JP2000058422A

JP2000058422A - 露光装置

Info

Publication number: JP2000058422A
Application number: JP10227411A
Authority: JP
Inventors: Manabu Toguchi; 学戸口
Original assignee: Nikon Corp
Current assignee: Nikon Corp
Priority date: 1998-08-11
Filing date: 1998-08-11
Publication date: 2000-02-25

Abstract

(57)【要約】【課題】マスクの端側に描画されたパターンを基板に
露光することができる小型の露光装置を提供する。【解決手段】並列する複数の光路に対しマスクと感光
基板３とが同期移動して各光路からの露光光によりマス
クの像を感光基板３上の転写領域Ｐ１〜Ｐ５に投影す
る。各光路毎に、前記露光光の投影面積を変更して転写
領域Ｐ１〜Ｐ５を可変的に設定する転写領域設定部１７
を配設する。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、回路パターンを露
光して半導体素子や液晶表示基板を製造する露光装置に
関し、特に、マスクと感光基板とが同期移動してマスク
の像を感光基板上の転写領域に投影する走査型の露光装
置に関するものである。

【０００２】

【従来の技術】近年、パソコンやテレビ等の表示素子と
しては、薄型化を可能とする液晶表示基板が多用される
ようになっている。この種の液晶表示基板は、平面視矩
形状のガラスプレート上に透明薄膜電極をフォトリソグ
ラフィの手法で所望の形状にパターニングすることによ
り製造されている。そして、このフォトリソグラフィの
装置として、マスク上に形成された露光パターンを投影
光学系を介してガラスプレート上のフォトレジスト層に
露光する投影露光装置が用いられている。

【０００３】ところで、上記の液晶表示基板は、画面の
見やすさから大面積化が進んでおり、最近では５００ｍ
ｍ×５００ｍｍ程度のものが要求されている。一方、生
産性向上を目的として、図１１（ａ）に示すように、マ
スク１上に形成された描画パターン２を、図１１（ｂ）
に示すように、ガラスプレート（感光基板）３上の複数
の露光領域４…４に投影することにより、一枚のガラス
プレート３からより多くの液晶表示基板を得る、いわゆ
る多面取りを行うことも求められている。

【０００４】これらの要請に応える投影露光装置として
は、ステッパ方式や走査型の露光装置が多く用いられて
いる。ステッパ方式の露光装置、いわゆるステッパー
は、ガラスプレート３をステップ・アンド・リピート方
式で移動させることによりガラスプレート３の複数の露
光領域４…４に順次パターンを投影転写するものであ
る。走査型の露光装置は、マスク１とガラスプレート３
とを同期移動して、投影光学系に対して走査することに
よって、マスク１の描画パターン２の全面がガラスプレ
ート３上の露光領域４に順次転写されるものである。

【０００５】ステッパーにおいては、レチクル（マス
ク）上に描画した分割パターンを画面合成することによ
り上記ガラスプレートの大型化に対応している。また、
ステッパーでは、レチクル上に描画された任意のパター
ンをブラインド機構により所望の開口にし、基板ステー
ジのストローク内であれば任意の位置にパターンを転写
することができ、これによりガラスプレートの多面取り
に対応している。

【０００６】一方、走査型の露光装置では、マスクの大
型化および投影光学系の大型化によって上記ガラスプレ
ートの大型化に対応している。また、この走査型の露光
装置では、走査露光を複数回行う、いわゆるステップ・
アンド・スキャンによってガラスプレートの多面取りに
対応している。

【０００７】ところで、上記のようにマスク上に形成さ
れた露光パターンをガラスプレートに露光する際には、
図４に示すように、描画パターン２として、ＬＣＤ（Ｌ
ｉｑｕｉｄＣｒｙｓｔａｌＤｉｓｐｌａｙ）パター
ン５と、該ＬＣＤパターン５の両側に帯状のマーク６
ａ、６ｂとが形成されたマスク１が用いられる。マーク
６ａ、６ｂは、例えば、露光後に用いられるアライメン
トマークのように、後工程で必要とされる指標としてガ
ラスプレート３に転写されるものである。

【０００８】これらのマーク６ａ、６ｂをガラスプレー
ト３に露光する場合には、ブラインド機構により露光ス
リットの開口を小さくすることにより、基板ステージの
ストローク範囲内であれば任意の位置にパターンを転写
することができる。

【０００９】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上述し
たような従来の露光装置には、以下のような問題が存在
する。走査型の露光装置においては、マスク１上に描画
された上記ＬＣＤパターン５やマーク６ａ、６ｂをガラ
スプレート３等の基板上に露光する場合、照明光学系に
設けられて露光光を遮蔽するメインシャッタと露光のた
めの開口（露光スリット）を変えるブラインド機構とが
用いられている。

【００１０】ところが、マスク１の端側に描画されたマ
ーク６ａ、６ｂ等のパターンを基板上の任意の位置に露
光するためには、露光のための開口全域を遮光できるだ
けの大きな羽根（ブラインド）が二枚以上必要になるだ
けでなく、この大きな羽根の駆動を制御するための機構
が複雑、且つ大きなものなってしまうという問題点があ
った。

【００１１】本発明は、以上のような点を考慮してなさ
れたもので、マスクの端側に描画されたパターンを基板
に露光することができる小型の露光装置を提供すること
を目的とする。

【００１２】

【課題を解決するための手段】上記の目的を達成するた
めに本発明は、実施の形態を示す図１ないし図１０に対
応付けした以下の構成を採用している。本発明の露光装
置は、並列する複数の光路に対しマスク（１）と感光基
板（３）とが同期移動して各光路からの露光光によりマ
スク（１）の像を感光基板（３）上の転写領域（Ｐ１〜
Ｐ５）に投影する露光装置（７）において、各光路毎
に、前記露光光の投影面積を変更して転写領域（Ｐ１〜
Ｐ５）を可変的に設定する転写領域設定部（１７）が配
設されていることを特徴とするものである。

【００１３】従って、本発明の露光装置では、転写領域
設定部（１７）が各光路毎に露光光の投影面積を変更す
ることにより、可変的に設定された感光基板（３）上の
転写領域（Ｐ１〜Ｐ５）にマスク（１）の像を投影する
ことができる。ここで、転写領域設定部（１７）は、各
光路毎に配設されているため、露光のために開口全域を
遮光する必要がなくなる。加えて、転写領域設定部（１
７）が小さくなることにより、これら転写領域設定部
（１７）の駆動を制御するための機構も小さく、且つ簡
単にすることができる。

【００１４】

【発明の実施の形態】以下、本発明の露光装置の実施の
形態を、図１ないし図１０を参照して説明する。ここで
は、マスク１およびガラスプレート３がＸＹ平面に沿っ
て配置され、ＸＹ平面のうち走査方向をＸ方向、Ｘ方向
と直交する非走査方向をＹ方向とし、ＸＹ平面に直交す
る方向をＺ方向として説明する。これらの図において、
従来例として示した図１１と同一の構成要素には同一符
号を付し、その説明を省略する。

【００１５】図２は、ダイソン光学系を用いた、いわゆ
るマルチレンズ式の走査型露光装置（露光装置）７の概
略構成図である。走査型露光装置７は、照明光学系（不
図示）と、マスク１が載置されるマスクステージ８と、
複数の投影光学系９ａ〜９ｅと、感光基板であるガラス
プレート３が載置される基板ステージ１０とを主体とし
て構成されている。

【００１６】照明光学系は、超高圧水銀ランプ等の光源
（不図示）から射出された光束を所望の形状に整形し
て、マスク１上に視野絞りの像を形成するものであっ
て、不図示の波長選択フィルター、フライアイレンズ、
照明視野絞り等から構成されている。

【００１７】照明視野絞りは、台形の開口部を複数有
し、光源から射出された光束を、光軸ＡＸ１〜ＡＸ５に
沿った並列する複数の光路に設定するものである。そし
て、照明光学系から射出された光束は、露光光としてマ
スク１上の異なる照明領域Ｍ１〜Ｍ５をそれぞれ照明す
る構成になっている。

【００１８】各投影光学系９ａ〜９ｅは、上記各光路に
対応する位置に配置され、光軸ＡＸ１〜ＡＸ５方向に列
設された一対で構成されている。また、各投影光学系９
ａ〜９ｅは、いずれも正立等倍系とされ、マスク１を通
過した複数の光束をそれぞれガラスプレート３上の転写
領域Ｐ１〜Ｐ５にマスク１の照明領域Ｍ１〜Ｍ５のパタ
ーン像を結像するようになっている。

【００１９】転写領域Ｐ１〜Ｐ５は、平面視台形状であ
り、図３に示すように、Ｙ方向に沿って、隣り合う領域
どうし（例えばＰ１とＰ２、Ｐ２とＰ３）が図のＸ方向
に所定量変位するように、且つ隣り合う領域の端部どう
し（破線で示す範囲）がＹ方向に重複するように、Ｙ方
向に並列配置されている。なお、上記各投影光学系９ａ
〜９ｅも各転写領域Ｐ１〜Ｐ５の配置に応じてＸ方向に
所定量変位するとともに、Ｙ方向に重複して配置されて
いる。

【００２０】マスクステージ８は、不図示の駆動装置に
よってＸ方向に移動自在とされている。このマスクステ
ージ８上の端縁には、直交する方向に移動鏡１１ａ、１
１ｂがそれぞれ設置されている。移動鏡１１ａには、レ
ーザー干渉計１２ａが対向して配置されている。また、
移動鏡１１ｂには、レーザー干渉計１２ｂが対向して配
置されている。

【００２１】これらレーザー干渉計１２ａ、１２ｂが、
それぞれ移動鏡１１ａ、１１ｂにレーザー光を射出して
当該移動鏡１１ａ、１１ｂとの間の距離を計測すること
により、マスクステージ８のＸ方向の移動距離および走
査時のマスクステージ８の回転量を検出することが可能
になっている。そして、レーザ干渉計１２ａ、１２ｂの
出力によってマスクステージ８の位置をモニターし、上
記駆動装置をサーボ制御することでマスクステージ８を
所望の位置へ移動することができるようになっている。

【００２２】基板ステージ１０は、不図示の駆動装置に
よってＸ方向、Ｙ方向、Ｚ方向にそれぞれ移動自在にな
っている。この基板ステージ１０上の端縁には、直交す
る方向に移動鏡１３ａ、１３ｂがそれぞれ設置されてい
る。移動鏡１３ａには、レーザー干渉計１４ａが対向し
て配置されている。また、移動鏡１３ｂには、レーザー
干渉計１４ｂが対向して配置されている。

【００２３】これらレーザー干渉計１４ａ、１４ｂが、
それぞれ移動鏡１３ａ、１３ｂにレーザー光を射出して
当該移動鏡１３ａ、１３ｂとの間の距離を計測すること
により、基板ステージ１０のＸ方向、Ｙ方向の移動距離
および走査時の基板ステージ１０の回転量を検出するこ
とが可能になっている。そして、レーザ干渉計１４ａ、
１４ｂの出力によって基板ステージ１０の位置をモニタ
ーし、上記駆動装置をサーボ制御することでマスクステ
ージ８を所望の位置へ移動することができるようになっ
ている。

【００２４】一方、図１に示すように、走査型露光装置
７には、上記各光路毎に露光光の投影面積を変更するこ
とにより転写領域Ｐ１〜Ｐ５を可変的に設定する転写領
域設定部１７が付設されている。この転写領域設定部１
７は、いずれも照明光学系に設けられた不図示のシャッ
タ（遮光機構）と、ブラインド（投影面積調節機構）１
５ａ、１５ｂ、１６ａ、１６ｂとから構成されている
（図１においては、１５ａ、１６ｂのみ図示してあ
る）。

【００２５】シャッタは、各光路毎に、該光路を開閉自
在に設けられ、光路を閉塞したときに該光路からの露光
光を遮光して、光路を開放したときに露光光への遮光を
解除するものである。

【００２６】ブラインド１５ａ、１５ｂは、複数の光路
のうち、＋Ｙ方向先端の光軸ＡＸ５に沿って位置する光
路上に設けられている。そしてブラインド１５ａ、１５
ｂのそれぞれがＹ方向に自在に移動して、この光路の投
影面積を段階的に調節するものである。

【００２７】ブラインド１６ａ、１６ｂは、複数の光路
のうち、−Ｙ方向先端の光軸ＡＸ１に沿って位置する光
路上に設けられている。そしてブラインド１６ａ、１６
ｂのそれぞれがＹ方向に自在に移動して、この光路の投
影面積を段階的に調節するものである。

【００２８】上記の構成の露光装置の作用について以下
に説明する。ここでは、まず、図４に示すように、ＬＣ
Ｄパターン５と、このＬＣＤパターン５の両側にマーク
６ａ、６ｂとが形成されたマスク１を用いて、図５に示
すように、ガラスプレート３上に四つのＬＣＤパターン
１８ａ〜１８ｄと、このＬＣＤパターン１８ａ〜１８ｄ
のそれぞれに隣接して配置された四つのマーク１９ａ〜
１９ｄとを転写する手順を説明する。

【００２９】ここで、マスク１のマーク６ａ、６ｂは、
ＬＣＤパターン５に対してＹ方向にそれぞれ距離Ｌ１、
Ｌ２だけ離間しており、且つ、Ｘ方向の中心がＬＣＤパ
ターン５の中心から距離Ｌ３だけ離間しているものとす
る。

【００３０】また、同様に、ガラスプレート３のマーク
１９ａ、１９ｂおよびマーク１９ｃ、１９ｄは、ＬＣＤ
パターン１８ａ、１８ｄおよびＬＣＤパターン１８ｃ、
１８ｄに対してそれぞれ距離Ｌ４、Ｌ５だけ離間してお
り、且つＸ方向の中心が隣接されたＬＣＤパターン１８
ａ〜１８ｄのそれぞれの中心から距離Ｌ６だけ離間して
いるものとする。

【００３１】光源から射出された光束は、照明光学系を
通過することにより光軸ＡＸ１〜ＡＸ５に沿った複数の
光路に設定され、露光光としてマスク１上の照明領域Ｍ
１〜Ｍ５をそれぞれ照射する。そして、マスク１上の照
明領域Ｍ１〜Ｍ５を透過した露光光は、投影光学系９ａ
〜９ｅを介してガラスプレート３上の転写領域Ｐ１〜Ｐ
５に結像する。

【００３２】ここで、ＬＣＤパターン５およびマーク６
ａ、６ｂとＬＣＤパターン１８ａ〜１８ｅおよびマーク
１９ａ、１９ｂとがＬ１＝Ｌ４、Ｌ２＝Ｌ５、Ｌ３＝Ｌ
６の露光配置である場合には、予め、全てのシャッタを
開放するとともに、図１に示すように、ブラインド１５
ａをマスク１のマーク６ａがガラスプレート３上に露光
されるように、且つ、ブラインド１６ｂをマーク６ｂが
ガラスプレート３上に露光されないように移動させて開
口設定をしておく。

【００３３】そして、マスクステージ８と基板ステージ
１０とをＸ方向に同期して移動させると、図６に示すよ
うに、ガラスプレート３上に、ブラインド１６ｂに対応
する位置が露光されない非露光部２０を伴って、マスク
１上の描画パターン２が露光される。これにより、マス
ク１上のマーク６ｂは露光されず、ＬＣＤパターン５お
よびマーク６ａのみが、等倍正立のＬＣＤパターン１８
ａおよびマーク１９ａとしてガラスプレート３上に露光
されて転写される。

【００３４】そして、マスク１のＬＣＤパターン５とガ
ラスプレート３のＬＣＤパターン１８ｂとが対応する所
定位置まで基板ステージ１０をＸ方向に移動させた後
に、上記と同様に再び、マスクステージ８と基板ステー
ジ１０とを同期して移動させながら露光すると、ＬＣＤ
パターン５およびマーク６ａが、ＬＣＤパターン１８ｂ
およびマーク１９ｂとしてガラスプレート３上に転写さ
れる。

【００３５】次に、マスク１のＬＣＤパターン５とガラ
スプレート３のＬＣＤパターン１８ｃとが対応する所定
位置まで基板ステージ１０をＸ、Ｙ方向に移動させると
ともに、ブラインド１５ａを、マスク１のマーク６ａが
ガラスプレート３上に露光されないように、且つ、ブラ
インド１６ｂを、マーク６ｂがガラスプレート３上に露
光されるように移動させて開口設定を行う。

【００３６】そして、マスクステージ８と基板ステージ
１０とをＸ方向に同期して移動させると、ブラインド１
５ａに対応する位置が露光されない状態でマスク１上の
描画パターン２が露光される。これにより、マスク１上
のマーク６ａは露光されず、ＬＣＤパターン５およびマ
ーク６ｂのみが、ＬＣＤパターン１８ｃおよびマーク１
９ｃとしてガラスプレート３上に露光されて転写され
る。

【００３７】そして、マスク１のＬＣＤパターン５とガ
ラスプレート３のＬＣＤパターン１８ｄとが対応する所
定位置まで基板ステージ１０をＸ方向に移動させた後
に、上記と同様に再び、マスクステージ８と基板ステー
ジ１０とを同期して移動させながら露光すると、ＬＣＤ
パターン５およびマーク６ｂが、ＬＣＤパターン１８ｄ
およびマーク１９ｄとしてガラスプレート３上に転写さ
れる。かくして、図５に示すように、ＬＣＤパターン１
８ａ〜１８ｄおよびマーク１９ａ〜１９ｄが転写された
ガラスプレート３が得られる。

【００３８】続いて、図７に示すように、マスク１とガ
ラスプレート３とが、上記のようなＬＣＤパターンおよ
びマークの露光配置にない場合について説明する。この
場合、まず、ブラインド１５ａ、１５ｂを、マスク１の
マーク６ａ、６ｂがガラスプレート３上に露光されない
ように移動させて開口設定を行う。

【００３９】そして、マスク１のＬＣＤパターン５とガ
ラスプレート３のＬＣＤパターン１８ａとが対応する所
定位置まで基板ステージ１０を移動させた後に、上記と
同様に再び、マスクステージ８と基板ステージ１０とを
同期して移動させながら露光することを繰り返して、Ｌ
ＣＤパターン１８ａ〜１８ｄを順次ガラスプレート３上
に転写する。

【００４０】次に、図８に示すように、光軸ＡＸ１〜Ａ
Ｘ４に沿った光路に位置する四つのシャッタによりこれ
らの光路を閉塞して、転写領域Ｐ１〜Ｐ４へ照射される
露光光を遮光するとともに、マスク１のマーク６ａがガ
ラスプレート３上に露光されるように、ブラインド１５
ａ、１５ｂを移動させて開口設定を行う。

【００４１】そして、マスク１のマーク６ａとガラスプ
レート３のマーク２１ａとが対応する所定位置まで基板
ステージ１０をＸ方向に移動させた後に、上記と同様に
再び、マスクステージ８と基板ステージ１０とを同期し
て移動させながら露光すると、図９に示すように、転写
領域Ｍ５のうちブラインド１５ａ、１５ｂ間を通過する
露光光に対応する部分のみがガラスプレート３上に帯状
に露光される。この結果、マスク１上のマーク６ｂは露
光されず、マーク６ａのみが、等倍正立のマーク２１ａ
としてガラスプレート３上に転写される。

【００４２】次に、光軸ＡＸ２〜ＡＸ５に沿った光路に
位置する四つのシャッタによりこれらの光路を閉塞し
て、転写領域Ｐ２〜Ｐ５へ照射される露光光を遮光する
とともに、ブラインド１６ａ、１６ｂを、マスク１のマ
ーク６ｂがガラスプレート３上に露光されるように移動
させて開口設定を行う。

【００４３】そして、上記と同様に、マスクステージ８
と基板ステージ１０とを同期移動させて露光すると、転
写領域Ｍ１のうちブラインド１６ａ、１６ｂ間を通過す
る露光光に対応する部分のみがガラスプレート３上に帯
状に露光される。この結果、マスク１のマーク６ｂのみ
が、等倍正立のマーク２１ｂとしてガラスプレート３上
に転写される。かくして、図７に示すように、ＬＣＤパ
ターン１８ａ〜１８ｄおよびマーク２１ａ、２１ｂが転
写されたガラスプレート３が得られる。

【００４４】本実施の形態の露光装置では、転写領域設
定部１７であるシャッタおよびブラインド１５ａ、１５
ｂ、１６ａ、１６ｂで各光路の開口を適宜設定するとと
もに、マスク１とガラスプレート３とを適宜所定位置か
ら同期移動させて露光することにより、マスク１上のパ
ターンをガラスプレート３上の任意の位置に転写するこ
とができる。

【００４５】そのため、ＬＣＤパターンとマークとの位
置関係が、マスク１とガラスプレート３との間で異なっ
ていたり、さらには図１０に示すように、転写すべきマ
ーク２２ａ、２２ｂ、２２ｃの数が露光領域によって異
なる露光配置であっても、マスク１上のパターンをガラ
スプレート３上に自在に転写することができる。

【００４６】これにより、マークの位置に関係なくＬＣ
Ｄパターンの転写位置を設定することができるようにな
り、複数のＬＣＤパターンを互いに密に接近した位置に
転写することにより、後工程でこれらを分断するために
切断する作業を減少させたり、一枚のガラスプレート３
で得られるＬＣＤパターンの数を増加させることもでき
る。

【００４７】また、これらシャッタおよびブラインド１
５ａ、１５ｂ、１６ａ、１６ｂは、光路毎に露光光の投
影面積を変更すればよいだけなので、個々の大きさを小
さくすることができるとともに、これらを駆動させるた
めの機構も小型にすることができる。

【００４８】なお、上記実施の形態において、シャッタ
とブラインド１５ａ、１５ｂ、１６ａ、１６ｂとを照明
光学系に設ける構成としたが、これに限られるものでは
なく、例えばこれらを投影光学系に設けるような構成で
あってもよい。また、転写領域設定部１７が、各光路毎
に設けられたシャッタと、複数の光路のうち非走査方向
両端に位置する光路上に設けられたブラインド１５ａ、
１５ｂ、１６ａ、１６ｂとからなる構成としたが、シャ
ッタを設けずに各光路毎にブラインドを設ける構成とし
ても上記実施の形態と同様の作用・効果を得ることがで
きる。

【００４９】また、走査型露光装置としてダイソン光学
系を用いる構成としたが、露光光の光路が複数設定され
るものであれば、ダイソン光学系に限定されるものでは
ない。露光装置の用途としては、液晶表示基板用の露光
装置に限定されることなく、例えば半導体製造用の露光
装置や薄膜磁気ヘッドを製造するための露光装置にも広
く適用できる。

【００５０】さらに、本実施の形態の露光装置として、
投影光学系を用いることなく、マスク１とガラスプレー
ト３とを密接させてマスク１のパターンを露光するプロ
キシミティ露光装置にも適用することができる。

【００５１】一方、不図示の照明光学系の光源として、
水銀ランプから発生する輝線（ｇ線、ｉ線）、ＫｒＦエ
キシマレーザ（２４８ｎｍ）、ＡｒＦエキシマレーザ
（１９３ｎｍ）、Ｆ₂レーザ（１５７ｎｍ）のみなら
ず、Ｘ線や電子線などの荷電粒子線を用いることができ
る。例えば、電子線を用いる場合には電子銃として、熱
電子放射型のランタンヘキサボライト（ＬａＢ₆）、タ
ンタル（Ｔａ）を用いることができる。

【００５２】また、投影光学系の倍率は、等倍系のみな
らず縮小系および拡大系のいずれであってもよい。この
投影光学系としては、エキシマレーザなどの遠紫外線を
用いる場合は硝材として石英や蛍石などの遠紫外線を透
過する材料を用い、Ｆ₂レーザやＸ線を用いる場合は反
射屈折系または屈折系の光学系にし（マスクも反射型タ
イプのものを用いる。）、また電子線を用いる場合には
光学系として電子レンズおよび偏向器からなる電子光学
系を用いればよい。なお、電子線が通過する光路は、真
空状態にすることはいうまでもない。

【００５３】基板ステージ１０やマスクステージ８にリ
ニアモータを用いる場合は、エアベアリングを用いたエ
ア浮上型およびローレンツ力またはリアクタンス力を用
いた磁気浮上型のどちらを用いてもよい。また、ステー
ジは、ガイドに沿って移動するタイプでもよく、ガイド
を設けないガイドレスタイプであってもよい。

【００５４】なお、基板ステージ１０の移動により発生
する反力は、フレーム部材を用いて機械的に床（大地）
に逃がせばよい。マスクステージ８の移動により発生す
る反力も、フレーム部材を用いて機械的に床（大地）に
逃がせばよい。

【００５５】ここで、本実施の形態の露光装置を製造す
る際には、複数のレンズから構成される照明光学系、投
影光学系を露光装置本体に組み込み光学調整をするとと
もに、多数の機械部品からなるマスクステージ８や基板
ステージ１０を露光装置本体に取り付けて配線や配管を
接続し、更に総合調整（電気調整、動作確認等）をする
ことにより行われる。加えて、この露光装置の製造は、
温度およびクリーン度が管理されたクリーンルームで行
うことが望ましい。

【００５６】また、液晶表示素子は、液晶表示素子の機
能・性能設計を行うステップ、この設計ステップに基づ
いたマスクを製作するステップ、石英ガラス等からガラ
スプレートを製作するステップ、前述した実施の形態の
露光装置によりマスクのパターンをガラスプレートに露
光するステップ、組み立てステップ、検査ステップ等を
経て製造される。

【００５７】

【発明の効果】以上説明したように、請求項１に係る露
光装置は、並列する複数の光路毎に、露光光の投影面積
を変更して転写領域を可変的に設定する転写領域設定部
が配設される構成となっている。これにより、この露光
装置では、転写領域を設定する際に、転写領域設定部が
光路毎に露光光の投影面積を変更すればよいだけなの
で、個々の大きさを小さくすることができるとともに、
これらを駆動させるための機構も小型にすることができ
るという優れた効果が得られる。

【００５８】請求項２に係る露光装置は、転写領域設定
部が光路毎に設けられた遮光機構と両端に位置する光路
に設けられた投影面積調節機構とを備えており、遮光機
構が各光路からの露光光を遮光、遮光解除自在とされ、
投影面積調節機構が各光路の投影面積を段階的に調節す
る構成となっている。これにより、この露光装置では、
遮光機構および投影面積調節機構の駆動を組み合わせる
ことにより、光路毎に露光光の投影面積を変更すること
ができるので、個々の機構の大きさを小さくすることが
できるとともに、これらを駆動させるための機構も小型
にすることができるという優れた効果が得られる。

【００５９】請求項３に係る露光装置は、転写領域設定
部が各光路に設けられた投影面積調節機構を備えてお
り、この投影面積調節機構が各光路の投影面積を段階的
に調節する構成となっている。これにより、この露光装
置では、請求項２に記載の露光装置と同様の効果が得ら
れることに加えて、転写領域をより一層多様に設定でき
るという優れた効果を奏する。

【００６０】請求項４に係る露光装置は、各光路が複数
の照明光学系と、これらの照明光学系のそれぞれに対応
して配置された複数の投影光学系とを備える構成となっ
ている。これにより、この露光装置では、特にダイソン
光学系等のマルチレンズ式において、上記請求項１から
３のいずれかに記載の露光装置と同様の効果を得ること
ができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の実施の形態を示す図であって、転写
領域設定部を構成するブラインドによりガラスプレート
上の転写領域が設定される平面図である。

【図２】本発明の実施の形態を示す図であって、複数
の投影光学系を介してマスクの照明領域の像がガラスプ
レート上の転写領域に投影される外観斜視図である。

【図３】同ガラスプレート上の転写領域を示す平面図
である。

【図４】マスク上に、ＬＣＤパターンおよびマークが
形成された平面図である。

【図５】ガラスプレート上に転写されるＬＣＤパター
ンおよびマークの配置を示す平面図である。

【図６】本発明の実施の形態を示す図であって、ブラ
インドによりガラスプレート上に非露光部が設定された
平面図である。

【図７】ガラスプレート上に転写されるＬＣＤパター
ンおよびマークの配置を示す平面図である。

【図８】本発明の実施の形態を示す図であって、四つ
のシャッタにより四つの光路が閉塞され、ブラインドに
より転写領域の一つが開口設定された平面図である。

【図９】同開口設定された転写領域が露光光により投
影される平面図である。

【図１０】ガラスプレート上に転写されるＬＣＤパタ
ーンおよびマークの配置を示す平面図である。

【図１１】（ａ）は描画パターンが形成されたマスク
を、（ｂ）は複数の露光領域が設定されるガラスプレー
トを示す平面図である。

【符号の説明】１マスク３ガラスプレート（感光基板）７走査型露光装置（露光装置）１５ａ、１５ｂ、１６ａ、１６ｂブラインド（投影面
積調節機構）１７転写領域設定部Ｐ１〜Ｐ５転写領域

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】並列する複数の光路に対しマスクと感光
基板とが同期移動して各光路からの露光光により前記マ
スクの像を前記感光基板上の転写領域に投影する露光装
置において、前記各光路毎に、前記露光光の投影面積を変更して前記
転写領域を可変的に設定する転写領域設定部が配設され
ていることを特徴とする露光装置。
【請求項２】請求項１記載の露光装置において、前記転写領域設定部は、前記各光路毎に設けられて該各
光路からの前記露光光を遮光、遮光解除自在な遮光機構
と、前記複数の光路のうち、両端に位置する光路に設けられ
て該各光路の前記投影面積を段階的に調節する投影面積
調節機構とを備えてなることを特徴とする露光装置。
【請求項３】請求項１記載の露光装置において、前記転写領域設定部は、前記各光路毎に設けられて該各
光路の前記投影面積を段階的に調節する投影面積調節機
構を備えてなることを特徴とする露光装置。
【請求項４】請求項１から３のいずれかに記載の露光
装置において、前記各光路は、前記露光光を前記マスクに照明する複数
の照明光学系と、該複数の照明光学系のそれぞれに対応して配置された複
数の投影光学系とを備えた構成とされていることを特徴
とする露光装置。