JP5704591B2 - 配向処理方法及び配向処理装置 - Google Patents
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Description
先ず、スピンコートやスプレーコート等によりガラス基板上に配向膜を一定の厚みに形成した例えばカラーフィルタ基板(基板4)を搬送手段1の上面1aに位置決めして載置し、X方向に一定速度で移動させる。
この第2の実施形態は、偏光光学系3が、偏光ビームスプリッタ14により分離された偏光方向の異なる二つの偏光(P偏光及びS偏光)のうち、一方の偏光(P偏光)をフォトマスク7の第1のマスクパターン群6Aに入射させ、他方の偏光(S偏光)をフォトマスク7の第2のマスクパターン群6Bに入射させる点において上記第1の実施形態と相違する。この場合、P偏光及びS偏光の入射角度は、同じであっても異なっていてもよい。図8においては、各偏光をフォトマスク7に垂直に入射させた場合を示している。なお、同図において、符号15は全反射ミラーである。
2…マスクステージ
3…偏光光学系
4…基板
5A,5B…開口
6A…第1のマスクパターン群
6B…第2のマスクパターン群
7…フォトマスク
10…ハーフミラー(ビームスプリッタ)
11…第1の配向領域
12…第2の配向領域
Claims (10)
- 細長状の複数の開口を一定の配列ピッチで形成した第1のマスクパターン群と、該第1のマスクパターン群に平行に設けられ、細長状の複数の開口を前記複数の開口の配列ピッチと同ピッチで形成した第2のマスクパターン群とを有するフォトマスクに近接対向させて、配向膜が塗布された基板を前記第1及び第2のマスクパターン群に交差する方向に移動し、
前記フォトマスクの前記第1及び第2のマスクパターン群の中間位置で前記フォトマスクに垂直に交差する面内に反射面を有するように配置されたビームスプリッタの前記反射面で分離され、偏光方向及び入射角度のうち少なくともいずれか一方が異なる二つの偏光のうち一方の偏光を前記第1のマスクパターン群に直接照射し、他方の偏光を前記第2のマスクパターン群に直接照射し、
前記配向膜に配向状態が異なるストライプ状の第1及び第2の配向領域を交互に形成する、
ことを特徴とする配向処理方法。 - 前記フォトマスクの前記第1のマスクパターン群は、前記基板の移動方向に長い細長状の複数の開口を前記基板の移動方向と交差する方向に一定の配列ピッチで形成したもので、
前記第2のマスクパターン群は、前記第1のマスクパターン群に対して前記基板の移動方向に一定距離だけ離れて平行に設けられ、前記基板の移動方向に長い細長状の複数の開口を前記複数の開口の配列ピッチと同ピッチで且つ配列方向に半ピッチだけずらして形成したものであり、
前記基板の移動方向に平行なストライプ状の前記第1及び第2の配向領域を前記基板の移動方向と交差する方向に交互に形成することを特徴とする請求項1記載の配向処理方法。 - 前記フォトマスクの前記第1及び第2のマスクパターン群は、夫々前記基板の移動方向と交差する方向に長い細長状の複数の開口を前記基板の移動方向に一定の配列ピッチで形成したもので、前記開口の配列ピッチの半ピッチの整数倍の距離だけ前記基板の移動方向に互いに離れて平行に設けられており、
前記基板が前記配列ピッチと等しい距離だけ移動する毎に、前記偏光を間欠的に照射して前記基板の移動方向と交差するストライプ状の前記第1及び第2の配向領域を前記基板の移動方向に交互に形成することを特徴とする請求項1記載の配向処理方法。 - 前記フォトマスクの第1及び第2のマスクパターン群に照射する前記各偏光は、共にP偏光であり、夫々入射角度が異なることを特徴とする請求項1〜3のいずれか1項に記載の配向処理方法。
- 前記フォトマスクの第1及び第2のマスクパターン群に照射する前記各偏光は、一方がP偏光であり、他方がS偏光であることを特徴とする請求項1〜3のいずれか1項に記載の配向処理方法。
- 配向膜を塗布した基板を上面に載置して一定方向に移動させる搬送手段と、
前記搬送手段の上面に対向して配置され、細長状の複数の開口を一定の配列ピッチで形成した第1のマスクパターン群と、該第1のマスクパターン群に平行に設けられ、細長状の複数の開口を前記複数の開口の配列ピッチと同ピッチで形成した第2のマスクパターン群とを有するフォトマスクを保持するマスクステージと、
前記フォトマスクの前記第1及び第2のマスクパターン群の中間位置で前記フォトマスクに垂直に交差する面内に反射面を有するように配置されたビームスプリッタの前記反射面で分離され、偏光方向及び入射角度のうち少なくともいずれか一方が異なる二つの偏光のうち一方の偏光を前記第1のマスクパターン群に直接照射し、他方の偏光を前記第2のマスクパターン群に直接照射させる偏光光学系と、を備え、
前記配向膜に配向状態が異なるストライプ状の第1及び第2の配向領域を交互に形成可能としたことを特徴とする配向処理装置。 - 前記フォトマスクの前記第1のマスクパターン群は、前記基板の移動方向に長い細長状の複数の開口を前記基板の移動方向と交差する方向に一定の配列ピッチで形成したもので、
前記第2のマスクパターン群は、前記第1のマスクパターン群に対して前記基板の移動方向に一定距離だけ離れて平行に設けられ、前記基板の移動方向に長い細長状の複数の開口を前記複数の開口の配列ピッチと同ピッチで且つ配列方向に半ピッチだけずらして形成したものであり、
前記基板の移動方向に平行なストライプ状の前記第1及び第2の配向領域を前記基板の移動方向と交差する方向に交互に形成可能としたことを特徴とする請求項6記載の配向処理装置。 - 前記フォトマスクの前記第1及び第2のマスクパターン群は、夫々前記基板の移動方向と交差する方向に長い細長状の複数の開口を前記基板の移動方向に一定の配列ピッチで形成したもので、前記開口の配列ピッチの半ピッチの整数倍の距離だけ前記基板の移動方向に互いに離れて平行に設けられており、
前記基板が前記配列ピッチに等しい距離だけ移動する毎に、前記偏光を間欠的に照射して前記基板の移動方向と交差するストライプ状の前記第1及び第2の配向領域を前記基板の移動方向に交互に形成可能としたことを特徴とする請求項6記載の配向処理装置。 - 前記偏光光学系は、P偏光を前記ビームスプリッタで二つに分離し、一方のP偏光を前記フォトマスクの第1のマスクパターン群に予め定められた角度で入射させ、他方のP偏光を前記フォトマスクの第2のマスクパターン群に前記角度と異なる角度で入射させることを特徴とする請求項6〜8のいずれか1項に記載の配向処理装置。
- 前記偏光光学系は、偏光方向の異なる二つの偏光のうち、一方の偏光を前記フォトマスクの第1のマスクパターン群に入射させ、他方の偏光を前記フォトマスクの第2のマスクパターン群に入射させることを特徴とする請求項6〜8のいずれか1項に記載の配向処理装置。
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