JP2009210598A - ガラス基板および近接スキャン露光装置並びに近接スキャン露光方法 - Google Patents
ガラス基板および近接スキャン露光装置並びに近接スキャン露光方法 Download PDFInfo
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Abstract
【解決手段】ガラス基板W上に所定の方向に隣接配置された各パネル60のブラックマトリクス層BMの各画素61間の距離nLは、当該方向で隣接する画素ピッチLの整数倍となっている。このガラス基板Wの露光は、基板搬送機構10によってガラス基板Wを連続搬送しながら、ガラス基板Wのブラックマトリクス層BMと、マスクMのマスクパターン51との一致に同期させて、照射部13をパルス発光させて行う。
【選択図】図4
Description
(1) 複数のカラーフィルタ用パネルを形成するためのガラス基板であって、
所定の方向に隣接する前記各パネルのブラックマトリクス層の各画素間の距離は、当該方向で隣接する画素ピッチの整数倍であることを特徴とするガラス基板。
(2) 上記(1)に記載のガラス基板に着色層を露光転写するための近接スキャン露光装置であって、
マスクを保持するマスク保持部と、
前記マスク保持部の上方に配置され、パルス発光可能な光源を備えて、露光用光を照射する照射部と、
前記照射部から出射された露光用光を遮光する遮光部材と、
前記ガラス基板を保持して前記所定の方向に搬送する基板搬送機構と、
搬送される前記ガラス基板のブラックマトリクス層と、前記マスクのマスクパターンの位置とが一致する時に前記露光用光が照射されるように、前記ガラス基板の搬送速度と前記光源の発光タイミングとを制御する制御部と、
を備えることを特徴とする近接スキャン露光装置。
(3) マスクを保持するマスク保持部と、
前記マスク保持部の上方に配置され、パルス発光可能な光源を備えて、露光用光を照射する照射部と、
前記照射部から出射された露光用光を遮光する遮光部材と、
上記(1)に記載のガラス基板を保持して前記所定の方向に搬送する基板搬送機構と、
を備える近接スキャン露光装置を用いて、前記ガラス基板に着色層を露光転写するための近接スキャン露光方法であって、
前記基板搬送機構によって前記ガラス基板を前記所定の方向に連続的に搬送する搬送ステップと、
前記連続的に搬送される前記ガラス基板のブラックマトリクス層と、前記マスクのマスクパターンの位置とが一致したことを検出する検出ステップと、
前記ガラス基板のブラックマトリクス層と、前記マスクのマスクパターンの位置とが一致する時に前記照射部から露光用光を照射して露光する露光ステップと、
を備えることを特徴とする近接スキャン露光方法。
(4) 複数のパネルを形成するためのガラス基板であって、
所定の方向に隣接する前記各パネルの下地パターン層の各画素間の距離は、当該方向で隣接する画素ピッチの整数倍であることを特徴とするガラス基板。
(5) (4)に記載のガラス基板に他のパターン層を露光転写するための近接スキャン露光装置であって、
マスクを保持するマスク保持部と、
前記マスク保持部の上方に配置され、パルス発光可能な光源を備えて、露光用光を照射する照射部と、
前記照射部から出射された露光用光を遮光する遮光部材と、
前記ガラス基板を保持して前記所定の方向に搬送する基板搬送機構と、
連続的に搬送される前記ガラス基板の下地パターン層と、前記マスクのマスクパターンの位置とが一致する時に前記露光用光が照射されるように、前記ガラス基板の搬送速度と前記光源の発光タイミングとを制御する制御部と、
を備えることを特徴とする近接スキャン露光装置。
(6) マスクを保持するマスク保持部と、
前記マスク保持部の上方に配置され、パルス発光可能な光源を備えて、露光用光を照射する照射部と、
前記照射部から出射された露光用光を遮光する遮光部材と、
(4)に記載のガラス基板を保持して前記所定の方向に搬送する基板搬送機構と、
を備える近接スキャン露光装置を用いて、前記ガラス基板に着色層を露光転写するための近接スキャン露光方法であって、
前記基板搬送機構によって前記ガラス基板を前記所定の方向に連続的に搬送する搬送ステップと、
前記連続的に搬送される前記ガラス基板の下地パターン層と、前記マスクのマスクパターンの位置とが一致したことを検出する検出ステップと、
前記ガラス基板の下地パターン層と、前記マスクのマスクパターンの位置とが一致する時に前記照射部から露光用光を照射して露光する露光ステップと、
を備えることを特徴とする近接スキャン露光方法。
例えば、上記実施形態においては、基板搬送機構10は、浮上ユニット16と基板駆動ユニット17によって基板Wを浮上して保持しながら搬送する場合について述べたが、これに限らず、基板Wを上面に載置しながら保持及び搬送するものであってもよい。
10 基板搬送機構
11 マスク保持部
13 照射部
14 遮光部材
51 マスクパターン
60(60A,60B) パネル(カラーフィルタ用パネル)
61 画素
BM ブラックマトリクス層
EL 露光用光
L 画素ピッチ
M マスク
nL 隣接するパネルの画素間の距離
W ガラス基板
Claims (6)
- 複数のカラーフィルタ用パネルを形成するためのガラス基板であって、
所定の方向に隣接する前記各パネルのブラックマトリクス層の各画素間の距離は、当該方向で隣接する画素ピッチの整数倍であることを特徴とするガラス基板。 - 請求項1に記載のガラス基板に着色層を露光転写するための近接スキャン露光装置であって、
マスクを保持するマスク保持部と、
前記マスク保持部の上方に配置され、パルス発光可能な光源を備えて、露光用光を照射する照射部と、
前記照射部から出射された露光用光を遮光する遮光部材と、
前記ガラス基板を保持して前記所定の方向に搬送する基板搬送機構と、
連続的に搬送される前記ガラス基板のブラックマトリクス層と、前記マスクのマスクパターンの位置とが一致する時に前記露光用光が照射されるように、前記ガラス基板の搬送速度と前記光源の発光タイミングとを制御する制御部と、
を備えることを特徴とする近接スキャン露光装置。 - マスクを保持するマスク保持部と、
前記マスク保持部の上方に配置され、パルス発光可能な光源を備えて、露光用光を照射する照射部と、
前記照射部から出射された露光用光を遮光する遮光部材と、
請求項1に記載のガラス基板を保持して前記所定の方向に搬送する基板搬送機構と、
を備える近接スキャン露光装置を用いて、前記ガラス基板に着色層を露光転写するための近接スキャン露光方法であって、
前記基板搬送機構によって前記ガラス基板を前記所定の方向に連続的に搬送する搬送ステップと、
前記連続的に搬送される前記ガラス基板のブラックマトリクス層と、前記マスクのマスクパターンの位置とが一致したことを検出する検出ステップと、
前記ガラス基板のブラックマトリクス層と、前記マスクのマスクパターンの位置とが一致する時に前記照射部から露光用光を照射して露光する露光ステップと、
を備えることを特徴とする近接スキャン露光方法。 - 複数のパネルを形成するためのガラス基板であって、
所定の方向に隣接する前記各パネルの下地パターン層の各画素間の距離は、当該方向で隣接する画素ピッチの整数倍であることを特徴とするガラス基板。 - 請求項4に記載のガラス基板に他のパターン層を露光転写するための近接スキャン露光装置であって、
マスクを保持するマスク保持部と、
前記マスク保持部の上方に配置され、パルス発光可能な光源を備えて、露光用光を照射する照射部と、
前記照射部から出射された露光用光を遮光する遮光部材と、
前記ガラス基板を保持して前記所定の方向に搬送する基板搬送機構と、
連続的に搬送される前記ガラス基板の下地パターン層と、前記マスクのマスクパターンの位置とが一致する時に前記露光用光が照射されるように、前記ガラス基板の搬送速度と前記光源の発光タイミングとを制御する制御部と、
を備えることを特徴とする近接スキャン露光装置。 - マスクを保持するマスク保持部と、
前記マスク保持部の上方に配置され、パルス発光可能な光源を備えて、露光用光を照射する照射部と、
前記照射部から出射された露光用光を遮光する遮光部材と、
請求項4に記載のガラス基板を保持して前記所定の方向に搬送する基板搬送機構と、
を備える近接スキャン露光装置を用いて、前記ガラス基板に着色層を露光転写するための近接スキャン露光方法であって、
前記基板搬送機構によって前記ガラス基板を前記所定の方向に連続的に搬送する搬送ステップと、
前記連続的に搬送される前記ガラス基板の下地パターン層と、前記マスクのマスクパターンの位置とが一致したことを検出する検出ステップと、
前記ガラス基板の下地パターン層と、前記マスクのマスクパターンの位置とが一致する時に前記照射部から露光用光を照射して露光する露光ステップと、
を備えることを特徴とする近接スキャン露光方法。
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JP2008050344A JP2009210598A (ja) | 2008-02-29 | 2008-02-29 | ガラス基板および近接スキャン露光装置並びに近接スキャン露光方法 |
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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JP2009251572A (ja) * | 2008-04-11 | 2009-10-29 | V Technology Co Ltd | 多面取り露光用基板 |
JP2012123049A (ja) * | 2010-12-06 | 2012-06-28 | Toppan Printing Co Ltd | 露光装置 |
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2008
- 2008-02-29 JP JP2008050344A patent/JP2009210598A/ja active Pending
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