に示すようになる。ここまでの処理
は、データ処理装置８において行なわれる。

【００７１】データ処理装置８は、これらの分割領域画
像データのそれぞれをフーリエ変換装置９へと出力す
る。これを受けてフーリエ変換装置９においては、各分
割領域画像データがそれぞれ対応するフーリエ変換器９
ａ・９ｂ・９ｃへと入力されて、所定の電気的なフーリ
エ変換処理が施される。その結果、図８（ｃ）に示すよ
うなフーリエ変換像のデータが得られる。

【００７２】このフーリエ変換像のデータは、画像表示
装置４へと出力され、各データに応じた画像が各液晶表
示パネル４ａ・４ｂ・４ｃに表示される。このとき、こ
れらの液晶表示パネル４ａ・４ｂ・４ｃは、ビームエキ
スパンダー１０ａ・１０ｂ・１０ｃを介したコヒーレン
ト光源３Ａのコヒーレント照明器３Ａａ・３Ａｂ・３Ａ
ｃによる照明光の強度と位相とを変調する。

【００７３】そして、この変調された光束は、逆フーリ
エ変換光学系４１を介して基板６の露光面に投影され、
図８（ｄ）に示す投影像が形成されることになる。この
投影像は、上述のように逆フーリエ変換光学系４１を介
することで、図８（ａ）に示す元画像と同じ画像として
形成されている。なお、図８（ｄ）において、符号Ｄ
は、隣接する画像間に設定される重複領域を示してい
る。

【００７４】ただし、上述の図８（ｃ）では、フーリエ
変換処理の結果をパワースペクトルで示しているが、実
際にはフーリエ変換装置９において行なわれるフーリエ
変換処理の演算は、複素振幅を用いて行なわれることに
なる。

【００７５】即ち、この電気的なフーリエ変換処理後の
結果をより詳しく示すと、図９に示すようになる。図８
（ｃ）で示すフーリエ変換像（パワースペクトル）は、
図９をより簡略化して絶対値により表わしたものとなっ
ている。図９において、符号ｕで示す軸は、画像表示装
置４に表示されるべき座標を示している。

【００７６】例えば、図９において任意の値ｕを取り出
して示した場合、図１０に示すように表わすことができ
る。即ち、図１０において、横軸ＡｎＩ（ｕ）は虚数
を、縦軸ＡｎＲ（ｕ）は実数を示している。したがっ
て、任意の値ｕにおけるフーリエ変換の値は、複素数
（ＡｎＩ（ｕ），ＡｎＲ（ｕ））で表わされる。

【００７７】また、符号φｎ（ｕ）は、任意の値ｕにお
ける位相角を表わし、このときの値が√Ｆｎ（ｕ）で表
わされることになる。このように、各液晶表示パネル４
ａ・４ｂ・４ｃにおける各画素の透過率と位相は、それ
ぞれＦｎ（ｕ）及びφｎ（ｕ）によって与えられるので
ある。

【００７８】なお、透過率Ｆｎ（ｕ）は、次のようにし
て求めることができる。即ち、Ｆｎ（ｕ）＝ＡｎＲ
（ｕ）^2 ＋ＡｎＩ（ｕ）^2ここで、［^］は累乗を表
わしている。

【００７９】ところで、近年における一般的な露光装置
においては、単にレチクル上に光の透過域と遮光域とを
設けるだけでなく、部分的に光の位相差を与えて（反転
させ）た上で透過させるようにしたいわゆる位相シフト
マスクとよばれる技術が用いられることがある。

【００８０】図１１は、図８と同様に画像データの一部
を取り出してデータ処理の流れを説明する図であって、
（ａ）は元画像の強度分布を、（ｂ）は電界分布を、
（ｃ）はｘ方向に位相分布が与えられた位相シフトマス
クをそれぞれ示す図である。

【００８１】図１１において、符号ａで示す領域は、光
を全透過させていることを示しており、符号ｂ・ｃで示
す領域では、光の位相を反転させて透過させていること
を示している。その他の部分では、光を遮光しているこ
とが示されている。この場合において、符号ａの領域に
比べて符号ｂ・ｃの領域では、強度ｆｎ（ｘ）が低くな
っている。これは、投影されるべき像が確実に結像され
得るようにするために、部分的に透過率を低下させる操
作がなされているためである。

【００８２】このように強度分布ｆｎ（ｘ）が二値では
なく中間調を有している場合において電気的なフーリエ
変換処理を行なうには、まず平方根（電界分布）を取
り、その結果に基づいて処理を実行する必要がある（図
１１（ｂ）参照）。

【００８３】このように構成された上記第２の実施形態
においても上述の第１の実施形態と同様の効果を得るこ
とができる。

【００８４】なお、本実施形態における画像表示手段に
は、レーザー光線等のコヒーレントな光源から出射され
てビームエキスパンダー・画像表示装置及び逆フーリエ
変換光学系を介して基板６の露光面上に照射されるよう
にしているが、例えば光源をインコヒーレントな光源と
することも可能である。この場合においては、光源出力
を空間フイルタ等を介して可干渉性を高めるようにすれ
ば良いのである。

【００８５】次に、本発明の第３の実施形態について、
以下に説明する。本実施形態は、上述の第１の実施形態
とほぼ同様の構成からなるものであるが、本実施形態に
おいては、拡大投影光学系を二次元的に移動させ得る移
動手段を設け、拡大投影光学系を露光の対象となる基板
に対向する平面内において二次元的に移動させることに
よって、所望の回路パターン像を所定の基板の露光面に
露光させるようにしたものである。

【００８６】図１２は、本発明の第３の実施形態の露光
装置の概略的な構成を示す概略構成図である。図１２に
示すように、本実施形態の露光装置１Ｂを構成する主要
な構成部材については、上述の第１の実施形態と略同様
であるが、拡大投影光学系５のみがユニット化されて移
動し得るように設けられている点が異なる。

【００８７】つまり、この拡大投影光学系５Ｂのユニッ
トは、モータ等によって形成される所定の移動手段であ
る移動機構（図示せず）によって基板６に対向する所定
の平面内を二次元的に移動するようになっている。この
場合において、露光手段２Ｂを構成する照明装置（図示
せず）及び画像表示装置４と、露光される側の被加工体
である基板６は、共に固定された状態にある。

【００８８】上述したように上記第１の実施形態におい
ては、露光動作時には、拡大投影光学系５を含む露光手
段２と基板６とが、共に相対的に固定された状態で所定
の動作が行われるようになっており、露光すべき領域全
体、即ち単一の回路パターン像を一度の露光動作によっ
て露光させるように構成している。

【００８９】これに対して本実施形態においては、一度
の露光動作によって露光され得る範囲は、基板６上に露
光すべき領域全体の一部のみとなるようにしており、ユ
ニット化された拡大投影光学系５Ｂを図１２の矢印Ｘ方
向又は矢印Ｙ方向、即ち所定の二次元平面内を移動させ
ながら複数回の露光動作を実行するようにしている。こ
れにより基板６の所定の領域全体に対して単一の回路パ
ターン像の露光を行なうようにしているのである。この
場合において、画像表示装置４は、所定の基板６全体を
覆い得る所定の範囲に対して複数の液晶表示パネル４ａ
・４ｂ・４ｃ・…・４ｎを配置することにより、露光さ
れるべき単一の回路パターン全体の画像が常に表示され
るようになっている。

【００９０】このように構成することで上記第３の実施
形態によれば、拡大投影光学系５Ｂの構成を簡略化する
ことができるという利点が生じる。つまり、本実施形態
では、この拡大投影光学系５Ｂの構成を上記第１・第２
の実施形態に比べて簡略化されており、これを構成する
部材数を少なくすることができる。このことから、製造
時の工数の削減及び製造コストの低減化を容易に実現す
ることができる。したがって、露光装置１Ｂ自体の製造
コストの低減化に寄与することができるのである。

【００９１】次に、本発明の第４の実施形態の露光装置
について、以下に説明する。本実施形態は、上述の第１
の実施形態と略同様の構成からなるものであるが、本実
施形態においては、露光手段をユニット化して構成する
と共に、このユニット化された露光手段を二次元的に移
動させ得る移動手段を設けることにより、露光手段（ユ
ニット）を露光の対象とする基板に対向する二次元平面
内において移動させ、これにより所望の単一の回路パタ
ーン像を基板の露光面に投影させ露光させるようにした
ものである。

【００９２】図１３は、本発明の第４の実施形態の露光
装置の構成を示す図である。図１３に示すように、本実
施形態の露光装置１Ｃを構成する主要な構成部材につい
ては、上述の第１の実施形態と略同様であるが、照明装
置３・画像表示装置４・拡大投影光学系５からなる露光
手段２Ｃをユニット化して構成した露光手段ユニット
（２Ｃ）を移動自在に配設するようにした点が異なる。

【００９３】この露光手段ユニット（２Ｃ）は、モータ
等によって形成される所定の移動手段である移動機構
（図示せず）によって、基板６に対向する所定の二次元
平面内を移動し得るように構成されている。

【００９４】また、本実施形態の露光手段ユニット（２
Ｃ）は、上述の第３の実施形態と同様に露光動作時に
は、基板６の露光すべき領域全体に対する一部の領域を
一度の露光動作によって露光させるように構成されてい
る。そして、露光手段ユニット（２Ｃ）が固定された基
板６に対して同基板６に対向する所定の平面内を二次元
的に移動しながら複数回の露光動作を実行することによ
って、基板６における所定の領域全体に対する露光が行
なわれるようになっているのである。この場合におい
て、画像表示装置４には、個々の露光動作時において対
象となる露光領域に対応する領域の画像が複数の液晶表
示パネル４ａ・４ｂ・４ｃによって表示されるようにな
っている。そして、露光手段ユニット（２Ｃ）の移動に
伴なって、その都度、液晶表示パネル４ａ・４ｂ・４ｃ
の表示も切り換わるように制御されている。この表示切
り換えの制御については、例えばデータ処理装置８によ
って行なわれる。

【００９５】このように構成することで上記第４の実施
形態によれば、露光手段ユニット（２Ｃ）の構成を簡略
化することができるという利点が生じ、これにより製造
時の工数の削減及び製造コストの低減化をさらに実現す
ることができ、よって露光装置１Ｃ自体のさらなる製造
コストの低減化に寄与することができるという効果が得
られる。

【００９６】なお、上述の第３の実施形態では、ユニッ
ト化した拡大投影光学系５Ｂを移動させながら、また第
４の実施形態では、一体化して構成した露光手段ユニッ
ト２Ｃを移動させながら、それぞれ複数回の露光動作を
行なって単一の回路パターン像の露光を行なうようにし
ている。つまり、いずれの場合にも、基板６に対する露
光動作を行なうのに伴って拡大投影光学系５Ｂ・露光手
段ユニット２Ｃが移動するように構成されている。

【００９７】このように基板６の露光面に対して拡大画
像を投影する拡大投影光学系５Ｂ・露光手段ユニット２
Ｃを移動させながら露光動作を行なうように構成した場
合には、これに伴なって基板６に投影される各表示画像
が所定の位置に投影されない場合も考えられる。

【００９８】そこで、上述の第３・第４の実施形態にお
いては、画像表示装置４の各液晶表示パネル４ａ・４ｂ
・４ｃ・…によって表示される各表示画像を基板６の露
光面上の所定の位置に確実に投影し、基板６に対して単
一の回路パターン像を正確に露光させるために、各画像
の位置ずれを補正する補正手段が必要となる。

【００９９】上述の第３・第４の実施形態では、データ
処理装置８が補正手段の役目をしている。つまり、デー
タ処理装置８は、上述したように回路パターン記憶装置
７から読み取った任意の回路パターンデータに基づいて
分割信号処理等の所定の信号処理を施して、これを画像
表示装置４の各液晶表示パネル４ａ・４ｂ・４ｃへと出
力することで、各液晶表示パネル４ａ・４ｂ・４ｃによ
り各分割領域画像が表示されるようになっている。

【０１００】したがって第３・第４の実施形態において
は、データ処理装置８は、さらに拡大投影光学系５Ｂ・
露光手段ユニット２Ｃの移動に伴う位置ずれを考慮した
所定の補正信号処理が必要となる。

【０１０１】つまり、第３・第４の実施形態において
は、位置ずれ等に関する所定の補正信号処理済のデータ
に基づいて露光装置１Ｂ・１Ｃの画像表示装置４の各液
晶表示パネル４ａ・４ｂ・４ｃに常に位置ずれ補正済み
の画像を表示するようにしているのである。このように
形成され表示される画像に基づいて基板６上に投影され
る画像が基板６の露光面上における所定の位置に常に投
影されるようになっているのである。

【０１０２】ところで、従来の露光装置においては、基
板に対して回路パターンを投影する際に、予め所定の位
置決め調整用指標、即ちいわゆるアライメントマークを
含むように回路パターンデータを作成しておき、同回路
パターンを露光する基板の側にも所定の位置に基準位置
となる基準位置マークを設ける工夫が考えられている。
そして、この場合には、基板６の露光面上に投影される
回路パターン像は基板６の露光面上の所定の位置に正確
に投影されるようにする位置決め手段を備えて構成する
ことになる。このような技術は、例えば上記特開平１１
−４５８５１号公報等によって既に開示されているもの
である。

【０１０３】しかし、本発明の露光装置では、上述の各
実施形態において説明したように、基板に対して露光す
べき単一の回路パターンに基づく回路パターンデータを
複数の分割領域画像を表わす複数の領域データに分割
し、この複数の領域データをそれぞれ画像表示装置の複
数の液晶表示パネルによって表示させ、これらの表示画
像をそれぞれ拡大投影光学系の複数のレンズを介して拡
大した像を基板上に投影するようにしている。このとき
基板上に投影される各分割領域画像は、隣接する分割領
域画像の間で一部が互いに重なり合う重複領域を設けて
投影されることによって、複数の分割領域画像が連続的
に継ぎ目なく基板上に投影され、よって単一の回路パタ
ーン像が基板上に形成するようにしたものである。

【０１０４】したがって、各分割領域画像の重複領域を
正確に重ね合わせて投影するためには、上述の特開平１
１−４５８５１号公報等に開示されている手段を用いる
ことは非常に煩雑となると共に、多数の演算処理を伴う
ことになるので効率的なものではない。また、例えば各
分割領域画像を基板上の所定の位置に合わせて投影して
も、重複領域が正確に重なり合うとは限らないというこ
ともある。

【０１０５】そこで、本発明による露光装置では、各分
割領域画像間における位置決め手段として、例えば次に
示す第５の実施形態に示す手段が適用される。この第５
の実施形態について、以下に説明する。

【０１０６】図１４は、本発明の第５の実施形態の露光
装置の主要部の構成を示す要部分解斜視図である。また
図１５は、本実施形態の露光装置の概略的な構成を示
し、（ａ）は概略構成図、（ｂ）は（ａ）の矢印Ｂ方向
から基板上を見た際の投影画像の一部を示す図である。

【０１０７】本実施形態の露光装置１Ｄの基本的な主要
構成部は、上述の第１の実施形態と略同様の構成からな
り、図１５（ａ）に示すように回路パターン記憶装置７
と、データ処理装置８と、照明器３ａ・３ｂ・３ｃ・…
からなる照明装置３及び液晶表示パネル４ａ・４ｂ・４
ｃ・…からなる画像表示装置４とレンズ５ａ・５ｂ・５
ｃ・…からなる拡大投影光学系５等によって構成される
露光手段２Ｄ等に加えて、基板６の露光面に投影された
画像を画像データとして取得し、これをデータ処理装置
８へと出力するＣＣＤ１２ａ・１２ｂ・１２ｃ・…から
なる画像計測手段である撮像素子１２と、画像表示装置
４の各液晶表示パネル４ａ・４ｂ・４ｃを透過した光束
が基板６により反射された後の光束を撮像素子１２へと
導く複数のプリズム１１ａ・１１ｂ・１１ｃ・…からな
る光束分割手段であるビームスプリッター１１等によっ
て構成されている。なお、本実施形態では、図１４に示
すように画像表示装置４の液晶表示パネル４ａ・４ｂ・
４ｃ・…を縦横＝３行＊３列の行列状に配置して構成し
た露光装置１Ｄの例を示している。したがって、本実施
形態の露光装置１Ｄにおいては、各液晶表示パネル４ａ
・４ｂ・４ｃ・…に対応して同数のレンズ５ａ・５ｂ・
５ｃ・…、ビームスプリッター１１の各プリズム１１ａ
・１１ｂ・１１ｃ・…、ＣＣＤ１２ａ・１２ｂ・１２ｃ
・…がそれぞれ設けられている。このようにして構成さ
れた本実施形態の露光装置１Ｄは、基板６の露光面上に
対して例えば図１４及び図１５（ｂ）に示すような投影
像を形成することになる。本実施形態では、図面の繁雑
化を避けるために、各分割領域画像を、［Ａ］・［Ｂ］
・［Ｃ］・［Ｄ］・［Ｅ］・［Ｆ］・［Ｇ］・［Ｈ］・
［Ｉ］等のアルファベット文字で示し、これの全体を回
路パターン像と見なしている。

【０１０８】即ち、回路パターン記憶装置７に記憶され
ている回路パターンデータから任意の回路パターンデー
タがデータ処理装置８によって読み出される。データ処
理装置８では、読み出した回路パターンデータに対して
所定の分割信号処理等を施した上で画像表示装置４の各
液晶表示パネル４ａ・４ｂ・４ｃ・…へと出力する。こ
れにより各液晶表示パネル４ａ・４ｂ・４ｃ・…には、
それぞれ対応する分割領域画像が表示される。

【０１０９】画像表示装置４の各液晶表示パネル４ａ・
４ｂ・４ｃ・…は、それぞれに対応する照明器３ａ・３
ｂ・３ｃ・…によって照明されるようになっており、そ
の表示画像を形成する光束は、ビームスプリッター１１
の各プリズム１１ａ・１１ｂ・１１ｃ・…を透過した
後、拡大投影光学系５の各レンズ５ａ・５ｂ・５ｃ・…
を透過して基板６の露光面上に拡大された画像が投影さ
れる（図１４・図１５（ｂ）参照）。

【０１１０】この場合において、基板６の露光面上に投
影される複数の分割領域画像は、行列上に並べて投影さ
れることになるが、互いに隣接する分割領域画像の間に
は、所定の範囲で重複する領域（図１４・図１５（ｂ）
では、符号Ｄで示す部分）が確保されるようになってい
る。

【０１１１】この重複領域においては、隣接する分割領
域画像が確実に重なり合った形態で投影されている必要
がある。したがって、各分割領域画像における重複領域
には、それぞれ相対的な位置合わせを行なうアライメン
トマーク（図１４・図１５では、符号Ａ１１・Ａ１２・
Ａ１３・Ｂ１２・Ｂ１３・Ｄ１１・Ｄ１３・Ｅ１３等で
示される）が表示されるようになっている。

【０１１２】なお、このアライメントマークは、各分割
領域画像と共に基板６の露光面上に投影されて所定の
像、例えば図１４等に示すような［＋］字形状のマーク
等からなり、同形同大に設定されているものである。

【０１１３】一方、基板６の露光面上に投影される各分
割領域画像（［Ａ］・…・［Ｉ］）を形成する光束は、
基板６の露光面上で反射してビームスプリッター１１の
それぞれ対応するプリズム１１ａ・１１ｂ・１１ｃ・…
へと入射し、これらのプリズム１１ａ・１１ｂ・１１ｃ
・…の内部で反射されて撮像素子１２の各ＣＣＤ１２ａ
１２ｂ・１２ｃ・…へと導かれ、それぞれの受光面に対
応する分割領域画像を形成する。この光学的に形成され
た画像は、各ＣＣＤ１２ａ・１２ｂ・１２ｃ・…によっ
て所定の光電変換処理等の信号処理がなされて画像デー
タ化されて、データ処理装置８へと出力されることにな
る。

【０１１４】これを受けてデータ処理装置８は、投影画
像データに対して所定の計測処理を施し、その演算結果
を画像表示装置４へと出力する画像信号に反映させる。
つまり、データ処理装置８は、画像表示装置４による表
示画像の補正処理をも行なうようになっているのであ
る。

【０１１５】この補正処理は、例えば次のようにして行
なわれる。図１６は、本実施形態における露光装置１Ｄ
の撮像素子１２のうちＣＣＤ１２ａによって取得される
画像データにより表わされる画像とこれに隣接するＣＣ
Ｄによって取得される画像データにより表わされる画像
との重複領域を示す図である。

【０１１６】上述したように、本実施形態の露光装置１
Ｄでは、任意の回路パターンデータに基づく回路パター
ンを画像表示装置４を用いて表示させることにより、基
板６の露光面上に拡大された回路パターン像を投影する
ようにしている。

【０１１７】このようにして基板６に投影された回路パ
ターン像は、ビームスプリッター１１を介して撮像素子
１２の受光面に再結像されるようになっている。このと
きのＣＣＤ１２ａの受光面に結像される画像を示すと図
１６のようになる。

【０１１８】ＣＣＤ１２ａには、所定の回路パターンの
分割領域画像１２ａａ（図１６では［Ａ］で示されるパ
ターン画像）が結像されている。この分割領域画像１２
ａａには、上述したようにアライメントマークが含まれ
ている（図１６に示す符号Ａ２１・Ａ２２・Ａ２３参
照）。なお、図１６の符号Ｂ２２・Ｂ２３は、ＣＣＤ１
２ａの分割領域画像１２ａａに隣接するＣＣＤ１２ｂの
分割領域画像１２ｂｂに含まれるアライメントマークで
ある。また、符号Ｄ２１・Ｄ２３は、ＣＣＤ１２ａの分
割領域画像１２ａａに隣接するＣＣＤ１２ｄの分割領域
画像１２ｄｄに含まれるアライメントマークを示してい
る。さらに符号Ｅ２３は、ＣＣＤ１２ａに隣接するＣＣ
Ｄ１２ｅの分割領域画像１２ｅｅに含まれるアライメン
トマークである。

【０１１９】そして、各アライメントマークは、隣接す
る分割領域画像の重複領域（図１６の符号Ｄで示す領
域）内に配置され、例えば符号Ｅ２３及び符号Ａ２３・
Ｂ２３・Ｄ２３は、ＣＣＤ１２ａ・１２ｂ・１２ｄ・１
２ｅの各分割領域画像１２ａａ・１２ｂｂ・１２ｄｄ・
１２ｅｅが互いに重なり合うべき重複領域内の所定の位
置に設けられているのである。

【０１２０】このように各分割領域画像の所定の位置に
所定のアライメントマークが設けられていて、このアラ
イメントマークを含む分割領域画像は、撮像素子１２に
よる光電変換処理を経てデータ化されてデータ処理装置
８へと伝送されるのである。

【０１２１】そして、データ処理装置８では、分割信号
処理やその他の所定の信号処理に加えて、撮像素子１２
により取得された画像データに基づく位置補正処理を施
す。このようにして作成された領域データは、画像表示
装置４の各液晶表示パネル４ａ・４ｂ・４ｃへと出力さ
れ、これが基板６の露光面上に投影されることになる。
したがって、このとき投影される像は、隣接する各分割
領域画像の重複領域内で互いに対応するアライメントマ
ークが確実に重なり合った形態となるように位置補正処
理がなされているわけである。

【０１２２】なお、本実施形態の露光装置１Ｄにおいて
は、上述した各分割領域画像の位置合わせの作業は、基
板６に対して実際に露光動作を行なうのに先立って実施
されることになる。

【０１２３】上述したように本実施形態の露光装置１Ｄ
における各分割領域画像の位置合わせ作業は、基板６の
露光面上に投影された回路パターン像を撮像素子１２に
よって画像データ化することにより行なわれる。したが
って、基板６に対する露光動作が伴うことになるが、こ
の位置合わせ作業時には基板６が実際には露光されてし
まうことがないようにすることが望ましいのは当然であ
る。

【０１２４】ところで、基板６としては、例えばフォト
レジストを塗布したウエハーやガラス板等が用いられる
のは上述した通りである。このフォトレジストは、通常
の場合、露光量に対して図１７に示すような特性を有し
ている。図１７はフォトレジストの特性曲線を示す図で
ある。

【０１２５】図１７に示すように、フォトレジストは、
所定の露光量の範囲内（符号ｈで示す斜線部分）であれ
ば、その溶解度に修正がないという特性を有している。
したがって、位置合わせのために予め実施される露光
（プリ露光ともいう）時には、この所定の露光量ｈを超
えない範囲内で露光を与えるように制御すれば良い。

【０１２６】以上説明したように、上述のような構成に
よる上記第５の実施形態によれば、各分割領域画像によ
る投影像の相対的な位置合わせを補正する手段を設けた
ことにより、所望の回路パターンデータに基づく単一の
回路パターン像をより忠実な形態で所定の基板上に投影
させることができる。

【０１２７】また、各分割領域画像の位置合わせには、
プリ露光を伴うことになるが、フォトレジストの特性を
考慮して、プリ露光時の露光量の制御を適切に行なうこ
とで、確実な位置合わせ作業を行なうことができると共
に、実際の露光動作（本露光とも言う）に悪影響を及ぼ
すこともない。

【０１２８】なお、上述の第５の実施形態では、各分割
領域画像にアライメントマークを含めるようにしている
が、特にアライメントマークを形成させずに、各分割領
域画像、即ち回路パターンそのものを形状認識させる画
像認識技術を用いることによっても同様の効果を得るこ
とは可能である。

【０１２９】また、上述の第５の実施形態では、画像表
示装置４と基板６との間の所定の空間にビームスプリッ
ター１１（光束分割手段）及び撮像素子１２（画像計測
手段）を配置して、基板６に投影された画像の反射光束
から位置合わせを行なうための画像データを取得するよ
うにしている。

【０１３０】これとは別に、各分割領域画像の位置合わ
せを行なう手段としては、次に示すような手段も考えら
れる。図１８は、本発明の第６の実施形態の露光装置の
主要部の構成を示す要部拡大斜視図である。なお、図１
８では図面の繁雑化を避けるために、露光装置の一部及
びこの露光装置によって露光される被加工体（基板）の
一部を破砕して示している。

【０１３１】本実施形態の露光装置１Ｅの基本的な構成
は上述の第１の実施形態と略同様のものであり、図１８
に示すように基板６を挟んで露光手段２Ｅが配設されて
いる側とは反対側の所定の位置に、撮像素子を含んで構
成される画像計測手段である撮像装置２１が配設されて
いる点が異なる。

【０１３２】この撮像装置２１は、基板６に投影される
回路パターン像の全範囲に対して一部の分割領域像のみ
を一度の撮像動作によって撮像し得るように設定されて
いる。そして、この撮像装置２１は、図１８の矢印Ｘ方
向及びＹ方向へと移動自在に配設されており、移動しな
がら連続的に撮像動作を行うことによって、回路パター
ン像の全範囲の画像データを取得し得るようになってい
る。その他の構成については、上述の第１の実施形態と
同様である。

【０１３３】このように構成された本実施形態の露光装
置１Ｅでは、上述の第５の実施形態と同様に実際の露光
動作を実行するのに先立ってプリ露光動作が行なわれる
ようにしている。この場合において、画像表示装置４に
よって表示される単一の回路パターン像が拡大投影光学
系５によって基板６の露光面上に拡大されて投影され
る。基板６は、ガラス板等からなるものであるので、基
板６に形成される投影像は、基板６を透過して同基板６
の裏面側（図１８では下方）に配置される撮像装置２１
によって撮像される。

【０１３４】つまり、撮像装置２１では、基板６に形成
される回路パターン像（光学像）を受けて光電変換し、
これを所定の形態の画像データとしてデータ処理装置
（図１８では図示せず。図１５の符号８参照）へと出力
するようになっている。そして、データ処理装置８にお
いて、位置補正処理を含む各種の信号処理が施されるこ
とになる。これらの信号処理については、上述の第５の
実施形態で行なわれる処理と同様である。

【０１３５】以上説明したように上記第６の実施形態に
よっても、上述の第５の実施形態と同様の効果を得るこ
とができる。さらに、本実施形態では、上述の第５の実
施形態と比較して光束分割手段であるビームスプリッタ
ー１１等の構成部材を省略することができるので単純な
構成で同様の効果を実現し得ることができる。

【０１３６】一方、上述の第５・第６実施形態のように
基板上に投影される投影像（回路パターン又はこれに含
まれるアライメントマーク）に基づいて位置ずれ補正を
行なう手段とは別に、次に示すような手段によって露光
すべき回路パターンの位置ずれ補正を行なうようにする
ことも考えられる。

【０１３７】一般的に露光装置を用いて製造されるＬＣ
Ｄ等は、複数の層にわたって様々な回路パターンを形成
させてなるものが普通である。したがって、その製造時
には各層毎に露光動作を繰り返し行なうことになる。こ
の場合において、例えば前回のプロセスにおいて基板６
の露光面上に作成される回路パターン又はアライメント
マークを利用することによって、次の露光動作の際の画
像の位置ずれ補正を行なうことは可能である。

【０１３８】図１９・図２０は、本発明の第７の実施形
態の露光装置の概念図であって、図１９は露光装置全体
を示し、図２０は本実施形態の露光装置における画像計
測手段（撮像装置）と同露光装置により露光がなされる
基板の位置関係を示している。

【０１３９】なお、本実施形態の露光装置の基本的な構
成は、上述の第６の実施形態と同様の構成からなるもの
とし、これを構成する各種の構成部材についての詳細な
説明は省略する。

【０１４０】図１９に示すように本実施形態の露光装置
１Ｅには、製造すべき所望の基板６を内部の所定の位置
に配置し取り出し得るように、基板挿脱口１ｍが外装部
の所定の位置に設けられている。

【０１４１】基板６は、その製造工程において複数回の
露光処理がなされることになるが、この場合において、
例えば洗浄処理や熱処理等、露光処理とは異なる別処理
がなされる場合がある。これらの別処理は、露光装置１
Ｅとは別の異なる装置等によって行なわれることにな
る。このことを考慮して処理中の基板６は、露光装置１
Ｅに対して挿脱自在となるようになっているのである。

【０１４２】その場合の作用は次のようになる。即ち、
まず基板６が露光装置１Ｅの内部に設置されて所定の露
光処理がなされる。その後、この途中まで処理済みの基
板６に対して洗浄処理等の別処理を施すために同基板６
は露光装置１Ｅから取り外される。図１９の矢印ＥＸ
は、露光装置１Ｅから基板６を取り出し得ることを示し
ている。

【０１４３】次いで、別の装置等（図示せず）を用いて
所定の別処理（洗浄処理や熱処理等）が施された後、同
基板６は再度露光装置１Ｅの内部の所定の位置に設置さ
れ、次の露光処理が施されることになる。図１９の矢印
ＩＮは、露光装置１Ｅに対して基板６を装着し得ること
を示している。

【０１４４】このように基板６に対して複数回の露光処
理を行なう場合において、二度目以降の露光処理を行な
う場合、特に基板６を別処理のために露光装置１Ｅに対
して着脱したような場合には、二度目以降の露光処理を
行なうのに先立って次に露光すべき回路パターン像と前
回の露光処理で露光済みの回路パターンとの位置合わせ
を行なう必要がある。

【０１４５】本実施形態の露光装置１Ｅでは、図２０に
示すように例えば前回の露光処理を行なう際に、基板６
の露光面上の所定の位置にアライメントマーク６ａを形
成するようにしている。そして、次の露光処理を行なう
際には、これに先立ってプリ露光動作を行ない、これら
のアライメントマーク６ａに基づいて投影像の位置合わ
せを行なうようにしている。

【０１４６】この場合における位置合わせの手順は、上
述の第６の実施形態と全く同様の手順で行なわれる。即
ち、露光装置１Ｅの内部において露光手段２に対向する
位置であって基板６を挟んで反対側の所定の位置に設け
られる撮像装置２１を図２０の矢印Ｘ方向又は矢印Ｙ方
向に所定の手順で順次移動させながら基板６の投影像
（回路パターン像）の画像データを取得する。この画像
データは、データ処理装置８へと伝送され、ここで、位
置補正処理を含む各種の信号処理が施されるのである。

【０１４７】以上説明したように上記第７の実施形態に
よれば、製造工程において、複数回の露光動作が施され
ると共に、露光装置１Ｅから着脱されて別処理が施され
るような場合にも、確実に所定の位置に対して回路パタ
ーン像の露光処理を実行することができる。

【０１４８】なお、本実施形態では、上述の第６の実施
形態の露光装置１Ｅを例に挙げて説明しているが、同様
に上述の第５の実施形態の露光装置１Ｄ等、他の形態の
露光装置においても、本実施形態の位置補正（計測）手
段を適用することは容易になし得る。

【０１４９】ところで、上述の第５の実施形態では、基
板６に投影する投影像の位置合わせのためのプリ露光時
の照明光量、即ち露光量の制御を行なうことで、位置合
わせが可能となる投影像を形成させ得ると共に、本露光
に悪影響が及ばない範囲の所定の露光量以下となるよう
に制御していた。つまり、上述の第５の実施形態では、
フォトレジストの特性（図１７参照）を考慮して投影像
の位置合わせを行なうというものであった。

【０１５０】これとは別に、プリ露光を行なって投影像
の位置合わせを行なう手段としては、次に示すような手
段も考えられる。図２１は、本発明の第８の実施形態の
露光装置の主要部を示す要部構成図である。本実施形態
の露光装置１Ｆの基本的な構成は、上述の第５の実施形
態（図１４参照）と略同様の構成からなるものである。
また、本実施形態の露光装置においては、上述の第６の
実施形態（図１８参照）のように、前回の露光処理によ
って形成された回路パターン又はアライメントマークに
基づいて位置合わせのための補正処理を行なうようにす
るものである。

【０１５１】即ち、本実施形態の露光装置１Ｆにおける
露光手段２Ｆは、上述の第５の実施形態の露光装置１Ｄ
における光束分割手段であるビームスプリッター１１に
代えて特定の波長領域の光束を透過又は反射させ得る光
学特性を有する複数のダイクロイックプリズム１３ａ・
１３ｂ・１３ｃを配設した点が異なる。

【０１５２】また、これに伴って、基板６を挟んで露光
手段２Ｆが配設される側とは反対側の所定の位置に計測
用照明装置１６が設けられており、この計測用照明装置
１６からの発光は、橙色の色フイルター１４を介して基
板６へと照射されるようになっている。

【０１５３】ここで、基板６に使用されるフォトレジス
トが特定の波長領域の光束、例えばＧ線（波長＝４３６
ｎｍ（ナノメートル））の光束に対して感光し、これと
は異なる他の波長領域の光束、例えば橙色の波長領域
（波長＝６００ｎｍ）の光束に対しては感光しないよう
な特性を有している場合には、ダイクロイックプリズム
１３ａ・１３ｂ・１３ｃは、Ｇ線の光束を透過させると
共に、橙色の波長領域の光束を反射させるような特性と
なるように形成されている。

【０１５４】また照明装置３は、基板６に対して回路パ
ターン像の露光動作を行なう際に画像表示装置４を照明
するものであるが、この照明装置３による照明光束には
Ｇ線が含まれている。その一方で、計測用照明装置１６
からの照明光束は、上述したように橙色の色フイルター
１４を透過することにより橙色成分の光束が基板６を照
明するように構成されている。

【０１５５】したがって、実際の露光動作に先立って投
影像の位置合わせを行なう際には、まず計測用照明装置
１６を用いて基板６を裏面側（図２１では下方側）から
照射する。すると、前回の露光処理によって既に基板６
の露光面上に形成されている回路パターンは、色フイル
ター１４による色成分を有しているのでダイクロイック
プリズム１３ａ・１３ｂ・１３ｃによって反射されてＣ
ＣＤ１２ａ・１２ｂ・１２ｃの側へと導かれ、各受光面
に回路パターン像が結像される。各ＣＣＤ１２ａ・１２
ｂ・１２ｃは、これを受けて光電変換処理等を行ない、
所定の形態の画像データを取得する。そして、この画像
データは、データ処理装置（図２１では図示せず。図１
５の符号８参照）へと伝送されて、位置補正処理を含む
各種の信号処理が施されるのである。このようにして位
置合わせのための位置補正処理がなされた画像が画像表
示装置４の液晶表示パネル４ａ・４ｂ・４ｃに表示され
て実際の露光動作を行ない得る状態になる。

【０１５６】そこで、計測用照明装置１６に代えて露光
用の照明装置３による照明光の照射を開始する。つま
り、照明装置３からの照明光束（Ｇ線を含む）は、画像
表示装置４の各液晶表示パネル４ａ・４ｂ・４ｃの表示
画像を照射する。すると、同表示画像に基づく回路パタ
ーン像を形成する照明光は、ダイクロイックプリズム１
３ａ・１３ｂ・１３ｃを透過した後、拡大投影光学系５
の各レンズ５ａ・５ｂ・５ｃを介して基板６の露光面上
に至り、ここに拡大された回路パターン像を所定時間、
所定の露光量となるように投影する。このようにして露
光動作が行なわれる。

【０１５７】以上説明したように上記第８の実施形態に
よれば、露光用の照明装置３とは別に計測用照明装置１
６を設け、露光動作時の波長領域とは異なる波長領域の
光束であって基板６を露光し得ない波長領域の光束を用
いて位置合わせのためのプリ露光処理を行うようにした
ので、基板６に対してプリ露光動作が悪影響を及ぼすこ
とがない。よって、常に確実な露光処理を行なうことが
できる。

【０１５８】次に、本発明の第９の実施形態の露光装置
について、以下に説明する。図２２は、本実施形態の露
光装置の主要部を示す要部構成図である。本実施形態の
露光装置１Ｇの基本的な構成も上述の第５の実施形態
（図１４参照）と略同様の構成からなるものである。ま
た、本実施形態の露光装置においては、上述の第８の実
施形態（図２１参照）とは異なり上述の第５の実施形態
と同様に、画像と共に投影されるアライメントマーク又
は回路パターン像そのものに基づいて位置合わせのため
の補正処理を行なうようにするものである。

【０１５９】即ち、本実施形態の露光装置１Ｇにおける
露光手段２Ｇは、上述の第５の実施形態の露光装置１Ｄ
と全く同様の構成に加えて、特定の波長領域の光束を透
過させ得る光学特性を有する二種類の色フイルター１７
ａ・１７ｂを備えて形成される波長切換フイルター１７
を配設されている点を特徴としている。

【０１６０】波長切換フイルター１７を構成する一方の
色フイルター１７ａは、特定の波長領域の光束、例えば
Ｇ線（波長＝４３６ｎｍ）の光束を透過させる光学特性
を有しており、他方の色フイルター１７ｂは、これとは
異なる他の波長領域の光束、例えば橙色の波長領域（波
長＝６００ｎｍ）の光束を透過させる光学特性を有して
いる。

【０１６１】そして、波長切換フイルター１７は、図２
２の矢印Ｘ方向に摺動自在に配設されており、位置ずれ
補正処理がなされるときには、図２２に示すように他方
の色フイルター１７ｂが照明装置３の各照明器３ａ・３
ｂ・３ｃ及び画像表示装置４の各液晶表示パネル４ａ・
４ｂ・４ｃにそれぞれ対向する所定の位置に配置される
ように設定される。図２２は、この状態を示している。

【０１６２】この場合には、各照明器３ａ・３ｂ・３ｃ
からの照明光は、色フイルター１７ｂを介することによ
り橙色の光束のみが各液晶表示パネル４ａ・４ｂ・４ｃ
の表示面に照射されることになる。したがって、基板６
の露光面上に形成される投影像は、基板６のフォトレジ
ストを感光させることがない。

【０１６３】基板６の露光面上に投影された投影像は、
プリズム１１ａ・１１ｂ・１１ｃからなるビームスプリ
ッター１１を介して撮像素子１２の各ＣＣＤ１２ａ・１
２ｂ・１２ｃの受光面に再結像される。これにより各Ｃ
ＣＤ１２ａ・１２ｂ・１２ｃは、所定の光電変換処理等
を行なって、投影像の画像データを取得する。そして、
同画像データは、データ処理装置（図２２では図示せ
ず。図１５の符号８参照）へと伝送されて、位置補正処
理を含む各種の信号処理が施されるのである。このよう
にして位置合わせのための位置補正処理がなされた画像
が液晶表示パネル４ａ・４ｂ・４ｃに表示されて実際の
露光動作を行ない得る状態になる。

【０１６４】このようにして露光動作が行ない得る状態
になると、波長切換フイルター１７は、露光動作時の状
態、即ち一方の色フイルター１７ａが各照明器３ａ・３
ｂ・３ｃ及び各液晶表示パネル４ａ・４ｂ・４ｃに対向
する所定の位置に配置された状態に設定される。これに
より各照明器３ａ・３ｂ・３ｃからの照明光は、色フイ
ルター１７ａを介することでＧ線の光束のみが各液晶表
示パネル４ａ・４ｂ・４ｃの表示面に照射される。した
がって、基板６の露光面上に形成される投影像は、基板
６のフォトレジストを感光させて所定の露光がなされる
ことになる。

【０１６５】このように本実施形態の露光装置１Ｇで
は、一方の色フイルター１７ａには露光動作に寄与する
波長領域の光束を透過させる光学特性を、他方の色フイ
ルター１７ｂには露光動作がなされない波長領域の光束
を透過させる光学特性を具備させて、これらの色フイル
ター１７ａ・１７ｂを切り換えることによって、単一の
照明装置３の照明光の特性を切り換えるようにしている
のである。

【０１６６】以上説明したように上記第９の実施形態に
よれば、より簡単な構成によって位置補正処理を行なう
ためのプリ露光動作時と実際の露光動作時とで、異なる
波長領域の光束による投影像が基板６の露光面上に投影
されるようにしたので、プリ露光動作時に基板６に対し
て照明光を照射してもフォトレジストが感光することが
ない。したがって、基板６に対して悪影響を与えること
なく投影像に基づいた位置補正処理を実行することがで
きる。

【０１６７】次に、本発明の第１０の実施形態の露光装
置について、以下に説明する。図２３は、本実施形態の
露光装置の主要部を示す要部構成図である。本実施形態
も基本的な構成は上述の第５の実施形態と略同様であ
り、本実施形態の露光装置１Ｈでは、画像表示手段を構
成する表示素子としてＤＭＤ（デジタルマイクロミラー
デバイス）１８を用いて露光手段２Ｅを構成している点
が異なる。

【０１６８】一般に被加工体である基板６の露光面上に
おいて、原画像の回路パターンの再生を適切に行なうた
めには、画像表示素子によってフーリエ変換像の振幅情
報及び位相情報を正確に表示させる必要がある。これを
実現させるために、本実施形態においてはＤＭＤ１８を
適用している。

【０１６９】ＤＭＤ１８は、上述の各実施形態における
画像表示装置４の各液晶表示パネル４ａ・４ｂ・４ｃと
同様に画像を表示する機能を有するものである。そのた
めに、ＤＭＤ１８には、複数の微小な（例えば十数μｍ
（ミクロン）角程度の）ミラー部材を二次元的に並べて
配置することで、例えば十数ｍｍ（ミリメートル）角の
画像を表示し得る表示面が形成されている。そして、こ
れらの複数のミラー部材は、例えば静電気力等によって
表示面に対する傾き角度及び配列面と直交する方向の変
位をそれぞれ個々に変更することができるよう独立して
制御されている。

【０１７０】したがって、ＤＭＤ１８の表示面に対して
光束を照射したときに、ＤＭＤ１８の所定のミラー部材
の傾き角度及び配列面と直交する方向の変位を制御すれ
ば、照射光の反射光束の光路を制御することができるよ
うになっているのである。

【０１７１】そして、ミラー部材の角度を変化させるこ
とによって反射光束の強度（振幅）を変調し、また配列
面と直交する方向にミラーを変位させることによって反
射光束の位相を変調することができ、よって、これによ
り形成されるフーリエ変換像の振幅情報及び位相情報を
二次元配列として表示することができるのである。

【０１７２】このＤＭＤ１８は、ビームスプリッター１
１の各プリズム１１ａ・１１ｂ・１１ｃのそれぞれの側
面に対向するように、かつ拡大投影光学系５の各レンズ
５ａ・５ｂ・５ｃの光軸に対して表示面が略平行となる
ように配置されている。そして、このＤＭＤ１８の表示
面を照明する照明装置３の各照明器３ａ・３ｂ・３ｃ
は、これらの各照明器３ａ・３ｂ・３ｃによる照明光束
がＤＭＤ１８の表示面に対して所定の角度を有して入射
され得る所定の位置に配置されている。

【０１７３】また、ビームスプリッター１１の各プリズ
ム１１ａ・１１ｂ・１１ｃのそれぞれの上面側には位置
補正処理を行なうための画像データを取得する撮像素子
１２のＣＣＤ１２ａ・１２ｂ・１２ｃ及びこれらの各Ｃ
ＣＤ１２ａ・１２ｂ・１２ｃの受光面に所定の画像を結
像させる光学レンズ１９ａ・１９ｂ・１９ｃがそれぞれ
配置されている。

【０１７４】ここで、本実施形態の露光装置１Ｈにおけ
るＤＭＤ１８の作用を、以下に説明する。図２４・図２
５は、本実施形態の露光装置に用いられるＤＭＤ（画像
表示手段）及びビームスプリッタのみを取り出して示す
図であって、図２４はＤＭＤの非駆動時の状態を、図２
５はＤＭＤの駆動時の状態をそれぞれ示している。

【０１７５】ＤＭＤ１８が非駆動状態にあるときには、
図２４に示すようにＤＭＤ１８の表示面を形成する各ミ
ラー部材の表示面は、同ＤＭＤ１８に対して略平行とな
るように設定されている。この状態では、照明装置３
（図２４では図示せず）の照明光束Ｏ１は、ＤＭＤ１８
の表示面に所定の角度で入射した後、符号Ｏ２で示す光
路をとって反射する。この反射光束Ｏ２は、ビームスプ
リッター１１へと入射しないように設定されている。こ
れにより、基板６の側及び撮像素子１２の側に対しても
ＤＭＤ１８の表示画像を形成する光束は導かれないこと
になる。

【０１７６】一方、ＤＭＤ１８を駆動させると図２５に
示す状態となる。即ち、ＤＭＤ１８を所定の制御手段
（図示せず）により駆動制御させて、このＤＭＤ１８の
表示面を形成するミラー部材のうちの任意のミラー部材
１８ａを同ＤＭＤ１８の表示面に対して所定の角度の傾
きの有するように回動させる。すると、照明装置３から
の照明光束Ｏ１のうち、駆動されたミラー部材１８ａに
より反射される反射光束Ｏ３のみは、ビームスプリッタ
ー１１の側に導かれることになる。

【０１７７】このように、ミラーの回動によって光のオ
ン・オフ（強度変調）をすることができる。さらに、ミ
ラー部材１８ａを配列面と直交する方向に変位させる
と、反射される光束の位相を変調することができる。

【０１７８】そして、同光束Ｏ３は、ビームスプリッタ
ー１１の作用によって光束Ｏ５として基板６の側へと導
かれる。また基板６で反射された光束Ｏ５は、ビームス
プリッター１１を透過して光束Ｏ４として撮像素子１２
に入射する。これにより、撮像素子１２の受光面の対応
する位置と、基板６の露光面の対応する位置とには、所
定の画像、即ちＤＭＤ１８のミラー部材１８ａにおける
表示画像が投影されることになる。

【０１７９】また、この状態では、図２５に示すように
ミラー部材１８ａ以外のミラー部材により反射される反
射光束Ｏ２は、ＤＭＤ１８の非駆動時と同様にビームス
プリッター１１へと入射しない状態にある。したがっ
て、撮像素子１２の受光面及び基板６の露光面において
対応する領域に対しては何の像も投影されない状態とな
る。

【０１８０】このようにＤＭＤ１８の駆動時（図２５参
照）の状態では、複数のミラー部材のうち所望のミラー
部材を必要に応じて駆動制御することによって、同ＤＭ
Ｄ１８に表示されるべき表示画像を形成する光束のうち
所望の光束のみをビームスプリッター１１の側へと導い
て、撮像素子１２の受光面及び基板６の露光面に対して
所望の画像を投影することができるのである。

【０１８１】なお、投影すべき回路パターン像は、強度
分布によって表わされるが、この場合、位相情報が完全
に失われていることが多い。そのために、投影された回
路パターン像の画像データに基づいて、基板６（被加工
体）の露光面上に所望の画像を投影するためのＤＭＤ
（表示素子）１８により表示すべきフーリエ変換像の振
幅情報と位相情報とを算出することは、非常に複雑でか
つ膨大な演算処理を伴うことになる。

【０１８２】そこで、本実施形態においては、複雑かつ
膨大な演算処理を実行することなく、ＤＭＤ１８により
表示すべきフーリエ変換像の振幅情報と位相情報と、次
に示すような手段によって行なっている。

【０１８３】即ち、まず基板６の露光面上に投影すべき
回路パターン像の強度分布の平方根をとり、これに基づ
いて振幅分布を算出する。次いで、同回路パターン像の
所定の各点より球面波が射出されたと仮定して、これら
の球面波がＤＭＤ１８の表示面上において合成されるも
のと想定する。この場合において、ＤＭＤ１８により形
成される画像データを生成する。具体的には、光路積分
の式をＤＭＤ１８の所定数の点（Ｍ個の点）の全てにつ
いて実行する。そして、ＤＭＤ１８の合成パターンの複
素共役を求めるのである。このような手順によって、計
算量を大幅に軽減させることができる。

【０１８４】以上説明したように上記第１０の実施形態
によれば、画像表示手段としてＤＭＤ１８を用いるよう
にしたので、より容易に所望の表示画像を撮像素子１２
の受光面及び基板６の露光面に対して任意に投影するこ
とができる。したがって、画像の位置補正処理を行なう
ための画像データをより正確かつ確実に取得することが
容易にできる。

【０１８５】また、ＤＭＤ（表示素子）１８の空間解像
特性による制約を受けることなく、基板（被加工体）６
の露光面上に高解像度で精細な回路パターン像を容易に
投影することができる。

【０１８６】次に、本発明の第１１の実施形態の露光装
置について、以下に説明する。図２６は、本実施形態の
露光装置の主要部を示す要部構成図である。本実施形態
の構成は、基本的には上述の第１０の実施形態と略同様
であるが、本実施形態の露光装置１Ｊでは、光の偏光を
利用して画像表示手段（ＤＭＤ）の側への光束と撮像素
子（ＣＣＤ）の側への光束とを振分けるように構成して
いる点が異なる。

【０１８７】即ち、本実施形態の露光装置１Ｊは、照明
装置３を構成する複数の照明器３ａ・３ｂ・３ｃと、こ
れらの照明器３ａ・３ｂ・３ｃからのそれぞれの照明光
を反射させその反射光束をそれぞれ所定の方向に導く反
射ミラー２３ａ・２３ｂ・２３ｃと、各照明器３ａ・３
ｂ・３ｃと各反射ミラー２３ａ・２３ｂ・２３ｃとの間
の空間にそれぞれ配置され所定の偏光を生成する偏光板
２２ａ・２２ｂ・２２ｃと、各反射ミラー２３ａ・２３
ｂ・２３ｃによって反射された光束の光路上にあり、同
光束が入射する光束分割手段である偏光ビームスプリッ
タ２４ａ・２４ｂ・２４ｃと、偏光の光路上にあって同
偏光を透過させることにより偏向角を変更させる第１の
λ／４板（四分のλ（ラムダ）板）２５ａ・２５ｂ・２
５ｃ及び第２のλ／４板（四分のλ（ラムダ）板）２６
ａ・２６ｂ・２６ｃと、アライメントマークを含む回路
パターンの分割領域画像を表わす画像をそれぞれ表示さ
せる画像表示手段であるＤＭＤ１８と、拡大投影光学系
５を構成する複数のレンズ５ａ・５ｂ・５ｃと、撮像素
子１２を構成する複数のＣＣＤ１２ａ・１２ｂ・１２ｃ
等によって構成されている。

【０１８８】反射ミラー２３ａ・２３ｂ・２３ｃは、偏
光ビームスプリッタ２４ａ・２４ｂ・２４ｃの近傍にあ
って、照明装置３からの照明光束の光路に対して角度略
４５度だけ傾けて配置されている。そして、その反射面
は、照明装置３及び偏光ビームスプリッタ２４ａ・２４
ｂ・２４ｃのそれぞれに向くように設定されている。し
たがって、これにより照明装置３からの照明光束を反射
させて偏光ビームスプリッタ２４ａ・２４ｂ・２４ｃへ
と導くようになっている。

【０１８９】偏光ビームスプリッタ２４ａ・２４ｂ・２
４ｃは、所定の偏光を反射し得る特性を有して構成され
ている。そして、偏光板２２ａ・２２ｂ・２２ｃは、こ
れらの偏光ビームスプリッタ２４ａ・２４ｂ・２４ｃの
内部に設けられる反射面によって反射され得る特性の偏
光を生成するように設定されている。

【０１９０】このように構成された本実施形態の露光装
置１Ｊの露光手段２Ｊにおいて、照明装置３から照射さ
れる照明光束は、図２６における矢印Ｏで示される光路
を辿って基板６の露光面及び撮像素子１２の受光面に到
達することになる。

【０１９１】即ち、照明装置３から照射される照明光束
は、まず偏光板２２ａ・２２ｂ・２２ｃを透過すること
によって偏光が形成された後、反射ミラー２３ａ・２３
ｂ・２３ｃによってそれぞれ反射されて、偏光ビームス
プリッタ２４ａ・２４ｂ・２４ｃの側へと導かれる。

【０１９２】偏光ビームスプリッタ２４ａ・２４ｂ・２
４ｃに入射された偏光は、各偏光ビームスプリッタ２４
ａ・２４ｂ・２４ｃ内の反射面で反射されて、図２６に
おける上方のＤＭＤ１８の側へと導かれる。このとき、
同光束は、第１のλ／４板２５ａ・２５ｂ・２５ｃを透
過した後、ＤＭＤ１８の表示面を照射し、その表示面に
おいて反射した後、図２６の下方へ向かい、再度第１の
λ／４板２５ａ・２５ｂ・２５ｃを透過し、各偏光ビー
ムスプリッタ２４ａ・２４ｂ・２４ｃへと導かれる。こ
こで偏光は、第１のλ／４板２５ａ・２５ｂ・２５ｃを
二度透過することになるので、振動ベクトルの振動方向
が角度９０度回転する。したがって、各偏光ビームスプ
リッタ２４ａ・２４ｂ・２４ｃを透過することになる。

【０１９３】各偏光ビームスプリッタ２４ａ・２４ｂ・
２４ｃを透過した光束は、第２のλ／４板２６ａ・２６
ｂ・２６ｃ及び拡大投影光学系を介して基板６の側に進
む。これによって基板６の露光面上には、拡大された所
定の回路パターン像が投影される。この状態で露光動作
を行ない得る。

【０１９４】このとき基板６で反射した光束は、図２６
において上方へと進み、再度第２のλ／４板２６ａ・２
６ｂ・２６ｃを透過した後、各偏光ビームスプリッタ２
４ａ・２４ｂ・２４ｃに入射する。このとき光束は、第
２のλ／４板２６ａ・２６ｂ・２６ｃを二度透過するこ
とになるので、再び振動ベクトルの振動方向が角度９０
度回転する。したがって、各偏光ビームスプリッタ２４
ａ・２４ｂ・２４ｃの内部の反射面において反射される
ことになる。

【０１９５】各偏光ビームスプリッタ２４ａ・２４ｂ・
２４ｃの反射面によって反射された光束は、各ＣＣＤ１
２ａ・１２ｂ・１２ｃの側へと導かれ、その受光面に所
定の像を結ぶことになる。そして、これらの各ＣＣＤ１
２ａ・１２ｂ・１２ｃによって取得される所定の画像デ
ータに基づいて画像の位置補正処理がなされる。この位
置補正処理については、上述の第５の実施形態と全く同
様である。

【０１９６】以上説明したように上記第１１の実施形態
によれば、画像表示装置としてＤＭＤを用いた場合に
も、上述の第５の実施形態と略同様の効果を得ることが
容易にできる。

【０１９７】次に、本発明の第１２の実施形態の露光装
置について、以下に説明する。図２７・図２８は、本実
施形態の露光装置の主要部を示し、図２７は露光装置の
要部を示す斜視図であり、図２８は露光装置の側面から
見た際の構成図である。本実施形態の構成は、基本的に
は上述の第５の実施形態（図１４・図１５参照）と略同
様に構成したものであるが、上述の第５の実施形態の露
光装置１Ｄにおいては、撮像素子１２を構成する各ＣＣ
Ｄ１２ａ・１２ｂ・１２ｃをそれぞれに対応する光束分
割手段（ビームスプリッター１１の各プリズム１１ａ・
１１ｂ・１１ｃ）の各近傍に配置するようにしているの
に対して、本実施形態の露光装置１Ｋでは、撮像素子１
２を構成する複数のＣＣＤ１２ａ・１２ｂ・１２ｃ・１
２ｄ・１２ｅ・１２ｆ・１２ｇ・１２ｈを、露光装置１
Ｋの内部における所定の同位置にまとめて配置するよう
にしている。これに合わせて、各ＣＣＤ１２ａ・１２ｂ
・１２ｃ・１２ｄ・１２ｅ・１２ｆ・１２ｇ・１２ｈを
制御する電気回路やその配線等（図示せず）も所定の位
置に配置されている。

【０１９８】また、本実施形態の露光装置１Ｋにおける
光束分割手段としては、上述の第５の実施形態において
適用されたプリズムからなるビームスプリッター１１に
代えて、複数の半透過鏡（ハーフミラー）２０を各ＣＣ
Ｄ１２ａ・１２ｂ・１２ｃに対応するようにそれぞれ設
けて構成している。その他の構成は、上述の第５の実施
形態と同様である。

【０１９９】なお、図２７では、図面の繁雑化を避ける
ために照明装置及び画像表示装置の図示を省略している
が、実際には図２８に示すように画像表示装置４は、上
側の所定の位置に設けられる照明装置３とハーフミラー
２０との間の空間に配置されている。

【０２００】こように構成された上記第１２の実施形態
の露光装置１Ｋにおいても、上述の第５の実施形態と同
様の効果を得ることができると共に、露光装置１Ｋを構
成する各種の部材を効率的に配置することができるの
で、露光手段２Ｋを含む露出装置１Ｋ自体の小型化に寄
与することができる。

【０２０１】また図２９は、本発明の第１３の実施形態
の露光装置の主要部を示す要部構成図である。本実施形
態の露光装置１Ｌの基本的な構成については、上述の第
５の実施形態（図１４参照）と略同様のものであるが、
本実施形態の露光装置１Ｌでは、上述の第３の実施形態
（図１２参照）と同様に拡大投影光学系５及び画像計測
手段を含む投影ユニット３１を所定の移動手段を用いて
露光の対象となる基板６に対向する平面内を二次元的に
移動させることによって、基板６の露光面上に所望の回
路パターン像を投影させるようにしている。

【０２０２】このために本実施形態の露光装置２Ｌで
は、一度の露光動作によって露光され得る範囲が基板６
上に露光すべき領域全体の一部の領域となるように設定
されている。そして、投影ユニット３１を所定の二次元
平面内において図２９の矢印Ｘ方向又は矢印Ｙ方向に移
動させながら複数回の露光動作を実行することで、基板
６の所定の領域全体に対して単一の回路パターン像の露
光を行なうようにしているのである。

【０２０３】投影ユニット３１は、複数の拡大投影光学
系５と、複数の撮像素子１２と、複数のハーフミラー２
０又は複数のビームスプリッター１１等によって構成さ
れている。この投影ユニット３１の基本的な構成は、上
述の第５実施形態や第１２の実施形態等と略同様のもの
であるので、その詳細な説明及び具体的な構成の図示は
省略する。

【０２０４】一方、露光手段２Ｌを構成する画像表示装
置４及びその上側の所定の位置に設けられる照明装置
（図示せず）と、露光される側の被加工体である基板６
は、共に固定された状態にある。そして、投影ユニット
３１は、画像表示装置４と基板６との間の空間にあっ
て、モータ等によって形成される所定の移動手段である
移動機構（図示せず）により基板６に対向する所定の平
面内を二次元的に移動するように構成されている。

【０２０５】また、画像表示装置４には、基板６の露光
すべき所定の範囲の全体を覆うように複数の液晶表示パ
ネル４ａ・４ｂ・４ｃ・…・４ｎが設けられ、これによ
り露光するべき単一の回路パターン像が常に表示される
ようになっている。その他の構成、例えば回路パターン
記憶装置７やデータ処理装置８等の電気的な構成及びそ
の作用については、上述の第５の実施形態と同様であ
る。

【０２０６】以上説明したように上記第１３の実施形態
によれば、画像計測手段を備えるように構成した場合に
も、上述の第３の実施形態と同様の構成を実現すること
ができる。よって上述の第５の実施形態と同様に画像計
測手段を備えて画像の位置補正処理を行なってより確実
な回路パターン像を投影することができると共に、上述
の第３の実施形態と同様に拡大投影光学系５及び画像計
測手段を含む投影ユニット３１の構成を簡略化すること
ができ、よってその製造工数の削減化及び製造コストの
低減化を容易に実現でき、露光装置１Ｂ自体の製造コス
トの低減化に寄与することができる。

【０２０７】

【発明の効果】以上述べたように本発明によれば、一般
的な表示サイズを有する液晶パネル等を複数用いること
で解像度を劣化させずにより広い領域の表示面積を確保
した画像表示手段を利用して、微細な回路パターンでも
充分な解像度の像を基板上に形成し、安価でかつ確実な
露光動作を確保することのできる露光装置を提供するこ
とができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の第１の実施形態の露光装置の露光装置
の概略構成図。

【図２】図１の露光装置を矢印符号Ａの方向から見た際
の図であって、複数の照明手段及び表示手段の配列を示
す図。

【図３】図１の露光装置におけるデータ処理装置の分割
信号処理を説明する図であって、回路パターンデータに
より表わされる元画像の例を示す図。

【図４】図１の露光装置におけるデータ処理装置の分割
信号処理を説明する図であって、図３の元画像を所定の
分割位置において複数の領域に分割した場合の個々の分
割領域を並べて示す図。

【図５】図１の露光装置におけるデータ処理装置の分割
信号処理を説明する図であって、画像表示装置（ＬＣ
Ｄ）の表示領域に表示させる反転画像を示す図。

【図６】図１の露光装置におけるデータ処理装置の分割
信号処理を説明する図であって、図４の反転画像に基づ
いて基板上に投影される回路パターンを示す拡大画像を
示す図。

【図７】本発明の第２の実施形態の露光装置の概略構成
図。

【図８】図７の露光装置におけるデータ処理装置による
分割処理及びフーリエ変換装置による電気的なフーリエ
変換処理の流れを説明する図であって、（ａ）は回路パ
ターン記憶装置に記憶されている回路パターンデータに
基づく元画像、（ｂ）は分割処理後の分割領域画像、
（ｃ）はフーリエ変換処理後のフーリエ変換像（パワー
スペクトル）、（ｄ）は基板上に投影される投影像のそ
れぞれを簡単に表わす図。

【図９】図７の露光装置による電気的なフーリエ変換処
理後の結果をより詳しく示す図。

【図１０】図９において任意の値ｕを取り出して示す
図。

【図１１】図７の露光装置におけるフーリエ変換装置に
よる電気的なフーリエ変換処理の流れを説明するにあた
り、画像データの一部を取り出してデータ処理の流れを
説明する図であって、（ａ）は元画像の強度分布、
（ｂ）は電界分布、（ｃ）はｘ方向に位相分布が与えら
れた位相シフトマスクをそれぞれ示す図。

【図１２】本発明の第３の実施形態の露光装置の概略構
成図。

【図１３】本発明の第４の実施形態の露光装置の概略構
成図。

【図１４】本発明の第５の実施形態の露光装置の主要部
の構成を示す要部分解斜視図。

【図１５】図１４の露光装置の概略的な構成を示し、
（ａ）は概略構成図、（ｂ）は（ａ）の矢印Ｂ方向から
基板上を見た際の投影画像の一部を示す図。

【図１６】図１４の露光装置における撮像素子のうちＣ
ＣＤによって取得された画像データにより表わされる画
像とこれに隣接するＣＣＤによって取得される画像デー
タにより表わされる画像との重複領域を示す図。

【図１７】通常のフォトレジストの特性曲線を示す図。

【図１８】本発明の第６の実施形態の露光装置の主要部
の構成を示す要部拡大斜視図。

【図１９】本発明の第７の実施形態の露光装置全体を示
す概念図。

【図２０】図１９の露光装置における画像計測手段（撮
像装置）とこの露光装置により露光がなされる基板の位
置関係を示す図。

【図２１】本発明の第８の実施形態の露光装置の主要部
を示す要部構成図。

【図２２】本発明の第９の実施形態の露光装置の主要部
を示す要部構成図。

【図２３】本発明の第１０の実施形態の露光装置の主要
部を示す要部構成図。

【図２４】図２３の露光装置に用いられるＤＭＤ（画像
表示手段）及びビームスプリッタのみを取り出して示
し、ＤＭＤの非駆動時の状態を示す図。

【図２５】図２３の露光装置に用いられるＤＭＤ（画像
表示手段）及びビームスプリッタのみを取り出して示
し、ＤＭＤの駆動時の状態を示す図。

【図２６】本発明の第１１の実施形態の露光装置の主要
部を示す要部構成図である。

【図２７】本発明の第１２の実施形態の露光装置の主要
部を示す要部斜視図。

【図２８】図２７の露光装置を側面から見た際の構成
図。

【図２９】本発明の第１３の実施形態の露光装置の主要
部を示す要部構成図。

【符号の説明】

１・１Ａ・１Ｂ・１Ｃ・１Ｄ・１Ｅ・１Ｆ・１Ｇ・１Ｈ
・１Ｊ・１Ｋ・１Ｌ・……露光装置１ｍ……基板挿脱口２・２Ａ・２Ｂ・２Ｃ・２Ｄ・２Ｅ・２Ｆ・２Ｆ・２Ｇ
・２Ｈ・２Ｊ・２Ｋ・２Ｌ……露光手段２Ｃ……露光手段ユニット３……照明装置（光源）３Ａ……コヒーレント光源（光源）３Ａａ・３Ａｂ・３Ａｃ……コヒーレント照明器（光
源）３ａ・３ｂ・３ｃ・３ｄ・３ｅ・３ｆ・３ｇ・３ｈ・３
ｉ……照明器（光源）４……画像表示装置（制御手段）４ａ・４ｂ・４ｃ・４ｄ・４ｅ・４ｆ・４ｇ・４ｈ・４
ｉ・４ｎ……液晶表示パネル（表示素子、液晶表示素
子、画像表示装置）５・５Ｂ……拡大投影光学系５ａ・５ｂ・５ｃ・…・５ｉ……レンズ６……基板６ａ……アライメントマーク７……回路パターン記憶装置８……データ処理装置（分割処理手段、位置ずれ補正手
段、受信手段）９……フーリエ変換装置９ａ・９ｂ・９ｃ……フーリエ変換器（フーリエ変換を
施す手段）１０・１０ａ・１０ｂ・１０ｃ……ビームエキスパンダ
ー１１……ビームスプリッタ１１ａ・１１ｂ・１１ｃ……プリズム１２……撮像素子（画像計測手段）１２ａ・１２ｂ・１２ｃ・１２ｄ・１２ｅ・１２ｆ・１
２ｇ・１２ｈ……ＣＣＤ（画像計測手段）１３ａ・１３ｂ・１３ｃ……ダイクロイックプリズム１４色フイルター１６……計測用照明装置１７……波長切換フイルター１７ａ・１７ｂ・……色フイルター１８……ＤＭＤ（画像表示手段、光学制御素子）１８ａ・１８ｂ・１８ｃ……ミラー部材（ＤＭＤ）１９ａ・１９ｂ・１９ｃ……光学レンズ２０……ハーフミラー２１……撮像装置（画像計測手段）２２ａ・２２ｂ・２２ｃ……偏光板２３ａ・２３ｂ・２３ｃ……反射ミラー２４ａ・２４ｂ・２４ｃ……偏光ビームスプリッタ２５ａ・２５ｂ・２５ｃ……第１のλ／４板（四分のλ
（ラムダ）板）２６ａ・２６ｂ・２６ｃ……第２のλ／４板（四分のλ
（ラムダ）板）３１……投影ユニット４１・４１ａ・４１ｂ・４１ｃ……逆フーリエ変換光学
系

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者北原俊弘東京都渋谷区幡ヶ谷２丁目43番２号オリンパス光学工業株式会社内 (72)発明者福山宏也東京都渋谷区幡ヶ谷２丁目43番２号オリンパス光学工業株式会社内 (72)発明者長崎達夫東京都渋谷区幡ヶ谷２丁目43番２号オリンパス光学工業株式会社内Ｆターム(参考） 5F046 AA11 BA03 BA08 CA03 CB09 CB12 CB18 CB23 CB25 CC01 CC02 CC15 EA02 EB01 EB02 ED01 FA03 FA10 FA14 FB08 FB09 FB10 FB13 FB20 FC06

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】一回路パターンを基板上のレジスト面
に投影して露光する露光装置において、一回路パターンを複数の領域に分割する際に隣接する領
域間で一部の領域が互いに重複するように分割する処理
手段と、複数の分割領域の一分割領域を上記基板上のレジスト面
に投影する光学系を複数備えた露光手段と、隣接する領域の互いの重複領域を上記基板上のレジスト
面上で重ね合わせながら上記露光手段により一度に複数
の分割領域を上記レジスト面に投影させることで、一回
路パターンの像を上記基板上のレジスト面に形成させる
制御手段と、を具備したことを特徴とする露光装置。
【請求項２】上記露光手段は、分割された複数の領
域を表示し得る複数の画像表示手段と、これらの複数の
画像表示手段によって表示される各分割領域画像のそれ
ぞれを上記基板上のレジスト面に拡大して結像させる複
数の拡大投影光学系と、を有して構成されていることを
特徴とする請求項１に記載の露光装置。
【請求項３】各分割領域毎に二次元的にフーリエ変
換を施す手段を、さらに具備し、上記光学系は、コヒーレントな光束を出射するコヒーレ
ント光源と、上記フーリエ変換を施す手段により変換さ
れた各分割領域に対応する各フーリエ変換像を表示しそ
の表示面に入射されるコヒーレントな光束の強度と位相
とを変調する画像表示手段と、この画像表示手段により
変調を受けたコヒーレント光を逆フーリエ変換して対応
する分割領域の像を上記基板上のレジスト面に形成する
逆フーリエ変換光学系と、を有して構成されていること
を特徴とする請求項１に記載の露光装置。
【請求項４】上記画像表示手段は、液晶表示素子
と、この液晶表示素子に光を照射する光源とからなるこ
とを特徴とする請求項２に記載の露光装置。
【請求項５】上記画像表示手段は、複数の可動な微
小反射面が行列状に配列されこの微小反射面の角度を個
々に制御可能な光学制御素子と、この光学制御素子に光
を照射する光源とからなることを特徴とする請求項２に
記載の露光装置。
【請求項６】上記画像表示手段は、液晶表示素子か
らなることを特徴とする請求項３に記載の露光装置。
【請求項７】上記画像表示手段は、複数の可動な微
小反射面が行列状に配列されこの微小反射面の角度及び
配列面と直交する方向の変位を個々に制御可能な光学制
御素子とからなることを特徴とする請求項３に記載の露
光装置。
【請求項８】上記光学制御素子は、その微小反射面
が配列されている面が上記拡大投影光学系の光軸に対し
て直交するように配置されていることを特徴とする請求
項７に記載の露光装置。
【請求項９】上記光学制御素子の微小反射面が配列
されている面に入射する照明光の入射方向が上記拡大投
影光学系の光軸に対して所定の角度を有するように設定
されていることを特徴とする請求項７に記載の露光装
置。
【請求項１０】上記露光手段は、一回の露光動作で
上記基板全体に相当する領域に一回路パターンを露光し
得る複数の上記光学系を備えていることを特徴とする請
求項２又は請求項３・４・５・６・７・８・９に記載の
露光装置。
【請求項１１】上記制御手段は、上記拡大投影光学
系又は上記逆フーリエ変換光学系を上記基板及び上記画
像表示手段に対して相対的にかつ二次元的に移動させ得
る光学系移動手段と、この光学系移動手段による相対移
動によって生じる分割領域間の上記基板上における像の
位置ずれを補正する補正手段と、をさらに具備し、上記制御手段は、上記補正手段による位置ずれの補正及
び上記光学系移動手段による上記基板上の露光位置の移
動を行ないながら複数回の露光動作を行なうことにより
一回路パターンを上記基板上に形成させることを特徴と
する請求項２又は請求項３・４・５・６・７・８・９に
記載の露光装置。
【請求項１２】上記制御手段は、上記露光手段を上
記基板に対して相対的にかつ二次元的に移動させ得る露
光ユニット移動手段と、この露光ユニット移動手段によ
る相対移動によって生じる分割領域間の上記基板上にお
ける像の位置ずれを補正する補正手段と、をさらに具備し、上記制御手段は、上記補正手段による位置ずれの補正及
び上記露光ユニット移動手段による上記基板上の露光位
置の移動を行ないながら複数回の露光動作を行なうこと
により一回路パターンを上記基板上に形成させることを
特徴とする請求項２又は請求項３・４・５・６・７・８
・９に記載の露光装置。
【請求項１３】上記基板上の画像を計測する画像計
測手段を、さらに有し、この画像計測手段による計測結果は、上記画像表示手段
へと伝送され、この画像表示手段による表示画像に反映
されるように構成されていることを特徴とする請求項１
０又は請求項１１又は請求項１２に記載の露光装置。
【請求項１４】上記画像計測手段は、上記画像表示
手段と上記基板との間の空間に配置されていることを特
徴とする請求項１３に記載の露光装置。
【請求項１５】上記画像計測手段は、画像計測用の
光学系を有してなり、この画像計測用の光学系は、露光用に設けられる上記拡
大投影光学系を兼ねていることを特徴とする請求項１４
に記載の露光装置。
【請求項１６】上記画像計測手段は、上記画像表示
手段に対向する位置であって、基板を介した位置に配置
されることを特徴とする請求項１３に記載の露光装置。
【請求項１７】上記画像計測手段は、基板上に投影
される一回路パターン像又は位置調整用の所定の像を計
測し得るようになされていることを特徴とする請求項１
４又は請求項１５又は請求項１６に記載の露光装置。
【請求項１８】上記画像計測手段は、直前の処理に
おいて基板上に作成された一回路パターン又は位置調整
用の所定のマークを計測し得るようになされていること
を特徴とする請求項１４又は請求項１５又は請求項１６
に記載の露光装置。
【請求項１９】上記画像計測手段による画像計測動
作時に照射される照明光の積算量は、フォトレジスト露
光の制御に影響を及ぼさない照射量となるように設定さ
れていることを特徴とする請求項１７又は請求項１８に
記載の露光装置。
【請求項２０】上記画像計測手段による画像計測動
作時に照射される照明光は、フォトレジストを露光しな
い波長となるように設定されていることを特徴とする請
求項１７又は請求項１８に記載の露光装置。
【請求項２１】上記一回路パターンは、電子データ
として上記処理手段に供給されることを特徴とする請求
項１に記載の露光装置。
【請求項２２】外部からの信号を受信する受信手段
をさらに有し、上記電子データは、上記受信手段を介して上記処理手段
に供給されることを特徴とする請求項２１に記載の露光
装置。
【請求項２３】上記一回路パターンを電子データと
して記憶する記憶手段をさらに有し、上記一回路パター
ンの電子データは、上記記憶手段から読み出され上記処
理手段に供給されることを特徴とする請求項１に記載の
露光装置。