JP2011175025A - 近接走査露光装置及び基板の製造方法 - Google Patents

Abstract

【課題】配向膜の光配向処理を効率的に行うことができる近接走査露光装置及び基板の製造方法を提供する。
【解決手段】近接走査露光装置１の照射部１４は、光源４１から照射された露光用光ＥＬを反射部４６、４７で２方向に分岐させ、それぞれ異なる２方向から、１枚のマスクＭに形成された第１のパターンＰ１、及び第２のパターンＰ２に照射して基板Ｗを露光する。
【選択図】図４

Description

本発明は、近接走査露光装置及び基板の製造方法に関する。

従来、液晶表示素子の製造に不可欠な液晶配向処理として、メカニカルラビング法が一般に行われていたが、ラビングの際に発生する塵による汚染や、摩擦によってＴＦＴ基板に与える静電ダメージなどの問題があった。このようなメカニカルラビング法の問題に対処するため、メカニカルラビング法に代えて、非接触液晶配向方法である光配向技術が提案されている（例えば、特許文献１参照。）。この光配向技術は、透明基板上に配向膜を形成した後、露光用光である偏光紫外線を照射して、配向膜に液晶配向の方向性とプレチルト角とを与える技術であり、配向膜の微細領域に液晶配向を行うことにより、視野角の改善を図っている。

具体的には、図８（ａ）に示すように、ＴＦＴアレイ側基板５０の各絵素５３を略中間の仮想線５４で二分して形成される第１露光部５１、及び第２露光部５２に、絵素５３の法線Ｎに対して所定の角度ａだけ傾斜する互いに異なる方向から紫外線を照射して配向膜の光配向処理を行う。また、カラーフィルタ側基板６０の配向膜の光配向処理は、図８（ｂ）に示すように、ＴＦＴアレイ側基板５０と貼り合わせたとき、ＴＦＴアレイ側基板５０の仮想線５４に対して直交し、カラーフィルタ側基板６０の各絵素６３を略中間の仮想線６４で二分して形成される第１露光部６１、及び第２露光部６２に、絵素６３の法線Ｎに対して所定の角度ａだけ傾斜する互いに異なる方向から紫外線を照射して光配向処理を行う。そして、このようにそれぞれ光配向処理が施された基板５０、６０同士を貼り合わせて液晶パネルを構成する。これにより、図８（ｃ）に示すように、両基板５０、６０の間に充填される液晶分子は、基板５０、６０の各露光部５１、５２、６１、６２に施された配向処理の向き、すなわち紫外線の照射方向に従って配向し、各絵素５３、６３内には、液晶分子の配向の向きが互いに異なる複数のドメイン領域が形成されて、視野角が改善される。

特開２００７−２４０７０２号公報

ところで、従来の露光装置として、マスクを保持する複数のマスク保持部を千鳥状に二列配置し、基板を一方向に移動させながら、１つのマスクに対して一方向から紫外線を照射して露光を行う近接走査露光装置がある。この近接走査露光装置を用いて、ＴＦＴアレイ側基板５０及びカラーフィルタ側基板６０の各絵素５３、６３を分割した各露光部５１、５２、６１、６２に、それぞれ異なる方向から紫外線を照射するには、２台の露光装置を使用するため、多数のマスクが必要となり、設備費用や、タクトタイムが長くなることによる製造コスト増大の問題があり、配向膜の光配向処理を更に効率的に行うことができる露光装置が求められていた。

本発明は、前述した課題に鑑みてなされたものであり、その目的は、配向膜の光配向処理を効率的に行うことができる近接走査露光装置及び基板の製造方法を提供することにある。

本発明の上記目的は、下記の構成により達成される。
（１） マスクを保持するマスク保持部と、前記マスク保持部の上方に配置され、露光用光を照射する照射部と、基板を保持して所定の方向に搬送可能な基板搬送機構とを備え、前記基板を搬送しながら前記マスクのパターンを前記基板に露光する近接走査露光装置であって、
前記マスクのパターンは、それぞれ異なる少なくとも第１及び第２のパターンを備え、
前記照射部は、前記第１及び第２のパターンにそれぞれ異なる方向から前記露光用光を同時に照射して前記基板に前記第１及び第２のパターンを露光することを特徴とする近接走査露光装置。
（２） 前記基板の配向膜は、各絵素内において、前記基板の搬送方向に沿う仮想線により前記搬送方向と直交する方向に分割された第１露光部と第２露光部とを有し、
前記第１露光部には、前記マスクの前記第１のパターンが露光転写され、前記第２露光部には、前記マスクの前記第２のパターンが露光転写されることを特徴とする（１）に記載の近接走査露光装置。
（３） 前記照射部は、光源から照射された光を２つの方向に分岐させて、前記マスクの法線に対して傾斜する互いに異なる第１及び第２の方向から前記マスクの第１及び第２のパターンにそれぞれ照射する反射部を備えることを特徴とする請求項１又は２に記載の近接走査露光装置。
（４） 前記マスクの前記第１のパターンは、前記露光用光を透過させて前記第１露光部に照射可能な複数の第１露光窓を有し、
前記マスクの前記第２のパターンは、前記露光用光を透過させて前記第２露光部に照射可能な複数の第２露光窓を有し、
前記照射部は、前記マスクの法線に対して傾斜する第１の方向から前記マスクの第１のパターンに照射された前記露光用光のうち、前記第１露光窓間の遮光部で反射された反射光を、前記マスクの法線に対して傾斜する第１の方向と異なる第２の方向に変換して前記マスクの第２のパターンに照射する照射方向変換部を備えることを特徴とする（２）に記載の近接走査露光装置。
（５） 互いに異なる第１及び第２のパターンを備えるマスクを保持するマスク保持部と、前記マスク保持部の上方に配置され、露光用光を照射する照射部と、基板を保持して所定の方向に搬送可能な基板搬送機構とを備える近接走査露光装置を用いて、各絵素内において、対向する２辺の略中間を通る仮想線により分割される第１露光部と第２露光部とを有する前記基板の配向膜に光配向処理を施す基板の製造方法であって、
前記照射部が前記第１のパターンに前記露光用光を照射して、前記基板の第１露光部に前記第１のパターンを露光する工程と、
前記照射部が前記第２のパターンに前記露光用光を第１のパターンの照射方向と異なる方向から前記第１のパターンへの照射と同時に照射して、前記基板の第２露光部に前記第２のパターンを露光する工程と、
を有することを特徴とする基板の製造方法。

本発明の近接走査露光装置によれば、マスクは、それぞれ異なる第１及び第２のパターンを備えており、照射部が、それぞれ異なる方向から第１及び第２のパターンに露光用光を同時に照射して基板に第１及び第２のパターンを露光するようにしたので、異なる方向からの露光用光によって、第１及び第２のパターンを基板に同時に露光することができ、従来の装置と比較して、光配向処理工数が半減すると共に、必要マスク数も半減する。これにより、光配向処理を効率的に行って、設備費用や製造コストを抑制することができる。

また、本発明の基板の製造方法によれば、各絵素内において、対向する２辺の略中間を通る仮想線により分割される第１露光部と第２露光部とを有する基板の配向膜に光配向処理を施す際、照射部がマスクの第１のパターンに露光用光を照射して、基板の第１露光部に第１のパターンを露光する工程と、照射部がマスクの第２のパターンに露光用光を第１のパターンの照射方向と異なる方向から第１のパターンへの照射と同時に照射して、基板の第２露光部に第２のパターンを露光する工程と、を備える。これにより、１枚のマスクによって、各絵素内において分割された２つの露光部に、配向方向が互いに異なる光配向処理を施すことができ、この基板を用いた液晶表示素子の視野角を改善することができる。

本発明の近接走査露光装置の全体斜視図である。 図１における近接走査露光装置の照射部を取り外した状態で示す平面図である。 図１における近接走査露光装置の正面図である。 本発明の第１実施形態の照射部の構成図である。 図１における近接走査露光装置により基板が露光される工程を示し、（ａ）は側面図、（ｂ）は平面図である。 図１における近接走査露光装置で用いられるマスクのパターンを示す平面図である。 （ａ）は、本発明の第２実施形態の照射部の構成図であり、（ｂ）は第２実施形態で用いられるマスクのパターンを示す平面図である。 光配向処理されたＴＦＴアレイ側基板とカラーフィルタ側基板が貼り合わされる状態を示し、（ａ）はＴＦＴアレイ側基板の絵素に照射される光の照射方向、（ｂ）はカラーフィルタ側基板の絵素に照射される光の照射方向、（ｃ）は貼り合わされたＴＦＴアレイ側基板とカラーフィルタ側基板の絵素の拡大図である。

以下、本発明に係る近接走査露光装置及び基板の製造方法の実施形態を図面に基づいて詳細に説明する。

先ず、本実施形態の近接走査露光装置１の構成について概略説明する。図１から図３に示すように、本実施形態の近接走査露光装置１は、基板（例えば、液晶ディスプレイ用基板としてのカラーフィルタ基板）Ｗを浮上させて支持すると共に、所定方向（図１のＸ方向）に搬送する基板搬送機構１０と、複数のマスクＭをそれぞれ保持し、所定方向と交差する方向（図１のＹ方向）に沿って千鳥状に二列配置された複数（図１に示す実施形態において、左右それぞれ６個）のマスク保持部１１と、複数のマスク保持部１１をそれぞれ駆動する複数のマスク駆動部１２と、複数のマスク保持部１１の上部にそれぞれ配置されて露光用光を照射する複数の照射部１４と、近接走査露光装置１の各作動部分の動作を制御する制御部１５と、を主に備える。

基板搬送機構１０は、基板ＷをＸ方向に搬送する領域、即ち、複数のマスク保持部１１の下方領域、及びその下方領域からＸ方向両側に亘る領域に設けられた浮上ユニット１６と、基板ＷのＹ方向一側（図２において上辺）を保持してＸ方向に搬送する基板駆動ユニット１７とを備える。浮上ユニット１６は、複数のフレーム１９上にそれぞれ設けられた排気のみ或いは排気と吸気を同時に行なう複数のエアパッド２０を備える。

基板駆動ユニット１７は、図２に示すように、浮上ユニット１６によって浮上、支持された基板Ｗの一端を保持する吸着パッド２２を備え、モータ２３、ボールねじ２４、及びナット（図示せず）からなるＸ方向搬送機構であるボールねじ機構２５によって、ガイドレール２６に沿って基板ＷをＸ方向に搬送する。なお、図３に示すように、複数のフレーム１９は、地面にレベルブロック１８を介して設置された装置ベース２７上に他のレベルブロック２８を介して配置されている。また、基板Ｗは、ボールねじ機構２５の代わりに、リニアサーボアクチュエータによって搬送されてもよい。

図３に示すように、マスク駆動部１２は、フレーム（図示せず）に取り付けられ、マスク保持部１１をＸ方向に沿って駆動するＸ方向駆動部３１と、Ｘ方向駆動部３１の先端に取り付けられ、マスク保持部１１をＺ方向（Ｘ，Ｙ方向からなる水平面の鉛直方向）に駆動するＺ方向駆動部３４と、Ｚ方向駆動部３４の先端に取り付けられ、マスク保持部１１をＹ方向に沿って駆動するＹ方向駆動部３２と、Ｙ方向駆動部３２の先端に取り付けられ、マスク保持部１１をＸ方向周りに回転駆動するα方向駆動部３５とが設けられている。

これにより、α方向駆動部３５の先端に取り付けられたマスク保持部１１に保持されるマスクＭは、マスク駆動部１２によってＸ，Ｙ，Ｚ，α方向に駆動可能である。なお、Ｘ，Ｙ，Ｚ，α方向駆動部３１，３２，３４，３５の配置の順序は、適宜変更可能である。マスク駆動部１２は、後述するラインカメラ３９によって撮像された基板ＷのパターンとマスクＭのマークに基づいて、マスクＭと基板Ｗとの相対的なズレを補正する。なお、マスク駆動部１２は、マスク保持部１１をθ方向（Ｘ，Ｙ方向からなる水平面の法線回り）に回転駆動するθ方向駆動部を有するものであってもよい。

また、図２に示すように、Ｙ方向に沿ってそれぞれ直線状に配置された上流側及び下流側の各マスク保持部１１ａ，１１ｂ間には、各マスク保持部１１のマスクＭを同時に交換可能なマスクチェンジャ２が配設されている。マスクチェンジャ２により搬送される使用済み或いは未使用のマスクＭは、マスクストッカ３，４との間でマスクローダー５により受け渡しが行なわれる。なお、マスクストッカ３とマスクチェンジャ２とで受け渡しが行なわれる間にマスクプリアライメント機構６（図１参照）によってマスクＭのプリアライメントが行なわれる。

マスク保持部１１の上部に配置される照射部１４は、マスクＭの法線Ｎに対して互いに異なる方向に傾斜する第１及び第２の方向から、紫外線を含んだ露光用光ＥＬ（ＥＬ１、ＥＬ２）を１枚のマスクＭに対して照射して、マスクＭのパターンを基板Ｗに形成された配向膜に転写する。

図４に示すように、照射部１４は、露光用光ＥＬを放射する超高圧水銀ランプからなる光源４１と、光源４１から照射された光を集光する凹面鏡４２と、この凹面鏡４２の焦点近傍に光路方向に移動可能な機構を有するオプチカルインテグレータ４３と、光路の向きを変えるための球面ミラー４５と、反射部である平面ミラー４６、４７と、球面ミラー４５とオプチカルインテグレータ４３との間に配置されて照射光路を開閉制御するシャッター４４と、を備える。

平面ミラー（反射部）４６は、球面ミラー４５から照射される露光用光ＥＬの光軸に対して対称に配置された一対の平面ミラー４６ａ、４６ｂからなり、球面ミラー４５からの露光用光ＥＬを２つの方向の露光用光ＥＬ１、ＥＬ２に分岐させる。また、平面ミラー４７は、各マスク保持部１１ａ，１１ｂの上流側及び下流側に垂直方向に配置された一対の平面ミラー４７ａ、４７ｂからなる。平面ミラー４７ａは、平面ミラー４６ａで反射される露光用光ＥＬ１を更に反射して、後に詳述するマスクＭの第１のパターンＰ１に照射するように角度が設定されている。また、平面ミラー４７ｂは、平面ミラー４６ｂで反射される露光用光ＥＬ２を、更に反射してマスクＭの第２のパターンＰ２に照射するように角度が設定されている。なお、光源４１としては、ＹＡＧフラッシュレーザやエキシマレーザであってもよく、また、小型の超高圧水銀ランプを複数備えたマルチランプユニットで構成してもよい。

また、図３に示すように、マスク保持部１１の下方に配置されたフレーム１９には、基板ＷとマスクＭの相対位置を検知する撮像手段であるラインカメラ３９が、マスクＭの窓部を観測可能な位置で、複数のマスク保持部１１ごとに配置されている。ラインカメラ３９としては、公知の構成のものが適用され、搬送される基板Ｗに予め形成されたパターン（例えば、カラーフィルタ基板の場合には、ブラックマトリクスの基準線）と、各マスクＭに設けられたラインカメラ用のマークとを、それぞれ同一視野に捕らえて撮像するものであり、光を受光する多数の受光素子を一直線上に並べて備えた受光面としてのラインＣＣＤと、基板Ｗの基準線やマークをラインＣＣＤ上に結像させる集光レンズ等を備える。

また、各マスクＭの有効露光エリアには、マスクＭと基板Ｗとの間のギャップを測定する不図示のギャップセンサが設けられている。ギャップセンサは、例えば、各マスクＭのマスク保持部自由端側の２つの隅部と、マスク保持部基部側の中央部との、有効露光エリア内に配置されている。

このような近接走査露光装置１は、浮上ユニット１６のエアパッド２０の空気流によって基板Ｗを浮上させて保持し、基板Ｗの一端を基板駆動ユニット１７で吸着してＸ方向に搬送する。そして、アライメント処理を施しながら、各マスクＭの下方に搬送された基板Ｗに対して、照射部１４からの露光用光ＥＬ（ＥＬ１、ＥＬ２）が基板Ｗに近接するマスクＭを介して照射され、マスクＭのパターンが基板Ｗに露光転写される。

次に、図５、図６及び図８を参照して、基板Ｗに形成された配向膜の表面に液晶分子の電圧無印加時の配向状態を規制するための配向処理である光配向処理について、ＴＦＴアレイ側基板Ｗ（５０）を例にとって詳述する。図５に示すように、ポリイミド等からなる配向膜が形成されたＴＦＴアレイ側基板（基板）Ｗは、基板駆動ユニット１７でＸ方向に搬送されながら、千鳥状に二列配置された複数のマスク保持部１１（１１ａ、１１ｂ）で保持されるそれぞれのマスクＭに対して、方向が互いに異なる２方向から露光用光ＥＬ１、ＥＬ２が照射されて光配向処理される。

具体的に、ＴＦＴアレイ側基板Ｗは、基板搬送方向上流側に配置されたマスク保持部１１ａに保持されるマスクＭＵにより、それぞれのマスクＭＵに対応して基板搬送方向に延びる第１エリアＥＡ１（図５では３か所のみ示す）が露光処理され、次いで、基板搬送方向下流側に配置されたマスク保持部１１ｂに保持されるマスクＭＤにより、それぞれのマスクＭＤに対応して基板搬送方向に延びる第２エリアＥＡ２（図５では３か所のみ示す）が露光処理される。即ち、基板搬送方向上流側及び下流側に配設された２枚のマスクＭＵ、ＭＤによって、基板Ｗの全面が処理される。

各マスクＭのパターンは、図６に示すように、基板搬送方向上流側に設けられた第１のパターンＰ１と、基板搬送方向下流側に設けられた第２のパターンＰ２とに分割して形成されている。図８（ａ）を参照して、ＴＦＴアレイ側基板Ｗの配向膜は、矩形状の各絵素５３において、対向する２辺の略中間を通る仮想線により分割される、即ち、基板搬送方向に沿う仮想線５４により搬送方向と直交する方向に分割される第１露光部５１と第２露光部５２を有する。第１のパターンＰ１には、この第１露光部５１に露光用光ＥＬ１を照射可能な複数の第１露光窓７１が形成されている。また、第２のパターンＰ２には、第２露光部５２に露光用光ＥＬ２を照射可能な複数の第２露光窓７２が形成されている。

このようなパターンが形成された各マスクＭの第１のパターンＰ１に、図４に示すように、マスクＭの法線Ｎに対して所定の角度ａで傾斜する第１の方向（図中左上方から）から露光用光ＥＬ１を照射することにより、第１露光窓７１に対応する絵素５３の第１露光部５１が光配向処理される。また、第２のパターンＰ２には、マスクＭの法線Ｎに対して所定の角度ａ、即ち、第１の方向に対して対称に傾斜する第２の方向（図中右上方から）から露光用光ＥＬ２を照射することにより、第２露光窓７２に対応する絵素５３の第２露光部５２が光配向処理される。

このように、基板搬送方向上流側に配置されたマスクＭＵの第１のパターンＰ１及び第２のパターンＰ２に対して、それぞれ第１及び第２の方向から露光用光ＥＬ１、ＥＬ２を照射することにより、基板Ｗの第１エリアＥＡ１（図５参照）に形成された各絵素５３の第１露光部５１、及び第２露光部５２に、互いに配向方向が異なる光配向処理が施される。

同様に、基板搬送方向下流側に配置されたマスクＭＤの第１のパターンＰ１及び第２のパターンＰ２に対して、それぞれ第１及び第２の方向から露光用光ＥＬ１、ＥＬ２を照射することにより、基板Ｗの第２エリアＥＡ２に形成された各絵素５３の第１露光部５１、及び第２露光部５２に、互いに配向方向が異なる光配向処理が施される。

図８（ｂ）に示すカラーフィルタ側基板Ｗ（６０）についても、ＴＦＴアレイ側基板Ｗ（５０）と全く同様に処理することにより、基板搬送方向に沿う仮想線６４で各絵素６３を搬送方向と直交する方向に分割する第１露光部６１、及び第２露光部６２に配向方向が互いに異なる光配向処理を施す。

そして、図８（ｃ）に示すように、カラーフィルタ側基板Ｗ（６０）を９０°回転させた状態でＴＦＴアレイ側基板Ｗ（５０）に貼り合わせ、液晶注入などの後処理を行うことにより、マルチドメイン化された液晶表示素子が製作される。

従って、本実施形態の近接走査露光装置１によれば、１枚のマスクＭの第１のパターンＰ１及び第２のパターンＰ２に対して、照射方向が互いに異なる第１及び第２の方向から露光用光ＥＬ１、ＥＬ２を同時に照射することにより、光配向処理を効率的に行って、従来、２台の近接走査露光装置が必要であった光配向処理を１台の近接走査露光装置で実施することができ、生産効率が向上する。また、マスク保持部１１（即ち、マスクＭ）及び照射部１４の数量も半減することが可能となり、設備費用や製造コストを削減することができる。

また、基板Ｗの配向膜は、各絵素５３、６３内において、基板の搬送方向に沿う仮想線５４、６４により搬送方向と直交する方向に分割された第１露光部５１、６１と第２露光部５２，６２とを有し、第１露光部５１、６１には、マスクＭの第１のパターンＰ１が露光転写され、第２露光部５２，６２には、マスクＭの前記第２のパターンＰ２が露光転写される。これにより、１枚のマスクによって、各絵素５３，６３が分割された２つの露光部５１、５２、６１、６２に、配向方向が互いに異なる光配向処理を施すことができ、この基板を用いた液晶表示素子の視野角を改善することができる。

また、照射部１４は、光源４１から照射された光を２方向に分岐させ、マスクＭの第１及び第２のパターンＰ１、Ｐ２に対して、互いに異なる第１及び第２の方向から照射する反射部４６、４７を有するので、１つの光源４１からの露光用光ＥＬによって、基板Ｗを同時に２方向から露光することができるので、照射部１４の構成を簡素化することができる。

また、本実施形態の基板Ｗの製造方法によれば、各絵素内において、対向する２辺の略中間を通る仮想線５４，６４により分割される第１露光部５１，６１と第２露光部５２，６２とを有する基板Ｗの配向膜に光配向処理を施す際、照射部１４がマスクＭの第１のパターンＰ１に露光用光ＥＬ１を照射して、基板Ｗの第１露光部５１，６１に第１のパターンＰ１を露光する工程と、照射部１４がマスクＭの第２のパターンＰ２に露光用光ＥＬ２を第１のパターンＰ１の照射方向と異なる方向から第１のパターンＰ１への照射と同時に照射して、基板Ｗの第２露光部５２，６２に第２のパターンＰ２を露光する工程と、を備える。これにより、１枚のマスクＭによって、各絵素５３，６３内において分割された２つの露光部５１，５２，６１，６２に、配向方向が互いに異なる光配向処理を施すことができ、この基板Ｗを用いた液晶表示素子の視野角を改善することができる。

（第２実施形態）
次に、本発明に係る第２実施形態の近接走査露光装置について図７を参照して説明する。第２実施形態である近接走査露光装置は、照射部の構成が異なる以外は、本発明の第１実施形態の近接走査露光装置と同様である。このため、第１実施形態と同一又は同等部分については、同一符号を付して説明を省略或いは簡略化する。

図７に示すように、第２実施形態の照射部１４Ａは、第１実施形態の照射部１４と同様に、光源４１、凹面鏡４２、オプチカルインテグレータ４３、シャッター４４、及び球面ミラー４５を有し、更に照射方向変換部である平面ミラー４８を備える。平面ミラー４８は、例えば、マスクＭに対して平行及び垂直方向に向けられて、マスクＭの側方に配置された一対の平面ミラー４８ａ、４８ｂから構成されている。一対の平面ミラー４８ａ、４８ｂは、マスクＭの第１のパターンＰ１からの反射光が、第２のパターンＰ２に照射されるように角度が設定されている。

光源４１から照射された露光用光ＥＬは、凹面鏡４２、オプチカルインテグレータ４３、及びシャッター４４を介した後、球面ミラー４５で光の向きが変更され、マスクＭの法線Ｎに対して所定の角度ａ（例えば４５°）で傾斜する第１の方向（図中左上方から）からマスクＭの第１のパターンＰ１に照射される。

マスクＭのパターンを形成する露光窓７１、７２以外の部分は、マスクＭの表面にクロームメッキ処理された遮光部７３となり、高い反射率を有する。このため、第１のパターンＰ１に照射された露光用光ＥＬは、遮光部７３で反射した後、一対の平面ミラー４８ａ、４８ｂで光路が１８０°反転して、マスクＭの法線Ｎに対して所定の角度ａ（例えば４５°）で傾斜する第２の方向（図中右上方から）からマスクＭの第２のパターンＰ２に照射される。

これにより、光源４１からの直接光によって、第１のパターンＰ１の第１露光窓７１に対応する各絵素５３の第１露光部５１が光配向処理され、平面ミラー４８ａ、４８ｂからの反射光によって、第２のパターンＰ２の第２露光窓７２に対応する各絵素５３の第２露光部５２が光配向処理される。

なお、第２のパターンＰ２に照射される露光用光ＥＬは、遮光部７３からの反射光であるので減衰しているので、第２のパターンＰ２の基板搬送方向の幅Ｂを第１のパターンＰ１の基板搬送方向の幅Ａよりも長くして、第２のパターンＰ２の面積を第１のパターンＰ１の面積より広く設定することにより、露光光量が同じ光量となるように調整することができる。

従って、本実施形態の近接走査露光装置１によれば、照射部１４Ａが、マスクＭの第１のパターンＰ１に照射された露光用光ＥＬの反射光を、第２の方向に変換して第２のパターンＰ２に照射する照射方向変換部４８を備えるので、１つの光源４１からの露光用光ＥＬによって、基板Ｗを２方向から同時に露光することができる。

なお、本発明は、上記実施形態に限定されるものでなく、適宜、変更、改良等が可能である。
上記実施形態では、１つの光源から出射された光でマスクの２つのパターンを照射するようにしたが、２つの光源を用いてそれぞれマスクの２つのパターンを照射するようにしてもよい。
また、本実施形態では、マスクの法線に対して傾斜する方向からマスクのパターンに照射する露光用光は、基板搬送方向と平行な面に沿って指向されるが、基板搬送方向に対して水平方向に傾斜した方向と平行な面に沿って指向されてもよい。

１ 近接走査露光装置
１０ 基板搬送機構
１１、１１ａ、１１ｂ マスク保持部
１４、１４Ａ 照射部
４１ 光源
４６ 平面ミラー（反射部）
４７ 平面ミラー（反射部）
４８ 平面ミラー（照射方向変換部）
５１、６１ 第１露光部
５２、６２ 第２露光部
５３、６３ 絵素
５４、６４ 仮想線
７１ 第１露光窓
７２ 第２露光窓
ＥＬ、ＥＬ１、ＥＬ２ 露光用光
Ｍ、ＭＤ、ＭＵ マスク
Ｎ マスクの法線
Ｐ１ 第１のパターン
Ｐ２ 第２のパターン
Ｗ（５０） アレイ側基板（基板）
Ｗ（６０） カラーフィルタ側基板（基板）

Claims (5)

1. マスクを保持するマスク保持部と、前記マスク保持部の上方に配置され、露光用光を照射する照射部と、基板を保持して所定の方向に搬送可能な基板搬送機構とを備え、前記基板を搬送しながら前記マスクのパターンを前記基板に露光する近接走査露光装置であって、
   前記マスクのパターンは、それぞれ異なる少なくとも第１及び第２のパターンを備え、
   前記照射部は、前記第１及び第２のパターンにそれぞれ異なる方向から前記露光用光を同時に照射して前記基板に前記第１及び第２のパターンを露光することを特徴とする近接走査露光装置。
2. 前記基板の配向膜は、各絵素内において、前記基板の搬送方向に沿う仮想線により前記搬送方向と直交する方向に分割された第１露光部と第２露光部とを有し、
   前記第１露光部には、前記マスクの前記第１のパターンが露光転写され、前記第２露光部には、前記マスクの前記第２のパターンが露光転写されることを特徴とする請求項１に記載の近接走査露光装置。
3. 前記照射部は、光源から照射された光を２つの方向に分岐させて、前記マスクの法線に対して傾斜する互いに異なる第１及び第２の方向から前記マスクの第１及び第２のパターンにそれぞれ照射する反射部を備えることを特徴とする請求項１又は２に記載の近接走査露光装置。
4. 前記マスクの前記第１のパターンは、前記露光用光を透過させて前記第１露光部に照射可能な複数の第１露光窓を有し、
   前記マスクの前記第２のパターンは、前記露光用光を透過させて前記第２露光部に照射可能な複数の第２露光窓を有し、
   前記照射部は、前記マスクの法線に対して傾斜する第１の方向から前記マスクの第１のパターンに照射された前記露光用光のうち、前記第１露光窓間の遮光部で反射された反射光を、前記マスクの法線に対して傾斜する第１の方向と異なる第２の方向に変換して前記マスクの第２のパターンに照射する照射方向変換部を備えることを特徴とする請求項２に記載の近接走査露光装置。
5. 互いに異なる第１及び第２のパターンを備えるマスクを保持するマスク保持部と、前記マスク保持部の上方に配置され、露光用光を照射する照射部と、基板を保持して所定の方向に搬送可能な基板搬送機構とを備える近接走査露光装置を用いて、各絵素内において、対向する２辺の略中間を通る仮想線により分割される第１露光部と第２露光部とを有する前記基板の配向膜に光配向処理を施す基板の製造方法であって、
   前記照射部が前記第１のパターンに前記露光用光を照射して、前記基板の第１露光部に前記第１のパターンを露光する工程と、
   前記照射部が前記第２のパターンに前記露光用光を第１のパターンの照射方向と異なる方向から前記第１のパターンへの照射と同時に照射して、前記基板の第２露光部に前記第２のパターンを露光する工程と、
   を有することを特徴とする基板の製造方法。

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