JP2008089941A - マスク、露光方法及び表示素子の製造方法 - Google Patents
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Abstract
【課題】 露光装置に搭載される際に変形が生じた場合においても複数のパターン領域のそれぞれに形成される複数のパターンを基板上に良好に露光することができるようにパターンが配置されているマスクを提供する。
【解決手段】 基板に露光する第1のパターンM2,M5と第2のパターンM1,M3,M4,M6とを少なくとも含むマスクMにおいて、前記第2のパターンM1,M3,M4,M6よりも高い露光精度が要求される前記第1のパターンM2,M5を、前記マスクMの中央部近傍に配置し、前記第2のパターンM1,M3,M4,M6を前記マスクMの前記中央部よりも周辺に配置する。
【選択図】 図2
【解決手段】 基板に露光する第1のパターンM2,M5と第2のパターンM1,M3,M4,M6とを少なくとも含むマスクMにおいて、前記第2のパターンM1,M3,M4,M6よりも高い露光精度が要求される前記第1のパターンM2,M5を、前記マスクMの中央部近傍に配置し、前記第2のパターンM1,M3,M4,M6を前記マスクMの前記中央部よりも周辺に配置する。
【選択図】 図2
Description
この発明は、液晶表示素子等のフラットパネル表示素子等のマイクロデバイスをリソグラフィ工程で製造するためのマスク、該マスクを用いた露光方法、該露光方法を用いた表示素子の製造方法に関するものである。
マイクロデバイスの一つである半導体素子や液晶表示素子等を製造する場合において、マスク(レチクル、フォトマスク等)のパターンを、投影光学系を介してフォトレジスト等が塗布された大型基板(ガラスプレート、半導体ウエハ等)上に投影露光する投影露光装置が使用されている。ところで、近年、2m角を超える大型基板が用いられるようになってきており、この大型基板上にマスクのパターンが等倍にて露光されていることからマスクも大型化している。また、半導体素子や液晶表示素子等は複数の露光工程を経て製造され、複数の露光工程のそれぞれにおける露光パターンが形成されるマスクを複数準備する必要があるため、莫大なコストが必要になる。そこで、半導体素子等の複数の露光工程で用いられる複数のパターン領域を有する1つのマスクを用いて、複数の露光工程のそれぞれにおいて露光を行う技術が提案されている(例えば、特許文献1参照)。
特開2004−317975号公報
ところで、通常、マスクは露光装置を構成するマスクステージ上に載置される。上述の複数のパターン領域を有するマスクをマスクステージに載置した際にマスクに変形(たわみ)が発生した場合、露光装置を構成する照明光学系または投影光学系の光軸方向における位置がパターン領域毎に異なることとなり、各パターン領域に形成されているパターンを基板上に良好に露光することができないという問題があった。
この発明の課題は、露光装置に搭載される際に変形が生じた場合においても複数のパターン領域のそれぞれに形成される複数のパターンを基板上に良好に露光することができるようにパターンが配置されているマスク、該マスクを用いた露光方法及び該露光方法を用いた表示素子の製造方法を提供することである。
この発明のマスクは、基板(P)に露光する第1のパターン(M2,M5)と第2のパターン(M1,M3,M4,M6)とを少なくとも含むマスク(M)において、前記第2のパターン(M1,M3,M4,M6)よりも高い露光精度が要求される前記第1のパターン(M2,M5)を、前記マスク(M)の中央部近傍に配置し、前記第2のパターン(M1,M3,M4,M6)を前記マスク(M)の前記中央部よりも周辺に配置することを特徴とする。
また、この発明の露光方法は、基板(P)上における異なるレイヤに露光される第1のパターン(M2,M5)と第2のパターン(M1,M3,M4,M6)とを少なくとも含むマスクを用い、前記第1のパターン(M2,M5)及び前記第2のパターン(M1,M3,M4,M6)のそれぞれの露光は、拡大露光及びパターン合成露光の少なくとも一方を行なうことを特徴とする。
また、この発明の表示素子の製造方法は、この発明の露光方法により、所定のパターンを基板(P)上に露光する露光工程(S303)と、前記露光工程(S303)により露光された前記基板(P)を現像する現像工程(S304)とを含むことを特徴とする。
この発明のマスクによれば、この発明のマスクを露光装置に搭載した際にマスクに変形(たわみ)が生じた場合においても、第2のパターンよりも高い露光精度が要求される第1のパターンがマスクの変形の影響を受けにくいマスクの中央部近傍に配置され、第2のパターンがマスクの変形の影響を受けやすいマスクの中央部よりも周辺に配置されている。したがって、高い露光精度が要求される第1のパターン及び第1のパターンに比べれば高い露光精度が要求されない第2のパターンのそれぞれを基板上に良好に露光することができる。
また、この発明の露光方法によれば、第1のパターン及び第2のパターンを有するこの発明のマスクを用いて露光を行なうため、デバイスの製造に際して複数のレイヤに対応する複数のマスクを製造する必要がなく、マスクを製造するコストを抑えることができる。また、マスクを露光装置に搭載した際にマスクに変形(たわみ)が生じた場合においても、第1のパターン及び第2のパターンのそれぞれを基板上に良好に露光することができる。
また、この発明のデバイスの製造方法によれば、この発明の露光方法を用いて露光を行なうため、マスクを露光装置に搭載した際にマスクに変形(たわみ)が生じた場合においても、第1のパターン及び第2のパターンのそれぞれを基板上に良好に露光することができ、良好なデバイスを製造することができる。
以下、図面を参照して、この発明の実施の形態にかかる露光装置について説明する。図1は、この実施の形態にかかる露光装置の概略構成を示す斜視図である。この実施の形態にかかる露光装置は、パターンが形成されたマスクMを支持するマスクステージMST(図4参照)と、外径が500mmよりも大きい表示素子を形成するためのプレート(基板)Pを支持するプレートステージ(図示せず)と、光源1から射出した照明光をマスクM上に導く照明光学系ILと、マスクMに形成されているパターンをプレートP上に投影する投影光学系PLとを備えている。なお、外径が500mmよりも大きいとは、プレートPの一辺または対角線が500mmよりも大きいということである。
また、この実施の形態にかかる露光装置においては、投影光学系PLは複数(7つ)の投影光学ユニットPLa〜PLgを有している。投影光学ユニットPLa、PLc、PLe、PLgは、Y方向に配置されており、X方向(走査方向)の前方側に配置されている。また、投影光学ユニットPLb、PLd、PLfは、Y方向に配置されており、X方向の後方側に配置されている。また、投影光学ユニットPLa、PLc、PLe、PLgと各投影光学ユニットPLb、PLd、PLfとはX方向において対向するように千鳥状に配置されている。
即ち、この実施の形態にかかる露光装置は、複数の投影光学ユニットPLa〜PLgにより構成されている投影光学系PLに対してマスクMとプレートPとを同期移動させて走査露光する走査型露光装置であって、所謂マルチレンズスキャン型露光装置を構成している。以下の説明において、マスクM及びプレートPの同期移動方向をX軸方向(走査方向)、水平面内においてX軸方向と直交する方向をY軸方向(非走査方向)、X軸方向及びY軸方向と直交する方向をZ軸方向とする。また、X軸、Y軸、及びZ軸まわりのそれぞれの方向をθX、θY、及びθZ方向とする。
図1に示すように、この露光装置は、例えば水銀ランプ又は超高圧水銀ランプからなる光源1を備えている。光源1から射出した照明光は、ダイクロイックミラー3を介して、楕円鏡2の第2焦点位置に集光する。ダイクロイックミラー3により反射された照明光は、リレー光学系4を介して、ライトガイド5の入射端50に入射して、7つの射出端5a〜5gから射出する。射出端5aから射出した照明光は、コンデンサレンズ、オプティカルインテグレータ、コンデンサレンズ等により構成される照明光学ユニット6aを介して、マスクM上の所定の照明領域を照明する。同様に、射出端5b〜5gから射出した照明光は、コンデンサレンズ、オプティカルインテグレータ、コンデンサレンズ等により構成される照明光学ユニット6b〜6gを介して、マスクM上の所定の照明領域を照明する。
図2は、マスクMの構成を示す図である。図2に示すように、マスクMは、複数(6つ)のパターン領域M1〜M6を有している。パターン領域M1にはThin Film Transistor基板(以下、TFT基板という。)の第1レイヤに対応する露光パターン(例えばゲート電極)が形成されている。パターン領域M2にはTFT基板の第3レイヤに対応する露光パターン(例えばソース・ドレイン電極)が形成されている。パターン領域M3にはTFT基板の第2レイヤに対応する露光パターン(例えば半導体層)が形成されている。パターン領域M4にはTFT基板の第4レイヤに対応する露光パターン(例えばパッシベーション膜)が形成されている。パターン領域M5にはTFT基板の第5レイヤに対応する露光パターン(例えば画素電極)が形成されている。パターン領域M6にはカラーフィルタ基板の第1レイヤに対応する露光パターン(例えばブラックマトリックス)が形成されている。
即ち、パターン領域M6に形成されている露光パターンは、パターン領域M1〜M5に形成されている露光パターンが露光されるTFT基板とは異なるカラーフィルタ基板(第2基板)に露光される。また、TFT基板のパターン面とカラーフィルタ基板のパターン面とが互いに対向して組み合わされるようにパターン領域M6に露光パターンが形成されている。即ち、パターン領域M6に形成されている露光パターンは、パターン領域M1〜M5に形成されている露光パターンに対して反転した位置関係を有する。
TFT基板の第3レイヤに対応する露光パターン(例えばソース・ドレイン電極)及びTFT基板の第5レイヤに対応する露光パターン(例えば画素電極)は、TFT基板の第1レイヤに対応する露光パターン(例えばゲート電極)、TFT基板の第2レイヤに対応する露光パターン(例えば半導体層)、TFT基板の第4レイヤに対応する露光パターン(例えばパッシベーション膜)及びカラーフィルタ基板の第1レイヤに対応する露光パターン(例えばブラックマトリックス)よりも高い露光精度が要求されるため、マスクMの中央部近傍に位置するパターン領域M2,M5内に配置される。これに対し、TFT基板の第1レイヤに対応する露光パターン(例えばゲート電極)、TFT基板の第2レイヤに対応する露光パターン(例えば半導体層)、TFT基板の第4レイヤに対応する露光パターン(例えばパッシベーション膜)及びカラーフィルタ基板の第1レイヤに対応する露光パターン(例えばブラックマトリックス)は、マスクMの中央部よりも周辺に位置するパターン領域M1,M3,M4,M6内に配置される。
ここで、露光精度には、最小パターン線幅又は露光の際のパターンの位置精度が含まれる。即ち、TFT基板の第3レイヤに対応する露光パターン(例えばソース・ドレイン電極)及びTFT基板の第5レイヤに対応する露光パターン(例えば画素電極)は、TFT基板の第1レイヤに対応する露光パターン(例えばゲート電極)、TFT基板の第2レイヤに対応する露光パターン(例えば半導体層)、TFT基板の第4レイヤに対応する露光パターン(例えばパッシベーション膜)及びカラーフィルタ基板の第1レイヤに対応する露光パターン(例えばブラックマトリックス)よりも最小パターン線幅が細く、プレートP上に露光される際のプレート上におけるパターンに高い位置精度が要求される。
マスクM上の各パターン領域M1〜M6に配置されるパターンは、露光する際に後述するマスクステージMSTに載置されたことにより生じる変形量に基づいて決定される。即ち、マスクステージMSTに保持されることによりマスクMが変形した際に、マスクMの平面度が高い部分(平面度が所定の許容値を超えていない部分)に高い露光精度が要求されるパターンを配置し、マスクMの平面度が高くない部分(平面度が所定の許容値を超えた部分)に高い露光精度が要求されないパターンを配置する。例えば、マスクMが図3に示すように変形した場合、マスクMの平面度が高い部分(平面度が所定の許容値を超えていない部分)はマスクMの中央部近傍Aである。したがって、TFT基板の第3レイヤに対応する露光パターン(例えばソース・ドレイン)及びTFT基板の第5レイヤに対応する露光パターン(例えば画素電極)を、マスクMの中央部近傍Aに配置する。
図4は、マスクMを載置するマスクステージMSTの構成を示す図である。図4に示すように、この露光装置は、非走査方向(Y方向)に長手方向を有する第1減光部材9a、及びマスクステージMSTの−Y方向側にX方向に延びたガイド部10aを備えている。ガイド部10aは、照明光学系ILとマスクMとの間に配置されX方向に移動する第1減光部材9aを案内するものである。
また、この露光装置は、走査方向(X方向)に長手方向を有する第2減光部材9b、及びマスクステージMSTの−X方向側にY方向に延びたガイド部10bを備えている。ガイド部10bは、照明光学系ILとマスクMとの間に配置されY方向に移動する第2減光部材9bを案内するものである。
第1減光部材9a及び第2減光部材9bは、マスクMのパターン面に対して所定距離離れた位置に配置されており、マスクM上に形成されているパターン領域の一部に照明光の光量が連続的に減少する減光部を形成する。第1減光部材9aはマスクMのパターン上にY方向(走査方向と交差する方向)に延びる減光部を形成し、第2減光部材9bはマスクMのパターン上にX方向(走査方向)に延びる減光部を形成する。走査露光時には、第1減光部材9a及び第2減光部材9bをマスクステージMSTに対して相対的に静止させる。
マスクステージMSTは、走査方向であるX方向への長いストロークと、走査方向と直交するY方向への微小量のストロークとを有している。マスクステージMSTのXY平面内における位置を計測するための図示しないマスク用レーザ干渉計が設けられており、マスク用レーザ干渉計はマスクステージMSTの位置をリアルタイムに計測及び制御する。
照明光学ユニット6aを通過した照明光は、マスクMの所定の照明領域を照明し、投影光学ユニットPLaに入射する。同様に、照明光学ユニット6b〜6gのそれぞれを通過した照明光は、マスクMの所定の照明領域を照明し、投影光学ユニットPLb〜PLgにそれぞれ入射する。投影光学ユニットPLa〜PLgは、マスクMに形成されているパターンの一部をそれぞれ個別の複数の像としてプレートP上に投影する。
投影光学ユニットPLa〜PLgのそれぞれは、マスクMのパターンの中間像を形成する1組目の反射屈折型光学系、中間像が形成される位置に配置される視野絞り、プレートP上にパターン像を形成する2組目の反射屈折型光学系、例えば2枚の平行平面ガラス板等からなるシフト調整機構、例えば直角プリズム等からなるローテーション調整機構、例えば一対のくさび型光学部材等からなる像面調整機構、レンズ等からなるスケーリング調整機構等を備えている。シフト調整機構は、プレートP上に形成されるマスクMのパターン像をX方向及びY方向の少なくとも一方にシフトさせる。また、ローテーション調整機構は、プレートP上に形成されるマスクMのパターンの像をZ軸まわりに回転させる。また、像面調整機構は、投影光学ユニットPLa〜PLgのそれぞれの結像位置及び像面の傾斜を調整する。また、スケーリング調整機構は、プレートP上に形成されるマスクMのパターンの像の倍率(スケーリング)を調整する。
プレートPは図示しないプレートステージに載置されている。プレートステージは、走査方向であるX方向への長いストロークと、走査方向と直交するY方向にステップ移動するための長いストロークとを有している。また、プレートステージは、Z方向、θX、θY、θZ方向に微小量移動可能に構成されている。投影光学系PLに対するプレートステージのXY平面内における位置を計測するための図示しないプレート用レーザ干渉計が設けられており、プレート用レーザ干渉計はプレートステージの位置をリアルタイムに計測及び制御する。なお、プレート用レーザ干渉計は、プレートステージの−X側の端縁にY方向に延びるX移動鏡12、プレートステージの−Y側の端縁にX方向に延びるY移動鏡13を用いて、プレートステージの位置を計測する。
また、投影光学系PLとプレートPとの間にはマスクMに形成されているパターンをプレートP上に転写する際に不必要な照明光を遮光する2つの遮光部材9cが配置されている。2つの遮光部材9cはY方向に移動可能に構成されており、2つの遮光部材9cをY方向に移動させることにより投影光学モジュールPLa〜PLgの少なくとも1つを介した照明光をプレートP上に到達させないために遮光する。
また、−X側の投影光学モジュールPLa、PLc、PLe、PLgと、+X側の投影光学モジュールPLb、PLd、PLfとの間には、マスクMのパターン面及びプレートPの被露光面のZ軸方向における位置を検出するオートフォーカス検出系15が設けられている。
次に、図5に示すフローチャートを参照して、この実施の形態にかかる露光装置を用いた露光方法について説明する。なお、以下においては、マスクMのパターン領域M1に形成されているパターンを、プレートP上において画面合成する第1領域I1(図6参照)、第2領域I2(図7参照)、第3領域I3(図8参照)及び第4領域I4(図9参照)に分割し、プレートP上において画面合成される第1領域I1〜第4領域I4の共通領域(継ぎ部)に減光部材により減光部を形成することにより、第1領域I1〜第4領域I4を画面合成してプレートP上に転写露光する露光方法について説明する。
まず、パターン領域M1の第1領域I1(図6参照)をプレートP上に転写露光するための準備を行なう。図6は、マスクMの第1領域I1を示す図である。第1領域I1は、後述する第2領域I2(図7参照)との共通領域I12、後述する第3領域I3(図8参照)との共通領域I13を有している。Y方向に延びた共通領域I12は第1領域I1と第2領域I2とに形成されているパターンがプレートP上に転写露光される際に継ぎ部となる領域であり、共通領域I12と後述する第2領域I2の共通領域I21(図7参照)とに形成されているパターンはプレートP上に重ね合わせて転写露光される。同様に、X方向に延びた共通領域I13は第1領域I1と第3領域I3とに形成されているパターンがプレートP上に転写露光される際に継ぎ部となる領域であり、共通領域I13と後述する第3領域I3の共通領域I31(図8参照)とに形成されているパターンはプレートP上に重ね合わせて転写露光される。
まず、第1領域I1に形成されているパターンをプレートP上に転写露光するために、図6に示すように、第1減光部材9aをY方向に延びた共通領域I12の−X方向側の半分が遮光される位置に配置し、第2減光部材9bをX方向に延びた共通領域I13の+Y方向側の半分が遮光される位置に配置する。また、第1領域I1、第2領域I2及び第3領域I3に形成されているパターンが順次走査露光された際に、共通領域I12,I13における積算光量が、共通領域I12,I13以外の領域における光量と略同じになるように、第1減光部材9a及び第2減光部材9bを、マスクMのパターン面に対してデフォーカスさせた位置、即ち所定距離離れた位置に配置する。
更に、第1領域I1に形成されているパターンをプレートP上に転写露光するために、第1領域I1以外の領域を照明する照明光をプレートP上に到達させないように遮光する。例えば照明光学ユニット6a〜6dを通過する照明光及び照明光学ユニット6eを通過する一部の照明光により第1領域I1を照明している場合、照明光学ユニット6f,6g内の図示しない開閉シャッタを閉じて照明光学ユニット6f,6gを通過する照明光を遮光する。また、照明光学ユニット6eを通過する照明光のうち第1領域I1を照明していない照明光を遮光するために、投影光学ユニットPLeを通過する照明光のうち第1領域I1を照明していない照明光を遮光する位置に遮光部材9cをY方向に移動させて配置する(ステップS10)。
次に、第1減光部材9a及び第2減光部材9bをマスクステージMSTに対して相対的に静止させて、マスクステージMST及びプレートステージを照明光学系IL及び投影光学系PLに対して相対的に走査移動させることにより、第1領域I1に形成されているパターンをプレートP上に転写露光する(ステップS11)。
次に、パターン領域M1の第2領域I2(図7参照)に形成されているパターンをプレートP上に転写露光するための準備を行なう。図7は、マスクMの第2領域I2を示す図である。第2領域I2は、第1領域I1との共通領域I21、第4領域I4(図9参照)との共通領域I24を有している。Y方向に延びた共通領域I21は第1領域I1と第2領域I2とに形成されているパターンがプレートP上に転写露光される際に継ぎ部となる領域であり、共通領域I21と第1領域I1の共通領域I12とに形成されているパターンはプレートP上に重ね合わせて転写露光される。同様に、X方向に延びた共通領域I24は第2領域I2と第4領域I4とに形成されているパターンがプレートP上に転写露光される際に継ぎ部となる領域であり、共通領域I24と後述する第4パターン領域I4の共通領域I42(図9参照)とに形成されているパターンはプレートP上に重ね合わせて転写露光される。
まず、第2領域I2に形成されているパターンをプレートP上に転写露光するために、図7に示すように、第1減光部材9aをY方向に延びた共通領域I21の+X方向側の半分が遮光される位置に配置し、第2減光部材9bをX方向に延びた共通領域I24の+Y方向側の半分が遮光される位置に配置する。また、走査露光された際に、共通領域I21,I24における積算光量が、共通領域I21,I24以外の領域における光量と略同じになるように、第1減光部材9a及び第2減光部材9bを、マスクMのパターン面に対してデフォーカスさせた位置、即ち所定距離離れた位置に配置する。
更に、第2領域I2に形成されているパターンをプレートP上に転写露光するために、第2領域I2以外の領域を照明する照明光をプレートP上に到達させないように遮光する(ステップS12)。具体的な遮光のための動作は、ステップS10の動作と同一であるため、詳細な説明は省略する。
次に、マスクステージMSTを所定の位置、即ち、第2領域I2に形成されているパターンをプレートP上に走査露光するための走査開始位置に移動させて、第2領域I2に形成されているパターンをプレートP上に転写露光する(ステップS13)。具体的な転写露光のための動作は、ステップS11の動作と同一であるため、詳細な説明は省略する。
次に、パターン領域M1の第3領域I3(図8参照)に形成されているパターンをプレートP上に転写露光するための準備を行なう。図8は、マスクMの第3領域I3を示す図である。第3領域I3は、第1領域I1との共通領域I31、第4領域I4(図9参照)との共通領域I34を有している。X方向に延びた共通領域I31は第1領域I1と第3領域I3とに形成されているパターンがプレートP上に転写露光される際に継ぎ部となる領域であり、共通領域I31と第1領域I1の共通領域I13とに形成されているパターンはプレートP上に重ね合わせて転写露光される。同様に、Y方向に延びた共通領域I34は第3領域I3と第4領域I4とに形成されているパターンがプレートP上に転写露光される際に継ぎ部となる領域であり、共通領域I34と後述する第4領域I4の共通領域I43(図9参照)とに形成されているパターンはプレートP上に重ね合わせて転写露光される。
まず、第3領域I3に形成されているパターンをプレートP上に転写露光するために、図8に示すように、第1減光部材9aをY方向に延びた共通領域I34の−X方向側の半分が遮光される位置に配置し、第2減光部材9bをX方向に延びた共通領域I31の−Y方向側の半分が遮光される位置に配置する。また、走査露光された際に、共通領域I31,I34における積算光量が、共通領域I31,I34以外の領域における光量と略同じになるように、第1減光部材9a及び第2減光部材9bをマスクMのパターン面に対してデフォーカスさせた位置、即ち所定距離離れた位置に配置する。
更に、第3領域I3に形成されているパターンをプレートP上に転写露光するために、第3領域I3以外の領域を照明する照明光をプレートP上に到達させないように遮光する(ステップS14)。具体的な遮光のための動作は、ステップS10の動作と同一であるため、詳細な説明は省略する。
次に、マスクステージMST及びプレートステージを所定の位置、即ち、第3領域I3に形成されているパターンをプレートP上に走査露光するための走査開始位置に移動させて、マスクMの第3領域I3に形成されているパターンをプレートP上に転写露光する(ステップS15)。具体的な転写露光のための動作は、ステップS11の動作と同一であるため、詳細な説明は省略する。
次に、パターン領域M1の第4領域I4(図9参照)に形成されているパターンをプレートP上に転写露光するための準備を行なう。図9は、マスクMの第4領域I4を示す図である。第4領域I4は、第2領域I2との共通領域I42、第3領域I3との共通領域I43を有している。X方向に延びた共通領域I42は第2領域I2と第4領域I4とに形成されているパターンがプレートP上に転写露光される際に継ぎ部となる領域であり、共通領域I42と第2領域I2の共通領域I24とに形成されているパターンはプレートP上に重ね合わせて転写露光される。同様に、Y方向に延びた共通領域I43は第3領域I3と第4領域I4とに形成されているパターンがプレートP上に転写露光される際に継ぎ部となる領域であり、共通領域I43と第3領域I3の共通領域I34とに形成されているパターンはプレートP上に重ね合わせて転写露光される。
まず、第4領域I4に形成されているパターンをプレートP上に転写露光するために、図9に示すように、第1減光部材9aをY方向に延びた共通領域I43の+X方向側の半分が遮光される位置に配置し、第2減光部材9bをX方向に延びた共通領域I42の−Y方向側の半分が遮光される位置に配置する。また、走査露光された際に、共通領域I42,I43における積算光量が、共通領域I42,I43以外の領域における光量と略同じになるように、第1減光部材9a及び第2減光部材9bをマスクMのパターン面に対してデフォーカスさせた位置、即ち所定距離離れた位置に配置する。
更に、第4領域I4に形成されているパターンをプレートP上に転写露光するために、第4領域I4以外の領域を照明する照明光をプレートP上に到達させないように遮光する(ステップS16)。具体的な遮光のための動作は、ステップS10の動作と同一であるため、詳細な説明は省略する。
次に、マスクステージMSTを所定の位置、即ち、第4領域I4に形成されているパターンをプレートP上に走査露光するための走査開始位置に移動させて、第4領域I4に形成されているパターンをプレートP上に転写露光する(ステップS17)。具体的な転写露光のための動作は、ステップS11の動作と同一であるため、詳細な説明は省略する。
図10は、ステップS14,S17,S20,S23において第1領域I1〜第4領域I4に形成されているパターンが走査露光された際のプレートPの状態を示す図である。露光領域R1に第1領域I1に形成されているパターンが転写露光され、露光領域R2に第2領域I2に形成されているパターンが転写露光され、露光領域R3に第3領域I3に形成されているパターンが転写露光され、露光領域R4に第4領域I4に形成されているパターンが転写露光されている。このように、画面合成してプレートP上に転写露光することができるため、プレートのサイズに対してマスクのサイズを小さくすることができる。また、第1領域I1〜第4領域I4の大きさを自由に設定することができるため、様々なサイズのプレートに合わせて画面合成(パターン合成)して転写露光を行うことができる。
なお、パターン領域M1に形成されている第1レイヤに対応するパターンの露光と同様に、パターン領域M2〜M5に形成されている第2レイヤ〜第5レイヤに対応するパターン、及びパターン領域M6に形成されている第1レイヤに対応するパターンの露光が行なわれる。この際、照明光の波長及び強度の少なくとも一方を切り替える切替手段を照明光学系IL内に配置し、転写前に切替手段を用いてプレートP上に転写されるパターンに対応した照明光の波長及び強度の少なくとも一方を切り替えるとよい。この場合には、各パターンに適した波長または強度を有する照明光によりパターンを照明することができ、良好な転写露光を行なうことができる。
この実施の形態にかかるマスクによれば、露光装置に搭載した際にマスクに変形(たわみ)が生じた場合においても、高い露光精度が要求されるパターンがマスクの変形の影響を受けにくいマスクの中央部近傍に配置され、高い露光精度が要求されないパターンがマスクの変形の影響を受けやすいマスクの中央部よりも周辺に配置されている。したがって、高い露光精度が要求されるパターン及び高い露光精度が要求されないパターンのそれぞれをプレート上に良好に露光することができる。
また、この実施の形態にかかる露光方法によれば、各レイヤに対応したパターンを有するこの発明のマスクを用いて露光を行なうため、デバイスの各レイヤ毎にマスクを製造する必要がなく、マスクを製造するコストを抑えることができる。また、マスクを露光装置に搭載した際にマスクに変形(たわみ)が生じた場合においても、各レイヤに対応するパターンのそれぞれをプレート上に良好に露光することができる。
なお、この実施の形態にかかるマスクにおいては、パターン領域M1〜M6の大きさが同一である例を示しているが、例えば他のパターンと比較して多くの露光量を必要とするパターンが形成されるパターン領域においては他のパターンが形成されるパターン領域よりも大きいパターン領域を有するようにしてもよい。図11は、他のマスクM´の構成を示す図である。図11に示すように、マスクM´は、4つの同一の大きさのパターン領域M11〜M14、及びパターン領域M11〜M14の約2倍の大きさのパターン領域M15を有している。パターン領域M11にはTFT基板の第1レイヤに対応する露光パターン(例えばゲート)が形成されている。パターン領域M12にはTFT基板の第2レイヤに対応する露光パターン(例えばソースドレイン及び半導体)が形成されている。パターン領域M13にはTFT基板の第3レイヤに対応する露光パターン(例えばパッシベーション)が形成されている。パターン領域M14にはTFT基板の第4レイヤに対応する露光パターン(例えば画素電極)が形成されている。パターン領域M15にはカラーフィルタ基板の第1レイヤに対応する露光パターン(例えばブラックマトリックス)が形成されている。
カラーフィルタ基板の第1レイヤに対応する露光パターン(例えばブラックマトリックス)は、他の露光パターンと比較して多くの露光量を必要とするため、他のパターン領域と同一の大きさのパターン領域内に形成した場合、他のパターンの露光処理時間と比較して長い露光処理時間を要する。そこで、パターン領域を他のパターン領域と比較して大きくして露光領域を拡げることにより、実質的な露光処理時間を短縮する。
また、この実施の形態にかかるマスクにおいては、TFT基板上に露光する露光パターンとカラーフィルタ基板上に露光する露光パターンとが形成されているが、TFT基板上に露光する露光パターンのみを形成してもよく、カラーフィルタ基板上に露光する露光パターン(例えば、ブラックマトリックス、カラーフィルタ(R,G,B))のみを形成してもよい。
なお、図11に示すような実施の形態として、約2倍の大きさのパターン領域に設定するパターンの例として、他の4つの同一の大きさのパターン領域のものに比べて、継ぎ精度が厳しいため1回の露光もしくは継ぎ回数を少なくするパターンの場合においても有効となる。この場合、パターン領域M15に対して、他の4つの同一の大きさのパターン領域を複数回の継ぎ合わせする継ぎ合わせ露光を行うことにより、所望の画面サイズのパターンの露光を行うことができる。なおこの際には、約2倍の大きさのパターン領域M15をマスクの中央部に配置することが好ましい。また、パターン領域M15に比べ、他の4つの同一の大きさのパターン領域M11〜M14は、領域毎に個別に調整することが可能となるので、別レイヤとの重ね合わせなどの調整を容易に行うことが可能であったり、下層レイヤの部分的な変形に対しても良好な重ね合わせ露光を行うことが可能となる。
本発明の実施の形態においては、多様なサイズのフラットパネル製造用のマスクとして利用することが可能となり、デバイス製造を精度よく、さらに効率よく行うことが可能となる。
また、この実施の形態においては、照明光学系ILとマスクMとの間に第1減光部材9aを配置しているが、照明光学系IL内のマスクMのパターン面と光学的に共役な位置から所定距離離れた位置に第1減光部材9aを配置するようにしてもよい。
また、この実施の形態においては、照明光学系ILとマスクMとの間に第2減光部材9bを配置しているが、例えば図12に示すように、投影光学ユニットPLa及びPLg内の中間像20a及び20gが形成される位置の近傍に2つの第2減光部材9b´を備えるようにしてもよい。なお、図12に示す20b〜20fは投影光学ユニットPLb〜PLf内に形成される中間像を示している。
また、この実施の形態においては、第1領域I1〜第4領域I4に形成されているパターンを順次走査露光しているが、多面取りのプレートに露光する際には、最初にプレート上の各領域に第1領域I1に形成されているパターンを繰り返し走査露光し、次に、各面に第2領域I2〜第4領域I4のそれぞれに形成されているパターンを繰り返し走査露光するようにしてもよい。即ち、高いスループットを得ることができる方法で各パターンの露光を行うのが望ましい。
また、この実施の形態においては、所謂マルチレンズスキャン型露光装置を例に挙げて説明したが、1つの投影光学系により露光を行う走査型露光装置にも本発明を適用することができる。また、この実施の形態においては、スキャン露光を行うステップ・アンド・スキャン方式の露光装置を例に挙げて説明したが、一括露光を行うステップ・アンド・リピート方式の露光装置にも本発明を適用することができる。
また、露光装置の用途としては角型のガラスプレートに液晶表示素子パターンを露光する液晶用の露光装置に限定されることなく、例えば、半導体製造用の露光装置や薄膜磁気ヘッドを製造するための露光装置にも広く適用できる。
また、投影光学系PLの倍率は等倍系、縮小系及び拡大系のいずれでもよい。投影光学系PLとしては、エキシマレーザなどの遠紫外線を用いる場合は硝材として石英や蛍石などの遠紫外線を透過する材料を用い、F2レーザを用いる場合は反射屈折系または屈折系の光学系にする。
また、拡大系の倍率を有する投影光学系PLを用いて、各パターン領域に形成されているパターンのそれぞれを拡大露光してもよい。この場合においては、プレートP上にパターンが拡大して露光されるため、プレートのサイズに対してマスクのサイズを小さくすることができる。また、拡大系の倍率を有する投影光学系PLを用いて、各パターン領域に形成されているパターンを拡大露光しつつ、画面合成露光(パターン合成露光)してもよい。この場合においても、プレートP上にパターンを拡大し、かつ画面合成して転写露光することができるため、プレートのサイズに対してマスクのサイズを小さくすることができる。
上述の実施の形態にかかる走査型投影露光装置では、投影光学系を用いてレチクル(マスク)により形成された転写用のパターンを感光性基板(プレート)に露光する(露光工程)ことにより、マイクロデバイス(半導体素子、撮像素子、液晶表示素子、薄膜磁気ヘッド等)を製造することができる。以下、上述の実施の形態にかかる走査型投影露光装置を用いて感光性基板としてのプレート等に所定の回路パターンを形成することによって、マイクロデバイスとしての半導体デバイスを得る際の手法の一例につき図13のフローチャートを参照して説明する。
先ず、図13のステップS301において、1ロットのプレート上に金属膜が蒸着される。次のステップS302において、1ロットのプレート上の金属膜上にフォトレジストが塗布される。その後、ステップS303において、上述の実施の形態にかかる露光装置を用いて、マスクのパターンの像が投影光学系を介して、その1ロットのプレート上の各ショット領域に順次露光転写される。その後、ステップS304において、1ロットのプレート上のフォトレジストの現像が行われた後、ステップS305において、その1ロットのプレート上でレジストパターンをマスクとしてエッチングを行うことによって、マスクのパターンに対応する回路パターンが、各プレート上の各ショット領域に形成される。
その後、更に上のレイヤの回路パターンの形成等を行ない、プレートから複数のデバイスに切断され、半導体素子等のデバイスが製造される。上述の半導体デバイス製造方法によれば、上述の実施の形態にかかる露光装置を用いて露光を行なっているため、マスクのコストを抑えつつ各レイヤに対応するパターンを良好に露光することができ、良好な半導体デバイスを得ることができる。なお、ステップS301〜ステップS305では、プレート上に金属を蒸着し、その金属膜上にレジストを塗布、そして露光、現像、エッチングの各工程を行っているが、これらの工程に先立って、プレート上にシリコンの酸化膜を形成後、そのシリコンの酸化膜上にレジストを塗布、そして露光、現像、エッチング等の各工程を行っても良いことはいうまでもない。
また、上述の実施の形態にかかる露光装置では、プレート(ガラス基板)上に所定のパターン(回路パターン、電極パターン等)を形成することによって、マイクロデバイスとしての液晶表示素子を得ることもできる。以下、図14のフローチャートを参照して、このときの手法の一例につき説明する。まず、図14において、パターン形成工程S401では、上述の実施の形態にかかる露光装置を用いてマスクのパターンを感光性基板(レジストが塗布されたガラス基板等)に転写露光する、所謂光リソグラフィ工程が実行される。この光リソグラフィ工程によって、感光性基板上には多数の電極等を含む所定パターンが形成される。その後、露光された基板は、現像工程、エッチング工程、レジスト剥離工程等の各工程を経ることによって、基板上に所定のパターンが形成され、次のカラーフィルタ形成工程S402へ移行する。
次に、カラーフィルタ形成工程S402では、R(Red)、G(Green)、B(Blue)に対応した3つのドットの組がマトリックス状に多数配列されたり、またはR、G、Bの3本のストライプのフィルタの組を複数水平走査線方向に配列されたりしたカラーフィルタを形成する。そして、カラーフィルタ形成工程S402の後に、セル組み立て工程S403が実行される。セル組み立て工程S403では、パターン形成工程S401にて得られた所定パターンを有する基板、およびカラーフィルタ形成工程S402にて得られたカラーフィルタ等を用いて液晶パネル(液晶セル)を組み立てる。セル組み立て工程S403では、例えば、パターン形成工程S401にて得られた所定パターンを有する基板とカラーフィルタ形成工程S402にて得られたカラーフィルタとの間に液晶を注入して、液晶パネル(液晶セル)を製造する。
その後、モジュール組み立て工程S404にて、組み立てられた液晶パネル(液晶セル)の表示動作を行わせる電気回路、バックライト等の各部品を取り付けて液晶表示素子として完成させる。上述の液晶表示素子の製造方法によれば、上述の実施の形態にかかる露光装置を用いて露光を行なっているため、各レイヤに対応するパターンを良好に露光することができ、良好な液晶表示素子を得ることができる。
1…光源、2…楕円鏡、3…ダイクロイックミラー、4…リレー光学系、5…ライトガイド、6a〜6g…照明光学ユニット、9a…第1減光部材、9b…第2減光部材、9c…遮光部材、10a,10b…ガイド部、15…オートフォーカス検出系、IL…照明光学系、PL…投影光学系、PLa〜PLg…投影光学ユニット、M…マスク、MST…マスクステージ、P…プレート。
Claims (18)
- 基板に露光する第1のパターンと第2のパターンとを少なくとも含むマスクにおいて、
前記第2のパターンよりも高い露光精度が要求される前記第1のパターンを、前記マスクの中央部近傍に配置し、
前記第2のパターンを前記マスクの前記中央部よりも周辺に配置することを特徴とするマスク。 - 前記第1のパターンは、前記第2のパターンよりも最小パターン線幅が狭いことを特徴とする請求項1記載のマスク。
- 前記第1のパターンは、前記第2のパターンよりも高いパターン位置精度が要求されることを特徴とする請求項1または請求項2記載のマスク。
- 前記第1のパターンと前記第2のパターンとは、前記基板上における異なるレイヤに対応するパターンであることを特徴とする請求項1乃至請求項3の何れか一項に記載のマスク。
- 前記基板は、表示素子用の基板であり、
前記第1のパターンは、前記表示素子の画素パターンを含むことを特徴とする請求項1乃至請求項4の何れか一項に記載のマスク。 - 前記基板は、表示素子用の基板であり、
前記第2のパターンは、前記表示素子のカラーフィルタのパターン及びブラックマトリックスのパターンの少なくとも一方であることを特徴とする請求項1乃至請求項5の何れか一項に記載のマスク。 - 前記第1のパターンまたは前記第2のパターンを露光する際に、前記マスクを保持することによって生じる前記マスクの変形に基づいて、前記第1のパターン及び前記第2のパターンを配置することを特徴とする請求項1乃至請求項6の何れか一項に記載のマスク。
- 基板上における異なるレイヤに露光される第1のパターンと第2のパターンとを少なくとも含むマスクを用い、
前記第1のパターン及び前記第2のパターンのそれぞれの露光は、拡大露光及びパターン合成露光の少なくとも一方を行なうことを特徴とする露光方法。 - 前記第2のパターンよりも高い露光精度を要求される前記第1のパターンを前記マスクの中央部近傍に配置し、前記第2のパターンを前記マスクの前記中央部よりも周辺に配置することを特用とする請求項8記載の露光方法。
- 前記露光精度は、前記第1のパターンのパターン及び前記第2のパターンの最小パターン線幅または露光の際のパターンの位置精度を含むことを特徴とする請求項9記載の露光方法。
- 前記第1のパターンまたは前記第2のパターンを露光する際に、前記マスクを保持することによって生じる前記マスクの変形に基づいて、前記第1のパターン及び前記第2のパターンを配置することを特徴とする請求項8乃至請求項10の何れか一項に記載の露光方法。
- 前記基板は、表示素子を形成するための基板であり、
前記第1のパターンは、前記表示素子の画素パターンを含むことを特徴とする請求項8乃至請求項11の何れか一項に記載の露光方法。 - 前記マスクは、前記基板とは異なる第2基板に露光される第3のパターンを有し、
前記基板のパターン面と前記第2基板のパターン面とが互いに対向して組み合わされるように前記第3のパターンが形成されることを特徴とする請求項8乃至請求項12の何れか一項に記載の露光方法。 - 前記基板は、表示素子を形成するための基板であり、
前記第2のパターンは、表示素子のカラーフィルタのパターン及びブラックマトリックスのパターンの少なくとも一方であることを特徴とする請求項8乃至請求項13の何れか一項に記載の露光方法。 - 前記基板は、表示素子を形成するための基板であり、
前記第3のパターンは、表示素子のカラーフィルタのパターン及びブラックマトリックスのパターンの少なくとも一方であることを特徴とする請求項8乃至請求項13の何れか一項に記載の露光方法。 - 前記第1のパターン及び前記第2のパターンの少なくとも一方のパターンは、前記基板上に複数の投影光学系を介して投影露光されることを特徴とする請求項8乃至請求項15の何れか一項に記載の露光方法。
- 前記基板は、外径が500mmよりも大きい感光基板であることを特徴とする請求項8乃至請求項16の何れか一項に記載の露光方法。
- 請求項8乃至請求項17の何れか一項に記載の露光方法により、所定のパターンを基板上に露光する露光工程と、
前記露光工程により露光された前記基板を現像する現像工程と、
を含むことを特徴とする表示素子の製造方法。
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JP2006270253A JP2008089941A (ja) | 2006-10-02 | 2006-10-02 | マスク、露光方法及び表示素子の製造方法 |
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JP2019117403A (ja) * | 2019-03-22 | 2019-07-18 | 株式会社ニコン | 露光装置、並びにディスプレイ及びデバイスの製造方法 |
JP2019117404A (ja) * | 2019-03-22 | 2019-07-18 | 株式会社ニコン | 露光装置、並びにディスプレイ及びデバイスの製造方法 |
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2006
- 2006-10-02 JP JP2006270253A patent/JP2008089941A/ja active Pending
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