TWI525372B - 配向處理裝置及配向處理方法 - Google Patents

Description

配向處理裝置及配向處理方法

本發明係關於一種配向處理裝置，係對於移動中之基板經由複數光罩來照射偏光而交互地形成配向狀態互異之二種類條紋狀配向區域，更詳細地說，係關於一種可避免複數光罩之相接部份所發生之配向紊亂過於醒目之配向處理裝置以及配向處理方法。

習知之此種配向處理裝置，係經由光罩(使得可分別通過不同入射角之兩偏光的複數第1以及第2開口以一定配置間距互異地平行排列所形成者)而對在該光罩之下側受到搬運之基板照射上述兩偏光，以於塗佈在基板上之配向膜處鄰接形成配向狀態不同之第1以及第2配向區域(例如，參見日本特開2010-39485號公報)。

此種習知之配向處理裝置，當對大面積之基板以1次之製程來實行配向處理之情況，如圖10所示般，必須以上述複數第1以及第2開口1A、1B在與箭頭A所示基板搬運方向呈交差方向上以一定排列間距P來排列之方式讓複數光罩2在與基板搬運方向呈交差方向上互異排列配置，並使得各光罩2追隨於在光罩2下側被搬運之基板在與搬運方向呈交差方向上之動作。此種情況下，由於第1以及第2開口1A、1B可使用光微影技術來形成，所以可於同一光罩2內以高位置精度來形成。從而，一般而言，如同圖所示般，同一光罩2內之第1以及第2開口1A、1B在 與基板搬運方向呈交差方向上之寬度W皆以與同方向上之排列間距P為大致相同之尺寸(W=P)形成，而使得第1以及第2配向區域3A、3B(參見圖11)在與箭頭A所示基板搬運方向呈平行之緣部以相接狀態形成。

但是，當使用複數之此種光罩2來實行配向處理之情況，如圖11所示般，配向膜對應於複數光罩2之相接部份，會形成與光罩2對基板9之追隨精度(±△w)相當之寬度的多重曝光區域4，同區域之配向會變得紊亂。從而，將存在有此種多重曝光區域4之配向處理基板9使用於例如顯示裝置之情況，有顯示畫面對應於上述多重曝光區域4而產生亮線或暗線之斑紋之虞。尤其，當此斑紋發生在顯示畫面之一部份之時，人眼容易感覺上述斑紋，而將斑紋視為缺陷，此為問題所在。

是以，本發明為解決此種問題點，其目的在於提供一種配向處理裝置以及配向處理方法，可避免於複數光罩之相接部份所發生之配向紊亂過於醒目。

為了達成上述目的，本發明之配向處理裝置，具備有：光罩，係以一定排列間距來互異地平行排列形成有複數第1以及第2開口，而可分別通過在偏光方向以及對基板之入射角中至少一者不同之兩偏光；以及，對準機構，係使得前述光罩追隨於被搬運在前述光罩下側之前述基板在與搬運方向呈交差方向上之動作；此外，經由前述光罩對前述基板照射前述兩偏光而在塗佈於前述基板之配向膜相鄰地 形成配向狀態不同之複數第1以及第2配向區域；其特徵在於：複數前述光罩係在與前述基板之搬運方向呈交差方向上互異排列，以使得前述複數第1以及第2開口在與前述基板之搬運方向呈交差方向上以一定之排列間距排列著；設定在與前述基板搬運方向呈交差方向上之寬度來形成前述第1以及第2開口，以使得前述複數第1以及第2配向區域之鄰接端部區域係以與前述對準機構之追隨精度大致相等的尺寸來重疊。

藉由此種構成，為了使得配向狀態不同之第1以及第2配向區域以和對準機構之追隨精度大致相等之尺寸來重疊，而使用了在與基板之搬運方向呈交差方向上互異地排列配置之複數光罩(設定了在與基板搬運方向呈交差方向上之寬度所形成之第1以及第2開口在與基板搬運方向呈交差方向上係以一定之配置間距來排列著)，對各光罩之第1以及第2開口分別使得在偏光方向以及對基板之入射角中之至少一者不同之兩偏光入射，讓通過了第1以及第2開口之兩偏光照射於在光罩下側受到搬運之基板上的配向膜來使得上述第1以及第2配向區域相鄰形成。藉此，可遍及基板之曝光區域全體，在第1以及第2配向區域之鄰接端部區域以一定尺寸重疊之狀態下形成複數第1以及第2配向區域。從而，可避免於複數光罩之相接部份所發生之配向紊亂過於醒目。

此外，前述第1以及第2開口係以在與前述基板搬運方向呈交差方向上之寬度彼此相等的方式形成者。藉此， 讓兩偏光通過在與基板搬運方向呈交差方向上之寬度彼此相等所形成之第1以及第2開口而照射於基板，在鄰接端部區域重疊之狀態下形成第1以及第2配向區域。從而，可於第1以及第2配向區域之鄰接端部區域以一定尺寸重疊之狀態下輕易地形成複數第1以及第2配向區域。

再者，前述第1以及第2開口係以在與前述基板搬運方向呈交差方向上之寬度彼此不同的方式形成者。藉此，讓兩偏光通過在與基板搬運方向呈交差方向上之寬度彼此不同所形成之第1以及第2開口而照射於基板，於鄰接端部區域重疊之狀態下形成第1以及第2配向區域。從而，於此種情況，亦可於第1以及第2配向區域之鄰接端部區域以一定尺寸重疊之狀態下輕易地形成複數第1以及第2配向區域。

此外，對於前述第1開口係使得一定之偏光經分束器分離為二所生成之兩偏光當中之一偏光以事先設定之角度入射，對於前述第2開口係使得前述兩偏光中之另一偏光以有別於前述角度之角度入射。藉此，對於第1開口使得一定之偏光經分束器分離為二所生成之兩偏光當中之一偏光以事先設定之角度入射，對於第2開口係使得前述兩偏光中之另一偏光以有別於前述角度之角度入射，來形成配向狀態互異之第1以及第2配向區域。從而，可輕易地進行液晶顯示裝置之TFT基板或是濾色器基板之配向處理。

再者，前述分束器係以其反射面在前述光罩之前述第1以及第2開口的中間位置配置於與前述光罩呈大致垂直交 差之面內。藉此，以反射面在光罩之第1以及第2開口之中間位置而配置於與光罩呈大致垂直交差之面內的分束器來生成兩偏光。從而，可使得經分束器分離之兩偏光分別直接入射於光罩之第1以及第2開口。因此，可減少構成變更光學系統之零件數量而可降低裝置之成本。

此外，對於前述第1開口係使得偏光方向不同之兩偏光當中之一偏光入射，對於前述第2開口係使得前述兩偏光當中之另一偏光入射。藉此，對於第1開口使得偏光方向不同之兩偏光當中之一偏光入射，對於第2開口使得上述兩偏光當中之另一偏光入射，來形成配向狀態不同之第1以及第2配向區域。從而，可輕易地製造3D液晶電視用偏光濾色器。

此外，前述複數光罩自基板搬運方向觀看時相互鄰接之光罩之端部區域係前後重疊，且一光罩之位於前述端部區域之前述第1以及第2開口與另一光罩之位於前述端部區域之第1以及第2開口係配置成在與基板搬運方向呈交差方向上處於同位置，且前述第1以及第2開口之面積為光罩中央部之開口之面積的一半。藉此，利用在基板搬運方向觀看相互鄰接之光罩之端部區域內先後位於在與基板搬運方向呈交差方向之同位置、且面積成為中央部開口面積之一半之第1開口彼此以及第2開口彼此進行多重曝光，於與上述端部區域對應之配向膜形成第1以及第2配向區域。從而，即使以位於自基板搬運方向觀看鄰接之光罩之端部區域而先後位於基板搬運方向之第1開口彼此以 及第2開口彼此來進行多重曝光也不會過度曝光，能以適切之曝光量進行配向處理。此外，即使光罩追隨受到蛇行搬運之基板來微動之際，也不用擔心發生未曝光部。

此外，本發明之配向處理方法，係一邊將基板朝一定方向以一定速度來搬運，一邊使得在偏光方向以及對前述基板之入射角中之至少一者不同之兩偏光分別通過形成於光罩且以一定排列間距互異地平行排列於在與前述基板之搬運方向呈交差方向上之第1以及第2開口來照射前述基板，而於塗佈在前述基板之配向膜相鄰地形成配向狀態不同之複數第1以及第2配向區域；其特徵在於：係將複數前述光罩在與前述基板之搬運方向呈交差方向上互異地排列使用，而使得前述複數第1以及第2開口在與前述基板之搬運方向呈交差方向上以一定之排列間距來排列，前述光罩係設定在與前述基板搬運方向呈交差方向上之寬度而形成有前述複數第1以及第2開口，以使得自前述基板搬運方向來觀看前述複數第1以及第2開口之平行於前述基板搬運方向的鄰接端部時，會以和前述光罩對前述基板在與搬運方向呈交差方向上之動作之追隨精度大致相等的尺寸來重疊；一邊使得前述各光罩追隨於前述基板在與搬運方向呈交差方向上之動作，一邊使得前述兩偏光通過前述第1以及第2開口來照射於前述基板；於鄰接端部區域彼此以一定尺寸重疊著之狀態下來形成前述複數第1以及第2配向區域。藉此，可遍及基板之曝光區域全體，在第1以及第2配向區域之鄰接端部區域以一定尺寸重疊之狀態 下形成複數第1以及第2配向區域。從而，可避免於複數光罩之相接部份所發生之配向紊亂過於醒目。

以下，基於所附圖式詳細說明本發明之實施形態。圖1係顯示本發明之配向處理裝置之第1實施形態之概略構成之前視圖。此配向處理裝置係一邊移動基板一邊讓配向狀態互異之二種類條紋狀之配向區域交互地形成者，具備有：搬運機構5、複數光罩2、複數偏光光學系統6、以及複數對準機構7。

上述搬運機構5係於平台8之上面8a載置著塗佈有配向膜之基板9而朝圖1所示箭頭A方向以一定速度進行搬運，例如在自平台8之上面8a噴出空氣以及進行吸引而使得基板9在上浮一定量之狀態下，以圖示省略之搬運機構來將基板9平行於箭頭A之兩端緣部加以保持而搬運基板9。

對向於上述搬運機構5之上面8a配置有複數光罩2。此複數光罩2，如圖2所示般，係使得分別通過不同入射角之兩偏光L的複數第1以及第2開口1A、1B以一定排列間距P來互異地平行排列形成，並以複數第1以及第2開口1A、1B在與箭頭A所示基板9之搬運方向呈交差方向上以一定之排列間距P來排列的方式而於與基板搬運方向(箭頭A方向)呈交差之方向上互異地排列設置，被分別保持於圖示省略之罩體平台。然後，各光罩2藉由後述之對準機構7使其追隨於在光罩下側受到搬運之基板9在與 基板搬運方向呈交差方向上之動作而微動。藉此，可經由複數光罩2對搬運中之基板9照射上述兩偏光L，而於塗佈在基板9之配向膜，如圖3所示般使得配向狀態不同之複數第1以及第2配向區域3A、3B相鄰形成。

於本實施形態中，光罩2之第1以及第2開口1A、1B如圖3所示般，係設定第1以及第2開口1A、1B在與基板搬運方向呈交差方向上之寬度，使得第1以及第2配向區域3A、3B之鄰接端部區域10以與對準機構7之追隨精度(±△w)的絶對值大致相等的尺寸(△w)進行重疊。

更詳細地說，上述光罩2如圖2所示般，以第1開口1A在與基板搬運方向呈交差方向上之寬度係相同於排列間距P之尺寸W₁、第2開口1B在同方向之寬度係尺寸W₂(>W₁)的方式以互異之尺寸來形成，從基板搬運方向觀看時第1開口1A與第2開口1B之鄰接端部係重疊尺寸2△w來形成。

於上述各光罩2之上方分別設有偏光光學系統6。此偏光光學系統6係分別使得對基板9之入射角度不同之偏光L通過上述光罩2之第1以及第2開口1A、1B，於本實施形態中，係使得偏光方向平行於基板搬運方向(箭頭A方向)之兩偏光L相對於光罩2之罩體面(或是基板9面)以不同角度、例如±45°來入射。

上述偏光光學系統6之具體構成例如圖4所示般依序具備有：例如超高壓水銀燈之光源11，係從光之行進方向上游側朝下游放射紫外線；偏光板12，係使得自該光源11 所放射之隨意光當中之偏光方向平行於基板搬運方向之偏光L選擇性穿透；以及50%之分束器(以下稱為「半鏡13」)，將反射面13a相對於光軸做傾斜配置，使得上述偏光L之一半穿透、剩餘之一半反射。此種情況下，如同圖所示般，一旦上述半鏡13之反射面13a在光罩2之第1以及第2開口1A、1B之中間位置配置於大致垂直地交差於光罩2之面內，則可將分離為二方向之偏光L分別以不同角度(±θ)直接入射於光罩2之第1以及第2開口1A、1B，可減少構成偏光光學系統6之零件數量。

當然，亦可使得由半鏡13之反射面13a分離成二方向之各偏光L進而以反射鏡來反射而以不同角度入射於光罩2之第1以及第2開口1A、1B。

以上述各光罩2可分別獨自於與基板搬運方向呈交差方向上進行微動的方式設有複數對準機構7。此對準機構7係使得光罩2能追隨於在光罩下側朝箭頭A方向被搬運之基板9在與基板搬運方向呈交差方向上的動作，係由例如藉由圖示省略之控制手段所控制並驅動之電磁致動器、電動式X平台等所構成。

其次，針對以此方式構成之配向處理裝置之動作以及配向處理方法作說明。

首先，將經以旋塗、噴塗等在玻璃基板上形成有一定厚度配向膜之例如濾色器基板(基板9)於搬運機構5之平台8的上面8a進行定位與載置，朝箭頭A方向以一定速度來移動。

接著，朝基板搬運方向在光罩2之近側之位置利用圖示省略之攝像機構來檢測於基板9上沿箭頭A所示基板搬運方向以一定間隔所形成之基準圖案之基準位置(例如濾色器基板之各像素平行於基板搬運方向之緣部)，運算出上述基準圖案之基準位置相對於攝像機構所事先設定之基準位置(例如攝像中心)在與基板搬運方向呈交差方向上之水平距離，與事先儲存之目標值作比較來算出位偏量。然後，為了校正該位偏量而藉由對準機構7使得光罩2在與基板搬運方向呈交差方向上微動，並追隨於基板9在同方向之動作。

同時，如圖4所示般，藉由偏光光學系統6對光罩2之第1以及第2開口1A、1BZ分別以不同入射角θ(例如±45°)使得紫外線之偏光L入射，藉由通過第1以及第2開口1A、1B之偏光L來曝光基板9上之配向膜。

藉此，如圖3所示般，於配向膜上會有對應於第1開口1A朝箭頭A方向延伸之條紋狀複數第1配向區域3A、以及對應於第2開口1B朝箭頭A方向延伸而配向狀態不同於第1配向區域3A之配向狀態之條紋狀複數第2配向區域3B在與基板搬運方向呈交差方向上交互地排列形成。於此種情況下，由於第1以及第2開口1A、1B如圖2所示般從基板搬運方向觀看，第1開口1A與第2開口1B之鄰接端部係以尺寸△w重疊形成，故如圖3所示般，遍及基板9之曝光區域整體，第1以及第2配向區域3A、3B之鄰接端部區域10會以尺寸△w重疊之狀態來形成。從而，可避 免於與各光罩2之相接部份的多重曝光區域4相當之部分所發生之配向紊亂過於醒目。

此外，若上述攝像機構係以在與基板搬運方向呈交差方向上使得複數受光元件以一直線狀相連配置之線狀CCD來構成，則能即時進行位置檢測，可高速進行基板9與光罩2之對位。從而，可更加提高基板9之搬運速度而更為縮短配向處理製程之生產時間。

圖5係光罩2之其他構成例，係使得第1以及第2開口1A、1B在與基板搬運方向(箭頭A方向)呈交差方向之寬度皆相等，且從基板搬運方向觀看時，鄰接之第1以及第2開口1A、1B之鄰接端部係以尺寸△w重疊而使得上述寬度係以較排列間距P為大之尺寸W₃來形成。即使於此情況，同樣地只要對第1以及第2開口1A、1B使得入射角不同之兩偏光L分別入射，藉由通過各開口1A、1B之兩偏光來曝光基板9之配向膜，則如圖6所示般，遍及基板9之曝光區域全體使得第1以及第2配向區域3A、3B之鄰接端部區域10以尺寸△w重疊之狀態來形成。從而，即使於此情況，也可避免於與各光罩2之相接部份之多重曝光區域4相當之部分所發生之配向紊亂過於醒目。

圖7係顯示圖2之光罩之變形例之俯視圖，圖8係顯示圖5之光罩之變形例之俯視圖。

不論是哪一變形例，皆是從基板搬運方向觀看複數光罩2時，彼此鄰接之光罩2之端部區域14呈前後重疊，且其中一光罩2之位於端部區域14的第1以及第2開口1Aa、 1Ba與另一光罩2之位於對應之端部區域14的第1以及第2開口1Ab、1Bb在與基板搬運方向呈交差方向上係配置於相同位置，且該第1以及第2開口1Aa、1Ab、1Ba、1Bb之面積係成為光罩2之中央部之開口1A、1B之面積的一半。

於此種情況下，對應於上述端部區域14之第1以及第2配向區域3A、3B係以多重曝光來形成，而由於位於同區域14之第1以及第2開口1Aa、1Ab、1Ba、1Bb之面積係光罩2之中央部之開口1A，1B之面積的一半，故即使經過多重曝光也不會發生過度曝光，能以適切之曝光量進行配向處理。此外，由於位於上述端部區域14內之第1以及第2開口1Aa、1Ab、1Ba、1Bb係於基板搬運方向之前後重疊配置，故即使光罩2追隨受到蛇行搬運之基板9來微動之際，也不用擔心發生未曝光部。

圖9係顯示本發明之配向處理裝置之第2實施形態之要部放大圖。

此第2實施形態之與上述第1實施形態不同之處在於，偏光光學系統6藉由偏光分束器15所分離之偏光方向不同的兩偏光L(P偏光以及S偏光)當中之一偏光L(S偏光)入射於光罩2之第1開口1A，另一偏光L(P偏光)入射於光罩2之第2開口1B。於此種情況下，P偏光以及S偏光之入射角度可為相同亦可為不同。於圖9中，顯示了各偏光L垂直入射於光罩2之情況。此外，於同圖中，符號16為全反射鏡。

於此第2實施形態所使用之光罩2，可為圖2所示者或圖5所示者。此種情況下，遍及基板9之曝光區域全體，配向方向相互正交之條紋狀複數第1配向區域3A與複數第2配向區域3B係於鄰接端部區域10以尺寸△w重疊之狀態下交互形成著。

此外，於上述第1以及第2實施形態，係以通過光罩2之第1以及第2開口1A、1B而照射於基板9之偏光L中並無光束擴展為前提，而記載了上述第1以及第2開口1A、1B與第1以及第2配向區域3A、3B在與基板搬運方向呈交差方向上之寬度為相同尺寸，惟當存在光束擴展之情況，亦可考慮該擴展量而將第1以及第2開口1A、1B在與基板搬運方向呈交差方向上之寬度形成為較第1以及第2配向區域3A、3B在同方向之寬度為窄。

此外，於以上之說明中，係針對偏光光學系統6將從一個光源11所放射之光分離為兩偏光L之情況作了說明，惟本發明不限於此，亦可對應於第1以及第2開口1A、1B而設置分別獨立之光源11。於此種情況下，只要在各光源11之前方設置偏光板來讓光源11所放射之光當中事先設定之偏光方向的直線偏光L選擇性穿透即可。

1A,1Aa,1Ab‧‧‧第1開口

1B,1Ba,1Bb‧‧‧第2開口

2‧‧‧光罩

3A‧‧‧第1配向區域

3B‧‧‧第2配向區域

4‧‧‧多重曝光區域

5‧‧‧搬運機構

6‧‧‧偏光光學系統

7‧‧‧對準機構

8‧‧‧平台

8a‧‧‧上面

9‧‧‧基板

10‧‧‧鄰接端部區域

11‧‧‧光源

12‧‧‧偏光板

13‧‧‧半鏡

13a‧‧‧反射面

14‧‧‧端部區域

15‧‧‧偏光分束器

16‧‧‧全反射鏡

圖1係顯示本發明之配向處理裝置之第1實施形態之概略構成之前視圖。

圖2係顯示所使用之光罩之一構成例之俯視圖。

圖3係顯示使用圖2之光罩之配向處理之說明圖。

圖4係顯示於第1實施形態所使用之曝光光學系統之一構成例之前視圖。

圖5係顯示上述光罩之其他構成例之俯視圖。

圖6係顯示使用圖5之光罩之配向處理之說明圖。

圖7係顯示圖2所示光罩之變形例之俯視圖。

圖8係顯示圖5之光罩之變形例之俯視圖。

圖9係顯示本發明之配向處理裝置之第2實施形態之要部放大前視圖。

圖10係顯示以習知技術之配向處理裝置對大面積基板實施配向處理之際之光罩之配置例之俯視圖。

圖11係顯示使用圖10所示光罩之配向處理之俯視圖。

1A‧‧‧第1開口

1B‧‧‧第2開口

2‧‧‧光罩

5‧‧‧搬運機構

6‧‧‧偏光光學系統

7‧‧‧對準機構

8‧‧‧平台

8a‧‧‧上面

9‧‧‧基板

A‧‧‧箭頭

L‧‧‧偏光

Claims (8)

1. 一種配向處理裝置，係具備有：光罩，係以一定排列間距來互異地排列形成有複數第1以及第2開口，而可分別通過在偏光方向以及對基板之入射角中至少一者不同之兩偏光；以及，對準機構，係使得該光罩追隨於被搬運在該光罩下側之該基板在與搬運方向呈交差方向上之動作；此外，經由該光罩對該基板照射該兩偏光而使得塗佈於該基板之配向膜曝光而於該配向膜相鄰地形成分別對應於該第1以及第2開口之配向狀態不同之複數第1以及第2配向區域；其特徵在於：複數該光罩係在與該基板之搬運方向呈交差方向上互異排列，以使得該複數第1以及第2開口在與該基板之搬運方向呈交差方向上以一定之排列間距互異排列著；設定在與該基板搬運方向呈交差方向上之寬度來形成該第1以及第2開口，以遍及該基板之曝光區域整體來使得該複數第1以及第2配向區域之鄰接端部區域係以與該對準機構之追隨精度的絕對值相等的尺寸來重疊的狀態形成。
2. 如申請專利範圍第1項之配向處理裝置，其中該第1以及第2開口係以在與該基板搬運方向呈交差方向上之寬度彼此相等的方式所形成者。
3. 如申請專利範圍第1項之配向處理裝置，其中該第1以及第2開口係以在與該基板搬運方向呈交差方向上 之寬度彼此不同的方式所形成者。
4. 如申請專利範圍第1至3項中任一項之配向處理裝置，其中對於該第1開口係使得一定之偏光經分束器分離為二所生成之兩偏光當中之一偏光以事先設定之角度入射；對於該第2開口係使得該兩偏光中之另一偏光以有別於該角度之角度入射。
5. 如申請專利範圍第4項之配向處理裝置，其中該分束器係以其反射面在該光罩之該第1以及第2開口的中間位置配置於與該光罩呈大致垂直交差之面內。
6. 如申請專利範圍第1至3項中任一項之配向處理裝置，其中對於該第1開口係使得偏光方向不同之兩偏光當中之一偏光入射；對於該第2開口係使得該兩偏光當中之另一偏光入射。
7. 如申請專利範圍第1項之配向處理裝置，其中該複數光罩自基板搬運方向觀看時相互鄰接之光罩之端部區域係前後重疊，且一光罩之位於該端部區域之該第1以及第2開口與另一光罩之位於該端部區域之第1以及第2開口係配置在與基板搬運方向呈交差方向上之相同位置，且該第1以及第2開口之面積為光罩中央部之開口之面積的一半。
8. 一種配向處理方法，係一邊將基板朝一定方向以一定速度來搬運，一邊使得在偏光方向以及對該基板之入射角中之至少一者不同之兩偏光分別通過形成於光罩 且以一定排列間距互異地排列於在與該基板之搬運方向呈交差方向上之第1以及第2開口來照射該基板，而使得塗佈在該基板之配向膜曝光而於該配向膜相鄰地形成配向狀態不同之複數第1以及第2配向區域；其特徵在於：係將複數該光罩在與該基板之搬運方向呈交差方向上互異地排列使用，而使得該複數第1以及第2開口在與該基板之搬運方向呈交差方向上以一定之排列間距來互異排列，複數該光罩係設定該複數第1以及第2開口在與該基板搬運方向呈交差方向上之寬度所形成者，以使得自該基板搬運方向來觀看該複數第1以及第2開口之平行於該基板搬運方向的鄰接端部時，會以和該光罩對該基板在與搬運方向呈交差方向上之動作之追隨精度的絕對值相等的尺寸來重疊；藉由對準機構，一邊使得該各光罩追隨於該基板在與搬運方向呈交差方向上之動作，一邊使得該兩偏光通過該第1以及第2開口來照射於該基板；遍及該基板之曝光區域整體來於鄰接端部區域彼此重疊著之狀態下來形成該複數第1以及第2配向區域。